JPH04235367A - 信号波形検出装置の光軸調整装置 - Google Patents

信号波形検出装置の光軸調整装置

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JPH04235367A
JPH04235367A JP3001715A JP171591A JPH04235367A JP H04235367 A JPH04235367 A JP H04235367A JP 3001715 A JP3001715 A JP 3001715A JP 171591 A JP171591 A JP 171591A JP H04235367 A JPH04235367 A JP H04235367A
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JP
Japan
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optical axis
optical
electro
light
signal waveform
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JP3001715A
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English (en)
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Shinichi Wakana
伸一 若菜
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Fujitsu Ltd
Original Assignee
Fujitsu Ltd
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Publication date
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は信号波形検出装置の光軸
調整装置に係り、特に電気光学効果を利用して高速度の
電気信号波形を観測する信号波形検出装置において、複
数の大規模集積回路(LSI)テスタを設置対象とした
アダプタビリティを向上した光軸調整装置に関する。
【0002】LSI等の半導体素子を製造、利用する上
で、半導体素子が設計通りに論理的に作動するか否か、
また不良の有無を判定するために、半導体素子内外の信
号波形を正確に測定することが必要不可欠である。
【0003】しかしながら、近年の半導体素子の高速化
に伴い、従来のLSIテスタなどを用いた電気的な信号
波形検出方式では、正確な測定が難しくなってきている
。そのため、電気的な信号波形検出方式に代わるものと
して、半導体素子基板結晶の電気光学効果を用いた光学
式の信号波形検出方式が、高速信号を計測できる方式と
して注目されるようになった(例えば、J,A,Val
dmanis and G.Mourou,“Subp
icosecond electronics sam
pling:principles andappli
cation”IEEE  JOURNAL  OF 
 QUANTUMELECTRONICS,VOL.Q
E−22,pp. 69−78等)。
【0004】また、本発明者によって、電気光学結晶の
上に被検LSIを積載し、電気光学結晶にレーザ光を入
射後反射させてその反射光量を測定することにより、被
検LSIの電気信号の波形測定を行なう測定装置が開示
されている(特開平1−28566号公報)。
【0005】このような光学式の信号波形検出装置を用
いて、複数台のLSIテスタを対象として、LSIテス
タ自身の時間軸の較正を行なう場合に、移動の容易さと
移動後の各種調整の容易さの向上が要望されている。
【0006】
【従来の技術】まず、従来より知られている電気光学結
晶上の被測定体の信号波形の原理について図9と共に説
明する。同図中、1は電気光学結晶で、例えばGaAs
結晶(面方位〔100〕,厚さ200μm 程度〕を薄
