JP3154562B2 - 溶菌酵素固定化用多孔質磁器の製造方法 - Google Patents
溶菌酵素固定化用多孔質磁器の製造方法Info
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Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、溶菌酵素の担持等に用
いられる溶菌酵素固定化用多孔質磁器の製造方法に関す
る。本発明は、食品製造業、醸造業、医薬品製造業等に
おいて利用される。
いられる溶菌酵素固定化用多孔質磁器の製造方法に関す
る。本発明は、食品製造業、醸造業、医薬品製造業等に
おいて利用される。
【０００２】
【従来の技術】溶菌酵素等の酵素担体として多孔質磁器
を利用する場合には、その平均孔径が１〜５μｍである
ことが望ましい。その理由は、基質である細菌又は酵母
の大きさが０．２〜３μｍ程度であるため、溶菌酵素が
基質に作用する場合、この平均孔径（１〜５μｍ）で最
も溶菌効率が高くなるからである。そして、この様な多
孔質磁器を得るために、粒子径が５〜１５μｍ程度のセ
ラミック一次粒子が用いられている。
を利用する場合には、その平均孔径が１〜５μｍである
ことが望ましい。その理由は、基質である細菌又は酵母
の大きさが０．２〜３μｍ程度であるため、溶菌酵素が
基質に作用する場合、この平均孔径（１〜５μｍ）で最
も溶菌効率が高くなるからである。そして、この様な多
孔質磁器を得るために、粒子径が５〜１５μｍ程度のセ
ラミック一次粒子が用いられている。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】しかし、粒子径が５〜
１５μｍの一次粒子を焼成し、焼結体を得るには非常に
高い焼成温度（１７００℃以上）を必要とするため、コ
ストの面で大きな問題が生じる。また、この様に、製造
した多孔質磁器では、所望の比表面積（０．７ｍ2 ／ｇ
以上）が得られず、溶菌酵素の担持効率が低くなる。更
に、多孔質磁器を溶菌酵素の担体として用いる場合に、
０．３μｍ以下の細孔（特にインク壺的な細孔）が多く
存在すると、細孔内に溶菌酵素が入り難くなったり、細
孔内での拡散が支配的となり反応生成物が細孔外へ出難
くなったりして、溶菌酵素の菌体溶解率が下がるといっ
た問題がある。
１５μｍの一次粒子を焼成し、焼結体を得るには非常に
高い焼成温度（１７００℃以上）を必要とするため、コ
ストの面で大きな問題が生じる。また、この様に、製造
した多孔質磁器では、所望の比表面積（０．７ｍ2 ／ｇ
以上）が得られず、溶菌酵素の担持効率が低くなる。更
に、多孔質磁器を溶菌酵素の担体として用いる場合に、
０．３μｍ以下の細孔（特にインク壺的な細孔）が多く
存在すると、細孔内に溶菌酵素が入り難くなったり、細
孔内での拡散が支配的となり反応生成物が細孔外へ出難
くなったりして、溶菌酵素の菌体溶解率が下がるといっ
た問題がある。
【０００４】本発明は、上記問題点を解決するものであ
り、比較的低温で経済的に焼成でき、且つ、溶菌酵素の
担持効率と菌体溶解率に優れた溶菌酵素固定化用多孔質
磁器を製造する方法を提供することを目的とする。
り、比較的低温で経済的に焼成でき、且つ、溶菌酵素の
担持効率と菌体溶解率に優れた溶菌酵素固定化用多孔質
磁器を製造する方法を提供することを目的とする。
【０００５】
【課題を解決するための手段】本第１発明の溶菌酵素固
定化用多孔質磁器（以下、「多孔質磁器」という。）の
製造方法は、セラミック原料を含有する練土状物を成形
後、焼成することにより、溶菌酵素固定化用多孔質磁器
を製造する方法において、上記セラミック原料としてセ
ラミック一次粒子を凝集させたセラミック二次粒子を用
いて、平均孔径を１〜５μｍ、孔径が０．３μｍ以下の
細孔量を全細孔容積の１％以下、比表面積を０．７ｍ2
／ｇ以上とする多孔質磁器を製造することを特徴とす
る。
定化用多孔質磁器（以下、「多孔質磁器」という。）の
製造方法は、セラミック原料を含有する練土状物を成形
後、焼成することにより、溶菌酵素固定化用多孔質磁器
