JP3141893B2 - 平面インダクタ - Google Patents
平面インダクタInfo
- Publication number
- JP3141893B2 JP3141893B2 JP03144422A JP14442291A JP3141893B2 JP 3141893 B2 JP3141893 B2 JP 3141893B2 JP 03144422 A JP03144422 A JP 03144422A JP 14442291 A JP14442291 A JP 14442291A JP 3141893 B2 JP3141893 B2 JP 3141893B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- planar inductor
- ferromagnetic
- coil
- spiral
- magnetic
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は平面インダクタに係り、
特に直流重畳特性を改善した平面インダクタに関する。
特に直流重畳特性を改善した平面インダクタに関する。
【０００２】
【従来の技術】従来よりスパイラル状導体コイルの両面
を絶縁層を介して強磁性体層で挟んだ構成の平面インダ
クタが知られている。図５（Ａ）及び（Ｂ）にこの様な
平面インダクタの一例を示す。なお、同図（Ａ）はこの
平面インダクタの平面図であり、同図（Ｂ）は同図
（Ａ）のＡ−Ａ’線に沿う断面図である。
を絶縁層を介して強磁性体層で挟んだ構成の平面インダ
クタが知られている。図５（Ａ）及び（Ｂ）にこの様な
平面インダクタの一例を示す。なお、同図（Ａ）はこの
平面インダクタの平面図であり、同図（Ｂ）は同図
（Ａ）のＡ−Ａ’線に沿う断面図である。
【０００３】図５（Ａ）及び（Ｂ）において、スパイラ
ル状導体コイル１は絶縁層３ｂの両面にスパイラルコイ
ル２ａ、２ｂを設け、これらスパイラルコイル２ａ、２
ｂをスルーホール４で電気的にかつスパイラルコイル２
ａ、２ｂに同方向の電流が流れる様に接続した構造を有
している。ここで、図５（Ａ）中の実線及び破線はそれ
ぞれ絶縁層３ｂの表面側及び裏面側にあるスパイラルコ
イル２ａ、２ｂの中心の軌跡を表わしている。このスパ
イラル状導体コイル１の両面を絶縁層３ａ、３ｃを介し
て強磁性体層５ａ、５ｂで挟むことにより平面インダク
タが構成されている。以上の各部材からなる平面インダ
クタの端子６ａ、６ｂ間にインダクタンスが形成され
る。
ル状導体コイル１は絶縁層３ｂの両面にスパイラルコイ
ル２ａ、２ｂを設け、これらスパイラルコイル２ａ、２
ｂをスルーホール４で電気的にかつスパイラルコイル２
ａ、２ｂに同方向の電流が流れる様に接続した構造を有
している。ここで、図５（Ａ）中の実線及び破線はそれ
ぞれ絶縁層３ｂの表面側及び裏面側にあるスパイラルコ
イル２ａ、２ｂの中心の軌跡を表わしている。このスパ
イラル状導体コイル１の両面を絶縁層３ａ、３ｃを介し
て強磁性体層５ａ、５ｂで挟むことにより平面インダク
タが構成されている。以上の各部材からなる平面インダ
クタの端子６ａ、６ｂ間にインダクタンスが形成され
る。
【０００４】前述した平面インダクタは例えばＤＣ−Ｄ
Ｃインバータ等の出力側チョークコイルに適用される。
この場合、平面インダクタには直流が重畳された高周波
電流が流れるので、良好な直流重畳特性が要求される。
ところが、従来の平面インダクタは、直流重畳特性が充
分でないという問題があった。そこで、強磁性体にＦｅ
系非晶質合金等の飽和磁化の高いものを用いることが考
えられるが、大きな直流電流が重畳された際には有効と
は言えなかった。
Ｃインバータ等の出力側チョークコイルに適用される。
この場合、平面インダクタには直流が重畳された高周波
電流が流れるので、良好な直流重畳特性が要求される。
ところが、従来の平面インダクタは、直流重畳特性が充
分でないという問題があった。そこで、強磁性体にＦｅ
系非晶質合金等の飽和磁化の高いものを用いることが考
えられるが、大きな直流電流が重畳された際には有効と
は言えなかった。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】このように従来の平面
インダクタは直流重畳特性が充分でないという問題があ
った。本発明は、上記問題を考慮したもので、平面イン
ダクタの直流重畳特性の改善を目的とする。
