JP3151342B2 - ガスセンサ - Google Patents

ガスセンサ

Info

Publication number
JP3151342B2
JP3151342B2 JP24886193A JP24886193A JP3151342B2 JP 3151342 B2 JP3151342 B2 JP 3151342B2 JP 24886193 A JP24886193 A JP 24886193A JP 24886193 A JP24886193 A JP 24886193A JP 3151342 B2 JP3151342 B2 JP 3151342B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
sensor
gas sensor
polymer structure
layer
electrode
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Lifetime
Application number
JP24886193A
Other languages
English (en)
Other versions
JPH06194336A (ja
Inventor
グンブレヒト ワルター
シエルター ウオルフガング
ラング ジークルン
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Siemens AG
Original Assignee
Siemens AG
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Siemens AG filed Critical Siemens AG
Publication of JPH06194336A publication Critical patent/JPH06194336A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP3151342B2 publication Critical patent/JP3151342B2/ja
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Lifetime legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01NINVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
    • G01N27/00Investigating or analysing materials by the use of electric, electrochemical, or magnetic means
    • G01N27/26Investigating or analysing materials by the use of electric, electrochemical, or magnetic means by investigating electrochemical variables; by using electrolysis or electrophoresis
    • G01N27/416Systems
    • G01N27/4162Systems investigating the composition of gases, by the influence exerted on ionic conductivity in a liquid