板状に形成してなる。この電気光学結晶1の一方の面に
はアルミニウム又は金を材質とする光反射電極2が規則
的に点在形成され、また電気光学結晶1の他方の面には
インジウム、スズ等の酸化物からなる透明電極3が形成
されている。透明電極3は接地されている。
【0007】4は特性試験などで電圧測定される被測定
体の一例としてのLSIで、その入出力端子5がボード
6を介して光反射電極2に電気的に接続されている。
【0008】電気光学結晶1は電圧印加によって誘電分
極し、複屈折を生ずるポッケルス効果を有し、その軸方
位間の屈折率の差は光反射電極2と透明電極3との間に
印加される電圧に応じて決まる。そこで、LSI4の入
出力端子5の出力電圧タイミングに同期させて、レーザ
光を透明電極3,電気光学結晶1を通して光反射電極2
に入射し、これにより光反射電極2で反射され電気光学
結晶1,透明電極3を通して得られる反射光を受光素子
(図示せず)で受光する。
【0009】LSI4の入出力端子5の出力電圧に応じ
て電気光学結晶1の屈折率の変化度合が異なるため、上
記反射光の偏光状態を測定することにより、入出力端子
5の出力電圧を測定することができる。
【0010】かかる動作原理の信号波形検出装置は、L
SIテスタに比較して高速な電圧波形を検出できるため
、複数台以上設置されている工場内のLSIテスタの時
間軸の較正にも使用できる。すなわち、従来はLSIテ
スタの時間軸の較正はメーカのサポートを受けるか、高
精度の時間標準器を用いていたが、メーカのサポートを
受けるまでにかなり時間がかかり、また高精度の時間標
準器は取扱いが難しく、フィールドでの使用が面倒であ
った。これに対し、上記の信号検出装置を使用すること
で、LSIテスタの時間軸の較正をフィールドで行なう
ことができる。しかし、複数台のLSIテスタの時間軸
の較正のために、信号波形検出装置を時間軸を較正しよ
うとする1台のLSIテスタの所まで移動して設置し、
光学系を調整するという一連の作業がLSIテスタ1台
ずつに必要であり、特にレーザ光の光軸を光反射電極2
の反射面に対して直交させる光軸調整が難しかった。
【0011】そこで、本発明者は先に特願平2−246
104号(発明の名称「信号波形検出装置に於ける光軸
調整装置及び光軸調整方法」)により、例えば図10に
示す如き光軸調整装置を提案した。同図中、8は三角柱
状の穴開き反射ミラーで、中心部に穴9が穿設されてい
る。穴開き反射ミラー8の反射面8aで反射される光の
径路中には、集光レンズ10と光検出器11が設けられ
ている。
【0012】レーザ光源(図示せず)より出射されたレ
ーザ光(入射レーザ光というものとする)は、穴9を通
過して光路12を形成し、前記した透明電極3及び電気
光学結晶1を夫々通して光反射電極2に入射される。入
射レーザ光の光軸が光反射電極2の反射面に対して直交
している場合は、光反射電極2で反射された反射レーザ
光は入射レーザ光の光路12と同一の光路を逆進するか
ら、前記穴9を通過し、穴開き反射ミラー8の反射面8
aで反射されることはなく、よって光検出器11では受
光されない。
【0013】しかし、入射レーザ光の光軸がずれている
場合には、光反射電極2で反射された反射レーザ光の光
路は例えば図10に13で示す如く、入射レーザ光の光
路12と異なり、上記反射面8aで反射されるため、反
射面8aで反射された反射レーザ光は光路13´を形成
して集光レンズ10を透過して光検出器11で受光され
る。
【0014】従って、レーザ源を含む光学系を、光検出
器11で受光される反射レーザ光強度が最小となるよう
に、所定のあおり機構で変位制御し、入射レーザ光の入
射角を可変制御することにより、光軸調整ができること
になる。
【0015】
【発明が解決しようとする課題】しかるに、上記の本発
明者の提案になる信号波形検出装置の光軸調整装置では
、穴9の直径は必然的に入射レーザ光及び反射レーザ光
の各ビーム径よりも大きくなければならず、このため若
干の光軸ずれがあっても光軸のずれを検出することがで
きず、最終的な光軸調整には精度が不十分であるという
問題がある。
【0016】また、上記の光軸調整装置では、光走査レ
