JP3160346B2 - 光ビームテスタ - Google Patents

光ビームテスタ

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JP3160346B2
JP3160346B2 JP01645592A JP1645592A JP3160346B2 JP 3160346 B2 JP3160346 B2 JP 3160346B2 JP 01645592 A JP01645592 A JP 01645592A JP 1645592 A JP1645592 A JP 1645592A JP 3160346 B2 JP3160346 B2 JP 3160346B2
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葉子 左藤
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Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、半導体集積回路やプリ
ント基板上等の信号配線の電圧波形を、電気光学結晶に
入射する光の偏光状態の変化に基づいて測定する光ビー
ムテスタに関する。
【0002】
【従来の技術】半導体集積回路の信号波形を測定するた
めに、従来では、その入出力ピンをケーブルでサンプリ
ングオシロスコープに接続して波形観測していた。しか
し、半導体集積回路の動作の高速化に伴い、接続ケーブ
ルの容量による信号波形の鈍りが大きくなり、信号波形
を正確に測定することが困難になってきた。そこで、電
気光学効果の高速応答性と、極めて狭い時間幅のパルス
をレーザで作れることに着目して、図9に示すようなサ
ンプリング方式(ストロボパルス方式)の光ビームテス
タが開発されている(特開昭64−28566号公
報)。図10は、この光ビームテスタの電気光学的電圧
検出部の断面構成を示す。
【0003】LSI等の試料10は、テストボード12
に装着され、試料10から信号を取り出すためのピン1
4の先端がテストボード12の一面から突出している。
一方、電気光学結晶板16の一面には、金属薄膜のパッ
ド181〜18nがマトリックス状に被着されている。
この電気光学結晶板16は、例えば面方位(100)の
GaAs結晶板である。パッド18には、ピン14の先
端が当接される。電気光学結晶板16の他面には、IT
O膜等の透明共通電極20が被着され、接地されてい
る。
【0004】テスト信号発生回路22は、制御回路24
からの周期的なトリガ信号に応答して、テスト信号を試
料10に供給する。
【0005】パルスレーザ26は、制御回路24からの
トリガパルスに応答して、偏光パルスを出射する。この
偏光パルスは、ビームスプリッタ28を通って光走査装
置30に入射される。光走査装置30は、ミラー31
と、ミラー32と、ミラー回転駆動装置33とを備え、
ミラー回転駆動装置33は、制御回路24からの信号に
基づいてミラー31を図9の紙面に垂直な軸Xの回りに
回転駆動させ、ミラー32をこの紙面内の軸Yの回りに
回転駆動させて、任意のパッド18i(i=1〜n)上
に光を投射可能とする。光走査装置30と電気光学結晶
板16との間に配置されたコリメータレンズ42は、電
気光学結晶板16上に垂直に光を投射するためのもので
ある。
【0006】透明共通電極20側から電気光学結晶板1
6に偏光パルスを垂直入射させ、パッド18iで反射さ
せると、電気光学結晶板16から出射した光の、偏光面
が互いに直交する直線偏光成分間に、パッド18の電圧
に応じた光強度差が生ずる。
【0007】コリメータレンズ42を通った戻り光は、
光走査装置30を通り、ビームスプリッタ28で反射さ
れて偏光ビームスプリッタ44に入射し、偏光面が互い
に垂直な前記直線偏光成分に2分割され、その一方(p
偏光)が光検出器46で検出され、他方(s偏光)が光
検出器48で検出される。
【0008】光検出器46及び48の出力信号はそれぞ
れアンプ50及び52で増幅された後、差動アンプ54
に供給され、両者の差が増幅される。差動アンプ54の
出力はA/D変換器56でデジタル化され、信号処理回
路58に供給される。