インダクタは直流重畳特性が充分でないという問題があ
った。本発明は、上記問題を考慮したもので、平面イン
ダクタの直流重畳特性の改善を目的とする。
【０００６】
【課題を解決するための手段及び作用】上記目的を達成
するために本発明は、スパイラルコイルの両面に絶縁層
を介して複数層からなる強磁性体層を積層してなる平面
インダクタにおいて、前記強磁性体層は、前記スパイラ
ルコイルに電流が流れる方向と平行に（磁束と直角方向
に）一軸磁気容易軸を有する磁気異方性を有し、かつ前
記磁気異方性の大きさが、前記スパイラルコイルとの距
離が前記強磁性体層の積層方向に大きくなるに従い、小
さくなっていることを特徴とする平面インダクタを提供
するものである。
するために本発明は、スパイラルコイルの両面に絶縁層
を介して複数層からなる強磁性体層を積層してなる平面
インダクタにおいて、前記強磁性体層は、前記スパイラ
ルコイルに電流が流れる方向と平行に（磁束と直角方向
に）一軸磁気容易軸を有する磁気異方性を有し、かつ前
記磁気異方性の大きさが、前記スパイラルコイルとの距
離が前記強磁性体層の積層方向に大きくなるに従い、小
さくなっていることを特徴とする平面インダクタを提供
するものである。
【０００７】本発明の平面インダクタにおけるスパイラ
ルコイルは、例えば絶縁層の表面及び裏面にスパイラル
状に導体を設けて各導体をスルーホールを通して接続し
た構造の２層スパイラルコイルが挙げられる。また、端
子の取り出しに支障が生じなければスパイラル状の導体
が一層だけのスパイラルコイルを用いてもよい。また、
スパイラル状の他にもつづら折状のコイルを用いること
ができる。
ルコイルは、例えば絶縁層の表面及び裏面にスパイラル
状に導体を設けて各導体をスルーホールを通して接続し
た構造の２層スパイラルコイルが挙げられる。また、端
子の取り出しに支障が生じなければスパイラル状の導体
が一層だけのスパイラルコイルを用いてもよい。また、
スパイラル状の他にもつづら折状のコイルを用いること
ができる。
【０００８】前述した構造の平面インダクタはいわゆる
外鉄型であるが、本発明における平面インダクタはこれ
に限定されない。例えば、強磁性体層の積層体の両面に
スパイラルコイルを形成した構造を有する、いわゆる内
鉄型の平面インダクタを構成してもよい。
外鉄型であるが、本発明における平面インダクタはこれ
に限定されない。例えば、強磁性体層の積層体の両面に
スパイラルコイルを形成した構造を有する、いわゆる内
鉄型の平面インダクタを構成してもよい。
【０００９】また、スパイラルコイルを積層するとイン
ダクタンスは増大するが、この場合スパイラルコイル間
には絶縁層のみを介在させ、強磁性体層を介在させない
ことが望ましい。これは、スパイラルコイル間に強磁性
体層を介在させてもインダクタンスの増大には殆ど寄与
せず、かえって平面インダクタ全体の厚さを増大させて
単位体積当たりの性能を低下させるためである。
ダクタンスは増大するが、この場合スパイラルコイル間
には絶縁層のみを介在させ、強磁性体層を介在させない
ことが望ましい。これは、スパイラルコイル間に強磁性
体層を介在させてもインダクタンスの増大には殆ど寄与
せず、かえって平面インダクタ全体の厚さを増大させて
単位体積当たりの性能を低下させるためである。
【００１０】絶縁膜は電気的に絶縁でき、誘電率が低く
１に近いものが好ましく、例えば、ポリイミドやＳｉＯ
2 等を用いることができる。また、その厚さは１μｍ以
上であるのが実用的である。これは、コイルと磁性体の
間に容量成分が生じると、インダクタとしての性能が低
下してしまうためである。しかし、厚すぎると単位体積
当りの性能が低下するので、できるだけ薄いことが望ま
しい。
１に近いものが好ましく、例えば、ポリイミドやＳｉＯ
2 等を用いることができる。また、その厚さは１μｍ以
上であるのが実用的である。これは、コイルと磁性体の
間に容量成分が生じると、インダクタとしての性能が低
下してしまうためである。しかし、厚すぎると単位体積
当りの性能が低下するので、できるだけ薄いことが望ま
しい。
【００１１】本発明における複数の強磁性体層には、Ｆ
ｅ系非晶質合金やＣｏ系非晶質合金等を用いることがで
き、その形成方法は特に限定はされず、非晶質薄帯等の
箔を用いてもスパッタ、ＣＶＤ等公知の成膜手法を用い
て絶縁膜により分離形成された膜を用いてもよい。その
とき、各層の厚さは１００μｍ以下であることが望まし