ンズの焦点位置調整ができないという問題もある。
【0017】本発明は以上の点に鑑みなされたもので、
簡単な構成により容易に光軸調整ができる信号波形検出
装置の光軸調整装置を提供することを目的とする。
【0018】
【課題を解決するための手段】図1は本発明の原理構成
図を示す。請求項1記載の発明は電気光学結晶1に被測
定体15の動作電圧を与えることにより、電気光学結晶
1内に誘起される電界の変化を、被測定体15の動作と
同期して間歇的に光走査レンズ16を通して照射され、
かつ、電気光学結晶1内を反射往復するレーザ光の偏光
面の変化として検出することで信号波形の検出を行なう
装置において、第1の光軸ずれ検出手段17と第2の光
軸ずれ検出手段19と光学系20の位置を変位制御する
2軸のあおり機構21とを有するよう構成したものであ
る。
【0019】ここで、第1の光軸ずれ検出手段17は電
気光学結晶1へ光走査レンズ16を通して入射される入
射レーザ光と、その反射レーザ光の光軸がずれていると
き、光軸からずれた反射レーザ光を分離して受光する。
【0020】また、第2の光軸ずれ検出手段19は上記
反射レーザ光のレーザ光源14への戻り光を防止するた
めに設けられた光アイソレータ18の反射側光路上に配
置され、集光レンズ、ピンホール及び光検出器とよりな
る。
【0021】更に、2軸のあおり機構21は第1の光軸
ずれ検出手段17における受光光強度を最小とし、第2
の光軸ずれ検出手段19の光検出器出力が最大となるよ
うに、光学系20の位置を変位制御する。
【0022】請求項2記載の発明は上記の発明に微動機
構22を付加した構成である。微動機構22は第2の光
軸ずれ検出手段19の受光出力が最大となるように、少
なくとも光走査レンズ16を電気光学結晶1のレーザ光
入射面に直交する方向に移動させる。
【0023】
【作用】前記第1の光軸ずれ検出手段17の受光出力が
最小となるように光学系20を位置制御することにより
、光走査レンズ16を通る入射レーザ光と反射レーザ光
の両光軸が大略一致する。しかし、前記した理由から両
光軸が完全に一致していなくても第1の光軸ずれ検出手
段17の受光出力が最小となる。しかし両光軸が完全に
一致していないと、第2の光軸ずれ検出手段19内のピ
ンホールを反射レーザ光が完全に通過できず、第2の光
軸ずれ検出手段19による受光出力が最大値とならない
【0024】そこで、次に第2の光軸ずれ検出手段19
による受光出力が最大となるように光学系20の位置を
あおり機構21で制御することにより、上記光軸の微調
整ができる。
【0025】また、第2の光軸ずれ検出手段19は、レ
ーザ光源14への反射戻り光を除去するために設けた光
アイソレータ(通常、偏光ビームスプリッタと1/4 
波長板若しくはファラデー回転子とにより構成される。 )の反射光路上に配設された、集光レンズとピンホール
及び光検出器よりなる光学系であり、上記ピンホールは
上記集光レンズの焦点位置に配設されているため、この
第2の光軸ずれ検出手段19は前記光走査レンズと組み
合わせて共焦点光学系を構成している。
【0026】このため、光走査レンズの焦点位置が反射
面からずれると、上記ピンホールを通過する光量が変化
する。そこで、第2の光軸ずれ検出手段19の受光出力
が最大となるように、前記微動機構22により電気光学
結晶1のレーザ光入射面に直交する方向に少なくとも光
走査レンズ16を移動させることにより、光走査レンズ
の焦点位置を所定の反射位置に一致させることができる
【0027】
【実施例】図2は本発明装置を適用し得る一例のシステ
ム構成図、図3は図2の要部をなす本発明装置の一実施
例の構成図を示す。図2において、25は測定部で、前
記した電気光学結晶1,光反射電極2及び透明電極3よ
りなる。この測定部25は被測定体としてLSI4が積
載され、かつ、支持台であるテスタヘッド26上に搭載
されている。テスタヘッド26はLSIテスタ本体27
と電気的に接続される一方、その空間部下方に後述のス
キャナ部28が配設されている。このとき、スキャナ部
28で走査されたレーザ光が測定部25内を往復反射し
てスキャナ部28に戻るようになされている。