【0009】信号処理回路58は、制御回路24からの
同期信号に基づき、テスト信号の各位相について、A/
D変換器56の出力をサンプリングし、光投射されたパ
ッド18iの電圧を求める。このパッド18iの位置を
示す信号は、制御回路24から信号処理回路58に供給
される。
【0010】
【発明が解決しようとする課題】しかし、ミラー31及
び32に対する入射角が0°でないので、図7に示す如
くp偏光成分とs偏光成分の反射率が互いに異なり、ま
た、図8に示す如くp偏光成分とs偏光成分の間に位相
差が生ずる。この反射率の差及び位相差は、ミラー31
及び及びミラー32の回転角に応じて変化する。このた
め、試料10に電圧を印加していない状態において、ア
ンプ50とアンプ52の出力の差は0とならず、しか
も、この差は光走査装置30による走査に応じて変化す
る。
【0011】パッド18iへの印加電圧に対し、光検出
器46に入射するp偏光の光強度と光検出器48に入射
するs偏光の光強度との差が微小であるため、精度よく
電圧を検出するには、差動アンプ54の増幅率を高く設
定する必要がある。試料10に電圧を印加しない状態で
アンプ50とアンプ52の出力に差が生ずると、差動ア
ンプ54の出力に含まれる有効な信号の範囲(スパン)
が狭くなるので、電圧測定精度が低下する。このような
問題は、レーザ光がビームスプリッタ28の半透膜を透
過する際及び反射する際にp偏光成分とs偏光成分の間
に位相差が生ずることによっても発生する。
【0012】本発明の目的は、このような問題点に鑑
み、電圧測定精度を向上させることが可能な光ビームテ
スタを提供することにある。
【0013】
【課題を解決するための手段及びその作用】本発明に係
る光ビームテスタを、実施例図中の対応する構成要素の
符号を引用して説明する。
【0014】以下の第1〜3発明は何れも、パルスレー
ザ26から出射した偏光パルスを、ビームスプリッタ2
8、光走査装置30及び電気光学結晶16に順に通した
後反射させて電気光学結晶16及び光走査装置30の順
に通し、ビームスプリッタ28で反射した光を偏光ビー
ムスプリッタ44でs偏光成分とp偏光成分に分割し、
分割された該s偏光の光強度を第1光検出器46で検出
して第1増幅器50で増幅し、分割された該p偏光の光
強度を第2光検出器48で検出して第2増幅器52で増
幅し、増幅された両光強度の差に基づいて電気光学結晶
16の対向面間に印加された電圧を測定し、光走査装置
30で該偏光パルスを電気光学結晶16上で走査させる
ことを前提としている。
【0015】第1発明の光ビームテスタでは、例えば図
1に示す如く、光走査装置30と電気光学結晶16との
間の光路中にp/s偏光成分交換光学素子40を配置し
ている。このp/s偏光成分交換光学素子40は、入射
光のp偏光成分とs偏光成分の電気ベクトル振動方向
を、p/s偏光成分交換光学素子40を透過しその戻り
光が再度p/s偏光成分交換光学素子を透過したときに
互いに逆にさせるものであり、m/4波長板又は偏光面
を45m°回転させるファラデ回転子で構成される。但
し、mは奇数である。
【0016】この構成によれば、光走査装置30に対し
偏光パルスが行きと帰りで2回通ると、図7に示すp偏
光成分とs偏光成分の入射角に対する反射率の差及び図
8に示すp偏光成分とs偏光成分の間の位相差が結果と
して0となる。したがって、試料10に電圧を印加して
いない状態で、任意の光走査位置について、上記差を常
にほぼ0とすることができる。このため、この差に含ま
れる有効な信号範囲を従来よりも広くすることができ、
電圧測定精度が向上する。
【0017】第2発明の光ビームテスタでは、例えば図
2に示す如く、光走査装置30による走査に応じて補正
データが読み出される補正データ記憶手段64を備え、
第1増幅器50A及び第2増幅器52Aは、読み出され
た該補正データで増幅率が設定される可変増幅器であ
り、電気光学結晶16の対向面間に印加された電圧が0
のときに該差を0にする該補正データが補正データ記憶
手段64に格納されている。
【0018】この構成の場合、試料10に電圧を印加し
ない状態では、任意の光走査位置について、上記差が0