い。これは一般に平面インダクタをＤＣ−ＤＣコンバー
タ等に適用して１０ｋＨｚ以上の周波数帯で使用する
際、強磁性体層の厚さが１００μｍを超えると表皮効果
により磁束は内部まで入らなくなり強磁性体層の厚さが
増加した割にはインダクタンスは増加せず、単位体積当
りのインダクタンスはかえって低下し、インダクタの性
能が低下するためである。また、高周波に用いる際は、
各強磁性体層はＳｉＯ2 等の絶縁膜により分離されてい
ることが好ましい。
ｅ系非晶質合金やＣｏ系非晶質合金等を用いることがで
き、その形成方法は特に限定はされず、非晶質薄帯等の
箔を用いてもスパッタ、ＣＶＤ等公知の成膜手法を用い
て絶縁膜により分離形成された膜を用いてもよい。その
とき、各層の厚さは１００μｍ以下であることが望まし
い。これは一般に平面インダクタをＤＣ−ＤＣコンバー
タ等に適用して１０ｋＨｚ以上の周波数帯で使用する
際、強磁性体層の厚さが１００μｍを超えると表皮効果
により磁束は内部まで入らなくなり強磁性体層の厚さが
増加した割にはインダクタンスは増加せず、単位体積当
りのインダクタンスはかえって低下し、インダクタの性
能が低下するためである。また、高周波に用いる際は、
各強磁性体層はＳｉＯ2 等の絶縁膜により分離されてい
ることが好ましい。
【００１２】本発明において、強磁性体層を複数とする
ことにより大きな直流電流が重畳された際にも良好な直
流重畳特性を得ることができる。このときコイルから遠
い所にある強磁性体層に流れる磁束に対する磁路は、コ
イルに近い所にある強磁性体層に流れる磁束に対する磁
路よりも長くなるため、もし両者の厚さと透磁率が同じ
ならば、後者の磁気抵抗は前者の磁気抵抗よりも小さく
なり、磁束の大部分はコイルに一番近い強磁性体層を流
れ、コイルから遠い所にある強磁性体層が有効に生かさ
れず、インダクタンスは向上しない。
ことにより大きな直流電流が重畳された際にも良好な直
流重畳特性を得ることができる。このときコイルから遠
い所にある強磁性体層に流れる磁束に対する磁路は、コ
イルに近い所にある強磁性体層に流れる磁束に対する磁
路よりも長くなるため、もし両者の厚さと透磁率が同じ
ならば、後者の磁気抵抗は前者の磁気抵抗よりも小さく
なり、磁束の大部分はコイルに一番近い強磁性体層を流
れ、コイルから遠い所にある強磁性体層が有効に生かさ
れず、インダクタンスは向上しない。
【００１３】そこで、本発明における複数の強磁性体層
は、スパイラルコイルと組み合わせて平面インダクタを
構成した時に磁束の方向と直角の方向、即ち周囲方向に
一軸磁気容易軸を有する磁気異方性が付与されており、
該強磁性体層がスパイラルコイルから離れるにつれてそ
れぞれに付与されている磁気異方性の大きさが順次小さ
くなっている。ここで、直角方向の直角には直角近傍も
含み、直角方向成分を有していれば有効である。すなわ
ち、コイルから遠い所にある強磁性体層の透磁率がコイ
ルに近い所にある強磁性体層のそれよりも大きくしてお
けば前者の磁気抵抗も小さくなり、磁束は両者を通って
流れるので、全体の磁気抵抗は低下し各々の層が有効に
生かされてインダクタンスは大きくなる。一方実効透磁
率μは磁束と直角な方向に導入した磁気異方性の大きさ
Ｋに反比例するので（μ＝２πＭｓ2 ／Ｋ±δ、４πＭ
ｓ；飽和磁化）、コイルに一番近い所にある強磁性体層
から順にコイルから離れるにつれて強磁性体層のＫを小
さくして行けばコイルから離れるにつれて強磁性体層の
μは順に大きくなり、インダクタンスの直流重畳特性の
改善と同時にインダクタンスの値そのものも大きくする
ことが出来る。また、本発明において、強磁性体層の飽
和磁化４πＭｓは、良好な直流重畳特性を得るためには
大きいことが望ましく、好ましくは１０ｋＧ以上がよ
い。
は、スパイラルコイルと組み合わせて平面インダクタを
構成した時に磁束の方向と直角の方向、即ち周囲方向に
一軸磁気容易軸を有する磁気異方性が付与されており、
該強磁性体層がスパイラルコイルから離れるにつれてそ
れぞれに付与されている磁気異方性の大きさが順次小さ
くなっている。ここで、直角方向の直角には直角近傍も
含み、直角方向成分を有していれば有効である。すなわ
ち、コイルから遠い所にある強磁性体層の透磁率がコイ
ルに近い所にある強磁性体層のそれよりも大きくしてお
けば前者の磁気抵抗も小さくなり、磁束は両者を通って
流れるので、全体の磁気抵抗は低下し各々の層が有効に
生かされてインダクタンスは大きくなる。一方実効透磁