を製造する方法において、上記セラミック原料としてセ
ラミック一次粒子を凝集させたセラミック二次粒子を用
いて、平均孔径を１〜５μｍ、孔径が０．３μｍ以下の
細孔量を全細孔容積の１％以下、比表面積を０．７ｍ2
／ｇ以上とする多孔質磁器を製造することを特徴とす
る。
【０００６】上記「練土状物」とは、例えば、所定のセ
ラミック原料を、メチルセルロース、ポリアクリルアミ
ド、ポリスチレン、ポリプロピレン等の結合剤、水、グ
リセリン、オレイン酸等と共に混練して調製した坏土等
をいう。上記「セラミック二次粒子」は、セラミック一
次粒子が、互いに結合、凝集して見掛け上大きな粒子に
なっている粒子の状態をいい、具体的には、アルミナ、
チタニア、シリカ、チタニア−アルミナ、ジルコニア等
の二次粒子を挙げることができる。尚、この二次粒子
は、通常、一次粒子を１１００〜１２００℃程度の温度
で仮焼して製造される。上記「平均孔径」とは、細孔の
形を仮定し、細孔容積Ｖと比表面積Ｓから求めることが
できる。例えば円筒状細孔の場合では、平均孔径ｒはｒ
＝４Ｖ／Ｓとなり、水銀圧入法では細孔を円筒であると
仮定している。
ラミック原料を、メチルセルロース、ポリアクリルアミ
ド、ポリスチレン、ポリプロピレン等の結合剤、水、グ
リセリン、オレイン酸等と共に混練して調製した坏土等
をいう。上記「セラミック二次粒子」は、セラミック一
次粒子が、互いに結合、凝集して見掛け上大きな粒子に
なっている粒子の状態をいい、具体的には、アルミナ、
チタニア、シリカ、チタニア−アルミナ、ジルコニア等
の二次粒子を挙げることができる。尚、この二次粒子
は、通常、一次粒子を１１００〜１２００℃程度の温度
で仮焼して製造される。上記「平均孔径」とは、細孔の
形を仮定し、細孔容積Ｖと比表面積Ｓから求めることが
できる。例えば円筒状細孔の場合では、平均孔径ｒはｒ
＝４Ｖ／Ｓとなり、水銀圧入法では細孔を円筒であると
仮定している。
【０００７】また、上記の如く、細孔量を定めるのは、
０．３μｍ以下の細孔が多く存在すると、細孔内に溶菌
酵素が入り難くなったり、反応生成物が細孔外へ出難く
なったりして、溶菌酵素の菌体溶解率が下がる反面、こ
の様な細孔を皆無にすることは困難であると共に、１％
程度存在しても溶菌酵素の菌体溶解率はさほど低下しな
いからである。尚、この細孔量の測定に際しては、上記
平均孔径を求めた方法が利用できる。また、この「１％
以下」には、「０％」の場合、即ち、０．３μｍ以下の
細孔が全く存在しない場合も含まれる。更に、上記の如
く、比表面積を０．７ｍ2 ／ｇ以上とするのは、溶菌酵
素の担持量の増加を図るためである。尚、この比表面積
の値は、Brunauer, EmmettとTellerにより提案されたガ
スの物理的吸着を利用して表面積を求める方法（以下、
「ＢＥＴ法」という。）を用いて定められる。具体的に
は、以下に述べる式が用いられる。 Ｖ／Ｖm ＝ｃｘ／〔（１−ｘ）（１−ｘ＋ｃｘ）〕 但
し、ｘ＝Ｐ／Ｐs ここで、上式の「Ｖ」は「吸着ガス量」、「Ｖm 」は
「単分子膜容量（試料表面に単分子膜を形成するのに要
するガス量）」、「ｃ」は「系によって定まるパラメー
タ」、「ｘ」は「吸着温度での飽和水蒸気に対する吸着
分子の相対圧」をそれぞれ示す。
０．３μｍ以下の細孔が多く存在すると、細孔内に溶菌
酵素が入り難くなったり、反応生成物が細孔外へ出難く
なったりして、溶菌酵素の菌体溶解率が下がる反面、こ
の様な細孔を皆無にすることは困難であると共に、１％
程度存在しても溶菌酵素の菌体溶解率はさほど低下しな
いからである。尚、この細孔量の測定に際しては、上記
平均孔径を求めた方法が利用できる。また、この「１％
以下」には、「０％」の場合、即ち、０．３μｍ以下の
細孔が全く存在しない場合も含まれる。更に、上記の如
く、比表面積を０．７ｍ2 ／ｇ以上とするのは、溶菌酵
素の担持量の増加を図るためである。尚、この比表面積
の値は、Brunauer, EmmettとTellerにより提案されたガ
スの物理的吸着を利用して表面積を求める方法（以下、