となる。すなわち、ビームスプリッタ28、光走査装置
30及び偏光ビームスプリッタ44のp偏光成分とs偏
光成分に対する特性差、第1光検出器46と第2光検出
器48との感度差及び第1増幅器50Aと第2増幅器5
2Aの間の特性差を全体として補償することができ、第
1増幅器50Aの出力と第2増幅器52Aの出力との差
に含まれる有効な信号範囲を従来よりも広くすることが
でき、電圧測定精度が向上する。
【0019】第2発明の第1態様では、第1増幅器50
及び第2増幅器52はそれぞれ、増幅率固定のアンプ5
0及び52と可変減衰器70及び72とが縦続接続され
て構成され、可変減衰器70及び72の減衰率を変化さ
せることにより増幅率が変化する。
【0020】第3発明の光ビームテスタでは、例えば図
4に示す如く、光走査装置30と電気光学結晶16との
間の光路中に直線位相子74を配置している。この直線
位相子74は、これを透過するp偏光成分とs偏光成分
の間の光路差を適当な値にして、ビームスプリッタ28
を透過し戻り光がビームスプリッタ28で反射されたこ
とによりp偏光成分とs偏光成分の間に生じた位相差を
補償する。
【0021】この構成の場合も、上記差に含まれる有効
な信号範囲を従来よりも広くすることができ、電圧測定
精度が向上する。
【0022】
【実施例】以下、図面に基づいて本発明の実施例を説明
する。
【0023】[第1実施例]図1は、第1実施例の光ビ
ームテスタの構成を示す。図9と同一構成要素には、同
一符号を付してその説明を省略する。
【0024】この光ビームテスタでは、光走査装置30
とコリメータレンズ42との間にp/s偏光成分交換光
学素子40を配置している。p/s偏光成分交換光学素
子40は、入射光のp偏光成分とs偏光成分の電気ベク
トル振動方向が、p/s偏光成分交換光学素子40を透
過しその戻り光が再度p/s偏光成分交換光学素子40
を透過したときに、互いに逆になるようにするためのも
のであり、m/4波長板又は偏光面を45m°回転させ
るファラデ回転子で構成されている。但し、mは奇数で
ある。
【0025】これにより、光走査装置30に対し偏光パ
ルスが行きと帰りで2回通ると、図7に示すp偏光成分
とs偏光成分の入射角に対する反射率の差及び図8に示
すp偏光成分とs偏光成分の間の位相差が結果として0
となる。したがって、試料10に電圧を印加していない
状態で、ミラー31及び32を回転駆動して各パッド1
8iに光を走査しても、差動アンプ54の出力を常にほ
ぼ0とすることができる。このため、差動アンプ54の
出力に含まれる有効な信号範囲を従来よりも広くするこ
とができ、電圧測定精度が向上する。
【0026】ミラー31及び32の反射面が誘電体多層
膜の場合には、p偏光成分及びs偏光成分の反射率を互
いにほぼ等しくすることは可能であるが、同時にp偏光
成分とs偏光成分の間の位相差を0にすることができな
いので、本発明は有効である。
【0027】[第2実施例]図2は、第2実施例の光ビ
ームテスタの構成を示す。図9と同一構成要素には、同
一符号を付してその説明を省略する。
【0028】この光ビームテスタでは、図9に示すアン
プ50及び52の代わりにそれぞれ可変アンプ50A及
び52Aを用い、可変アンプ50A及び52Aの出力を
それぞれA/D変換器66及び68でデジタル化して、
信号処理回路58Aに供給している。また、ミラー31
及び32の回転軸にそれぞれロータリエンコーダ34及
び35の回転軸を連結して、ロータリエンコーダ34及
び35からそれぞれミラー31及び32の回転角の増分
に比例した数のパルスを出力させ、このパルスをそれぞ
れカウンタ60及び62で計数している。
【0029】メモリ64はカウンタ60及び62の計数
値でアドレス指定され、初期設定の際にこのアドレスに
信号処理回路58Aから後述の補正データが書き込ま
れ、電圧測定の際にはこのアドレスの上位データ及び下
位データがそれぞれ可変アンプ50A及び52Aに供給
されて、可変アンプ50A及び52Aの増幅率が制御さ
れる。
【0030】他の点は、図9の構成と同一である。
【0031】次に、上記の如く構成された本実施例の動
作を説明する。
【0032】初期設定の際には、メモリ64の全アドレ