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Biochemistry (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Electrochemistry (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Analytical Chemistry (AREA)
  • Molecular Biology (AREA)
  • General Health & Medical Sciences (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Immunology (AREA)
  • Pathology (AREA)
  • Investigating Or Analyzing Materials By The Use Of Fluid Adsorption Or Reactions (AREA)
  • Measuring Oxygen Concentration In Cells (AREA)
  • Percussion Or Vibration Massage (AREA)
  • Glass Compositions (AREA)
  • Crystals, And After-Treatments Of Crystals (AREA)
  • Measurement Of The Respiration, Hearing Ability, Form, And Blood Characteristics Of Living Organisms (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明はプレーナ形ガスセンサ、
特にpCO2又はpO2センサに関する。
【0002】
【従来の技術】水性媒体、例えば血液中の二酸化炭素の
分圧(pCO2)は通常いわゆるゼフェリングハウス
(Severinghaus)の原理に基づき、即ちp
H感応性ガラス電極をベースとするセンサにより計測さ
れる(これに関してはゲペル(W.Goepel)、ヘ
ッセ(J.Hesse)及びツェメル(J.N.Zem
el)著「センサ:広範囲の調査(Sensors:A
Comprehensive Survey)」第2
巻(「化学的及び生化学的センサ(Chemical
and Biochemical Sensor
s)」)、VCH出版協会、ワインハイム在、1991
年、第488〜489頁参照)。その際pHセンサはA
g/AgCl参照電極と共に不緩衝性のNaCl/Na
HCO3 液中にある。この装置はシリコンゴムのような
疎水性物質からなる膜で測定溶液と分離されている。二
酸化炭素はイオンとは対照的にこの膜により透析され、
その内部にある溶液のpH値を以下の化学式 CO2 + H2O →← H2CO3 →← HCO3 - + H+ のように変えることができる。その際内部溶液のCl-
濃度は一定に保たれるため、Ag/AgCl電極は一定
した参照電位を生じる(これに関しては例えばキャマン
(K.Cammann)著「イオン選択性電極による動
作(Das Arbeiten mit ionens
elektiven Elektrode)」、第2
版、Springer Verlag出版、ベルリン、
ハイデルベルグ在、1977年、第95〜96頁参
照)。
【0003】ゼフェリングハウスの原理をpH感応性電
界効果形トランジスタを有するプレーナテクノロジー装
置に適用することは既に研究されてきた。しかしこれら
の装置はまだ完成には至っていない。ところでゼフェリ
ングハウス型のpCO2センサはカテーテル端子の形で
公知である(「Med.&Biol.Eng.& Co
mput.」、第18巻(1980年)、第741〜7
45頁参照)。それによるとpH−ISFET、即ちp
H感応性ISFET(イオン感応性電界効果形トランジ
スタ)がAg/AgCl電極と共に薄いナイロン小管の
先端に取り付けられている。ゼフェリングハウスの原理
に基づく別のCO2センサの場合pH−ISFETは温
度感応性ダイオードとチップ上で連結されている。
(「センサ及びアクチュエーターズ(Sensors
and Actuators)」第17巻(1989
年)、第275〜278頁参照)。このセンサはチップ
上には集積されていないAg/AgCl線を参照電極と
して有している(ハイブリット装置)。
【0004】1枚のチップ上に配置された複数のイオン
及びガスセンサを備えたゼフェリングハウス型のpCO
2センサを有する集積化学センサも既に公知である
(「センサ及びアクチュエーターズ・ビー(Senso
rs and Actuators B)」第2巻(1
990年)、第291〜295頁参照)。このpCO2
センサは内部pHセンサとしてSi34ゲートを有する
ISFET及びAg/AgCl参照電極を有しており、
その際pH−ISFET及び参照電極はポリイミドから
なるマイクロプールによって囲まれている。このマイク
ロプール内にはポリビニルアルコール、NaCl及びN
aHCO3 からなる電解ゲルが入っている。この電解ゲ
ルは厚さ50〜100μmのシリコンゴムからなるガス
透過性膜で覆われている。センサの作動開始時に電解層
は水蒸気を取り込み、膨化し、その結果その上にあるシ
リコン層を物理的に負荷する。この膜はその縁部(厚さ
数μm)がポリイミドのマイクロプールの壁と接続され
ているだけなので、電解液を持続的に密閉することもま
た被覆することも保証することはできない。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】本発明の課題は、持続
的機能を保証し、大量生産が可能なプレーナ形ガスセン
サ、特にpCO2又はpO2センサを提供することにあ
る。
【0006】
【課題を解決するための手段】この課題は本発明によ
り、平坦な基板上にあるpHセンサ又は少なくともこの
基板上にある貴金属電極と、pHセンサ又は貴金属電極
に隣接する参照電極と、参照電極及びpHセンサ又は貴
金属電極を覆う第1のポリマー構造物により囲まれてい
る電解層と、電解層並びに第1のポリマー構造物の外側
の基板の表面領域を覆う第2のポリマー構造物により囲
まれている疎水性物質からなる層とを備えるガスセンサ
により解決される。
【0007】本発明によるガスセンサはpHセンサか又
は少なくとも貴金属電極をいずれの場合にも参照電極と
組み合わせることを基本とする。pHセンサの場合この
ガスセンサは二酸化炭素及び類似のガスを計測するのに
役立つが、貴金属電極の場合には酸素を計測するのに役
立つ。このpHセンサは酸化アルミニウム又は石英のよ