【0028】29はセンサ部で、後述するセンサ光学系
30に信号処理回路を付加した構成とされてテスタヘッ
ド26の下部に配置されており、検出装置制御部50に
電気的に接続される一方、その下方に配設された移動機
構系51によりその位置がスキャナ部28と共に変位制
御されるように構成されている。検出装置制御部50は
移動機構系51の変位制御と、センサ部29からの電気
信号の信号処理による信号波形測定とを行なう。
【0029】移動機構系51は所謂多軸ステージとも称
され、架台52上の2軸あおりステージ53と3軸微動
機構54とからなり、スキャナ部28及びセンサ部29
を6軸方向に変位制御する。3軸微動機構54は前記微
動機構22を有しており、測定部25のレーザ光入射面
に直交する光軸方向(図中、上下方向でこれをZ軸方向
とする)と、この光軸方向に夫々直交するX軸、Y軸の
3軸方向にスキャナ部28及びセンサ部29を微少変位
させる機構である。なお、実際には回転方向(θ方向)
にスキャナ部28及びセンサ部29を移動させる機構も
備えている。
【0030】また、2軸あおりステージ53は前記2軸
あおり機構21に相当し、スキャナ部28及びセンサ部
29をθX 及びθY 方向に夫々変位させる機構であ
る。
【0031】次に、図2の要部をなす本発明装置の一実
施例の構成について図3と共に説明する。図3において
、センサ光学系30は前記した光学系20に相当し、レ
ーザ光源14,レンズ31,偏光ビームスプリッタ(P
BS)32及び37,1/4 波長板33,ビームスプ
リッタ34,穴開き反射ミラー35,軸はずれ光センサ
36,ミラー38,集光レンズ39,40及び43,光
検出器41,42,45及びピンホール44より構成さ
れている。
【0032】穴開き反射ミラー35と軸はずれ光センサ
36は前記した第1の光軸ずれ検出手段17を構成して
おり、前記した図10と同一の原理に基づいて光軸の粗
調整のための検出信号を得る。また、偏光ビームスプリ
ッタ32及び1/4 波長板33は前記した光アイソレ
ータ18を構成し、その反射光路側の集光レンズ43,
ピンホール44及び光検出器45は前記した第2の光軸
ずれ検出手段19を構成している。
【0033】また、スキャナ部28はfθレンズと称さ
れる光走査レンズ16とガルバノミラー46とからなり
、ガルバノミラー46を回動することにより、光反射電
極2に対する入射レーザ光の走査を行なう。
【0034】次に本実施例の信号波形測定動作について
説明する。レーザ光源14より出射されたレーザ光は直
線偏光であり、レンズ31により平行光とされた後偏光
ビームスプリッタ32を透過して1/4 波長板33に
入射されて円偏光に変換される。この円偏光に変換され
たレーザ光はビームスプリッタ34で透過及び反射され
、そのうち透過されたレーザ光だけが穴開き反射ミラー
35の中央部に穿設された穴35aを通してガルバノミ
ラー46に入射され、ここで光路を変えられた後、光走
査レンズ16を透過し、更に透明電極3,電気光学結晶
1を透過してLSI4の出力信号が印加されている所定
の光反射電極2に入射されて反射される。この反射レー
ザ光は入射光路を逆進し、電気光学結晶1,透明電極3
,光走査レンズ16,ガルバノミラー46,穴開き反射
ミラー35の穴35aを夫々通してビームスプリッタ3
4により反射及び透過される。そのうちビームスプリッ
タ34で反射された反射レーザ光は偏光ビームスプリッ
タ37に入射され、ここで互いに直交する2つの軸方位
に分解され、一方の軸方位の反射レーザ光成分は偏光ビ
ームスプリッタ37を透過してミラー38で反射された
後、集光レンズ40を透過して光検出器42により受光
される。また他方の軸方位の反射レーザ光成分は偏光ビ
ームスプリッタ37で反射されて集光レンズ39を通し
て光検出器41により受光される。
【0035】ここで、前記したように、光反射電極と透
明電極4との間に印加されるLSI4の出力電圧に応じ
て電気光学結晶1の屈折率の変化に基づき反射レーザ光
の偏光状態が変化するため、LSI4の出力電圧と光検
出器41,42の各受光光量とは夫々図4に実線a,一
点鎖線bで示す如く変化する。