「ＢＥＴ法」という。）を用いて定められる。具体的に
は、以下に述べる式が用いられる。 Ｖ／Ｖm ＝ｃｘ／〔（１−ｘ）（１−ｘ＋ｃｘ）〕 但
し、ｘ＝Ｐ／Ｐs ここで、上式の「Ｖ」は「吸着ガス量」、「Ｖm 」は
「単分子膜容量（試料表面に単分子膜を形成するのに要
するガス量）」、「ｃ」は「系によって定まるパラメー
タ」、「ｘ」は「吸着温度での飽和水蒸気に対する吸着
分子の相対圧」をそれぞれ示す。
【０００８】また、本第２発明に示す様に、上記セラミ
ック原料の一次粒子の平均粒子径を０．２〜０．５μ
ｍ、二次粒子の平均粒子径を５〜１０μｍとし、上記焼
成温度を１３００〜１６００℃とするのが好ましい。こ
の様なセラミック原料と焼成温度を選択することによ
り、目的とする平均孔径、細孔量及び比表面積を有する
多孔質磁器を製造することが、一層容易になるからであ
る。尚、この場合に、上記の様な焼成温度とするのは、
１３００℃未満の低い焼成温度では、上記の様なセラミ
ック原料を用いたとしても目的とする平均孔径（１〜５
μｍ）及び細孔量を有する多孔質磁器は得難く、一方、
１６００℃を越える温度で焼成した場合には、所望の比
表面積（０．７ｍ2 ／ｇ以上）の多孔質磁器を得るのが
困難だからである。
ック原料の一次粒子の平均粒子径を０．２〜０．５μ
ｍ、二次粒子の平均粒子径を５〜１０μｍとし、上記焼
成温度を１３００〜１６００℃とするのが好ましい。こ
の様なセラミック原料と焼成温度を選択することによ
り、目的とする平均孔径、細孔量及び比表面積を有する
多孔質磁器を製造することが、一層容易になるからであ
る。尚、この場合に、上記の様な焼成温度とするのは、
１３００℃未満の低い焼成温度では、上記の様なセラミ
ック原料を用いたとしても目的とする平均孔径（１〜５
μｍ）及び細孔量を有する多孔質磁器は得難く、一方、
１６００℃を越える温度で焼成した場合には、所望の比
表面積（０．７ｍ2 ／ｇ以上）の多孔質磁器を得るのが
困難だからである。
【０００９】
【作用】５〜１５μｍ程度のセラミック一次粒子からな
るセラミック原料を、比較的低温（１３５０〜１６００
℃）で焼成した場合には、所望の比表面積（０．７ｍ2
／ｇ以上）は得られるものの、多孔質磁器の平均孔径を
１〜５μｍ程度とすることが困難となる。一方、かかる
セラミック原料を、比較的高温（１７００℃以上）にて
焼成する場合には、多孔質磁器の平均孔径を１〜５μｍ
程度とすることができるものの、所望の比表面積は得ら
れない。
るセラミック原料を、比較的低温（１３５０〜１６００
℃）で焼成した場合には、所望の比表面積（０．７ｍ2
／ｇ以上）は得られるものの、多孔質磁器の平均孔径を
１〜５μｍ程度とすることが困難となる。一方、かかる
セラミック原料を、比較的高温（１７００℃以上）にて
焼成する場合には、多孔質磁器の平均孔径を１〜５μｍ
程度とすることができるものの、所望の比表面積は得ら
れない。
【００１０】本発明では、セラミック原料としてセラミ
ック一次粒子を凝集させたセラミック二次粒子を用い
る。かかる二次粒子は高い焼結活性を有し、比較的低温
度で２次粒子相互の融着による強い結合を生み出す。こ
の為、多孔質磁器の平均孔径を比較的低温にて１〜５μ
ｍとするのが容易である。また、本発明で使用する二次
粒子はそれ自身がある程度多孔質であるため、焼結体の
比表面積向上（０．７ｍ2 ／ｇ以上）に寄与し、これに
伴い溶菌酵素の担持量を確保できる。この様に、本発明
によれば、所望の孔径と比表面積を容易に確保すること
ができる。更に、０．３μｍ以下の細孔量を低く抑える
ことにより、孔内の溶菌酵素が、細菌、酵母等の基質に
対して有効に作用する。
ック一次粒子を凝集させたセラミック二次粒子を用い
る。かかる二次粒子は高い焼結活性を有し、比較的低温
度で２次粒子相互の融着による強い結合を生み出す。こ
の為、多孔質磁器の平均孔径を比較的低温にて１〜５μ
ｍとするのが容易である。また、本発明で使用する二次
粒子はそれ自身がある程度多孔質であるため、焼結体の
比表面積向上（０．７ｍ2 ／ｇ以上）に寄与し、これに