うな絶縁基板上に配設されているpH感応性電極、例え
ばIrO2電極であってもよい。有利にはこのpHセン
サは、シリコンのような半導体基板上にあるpH−IS
FETである。また貴金属電極は有利には白金からな
る。この参照電極は貴金属電極を1個しか備えていない
場合同時に対向電極の役目もする。それ以外の場合には
対向電極として第2の貴金属電極を用いる。これらの貴
金属電極は薄膜として形成されている。
【0008】絶縁基板上に配設されている参照電極とし
ては有利には例えばモノリシック構造に形成されている
Ag/AgCl電極が用いられる。pO2 センサの場合
参照電極はただ一個のAg/AgCl電極である。pC
2 センサ及び二酸化炭素のようなガス用のセンサの場
合参照電極も平坦な貴金属電極、特に白金からなる電極
であってもよい。この種の参照電極は酸化還元に感応性
である。
【0009】pHセンサ又は貴金属電極及び参照電極か
らなるこの装置上には第1ポリマー構造物により囲まれ
ている電解層がある。このポリマー構造物は例えばpH
センサ又は貴金属電極及び参照電極を囲んでいるポリマ
ー物質からなる環である。この環はポリマー物質からな
る層をパターン化することにより形成される。その際例
えば直径約350μmのいわゆる内側プールが形成され
る。更にこの内側プールは電解液で満たされている。同
様にしてポリマー物質からなる層をパターン化すること
によって第1ポリマー構造物を囲む第2ポリマー構造物
が形成される。このようにして直径約600μmのいわ
ゆる外側プールが形成される。この外側プールを疎水性
物質の溶液で満たし、こうして電解層を液密に覆う疎水
性物質からなる層が得られる。
【0010】しかし疎水性物質からなる層は電解層、即
ち第1ポリマー構造物も含めてpHセンサ又は貴金属電
極及び参照電極からなる装置ばかりでなく、この両ポリ
マー構造物間にある基板の表面領域も覆う。その際疎水
性膜は基板表面と固く結合される。即ち両ポリマー構造
物間の間隔に相応して一般に100μm以上の比較的大
きな範囲にわたって結合される。こうして極めて良好な
電解質の密閉が保証される。このことは特に、薄いSi
2 層で覆われたシリコン基板を使用する場合及びポリ
シロキサンがSiO2 に極めて良好に粘着するため、疎
水性膜がポリシロキサンからなる場合がこれに該当す
る。
【0011】第1ポリマー構造物は有利には1〜10μ
mの高さを有するが、しかし更に高く、即ち特に30μ
mまでの高さがあってもよい。第2ポリマー構造物は有
利には20〜30μmの高さを有するが、一般に約30
μmの高さである。第1ポリマー構造物の幅は有利には
10〜50μmであり、第1と第2ポリマー構造物との
間の間隔は有利には50〜200μmである。これらの
ポリマー構造物は特に円形に形成されているが、しかし
例えば正方形又は長方形であってもよい。両ポリマー構
造物の材料としては有利にはポリイミドを使用する。し
かしその他にポリベンズオキサゾールのようなパターン
化可能のポリマー物質であってもよい。
【0012】電解層は一般にヒドロゲルを含有してい
る。ヒドロゲルとしては有利にはポリビニルピロリドン
(PVP)を使用するが、それとともに他のポリビニル
アルコール(PVA)及び高分子の2−ヒドロキシエチ
ルメタクリレート(pHEMA)のような疎水性ポリマ
ーも使用できる。pCO2 センサの場合電解層は付加的
に炭酸水素塩、特に炭酸水素ナトリウムを含有してい
る。参照電極としてAg/AgCl電極を備えている場
合電解質は塩化物特に塩化カリウムを含んでおり、貴金
属電極を備えている場合電解質は特にK4 [Fe(C
N)6]/K3[Fe(CN)6]の形のFe2+ /Fe3+
のような酸化還元緩衝系を含んでいる。
【0013】疎水性物質からなる層は有利にはシリコン
又はシリコンゴムの形のポリシロキサンからなる。この
物質はSiO2及びSi34のような物質に極めて良好
に粘着し、従ってガスセンサの作動状態で膨潤又は流動
性電解質を持続的に封入及び密閉することが保証される
利点を有する。
【0014】本発明によるガスセンサは一般に水性媒体
に使用されるが、しかし湿気を含んだガス流の計測にも
使用できる。本発明によるガスセンサはpO2 センサと
しての他に有利にはpCO2 センサとして、即ち二酸化
炭素の計測に使用される。この種のガスセンサはpHセ
ンサを有していることから原則として水性溶液中に導入
した場合水素イオンを発生するか又はこれを捕捉する、
即ち電解質中にpH値の変化を惹起する全てのガスを計
測することができる。この種のガスには二酸化炭素(C
2 )の他に特にアンモニア(NH3)、二酸化硫黄
(SO2)、二酸化窒素(NO2)、フッ化水素(H
F)、硫化水素(H2S)及び青酸又はシアン化水素酸
(HCN)が属する。
【0015】
【実施例】本発明の実施例を図面に基づき以下に詳述す
る。
【0016】平坦な基板(特にシリコン基板)10上に
pHセンサ11、特にpH−ISFETが配設され、こ
れに参照電極12が隣接している。pHセンサ11及び
参照電極12は電解層13により覆われており、この電
解層は環状の第1ポリマー構造物14により囲まれてい
る。即ち電解層13は第1ポリマー構造物14の内側の
空間内にある。環状の第1ポリマー構造物14は孔16
を有するポリマー層17の形で第2ポリマー構造物15
により囲まれている。第2ポリマー構造物15の内側の
空間は疎水性物質で満たされている。即ち電解層13及
び第1ポリマー構造物14の外側にある基板10の表面
領域18は疎水性物質からなる層19で覆われている。
従ってこの層19は第2ポリマー構造物15によって囲
まれている。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明のプレーナ形ガスセンサの一実施例の横
断面図。
【図2】本発明のプレーナ形ガスセンサの一実施例の平
面図。
【符号の説明】
10 基板 11 pHセンサ 12 参照電極 13 電解層 14 第1ポリマー構造物 15 第2ポリマー構造物 16 孔 17 ポリマー層 18 基板の表面領域 19 疎水性物質からなる層
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 ウオルフガング シエルター ドイツ連邦共和国 91080 ウツテンロ イト アイヒエンドルフシユトラーセ 7 (72)発明者 ジークルン ラング ドイツ連邦共和国 91058 エルランゲ ン ブレスラウエルシユトラーセ 11 (58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名) G01N 27/414 G01N 24/404 G01N 24/416