スに共通に、上位データK及び下位データK、例えば1
ワードが16ビットの場合には28 K+Kを格納し、偏
光パルスがパッド18iに当たるようにミラー31及び
32の回転角を調整し、試料10に電圧を印加しない状
態でパルスレーザ26から偏光パルスを出射させ、制御
回路24Aからの同期信号に基づいてA/D変換器66
及び68から光強度データIpi及びIsiを読み取る。A
/D変換器66及び68の出力を共に定数Cとするため
の可変アンプ50A及び52Aの増幅率をAi 及びBi
とすると、Ai/K=C/Ipi及びBi /K=C/Isi
が成立する。そこで、Ai =KC/Ipi及びBi =KC
/Isiを算出し、Ai を上位データとしBi を下位デー
タとしてメモリ64に格納する。このような処理を、ミ
ラー31及び32を回転駆動して全てのパッド18i、
i=1〜nへの光投射について行う。
【0033】電圧測定の際には、カウンタ60及び62
でアドレス指定されたメモリ64からの上位データAi
及び下位データBi でそれぞれ可変アンプ50A及び5
2Aの増幅率が設定される。これにより、試料10に電
圧を印加しない状態では、各パッド18i、i=1〜n
について差動アンプ54の出力が0となる。すなわち、
ビームスプリッタ28、光走査装置30及び偏光ビーム
スプリッタ44のp偏光成分とs偏光成分に対する特性
差、光検出器46と光検出器48との感度差及び可変ア
ンプ50Aと可変アンプ52Aの間の特性差を全体とし
て補償することができる。
【0034】図3(A)〜(D)はいずれも1個の偏光
パルスに応答して得られた電圧波形である。図3(A)
及び(B)において、実線は増幅率調整前の可変アンプ
50A及び52Aの出力電圧波形を示し、点線は増幅率
調整後の可変アンプ50A及び52Aの出力電圧波形を
示す。図3(C)及び(D)はそれぞれ増幅率調整前及
び増幅率調整後の差動アンプ54の出力電圧波形を示
し、点線はパッド18iに電圧を印加していない状態で
の波形であり、実線はパッド18iに電荷を印加した状
態の波形である。
【0035】図3(C)及び(D)から明らかなよう
に、可変アンプ50A及び52Aの増幅率を調整するこ
とにより、差動アンプ54の出力に含まれる有効な信号
範囲を従来よりも広くすることができ、電圧測定精度が
向上する。
【0036】なお、カウンタ60及び62の計数値を制
御回路24Aにフィードバックさせ、制御回路24Aに
よりメモリ64をアドレス指定する構成であってもよ
い。
【0037】[第3実施例]図4は、第3実施例の光ビ
ームテスタの構成を示す。図2と同一構成要素には、同
一符号を付してその説明を省略する。
【0038】この光ビームテスタでは、図2の可変アン
プ50Aの代わりにアンプ50と可変減衰器70とを縦
続接続したものを用い、図2の可変アンプ52Aの代わ
りに、アンプ52と可変減衰器72とを縦続接続したも
のを用いている。そして、カウンタ60及び62でアド
レス指定されてメモリ64から読み出された上位データ
及び下位データでそれぞれ可変減衰器70及び72の減
衰率を制御して、上記第2実施例と同様の効果を得てい
る。
【0039】他の点は、上記第2実施例と同一である。
【0040】[第4実施例]図5は、第4実施例の光ビ
ームテスタの構成を示す。図9と同一構成要素には、同
一符号を付してその説明を省略する。
【0041】この光ビームテスタでは、光走査装置30
とコリメータレンズ42の間に直線位相子74を配置
し、光入射方向と直角な面内で直線位相子74の光学軸
方位を回転角調整装置76により調整して、直線位相子
74を透過するp偏光成分とs偏光成分の間の光路差を
適当な値にすることにより、ビームスプリッタ28を透
過し戻り光がビームスプリッタ28で反射されることに
よりp偏光成分とs偏光成分の間に生じた位相差を補償
している。これにより、差動アンプ54の出力に含まれ
る有効な信号範囲を従来よりも広くすることができ、電
圧測定精度が向上する。
【0042】図6は、直線位相子74の光学軸方位角に
対する、p偏光成分とs偏光成分との間の位相差を示
す。
【0043】なお、直線位相子74の面を傾斜させて直
線位相子74内の光路長を変えることにより補償すべき