伴い溶菌酵素の担持量を確保できる。この様に、本発明
によれば、所望の孔径と比表面積を容易に確保すること
ができる。更に、０．３μｍ以下の細孔量を低く抑える
ことにより、孔内の溶菌酵素が、細菌、酵母等の基質に
対して有効に作用する。
【００１１】
【実施例】以下、実施例により本発明を具体的に説明す
る。 （１）試験片の作製 先ず、表１（実施例１〜６）及び表２（比較例１〜７）
に示す様なアルミナ粉体を用意した。
る。 （１）試験片の作製 先ず、表１（実施例１〜６）及び表２（比較例１〜７）
に示す様なアルミナ粉体を用意した。
【００１２】
【表１】
【００１３】
【表２】
【００１４】尚、各表中の実施例１〜６及び比較例４〜
７に示すアルミナ粉体は、各表中に示す粒子径（平均粒
径）を有するアルミナ一次粒子を凝集させ、同表中に示
す粒子径（平均粒径）を有するアルミナ二次粒子として
市販されているもの（商品名「ＣＡＨ−３０２０」、住
友化学株式会社製）である。尚、実施例１〜４のアルミ
ナ二次粒子の比表面積は、３．５ｍ2 ／ｇ（上記ＢＥＴ
法による。）、実施例５、６の同比表面積は２．２ｍ2
／ｇである。一方、比較例１〜３に示すアルミナ粉体
は、各表中に示す粒子径（平均粒径）を有するアルミナ
一次粒子をそのままの状態で（二次粒子とせずに）用い
たものである。
７に示すアルミナ粉体は、各表中に示す粒子径（平均粒
径）を有するアルミナ一次粒子を凝集させ、同表中に示
す粒子径（平均粒径）を有するアルミナ二次粒子として
市販されているもの（商品名「ＣＡＨ−３０２０」、住
友化学株式会社製）である。尚、実施例１〜４のアルミ
ナ二次粒子の比表面積は、３．５ｍ2 ／ｇ（上記ＢＥＴ
法による。）、実施例５、６の同比表面積は２．２ｍ2
／ｇである。一方、比較例１〜３に示すアルミナ粉体
は、各表中に示す粒子径（平均粒径）を有するアルミナ
一次粒子をそのままの状態で（二次粒子とせずに）用い
たものである。
【００１５】次いで、上記各アルミナ粉体１００重量部
とメチルセルロース１０重量部をニーダーで１５分間混
合した後、更に加圧ニーダー（商品名「加圧ニーダ
ー」、森山製作所製）で３０分間混練した。そして、こ
れらを冷蔵庫（庫内温度４〜５℃、庫内湿度３０％）の
中に１週間静置し、実施例１〜６及び比較例１〜７の坏
土を得た。この様にして得られた各坏土を押出成形機
（商品名「ＤＥ−５０」、本田鉄工株式会社製）を用
い、３００ｃｍ／分の成形速度にて、ロッド状（外径；
６ｍｍφ）とした後、切断機により１０ｍｍの長さに切
断して成形体を得た。尚、ロッドの代わりに、円筒状
（内径；５ｍｍφ、外径；１０ｍｍφ）とすることもで
きる。
とメチルセルロース１０重量部をニーダーで１５分間混
合した後、更に加圧ニーダー（商品名「加圧ニーダ
ー」、森山製作所製）で３０分間混練した。そして、こ
れらを冷蔵庫（庫内温度４〜５℃、庫内湿度３０％）の
中に１週間静置し、実施例１〜６及び比較例１〜７の坏
土を得た。この様にして得られた各坏土を押出成形機
（商品名「ＤＥ−５０」、本田鉄工株式会社製）を用
い、３００ｃｍ／分の成形速度にて、ロッド状（外径；
６ｍｍφ）とした後、切断機により１０ｍｍの長さに切
断して成形体を得た。尚、ロッドの代わりに、円筒状
（内径；５ｍｍφ、外径；１０ｍｍφ）とすることもで
きる。
【００１６】次いで、これらの各成形体を表１及び２に
示す各焼成温度にて、焼成し、実施例１〜６及び比較例
１〜７に係わる多孔質磁器を得た。更に、各多孔質磁器
を濃塩酸（濃度；３０％）中で１時間酸化処理した後、
γ−アミノプロピルトリエトキシシランの１０％アセト
ン溶液に浸し、一昼夜かけシラン化した。そして、これ
らを１時間、自然乾燥した後、グルタルアルデヒドの
０．５％リン酸緩衝液（ｐＨ＝７．０、グルタルアルデ
ヒドを０．０５モル／ｌのリン酸溶液に溶解して調製）
を用い、３時間かけ架橋処理をした。次いで、この多孔
質磁器６０ｇを、溶菌酵素（ＹＬ−５ 酵母細胞壁溶解
酵素）１ｇを含む０．０５モル／ｌのリン酸緩衝溶液６
０ｍｌ中に入れ、その後取り出して乾燥し、同酵素を固
定化し、実施例１〜６及び比較例１〜７に係わる試験片