Claims (10)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 平坦な基板(10)上にあるpHセンサ
    (11)又は少なくともこの基板上にある貴金属電極
    と、pHセンサ(11)又は貴金属電極に隣接する参照
    電極(12)と、参照電極(12)及びpHセンサ(1
    1)又は貴金属電極を覆う第1のポリマー構造物(1
    4)により囲まれる電解層(13)と、電解層(13)
    並びに第1のポリマー構造物(14)の外側の基板の表
    面領域(18)を覆う第2のポリマー構造物(15)に
    よって囲まれる疎水性物質からなる層(19)とを備え
    ることを特徴とするガスセンサ。
  2. 【請求項2】 pHセンサ(11)がpH−ISFET
    であることを特徴とする請求項1記載のガスセンサ。
  3. 【請求項3】 第1ポリマー構造物(14)が1〜10
    μm、第2ポリマー構造物(15)が1〜30μmの高
    さを有することを特徴とする請求項1又は2記載のガス
    センサ。
  4. 【請求項4】 第1ポリマー構造物(14)が10〜5
    0μmの幅を有し、第1及び第2ポリマー構造物(1
    4、15)間の間隔が50〜200μmであることを特
    徴とする請求項1ないし3の1つに記載のガスセンサ。
  5. 【請求項5】 第1及び第2ポリマー構造物(14、1
    5)がポリイミドからなることを特徴とする請求項1な
    いし4の1つに記載のガスセンサ。
  6. 【請求項6】 電解層(13)がヒドロゲルを含有して
    いることを特徴とする請求項1ないし5の1つに記載の
    ガスセンサ。
  7. 【請求項7】 ヒドロゲルがポリビニルピロリドンであ
    ることを特徴とする請求項6記載のガスセンサ。
  8. 【請求項8】 ヒドロゲルが酸性炭酸塩を含有している
    ことを特徴とする請求項6又は7記載のガスセンサ。
  9. 【請求項9】 疎水性物質からなる層(19)がポリシ
    ロキサンからなることを特徴とする請求項1ないし8の
    1つに記載のガスセンサ。
  10. 【請求項10】 参照電極(12)がAg/AgCl電
    極であることを特徴とする請求項1ないし9の1つに記
    載のガスセンサ。
JP24886193A 1992-09-14 1993-09-08 ガスセンサ Expired - Lifetime JP3151342B2 (ja)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DE4230690.6 1992-09-14
DE4230690 1992-09-14