【0036】従って、光検出器41の出力検出電圧をI
(1+α)とすると(ただし、Iは受光光量、αは変化
率)、光検出器42の出力検出電圧はI(1−α)で表
わすことができるため、両出力検出電圧の差をとると2
αIとなり、2αはLSI4の出力電圧の関数であるか
ら、2αIからLSI4の出力電圧を測定できる。
【0037】なお、レーザ光源14からのレーザ光は一
定周期で間歇的に放射されるが、予め光反射電極2と透
明電極3との間に電圧を印加した時と印加していない時
とで、レーザ光放射時点後、どの時点で上記検出電圧の
差信号が最も大きく得られるかのタイミング位相を見付
けておき、そのタイミング位相における検出電圧の差信
号を取り込むことにより、最も精度良く標本化データを
得ることができる。
【0038】次に本実施例における光軸調整動作につい
て、図3,図5などを参照して説明する。図5は本発明
装置の一実施例の動作説明用フローチャートを示す。同
図中、まず、例えば時間軸を較正しようとするLSIテ
スタ本体27に、この信号波形検出装置を移動していき
設置する(ステップ101)。次に図2のレーザ光源1
4から間歇的にレーザ光を出射し、このときの軸はずれ
光センサ36の出力をモニタする(図5のステップ10
2)。
【0039】前記したように、レーザ光源14から出射
されたレーザ光は穴開き反射ミラー35の穴35aを通
過し、光反射電極2に対してその反射面に直交するよう
に入射するときは、入射レーザ光と反射レーザ光の各光
軸が一致し、反射レーザ光は穴35aのみを通過する。 しかし、上記の両光軸が不一致のときには反射レーザ光
は一部又は全部が穴35aを通過できず、穴開き反射ミ
ラー35で反射されて軸はずれ光センサ36に入射され
る。
【0040】そこで、この軸はずれ光センサ36の出力
電圧がゼロになるように(すなわち受光光量がゼロとな
るように)、2軸あおりステージ53を駆動してスキャ
ナ部28及びセンサ光学系30を動かす(図5のステッ
プ103)。軸はずれ光センサ36の出力電圧がゼロに
なることで、前記両光軸が大略一致する光軸の粗調整が
完了する。
【0041】次に光検出器45の出力をモニタしながら
、あおりの微調整を行なう(図5のステップ104)。 すなわち、図3において反射レーザ光の全部が穴開き反
射ミラー35の穴35aを通過し、ビームスプリッタ3
4で一部が反射され、残りが透過される。そのうち、ビ
ームスプリッタ34を透過した反射レーザ光は、1/4
 波長板33によりレーザ光源14からのレーザ光と偏
光面が直交するような直線偏光に変換された後、偏光ビ
ームスプリッタ32により反射され、更に集光レンズ4
3及びピンホール44を通して光検出器45に入射され
る。
【0042】ここで、ピンホール44は図6(A)に示
す如く、集光レンズ43の焦点位置に配置されている。 上記の光軸の粗調整が完了しても、反射レーザ光の光束
径に比し前記穴35aが大きいために前記2つの光軸が
完全に一致しているとは限らず、完全に光軸が一致して
いないときは図6(A)に示す如く偏光ビームスプリッ
タ32で反射された反射レーザ光は一部がピンホール4
4に遮ぎられてしまう。
【0043】ここで、光検出器45の受光光量と2軸あ
おりステージ53の移動量とは図6(B)に示す如き関
係にあるから、光検出器45の出力電圧が最大となるよ
うに(すなわち、受光光量が最大となるように)2軸あ
おりステージ53をまず1軸目方向に駆動して光反射電
極2への入射レーザ光の傾きを調整する。次に光検出器
45の出力電圧が最大になるように、2軸あおりステー
ジ53を2軸目方向に駆動する。その後再び光検出器4
5の出力電圧が最大になるように、1軸目と2軸目の夫
々の方向にあおりステージをもう一回ずつ駆動する。こ
れが光軸の微調整であり、この光軸の微調整により光反
射電極2の入射レーザ光と反射レーザ光の両光軸を完全
に一致させることができる。なお、1軸目と2軸目の夫
々の方向にあおりステージを駆動する回数は3回以上で
あってもよく、回数が多い程精度向上を期待できる。
【0044】次に光走査レンズ16の合焦位置の調整を
行なう(図5のステップ105)。すなわち、上記のレ