率μは磁束と直角な方向に導入した磁気異方性の大きさ
Ｋに反比例するので（μ＝２πＭｓ2 ／Ｋ±δ、４πＭ
ｓ；飽和磁化）、コイルに一番近い所にある強磁性体層
から順にコイルから離れるにつれて強磁性体層のＫを小
さくして行けばコイルから離れるにつれて強磁性体層の
μは順に大きくなり、インダクタンスの直流重畳特性の
改善と同時にインダクタンスの値そのものも大きくする
ことが出来る。また、本発明において、強磁性体層の飽
和磁化４πＭｓは、良好な直流重畳特性を得るためには
大きいことが望ましく、好ましくは１０ｋＧ以上がよ
い。
【００１４】上述したような磁気異方性を得る方法とし
ては、例えば強磁性体層の中央部に穴を開けて導線を通
し、それに直流電流を流しながら磁場中熱処理を施して
付与する方法や、レーザパターニング等によって付与す
る方法や、又強磁性体層内に磁束と直角方向に磁気ギャ
ップを複数個導入して付与する方法を挙げることが出来
る。レーザパターニング等による場合には、例えば強磁
性体層の一部に選択的にレーザ等の加熱用エネルギービ
ームを照射して、照射しない領域と磁気特性の異なる領
域を形成することにより磁気異方性を付与すれば良い。
又、このようにこれら強磁性体層に磁束と直角方向に一
軸容易軸を有する磁気異方性を付与しておけば直流重畳
特性は改善されると同時に、回転磁化が主体となるため
高周波損失を低減し、高周波特性も改善される。
ては、例えば強磁性体層の中央部に穴を開けて導線を通
し、それに直流電流を流しながら磁場中熱処理を施して
付与する方法や、レーザパターニング等によって付与す
る方法や、又強磁性体層内に磁束と直角方向に磁気ギャ
ップを複数個導入して付与する方法を挙げることが出来
る。レーザパターニング等による場合には、例えば強磁
性体層の一部に選択的にレーザ等の加熱用エネルギービ
ームを照射して、照射しない領域と磁気特性の異なる領
域を形成することにより磁気異方性を付与すれば良い。
又、このようにこれら強磁性体層に磁束と直角方向に一
軸容易軸を有する磁気異方性を付与しておけば直流重畳
特性は改善されると同時に、回転磁化が主体となるため
高周波損失を低減し、高周波特性も改善される。
【００１５】
【実施例】以下、本発明の実施例を図面を参照して説明
する。 実施例１
する。 実施例１
【００１６】図１（Ａ）及びＡ−Ａ’断面を（Ｂ）に示
すように、先ず、絶縁層として２５μｍ厚のポリイミド
フィルム３ｂを用い、その両面に１００μｍ厚のＣｕ箔
を両張りして中央部のスルーホール４を通して接続した
両面ＦＰＣ板（フレキシブルプリント回路板）を用意
し、両面のＣｕ箔をエッチングして外周部の寸法が１１
ｍｍ×１１ｍｍ、コイル線幅２００μｍ、コイルピッチ
２５０μｍ、コイル巻線数４０回（各面２０回）のスパ
イラルコイル２ａ、２ｂに加工して平面状コイル１を作
製した。
すように、先ず、絶縁層として２５μｍ厚のポリイミド
フィルム３ｂを用い、その両面に１００μｍ厚のＣｕ箔
を両張りして中央部のスルーホール４を通して接続した
両面ＦＰＣ板（フレキシブルプリント回路板）を用意
し、両面のＣｕ箔をエッチングして外周部の寸法が１１
ｍｍ×１１ｍｍ、コイル線幅２００μｍ、コイルピッチ
２５０μｍ、コイル巻線数４０回（各面２０回）のスパ
イラルコイル２ａ、２ｂに加工して平面状コイル１を作
製した。
【００１７】一方、単ロール法により作製された、Ｆｅ
67Ｃｏ18Ｓｉ1 Ｂ14なる組成を有し、平均厚１６μｍ、
幅２５μｍの強磁性非晶質合金薄帯から１辺の長さ１５
ｍｍの正方形状の箔を切り出し、その表面（自由面）に
ＹＡＧレーザを用いて図２（ａ）に示すようなパターン
でビーム径５０μｍのレーザビームを、ピッチを０．５
ｍｍ、１ｍｍ、２ｍｍの３水準に変えて１０ｍ／ｍｉ
ｎ．の走査速度で照射し、図２（ｂ）に示すような箔の
周囲方向に一軸容易軸を有し、磁気異方性エネルギーの
異なるＡ、Ｂ、Ｃの３種の強磁性体箔を作製した。な
お、これら３種の強磁性体箔に付与された磁気異方性エ
ネルギーの大きさはＡ：１×１０4 ｅｒｇ／ｃｃ、Ｂ：
５×１０3 ｅｒｇ／ｃｃ、Ｃ：２×１０3 ｅｒｇ／ｃｃ
であった。
67Ｃｏ18Ｓｉ1 Ｂ14なる組成を有し、平均厚１６μｍ、
幅２５μｍの強磁性非晶質合金薄帯から１辺の長さ１５
ｍｍの正方形状の箔を切り出し、その表面（自由面）に
ＹＡＧレーザを用いて図２（ａ）に示すようなパターン
でビーム径５０μｍのレーザビームを、ピッチを０．５
ｍｍ、１ｍｍ、２ｍｍの３水準に変えて１０ｍ／ｍｉ