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPH06194336A JPH06194336A (ja) 1994-07-15
JP3151342B2 true JP3151342B2 (ja) 2001-04-03

Family

ID=6467903

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP24886193A Expired - Lifetime JP3151342B2 (ja) 1992-09-14 1993-09-08 ガスセンサ

Country Status (7)

Country Link
US (1) US5376255A (ja)
EP (1) EP0588153B1 (ja)
JP (1) JP3151342B2 (ja)
AT (1) ATE146882T1 (ja)
DE (1) DE59304876D1 (ja)
DK (1) DK0588153T3 (ja)
FI (1) FI933950A (ja)

Families Citing this family (64)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6132893A (en) * 1995-06-06 2000-10-17 Forschungszentrum Julich Gmbh pH-sensitive microsensor and a method of manufacturing a pH-sensitive microsensor
DE19621996C2 (de) * 1996-05-31 1998-04-09 Siemens Ag Verfahren zur Herstellung einer Kombination eines Drucksensors und eines elektrochemischen Sensors
DE19621997C1 (de) * 1996-05-31 1997-07-31 Siemens Ag Elektrochemischer Sensor
US6180288B1 (en) 1997-03-21 2001-01-30 Kimberly-Clark Worldwide, Inc. Gel sensors and method of use thereof
DE19716105C1 (de) * 1997-04-17 1998-08-27 Siemens Ag Verfahren und Vorrichtung zum Bestimmen einer Förderleistung eines Herzens
EP1017998B1 (de) * 1997-09-26 2009-04-15 SPHERE Medical Limited Mikrostrukturierter biosensor, verwendung des biosensors und verfahren zur immobilisierung von biokatalysatoren
US6060256A (en) * 1997-12-16 2000-05-09 Kimberly-Clark Worldwide, Inc. Optical diffraction biosensor
US6221579B1 (en) 1998-12-11 2001-04-24 Kimberly-Clark Worldwide, Inc. Patterned binding of functionalized microspheres for optical diffraction-based biosensors
US6579673B2 (en) 1998-12-17 2003-06-17 Kimberly-Clark Worldwide, Inc. Patterned deposition of antibody binding protein for optical diffraction-based biosensors
JP2000356619A (ja) * 1999-06-14 2000-12-26 Sumitomo Metal Ind Ltd pHセンサおよびそれを使用したpH測定方法
US6919030B2 (en) * 1999-10-01 2005-07-19 Hannah Technologies Limited Partnership Process for recovering cyanide from copper-containing feed material
US7167615B1 (en) 1999-11-05 2007-01-23 Board Of Regents, The University Of Texas System Resonant waveguide-grating filters and sensors and methods for making and using same
US6399295B1 (en) 1999-12-17 2002-06-04 Kimberly-Clark Worldwide, Inc. Use of wicking agent to eliminate wash steps for optical diffraction-based biosensors
DE10028692C2 (de) * 2000-06-09 2002-06-06 Micronas Gmbh Verfahren zur Untersuchung von membranumschlossenen Biokompartimenten
US6764652B2 (en) * 2001-01-24 2004-07-20 The Regents Of The University Of Michigan Micromachined device for receiving and retaining at least one liquid droplet, method of making the device and method of using the device
US7098041B2 (en) 2001-12-11 2006-08-29 Kimberly-Clark Worldwide, Inc. Methods to view and analyze the results from diffraction-based diagnostics
US7102752B2 (en) 2001-12-11 2006-09-05 Kimberly-Clark Worldwide, Inc. Systems to view and analyze the results from diffraction-based diagnostics
US8367013B2 (en) 2001-12-24 2013-02-05 Kimberly-Clark Worldwide, Inc. Reading device, method, and system for conducting lateral flow assays
US20030119203A1 (en) 2001-12-24 2003-06-26 Kimberly-Clark Worldwide, Inc. Lateral flow assay devices and methods for conducting assays
DE10208648A1 (de) * 2002-02-28 2003-09-11 Bosch Gmbh Robert Sensor zur Bestimmung von Gasen und Verfahren zur Herstellung desselben
US7771922B2 (en) 2002-05-03 2010-08-10 Kimberly-Clark Worldwide, Inc. Biomolecule diagnostic device
US7223368B2 (en) 2002-05-03 2007-05-29 Kimberly-Clark Worldwide, Inc. Diffraction-based diagnostic devices
US7118855B2 (en) 2002-05-03 2006-10-10 Kimberly-Clark Worldwide, Inc. Diffraction-based diagnostic devices
US7223534B2 (en) 2002-05-03 2007-05-29 Kimberly-Clark Worldwide, Inc. Diffraction-based diagnostic devices
US7485453B2 (en) 2002-05-03 2009-02-03 Kimberly-Clark Worldwide, Inc. Diffraction-based diagnostic devices
US7214530B2 (en) 2002-05-03 2007-05-08 Kimberly-Clark Worldwide, Inc. Biomolecule diagnostic devices and method for producing biomolecule diagnostic devices
US7091049B2 (en) 2002-06-26 2006-08-15 Kimberly-Clark Worldwide, Inc. Enhanced diffraction-based biosensor devices
US7285424B2 (en) 2002-08-27 2007-10-23 Kimberly-Clark Worldwide, Inc. Membrane-based assay devices
DE10243569A1 (de) * 2002-09-19 2004-04-01 Infineon Technologies Ag Schaltkreis-Anordnung und Verfahren zum Herstellen einer Schaltkreis-Anordnung