前記位相差を調整し、又は、直線位相子74を電気光学
結晶で構成し、この電気光学結晶に電圧を印加して補償
すべき前記位相差を調整してもよい。
【0044】
【発明の効果】以上説明した如く、第1発明に係る光ビ
ームテスタでは、光走査装置と電気光学結晶との間の光
路中にp/s偏光成分交換光学素子を配置しており、光
走査装置に対し偏光パルスが行きと帰りで2回通ると、
p偏光成分とs偏光成分の入射角に対する反射率の差及
びp偏光成分とs偏光成分の間の位相差が結果として0
となるので、試料に電圧を印加していない状態で、任意
の光走査位置について、第1増幅器と第2増幅器の出力
差を常にほぼ0とすることができ、したがって、この差
に含まれる有効な信号範囲を従来よりも広くすることが
でき、電圧測定精度が向上するという優れた効果を奏す
る。
【0045】第2発明の光ビームテスタでは、光走査装
置による走査に応じて補正データが読み出される補正デ
ータ記憶手段を備え、第1増幅器及び第2増幅器は、読
み出された該補正データで増幅率が設定される可変増幅
器であり、電気光学結晶の対向面間に印加された電圧が
0のときに上記差を0にする該補正データが該補正デー
タ記憶手段に格納されており、試料に電圧を印加しない
状態では任意の光走査位置について該差が0となるの
で、ビームスプリッタ、光走査装置及び偏光ビームスプ
リッタのp偏光成分とs偏光成分に対する特性差、第1
光検出器と第2光検出器との感度差及び第1増幅器と第
2増幅器の間の特性差を全体として補償することがで
き、したがって、第1増幅器の出力と第2増幅器の出力
との差に含まれる有効な信号範囲を従来よりも広くする
ことができ、電圧測定精度が向上するという優れた効果
を奏する。
【0046】第3発明の光ビームテスタでは、光走査装
置と電気光学結晶との間の光路中に直線位相子を配置し
ており、この直線位相子で、これを透過するp偏光成分
とs偏光成分の間の光路差を適当な値にして、ビームス
プリッタを透過し戻り光がビームスプリッタで反射され
たことによりp偏光成分とs偏光成分の間に生じた位相
差を補償するので、上記差に含まれる有効な信号範囲を
従来よりも広くすることができ、電圧測定精度が向上す
るという優れた効果を奏する。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の第1実施例の光ビームテスタ構成図で
ある。
【図2】本発明の第2実施例の光ビームテスタ構成図で
ある。
【図3】増幅率調整前後の可変アンプ50A、52A及
び差動アンプ54の出力電圧波形図である。
【図4】本発明の第3実施例の光ビームテスタ構成図で
ある。
【図5】本発明の第4実施例の光ビームテスタ構成図で
ある。
【図6】直線位相子の光学軸方位角に対するp偏光とs
偏光との間の位相差を示す線図である。
【図7】p偏光及びs偏光の入射角に対する反射率を示
す線図である。
【図8】p偏光とs偏光の間の、入射角に対する位相差
を示す線図である。
【図9】従来の光ビームテスタの構成図である。
【図10】電気光学的電圧検出部断面図である。
【符号の説明】
10 試料 16 電気光学結晶板 181〜18n パッド 20 透明共通電極 28 ビームスプリッタ 31、32 ミラー 33 ミラー回転駆動装置 34、35 ロータリエンコーダ 40 p/s偏光成分交換光学素子 42 コリメータレンズ 44 偏光ビームスプリッタ 46、48 光検出器 50、52 アンプ 50A、52A 可変アンプ 54 差動アンプ 70、72 可変減衰器 74 直線位相子 76 回転角調整装置
フロントページの続き (72)発明者 伊藤 昭夫 神奈川県川崎市中原区上小田中1015番地 富士通株式会社内 (56)参考文献 特開 平3−244141(JP,A) (58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名) H01L 21/66

Claims (4)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 パルスレーザ(26)から出射した偏光
    パルスを、ビームスプリッタ(28)、光走査装置(3