ンズ43,ピンホール44,光検出器45よりなる光軸
微調整用光学系は、光走査レンズ16と組合わせて共焦
点光学系を構成しているため、光反射電極2の反射面が
図7(A)に実線2aで示す如く光走査レンズ16の焦
点位置にあるときは、同図(B)に実線で示す如くピン
ホール44を通過する光量が最大となる。
【0045】これに対し、上記反射面が図7(A)に破
線2b,又は一点鎖線で2cで示す如く光走査レンズ1
6の焦点位置からずれると、そのときの反射レーザ光は
図7(B)に破線又は一点鎖線で示す如く、破線2bの
ときはピンホール44の前側で結像し、一点鎖線2cの
ときはピンホール44の後側で結像するため、いずれも
ピンホール44を通過する光量が低下する。
【0046】そこで、前記したステップ105の合焦位
置調整では、光検出器45の出力検出電圧が最大となる
ように、3軸微動機構54を駆動し、スキャナ部28及
びセンサ光学系30を前記したZ軸方向に微少移動させ
る。これにより、光走査レンズ16の焦点位置を電気光
学結晶1の裏面に設けた光反射電極2の反射面に一致さ
せることができる。
【0047】このように、本実施例によれば、軸はずれ
光センサ36及び光検出器45の各出力をモニタしつつ
2軸あおりステージ53を駆動するだけで、光軸を精度
良く簡単に調整することができる。
【0048】次に本発明装置の他の実施例について説明
する。図8は本発明装置の他の実施例の要部構成図を示
す。同図中、図3と同一構成部分には同一符号を付し、
その説明を省略する。本実施例は図3の光軸微調整用光
学系の代りに、図8に示す如く集光レンズ39,40の
焦点位置にピンホール61,62を配設し、2つの光検
出器41及び42の出力検出電圧の和信号を用いるよう
にしたものである。
【0049】すなわち、偏光ビームスプリッタ37,ミ
ラー38,集光レンズ39及び40よりなる光学系は、
光走査レンズ16と組合わせて共焦点光学系を構成して
いるため、光反射電極2の反射レーザ光が入射レーザ光
の光軸とずれているときにはピンホール61,62によ
り遮ぎられる反射レーザ光部分が生ずる。従って、光検
出器41及び42の出力検出電圧の和信号が最大となる
ように2軸あおりステージ53を駆動制御することによ
り、光軸調整を行なうことができる。
【0050】本実施例はピンホール61,62を用いて
いるため、光検出器41及び42の受光光量がピンホー
ル61,62を設けない図3の実施例に比し低下するの
で、信号計測時には取り除く構造とすることが望ましい
が、図3の実施例に比し部品点数が少なくて済むから構
成を簡単にすることができる。
【0051】
【発明の効果】上述の如く、本発明によれば、2軸のあ
おり機構のみを駆動するだけで、光軸の粗調整と光軸の
微調整とができるため、従来に比べて簡単に、しかも精
度良く光軸調整ができる。また、本発明によれば、光軸
の微調整用光学系を共用して従来できなかった光走査レ
ンズの焦点位置調整もでき、また反射レーザ光の偏光面
変化検出用の2つの光検出器の前面に夫々ピンホールを
設けて光軸調整を行なう場合は、光軸微調整用専用の光
学系を不要にできるから、簡単な構成とすることができ
る等の特長を有するものである。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の原理構成図である。
【図2】本発明装置を適用し得る一例のシステム構成図
である。
【図3】本発明装置の一実施例の構成図である。
【図4】図3の要部の電圧対受光光量特性を説明する図
である。
【図5】本発明の一実施例のフローチャートである。
【図6】図3の光軸微調整の動作を説明する図である。
【図7】図3の合焦点位置調整の動作を説明する図であ
る。
【図8】本発明装置の他の実施例の要部構成図である。
【図9】電気光学結晶上の被測定体の信号波形の検出原
理説明図である。
【図10】本発明者が先に提案した信号波形検出装置の
一例の要部構成図である。
【符号の説明】