US7169550B2 (en) 2002-09-26 2007-01-30 Kimberly-Clark Worldwide, Inc. Diffraction-based diagnostic devices
US7228724B2 (en) * 2002-10-17 2007-06-12 Advanced Technology Materials, Inc. Apparatus and process for sensing target gas species in semiconductor processing systems
US7296458B2 (en) * 2002-10-17 2007-11-20 Advanced Technology Materials, Inc Nickel-coated free-standing silicon carbide structure for sensing fluoro or halogen species in semiconductor processing systems, and processes of making and using same
US7080545B2 (en) * 2002-10-17 2006-07-25 Advanced Technology Materials, Inc. Apparatus and process for sensing fluoro species in semiconductor processing systems
US7781172B2 (en) 2003-11-21 2010-08-24 Kimberly-Clark Worldwide, Inc. Method for extending the dynamic detection range of assay devices
US7247500B2 (en) 2002-12-19 2007-07-24 Kimberly-Clark Worldwide, Inc. Reduction of the hook effect in membrane-based assay devices
US20040197819A1 (en) 2003-04-03 2004-10-07 Kimberly-Clark Worldwide, Inc. Assay devices that utilize hollow particles
US7851209B2 (en) 2003-04-03 2010-12-14 Kimberly-Clark Worldwide, Inc. Reduction of the hook effect in assay devices
DE10323858A1 (de) * 2003-05-26 2004-12-30 Infineon Technologies Ag Sensor-Element, Sensor-Array und Verfahren zum Herstellen eines Sensor-Elements
DE10326476A1 (de) * 2003-06-12 2005-01-13 Micronas Gmbh Verfahren und Sensor zum Bestimmen eines chemischen Elementes
US20050112703A1 (en) 2003-11-21 2005-05-26 Kimberly-Clark Worldwide, Inc. Membrane-based lateral flow assay devices that utilize phosphorescent detection
US7943395B2 (en) 2003-11-21 2011-05-17 Kimberly-Clark Worldwide, Inc. Extension of the dynamic detection range of assay devices
US7713748B2 (en) 2003-11-21 2010-05-11 Kimberly-Clark Worldwide, Inc. Method of reducing the sensitivity of assay devices
DE10356935A1 (de) * 2003-12-05 2005-06-30 Robert Bosch Gmbh Sensor zur Bestimmung von Gasen und Verfahren zur Herstellung desselben
DE10359173B4 (de) * 2003-12-17 2006-11-09 Robert Bosch Gmbh Messvorrichtung mit mehreren auf einem Substrat angeordneten potentiometrischen Elektrodenpaaren
US7943089B2 (en) 2003-12-19 2011-05-17 Kimberly-Clark Worldwide, Inc. Laminated assay devices
EP1711824A1 (en) * 2004-02-03 2006-10-18 SPHERE Medical Limited Sensor
US7521226B2 (en) 2004-06-30 2009-04-21 Kimberly-Clark Worldwide, Inc. One-step enzymatic and amine detection technique
EP1624299B1 (de) * 2004-08-03 2016-10-12 Hach Lange GmbH Verfahren zur Bestimmung von Parametern einer gasselektiven Elektrode
US20060091009A1 (en) * 2004-11-02 2006-05-04 Harman John N Iii Ion selective electrode with integral sealing surface
US20060211253A1 (en) * 2005-03-16 2006-09-21 Ing-Shin Chen Method and apparatus for monitoring plasma conditions in an etching plasma processing facility
GB0509275D0 (en) * 2005-05-06 2005-06-15 Univ Cranfield Synthetic receptor
GB0509276D0 (en) * 2005-05-06 2005-06-15 Univ Cranfield Synthetic receptor
TW200728714A (en) * 2006-01-27 2007-08-01 Univ Chung Yuan Christian Potentiometric pCO2 sensor and the fabricating method thereof
JP4759473B2 (ja) * 2006-08-23 2011-08-31 善孝 伊藤 小型pH計
EP2157907B1 (en) 2007-06-07 2013-03-27 MicroCHIPS, Inc. Electrochemical biosensors and arrays
US20090020421A1 (en) * 2007-07-17 2009-01-22 Chung Yuan Christian University Voltage-Type Gas Concentration Sensor and Sensing Method
EP2287597B1 (en) * 2009-08-17 2014-07-30 Nxp B.V. Electrochemical sensor
US9295409B2 (en) * 2012-04-27 2016-03-29 Empire Technology Development Llc Sensing of gaseous leakage into body for early detection of colorectal anastomotic leakage
CN102809594A (zh) * 2012-08-18 2012-12-05 哈尔滨工业大学 电化学检测池
EP2743691A1 (en) 2012-12-14 2014-06-18 Nxp B.V. Detection of an acidic (CO2, SO2) or basic (NH3) gas by monitoring a dielectric relaxation of a reaction product (for example of a zwitterion) of an acid-base reaction of the gas with a chemical compound (like DBU) using an integrated circuit
EP2752660B1 (en) 2013-01-07 2016-08-31 Nxp B.V. Integrated circuit comprising an optical CO2 sensor and manufacturing method
US11268927B2 (en) 2016-08-30 2022-03-08 Analog Devices International Unlimited Company Electrochemical sensor, and a method of forming an electrochemical sensor
US10620151B2 (en) 2016-08-30 2020-04-14 Analog Devices Global Electrochemical sensor, and a method of forming an electrochemical sensor
US11022579B2 (en) 2018-02-05 2021-06-01 Analog Devices International Unlimited Company Retaining cap