ｎ．の走査速度で照射し、図２（ｂ）に示すような箔の
周囲方向に一軸容易軸を有し、磁気異方性エネルギーの
異なるＡ、Ｂ、Ｃの３種の強磁性体箔を作製した。な
お、これら３種の強磁性体箔に付与された磁気異方性エ
ネルギーの大きさはＡ：１×１０4 ｅｒｇ／ｃｃ、Ｂ：
５×１０3 ｅｒｇ／ｃｃ、Ｃ：２×１０3 ｅｒｇ／ｃｃ
であった。
【００１８】次いで、平面状コイル１の両面を、絶縁層
３ａ、３ｃとして用いた７μｍ厚のポリイミドフィルム
を介して、強磁性体箔を平面状コイル１に近い方から
Ａ、Ｂ、Ｃの順に積層して強磁性体層５ａ〜ｆを形成す
ることにより平面インダクタを作製した。 比較例１
３ａ、３ｃとして用いた７μｍ厚のポリイミドフィルム
を介して、強磁性体箔を平面状コイル１に近い方から
Ａ、Ｂ、Ｃの順に積層して強磁性体層５ａ〜ｆを形成す
ることにより平面インダクタを作製した。 比較例１
【００１９】実施例１において用いたものと同じスパイ
ラルコイルの両面に７μｍ厚のポリイミドフィルムを介
して強磁性体箔Ａを３枚積層して強磁性体層５ａ〜ｆを
形成し、平面インダクタを作製した。 実施例２
ラルコイルの両面に７μｍ厚のポリイミドフィルムを介
して強磁性体箔Ａを３枚積層して強磁性体層５ａ〜ｆを
形成し、平面インダクタを作製した。 実施例２
【００２０】単ロール法により作製された、（Ｃｏ0.8
Ｆｅ0.2 ）78Ｓｉ8 Ｂ14なる組成を有し、平均厚１６μ
ｍ、幅２５ｍｍの非晶質合金を強磁性体箔に用いたこと
以外は実施例１と同様にして平面インダクタを作製し
た。なお、３種の強磁性体箔Ａ’、Ｂ’、Ｃ’に付与さ
れた磁気異方性エネルギーの大きさはＡ’：４×１０3
ｅｒｇ／ｃｃ、Ｂ’：２×１０3 ｅｒｇ／ｃｃ、Ｃ’：
１×１０3 ｅｒｇ／ｃｃであった。 比較例２
Ｆｅ0.2 ）78Ｓｉ8 Ｂ14なる組成を有し、平均厚１６μ
ｍ、幅２５ｍｍの非晶質合金を強磁性体箔に用いたこと
以外は実施例１と同様にして平面インダクタを作製し
た。なお、３種の強磁性体箔Ａ’、Ｂ’、Ｃ’に付与さ
れた磁気異方性エネルギーの大きさはＡ’：４×１０3
ｅｒｇ／ｃｃ、Ｂ’：２×１０3 ｅｒｇ／ｃｃ、Ｃ’：
１×１０3 ｅｒｇ／ｃｃであった。 比較例２
【００２１】強磁性体箔Ａの代わりに強磁性体箔Ａ’を
用いたこと以外は比較例１と同じ方法で平面インダクタ
を作製した。これら実施例１及び比較例１で作製した平
面インダクタについて、インダクタンスＬの直流重畳特
性を測定した結果を図３に、実施例２及び比較例２で作
製した平面インダクタについて、インダクタンスＬの直
流重畳特性を測定した結果を図４に示す。これらの図か
ら明かなように、本発明によれば平面インダクタのＬの
低下を伴うこと無く直流重畳特性は改善される。
用いたこと以外は比較例１と同じ方法で平面インダクタ
を作製した。これら実施例１及び比較例１で作製した平
面インダクタについて、インダクタンスＬの直流重畳特
性を測定した結果を図３に、実施例２及び比較例２で作
製した平面インダクタについて、インダクタンスＬの直
流重畳特性を測定した結果を図４に示す。これらの図か
ら明かなように、本発明によれば平面インダクタのＬの
低下を伴うこと無く直流重畳特性は改善される。
【００２２】
【発明の効果】以下詳述したように本発明によれば、イ
ンダクタンスが高く、直流重畳特性において優れた平面
インダクタを提供することができる。
ンダクタンスが高く、直流重畳特性において優れた平面
インダクタを提供することができる。
【図１】 （ａ）実施例に係る平面インダクタの平面
図、（ｂ）（ａ）のＡ−Ａ’断面図。
図、（ｂ）（ａ）のＡ−Ａ’断面図。
【図２】 （ａ）実施例に係るレーザ照射のパターンを
示す図、（ｂ）実施例に係るレーザ照射により得られた
磁気異方性の方向を示す図。
示す図、（ｂ）実施例に係るレーザ照射により得られた
磁気異方性の方向を示す図。
【図３】 実施例１、比較例１で作製した平面インダク
タの特性を示す図。
タの特性を示す図。
【図４】 実施例２、比較例２で作製した平面インダク
タの特性を示す図。
タの特性を示す図。
【図５】 従来の平面インダクタを示す図。
１…平面状コイル ２ａ、２ｂ…スパイラルコイル ３ａ、３ｂ、３ｃ、３ｄ、３ｅ、３ｆ、３ｇ…絶縁層 ４…スルーホール ５ａ、５ｂ、５ｃ、５ｄ、５ｅ、５ｆ…強磁性体層 ６ａ、６ｂ…端子