1  電気光学結晶 2  光反射電極 3  透明電極 14  レーザ光源 15  被測定体 16  光走査レンズ 17  第1の光軸ずれ検出手段 18  光アイソレータ 19  第2の光軸ずれ検出手段 20  光学系 21  2軸のあおり機構 22  微動機構 30  センサ光学系 41,42,45  光検出器 44,61,62  ピンホール

Claims (3)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】  電気光学結晶(1)に被測定体(15
    )の動作電圧を与えることにより、該電気光学結晶(1
    )内に誘起される電界の変化を、該被測定体(15)の
    動作と同期して間歇的に光走査レンズ(16)を通して
    照射され、かつ、該電気光学結晶(1)内を反射往復し
    出射するレーザ光の偏光面の変化として検出することで
    信号波形の検出を行なう信号波形検出装置の光軸調整装
    置において、前記電気光学結晶(1)内から前記光走査
    レンズ(16)を通して入射された反射レーザ光が該電
    気光学結晶(1)への入射レーザ光と光軸のずれがある
    とき、該光軸からずれた該反射レーザ光を分離して受光
    する第1の光軸ずれ検出手段(17)と、前記反射レー
    ザ光のレーザ光源(14)への戻り光を防止するために
    設けられた光アイソレータ(18)の反射側光路上に配
    置された、集光レンズ、ピンホール及び該ピンホールを
    通過した光を受光する光検出器とよりなる第2の光軸ず
    れ検出手段(19)と、該第1の光軸ずれ検出手段(1
    7)における受光光強度を最小とすると共に、該第2の
    光軸ずれ検出手段(19)の光検出器出力が最大となる
    ように、前記レーザ光源(14),光走査レンズ(16
    ),第1の光軸ずれ検出手段(17),光アイソレータ
    (18)及び第2の光軸ずれ検出手段(19)を含む光
    学系(20)の位置を変位制御する2軸のあおり機構(
    21)とを有することを特徴とする信号波形検出装置の
    光軸調整装置。
  2. 【請求項2】  前記第2の光軸ずれ検出手段(19)
    内の光検出器出力が最大となるように、少なくとも前記
    光走査レンズ(16)を前記電気光学結晶(1)のレー
    ザ光入射面に直交する方向に移動させる微動機構(22
    )を更に有し、該第2の光軸ずれ検出手段(19)を利
    用して該光走査レンズ(16)の焦点位置調整を併せて
    行なうことを特徴とする請求項1記載の信号波形検出装
    置の光軸調整装置。
  3. 【請求項3】  前記第1の光軸ずれ検出手段(17)
    を通過した前記反射レーザ光の偏光面変化を2つの軸方
    位に分解して受光する第1及び第2の受光手段(37〜
    42)と、該第1及び第2の受光手段(37〜42)内
    の受光部の前段に位置する第1及び第2のレンズ(39
    ,40)の焦点位置に、前記第2の光軸ずれ検出手段(
    19)に代えて夫々配設された第1及び第2のピンホー
    ル(61,62)とを有し、該第1及び第2の受光手段
    (37〜42)の出力信号の和が最大となるよう前記2
    軸のあおり機構(21)を駆動制御することを特徴とす
    る請求項1又は2記載の信号波形検出装置の光軸調整装
    置。
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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2010223892A (ja) * 2009-03-25 2010-10-07 National Institute Of Information & Communication Technology 電磁界プローブ装置
JP2011169680A (ja) * 2010-02-17 2011-09-01 National Institute Of Information & Communication Technology 電磁界プローブ装置

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