Family Cites Families (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3649505A (en) * 1969-03-03 1972-03-14 Beckman Instruments Inc Ammonia sensor
US4874500A (en) * 1987-07-15 1989-10-17 Sri International Microelectrochemical sensor and sensor array
US5183549A (en) * 1990-01-26 1993-02-02 Commtech International Management Corporation Multi-analyte sensing electrolytic cell

Also Published As

Publication number Publication date
US5376255A (en) 1994-12-27
JPH06194336A (ja) 1994-07-15
EP0588153A1 (de) 1994-03-23
FI933950A0 (fi) 1993-09-09
DE59304876D1 (de) 1997-02-06
EP0588153B1 (de) 1996-12-27
ATE146882T1 (de) 1997-01-15
DK0588153T3 (da) 1997-06-16
FI933950A (fi) 1994-03-15

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP3151342B2 (ja) ガスセンサ
EP0805973B1 (en) Method of measuring gas concentrations and microfabricated sensing device for practicing same
JP2017529216A (ja) 分析的保証を伴う汗感知
JPS5825221B2 (ja) Fet比較電極
US3869354A (en) Ammonium ion specific electrode and method therewith
Tsukada et al. An integrated chemical sensor with multiple ion and gas sensors
EP0432757A2 (en) Planar oxygen sensor
Schöning et al. Miniaturised flow-through cell with integrated capacitive EIS sensor fabricated at wafer level using Si and SU-8 technologies
ES2210240T3 (es) Electrodo de referencia.
US10739305B1 (en) Biosensing systems and methods using a FET
Tahara et al. Electrochemical reference electrode for the ion-selective field effect transistor
US5385659A (en) Reference electrode
JPH0469338B2 (ja)
US20070175769A1 (en) Potentiometric pCO2 Sensor and the Fabrication Method thereof
JPH0365866B2 (ja)
Suzuki et al. Performance characteristics of a urea microsensor employing a micromachined carbon dioxide electrode
JP2001208722A (ja) 限界電流式ガスセンサ
JPH0418624B2 (ja)
JPH03237350A (ja) pHセンサーおよびその製造方法
Ufer et al. Ion-sensitive field-effect transistor with improved membrane adhesion
JPS6135511B2 (ja)
KR0177196B1 (ko) 감이온 전계효과 트랜지스터 pH 센서를 이용한 새로운 용존산소센서
JPS63128253A (ja) 半導体化学センサ
JP2001208720A (ja) 酸素センサ
JPS59231440A (ja) グルコ−ス濃度検出用電極及び装置

Legal Events

Date Code Title Description
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20001214

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20080119

Year of fee payment: 7

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090119

Year of fee payment: 8

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090119

Year of fee payment: 8

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100119

Year of fee payment: 9

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110119

Year of fee payment: 10

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110119

Year of fee payment: 10

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120119

Year of fee payment: 11

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130119

Year of fee payment: 12

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20140119

Year of fee payment: 13