を得た。そして、これらの試験片を０．０５モル／ｌの
リン酸緩衝溶液に入れ４℃で保存した。
示す各焼成温度にて、焼成し、実施例１〜６及び比較例
１〜７に係わる多孔質磁器を得た。更に、各多孔質磁器
を濃塩酸（濃度；３０％）中で１時間酸化処理した後、
γ−アミノプロピルトリエトキシシランの１０％アセト
ン溶液に浸し、一昼夜かけシラン化した。そして、これ
らを１時間、自然乾燥した後、グルタルアルデヒドの
０．５％リン酸緩衝液（ｐＨ＝７．０、グルタルアルデ
ヒドを０．０５モル／ｌのリン酸溶液に溶解して調製）
を用い、３時間かけ架橋処理をした。次いで、この多孔
質磁器６０ｇを、溶菌酵素（ＹＬ−５ 酵母細胞壁溶解
酵素）１ｇを含む０．０５モル／ｌのリン酸緩衝溶液６
０ｍｌ中に入れ、その後取り出して乾燥し、同酵素を固
定化し、実施例１〜６及び比較例１〜７に係わる試験片
を得た。そして、これらの試験片を０．０５モル／ｌの
リン酸緩衝溶液に入れ４℃で保存した。
【００１７】（２）性能試験と評価 上記各試験片をカラム（図示しない。）に充填し、この
カラム内にBacillussubtilis懸濁液（菌体濃度；６６０
ｎｍにおける濁度として０．４〜０．５）を供給し（１
ｍｌ／秒）、反応をｐＨ＝７．１、５０℃下において１
時間行い、波長６６０ｎｍにおける濁度を測定し、反応
の前後における濁度の減少率（菌体溶解率）を求めた。
その結果を表１及び２に併記する。
カラム内にBacillussubtilis懸濁液（菌体濃度；６６０
ｎｍにおける濁度として０．４〜０．５）を供給し（１
ｍｌ／秒）、反応をｐＨ＝７．１、５０℃下において１
時間行い、波長６６０ｎｍにおける濁度を測定し、反応
の前後における濁度の減少率（菌体溶解率）を求めた。
その結果を表１及び２に併記する。
【００１８】以上の性能試験によれば、セラミック一次
粒子をそのまま用い、比較的低温で焼成した比較例１及
び２では、比表面積は十分に確保されているが、平均孔
径は小さく、０．３μｍ以下の細孔量も多い為、菌体溶
解率の値（５０％程度）が低い。一方、セラミック一次
粒子を比較的高温で焼成した比較例３では、平均孔径、
細孔量とも満足できる値を示すものの、比表面積が十分
に確保されず、溶菌酵素の担持量が減り、菌体溶解率の
値がそれぼど高くない（６０％程度）。また、セラミッ
ク二次粒子を用いたが、平均孔径が過大である比較例４
及び５、０．３μｍ以下の細孔量が多い比較例６及び７
の菌体溶解率は、上記セラミック一次粒子をそのまま用
いた場合よりも優れるものの、７０％前後の値に止まっ
ている。
粒子をそのまま用い、比較的低温で焼成した比較例１及
び２では、比表面積は十分に確保されているが、平均孔
径は小さく、０．３μｍ以下の細孔量も多い為、菌体溶
解率の値（５０％程度）が低い。一方、セラミック一次
粒子を比較的高温で焼成した比較例３では、平均孔径、
細孔量とも満足できる値を示すものの、比表面積が十分
に確保されず、溶菌酵素の担持量が減り、菌体溶解率の
値がそれぼど高くない（６０％程度）。また、セラミッ
ク二次粒子を用いたが、平均孔径が過大である比較例４
及び５、０．３μｍ以下の細孔量が多い比較例６及び７
の菌体溶解率は、上記セラミック一次粒子をそのまま用
いた場合よりも優れるものの、７０％前後の値に止まっ
ている。
【００１９】これに対して、本発明品（実施例１〜６の
試験片）では、いずれも８０％以上の高い菌体溶解率を
示した。尚、本発明においては、前記具体的実施例に示
すものに限られず、目的、用途に応じて本発明の範囲内
で種々変更した実施例とすることができる。即ち、多孔
質磁器の成形は、押し出し成形に限らずプレス成形その
他の成形方法を用いてもよい。
試験片）では、いずれも８０％以上の高い菌体溶解率を
示した。尚、本発明においては、前記具体的実施例に示
すものに限られず、目的、用途に応じて本発明の範囲内
で種々変更した実施例とすることができる。即ち、多孔
質磁器の成形は、押し出し成形に限らずプレス成形その
他の成形方法を用いてもよい。
【００２０】