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 佐橋 政司 神奈川県川崎市幸区小向東芝町１番地 株式会社東芝 総合研究所内 (56)参考文献 特開 平１−318212（ＪＰ，Ａ) 特開 昭49−78877（ＪＰ，Ａ) 特開 昭62−149407（ＪＰ，Ａ) (58)調査した分野(Int.Cl.7，ＤＢ名) H01F 17/00
Claims (2)
- 【請求項１】スパイラルコイルの両面に絶縁層を介して
複数層からなる強磁性体層を積層してなる平面インダク
タにおいて、前記強磁性体層は、前記スパイラルコイル
に電流が流れる方向と平行に一軸磁気容易軸を有する磁
気異方性を有し、且つこの磁気異方性の大きさは、前記
スパイラルコイルとの距離が前記強磁性体層の積層方向
に大きくなるに従い小さくなっていることを特徴とする
平面インダクタ。 - 【請求項２】スパイラルコイルの両面に絶縁層を介して
複数層からなる強磁性体層を積層してなる平面インダク
タにおいて、前記強磁性体層は複数の領域に分割され、
この複数の領域内でそれぞれ前記スパイラルコイルに電
流が流れる方向と平行に一軸磁気容易軸を有する磁気異
方性を有し、且つこの磁気異方性の大きさは、前記スパ
イラルコイルとの距離が前記強磁性体層の積層方向に大
きくなるに従い小さくなっていることを特徴とする平面
インダクタ。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP03144422A JP3141893B2 (ja) | 1991-06-17 | 1991-06-17 | 平面インダクタ |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP03144422A JP3141893B2 (ja) | 1991-06-17 | 1991-06-17 | 平面インダクタ |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH04368105A JPH04368105A (ja) | 1992-12-21 |
| JP3141893B2 true JP3141893B2 (ja) | 2001-03-07 |
Family
ID=15361817
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP03144422A Expired - Fee Related JP3141893B2 (ja) | 1991-06-17 | 1991-06-17 | 平面インダクタ |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3141893B2 (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US9511344B2 (en) | 2007-12-18 | 2016-12-06 | Ultraviolet Sciences, Inc. | Ultraviolet light treatment chamber |
| US9808544B2 (en) | 2005-08-31 | 2017-11-07 | Ultraviolet Sciences, Inc. | Ultraviolet light treatment chamber |
Families Citing this family (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5450755A (en) * | 1992-10-21 | 1995-09-19 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Mechanical sensor having a U-shaped planar coil and a magnetic layer |
| CN105265030B (zh) | 2013-11-28 | 2018-03-30 | 株式会社村田制作所 | 多层基板的制造方法、多层基板及电磁体 |
| JP6424453B2 (ja) * | 2014-04-10 | 2018-11-21 | 株式会社村田製作所 | 多層基板の製造方法および多層基板 |
| WO2018074139A1 (ja) | 2016-10-18 | 2018-04-26 | 株式会社村田製作所 | 多層基板およびその製造方法 |