    0)及び電気光学結晶(16)に順に通した後反射させ
    て該電気光学結晶及び該光走査装置の順に通し、該ビー
    ムスプリッタで反射した光を偏光ビームスプリッタ(4
    4)でs偏光成分とp偏光成分に分割し、分割された該
    s偏光の光強度を第1光検出器(46)で検出して第1
    増幅器(50)で増幅し、分割された該p偏光の光強度
    を第2光検出器(48)で検出して第2増幅器(52)
    で増幅し、増幅された両光強度の差に基づいて該電気光
    学結晶の対向面間に印加された電圧を測定し、該光走査
    装置で該偏光パルスを該電気光学結晶上で走査させる光
    ビームテスタにおいて、 該光走査装置と該電気光学結晶との間の光路中にp/s
    偏光成分交換光学素子(40)を配置し、 該p/s偏光成分交換光学素子は、入射光のp偏光成分
    とs偏光成分の電気ベクトル振動方向を、該p/s偏光
    成分交換光学素子を透過しその戻り光が再度p/s偏光
    成分交換光学素子を透過したときに互いに逆にさせるこ
    とを特徴とする光ビームテスタ。
  2. 【請求項2】 パルスレーザ(26)から出射した偏光
    パルスを、ビームスプリッタ(28)、光走査装置(3
    0)及び電気光学結晶(16)に順に通した後反射させ
    て該電気光学結晶及び該光走査装置の順に通し、該ビー
    ムスプリッタで反射した光を偏光ビームスプリッタ(4
    4)でs偏光成分とp偏光成分に分割し、分割された該
    s偏光の光強度を第1光検出器(46)で検出して第1
    増幅器(50A)で増幅し、分割された該p偏光の光強
    度を第2光検出器(48)で検出して第2増幅器(52
    A)で増幅し、増幅された両光強度の差に基づいて該電
    気光学結晶の対向面間に印加された電圧を測定し、該光
    走査装置で該偏光パルスを該電気光学結晶上で走査させ
    る光ビームテスタにおいて、 該光走査装置による走査に応じて補正データが読み出さ
    れる補正データ記憶手段(64)を備え、 該第1増幅器(50A)及び第2増幅器(52A)は、
    読み出された該補正データで増幅率が設定される可変増
    幅器であり、 該電気光学結晶の対向面間に印加された電圧が0のとき
    に該差を0にする該補正データが該補正データ記憶手段
    に格納されていることを特徴とする光ビームテスタ。
  3. 【請求項3】 前記第1増幅器及び第2増幅器はそれぞ
    れ、増幅率固定のアンプ(50、52)と可変減衰器
    (70、72)とが縦続接続されて構成され、該可変減
    衰器の減衰率を変化させることにより増幅率が変化する
    ことを特徴とする請求項2記載の光ビームテスタ。
  4. 【請求項4】 パルスレーザ(26)から出射した偏光
    パルスを、ビームスプリッタ(28)、光走査装置(3
    0)及び電気光学結晶(16)に順に通した後反射させ
    て該電気光学結晶及び該光走査装置の順に通し、該ビー
    ムスプリッタで反射した光を偏光ビームスプリッタ(4
    4)でs偏光成分とp偏光成分に分割し、分割された該
    s偏光の光強度を第1光検出器(46)で検出して第1
    増幅器(50)で増幅し、分割された該p偏光の光強度
    を第2光検出器(48)で検出して第2増幅器(52)
    で増幅し、増幅された両光強度の差に基づいて該電気光
    学結晶の対向面間に印加された電圧を測定し、該光走査
    装置で該偏光パルスを該電気光学結晶上で走査させる光
    ビームテスタにおいて、 該光走査装置と該電気光学結晶との間の光路中に直線位
    相子(74)を配置し、 該直線位相子(74)は、これを透過するp偏光成分と
    s偏光成分の間の光路差を適当な値にして、該ビームス
    プリッタ(28)を透過し戻り光が該ビームスプリッタ
    で反射されたことによりp偏光成分とs偏光成分の間に
    生じた位相差を補償することを特徴とする光ビームテス
    タ。
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