【発明の効果】以上の様に、本発明の方法によれば、比
較的低温度にて経済的に、溶菌酵素の担持効率と菌体溶
解率に優れた溶菌酵素固定化用多孔質磁器を製造するこ
とができる。
較的低温度にて経済的に、溶菌酵素の担持効率と菌体溶
解率に優れた溶菌酵素固定化用多孔質磁器を製造するこ
とができる。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 徳本 淳一 名古屋市瑞穂区高辻町14番18号 日本特 殊陶業株式会社内 (72)発明者 加藤 隆史 名古屋市瑞穂区高辻町14番18号 日本特 殊陶業株式会社内 (72)発明者 安藤 汀 名古屋市瑞穂区高辻町14番18号 日本特 殊陶業株式会社内 (58)調査した分野(Int.Cl.7，ＤＢ名) C04B 38/00 - 38/10
Claims (2)
- 【請求項１】 セラミック原料を含有する練土状物を成
形後、焼成することにより、溶菌酵素固定化用多孔質磁
器を製造する方法において、 上記セラミック原料としてセラミック一次粒子を凝集さ
せたセラミック二次粒子を用いて、平均孔径を１〜５μ
ｍ、孔径が０．３μｍ以下の細孔量を全細孔容積の１％
以下、比表面積を０．７ｍ2 ／ｇ以上とする多孔質磁器
を製造することを特徴とする溶菌酵素固定化用多孔質磁
器の製造方法。 - 【請求項２】 上記セラミック一次粒子の平均粒子径は
０．２〜０．５μｍであり、上記セラミック二次粒子の
平均粒子径は５〜１０μｍであり、上記焼成温度を１３
００〜１６００℃とした請求項１記載の溶菌酵素固定化
用多孔質磁器の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP20746192A JP3154562B2 (ja) | 1992-07-10 | 1992-07-10 | 溶菌酵素固定化用多孔質磁器の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP20746192A JP3154562B2 (ja) | 1992-07-10 | 1992-07-10 | 溶菌酵素固定化用多孔質磁器の製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0624861A JPH0624861A (ja) | 1994-02-01 |
| JP3154562B2 true JP3154562B2 (ja) | 2001-04-09 |
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ID=16540157
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| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP20746192A Expired - Fee Related JP3154562B2 (ja) | 1992-07-10 | 1992-07-10 | 溶菌酵素固定化用多孔質磁器の製造方法 |
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| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3154562B2 (ja) |
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN102517277A (zh) * | 2012-01-12 | 2012-06-27 | 南京林业大学 | 载体表面相转化法成膜固定化酶技术 |
-
1992
- 1992-07-10 JP JP20746192A patent/JP3154562B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0624861A (ja) | 1994-02-01 |
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