| CN209449029U (zh) * | 2016-11-28 | 2019-09-27 | 株式会社村田制作所 | 多层基板以及多层基板向电路基板的安装构造 |
| CN110121753A (zh) * | 2016-12-28 | 2019-08-13 | 株式会社村田制作所 | 电感器以及dc-dc转换器 |
-
1991
- 1991-06-17 JP JP03144422A patent/JP3141893B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US9808544B2 (en) | 2005-08-31 | 2017-11-07 | Ultraviolet Sciences, Inc. | Ultraviolet light treatment chamber |
| US9511344B2 (en) | 2007-12-18 | 2016-12-06 | Ultraviolet Sciences, Inc. | Ultraviolet light treatment chamber |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH04368105A (ja) | 1992-12-21 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US4959631A (en) | Planar inductor | |
| US6466122B1 (en) | Planar inductor | |
| JP2958892B2 (ja) | 平面インダクタ | |
| JP3621300B2 (ja) | 電源回路用積層インダクタ | |
| US6060976A (en) | Plane transformer | |
| US6603382B1 (en) | Inductive element having improved superposed DC current characteristic | |
| JPH09134820A (ja) | 平面型磁気素子 | |
| JPH08203736A (ja) | コア付きコイル装置 | |
| JP3141893B2 (ja) | 平面インダクタ | |
| JPH1140438A (ja) | 平面型磁気素子 | |
| JP2004266120A (ja) | チョークコイルおよびそれを用いた電子機器 | |
| JPH11273951A (ja) | 磁気部品及びその製造方法 | |
| JPH08203739A (ja) | 空芯コイル装置 | |
| JP3540733B2 (ja) | 平面型磁気素子及びそれを用いた半導体装置 | |
| JP2735295B2 (ja) | 平面インダクタ | |
| JPH0582349A (ja) | 渦巻状薄膜コイル | |
| JPH03276604A (ja) | 平面インダクタ | |
| JPH0746660B2 (ja) | 薄形トランス | |
| US4845454A (en) | Inductance element with core of magnetic thin films | |
| JP2958893B2 (ja) | 平面インダクタ | |
| JP2003282328A (ja) | 薄型磁性素子及びその製造方法並びにそれを用いた電源モジュール | |
| JP2001126925A (ja) | 積層インダクタ | |
| JP2019165169A (ja) | コイル部品及び電子機器 | |
| JP2607058Y2 (ja) | 積層チップインダクタ | |
| JP2000182850A (ja) | 薄膜トランス |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20071222 Year of fee payment: 7 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20081222 Year of fee payment: 8 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20091222 Year of fee payment: 9 |
|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |