JP3138869U - 真空用ゲート弁 - Google Patents

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正章 能勢
成則 戸田
健博 西場
辰雄 高牟礼
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Abstract

【課題】弁体と弁箱本体との接触による金属パーティクルの発生をなくし、長期間使用されたとしても、高いクリーン環境を良好に維持することのできる真空用ゲート弁を提供する。
【解決手段】弁体5の側面に、当板部材26,27を配設するとともに、この当板部材26,27に対応する弁箱本体2にガイドローラ23,25を配設し、これら当板部材26,27とガイドローラ23,25との当接により、弁閉状態にある前記弁体を弁箱本体2内で支持するようにしたことを特徴としている。
【選択図】図2

Description

本考案は、半導体製造装置等に使用される真空用ゲート弁に関する。
シリコンウェハなどの半導体製造、薄膜製造、液晶製造などにおいては、クリーンな環境下、高い真空中で、イオンプレーティング、プラズマエッチングなどのワークの加工、処理などが行われている。
これらに使用される真空用ゲート弁は、例えば、図3に示したような構造を有している。すなわち、真空用ゲート弁31は、弁箱本体32内に弁体36が移動自在に配置され、その先端部36aと基端部36bとには、シール部材37が装着されている。このシール部材37は、図4に示したように、長細い環状のシール部材を両側に押し開いた姿勢で使用されるものである。
そして、このような弁体36が軸34を介して直線移動されることにより、ゲート開口部33a,33b間が開放されたり、遮断されたりする。
そして、このような真空用ゲート弁31は、例えば、半導体製造装置などに組み込まれ、ゲート開口部33aが大気側に、ゲート開口部33bが減圧側にそれぞれ接続されて使用される(例えば、特公平6−50148号公報参照)。
ところで、今、真空用ゲート弁31において、ゲート開口部33a,33b間が、図3に示したように遮断されている。このとき、弁体36は、大気に連通したゲート開口部33a側からの圧力で、ゲート開口部33b側に押圧され、その結果、弁体36の側面36cが、弁箱本体32の内壁面32aなどに密着されてしまうことがある。
この際、弁箱および弁体に傷が付き、金属パーティクルの発生原因となる。さらに、弁体が傾くことでシール部材の転動や磨耗が発生し、充分なシール性を得られないという問題があった。
また、このような状態から、弁体36を、図3の下方、すなわち弁が開く方向に移動させる場合は、ゲート開口部33a,33b側に差圧のない環境にて弁体36が移動するため、通常、弁体36は、軸34により一旦、図の左方に引き戻されてから内壁面32aに接触することなく、図3に示す位置にて開閉移動される。
さらに、開口部の横方向の長さが600mm以上にもなる大型の真空用ゲート弁31では、重く、長い弁体36を移動させるため、弁板の駆動軌道に多少のずれが生じやすく、弁体36の側面36cが、内壁面32aとの摺接により傷つけられてしまうという問題があった。
しかも、このような弁体36と弁箱本体32とは、ともにアルミニウムなどの金属から形成されているため、金属パーティクルが発生するという問題があった。
本考案はこのような実情に鑑み、弁体の傾きを防止し、高いシール性能を維持するとともに、弁体と弁箱本体との接触による金属パーティクルの発生をなくし、長期間使用されたとしても、高いクリーン環境を良好に維持することのできる真空用ゲート弁を提供することを目的としている。
上記目的を達成するための本考案は、
略箱形状の弁箱本体に貫通してゲート開口部が形成されるとともに、このゲート開口部を横断する方向に弁体を移動させるための溝が、前記ゲート開口部と直交する方向に形成されており、前記弁体を取り付けた軸が前記ゲート開口部側へ直線運動することにより、この軸に取り付けられた前記弁体が、前記溝に沿って前記ゲート開口部を横断する方向に移動されるとともに、前記弁体が所定距離移動されて前記ゲート開口部の最終到達部に達したときに、前記弁体の外周に取り付けられたシール部材が、前記弁箱本体内のシール座面に当接し、この当接により、前記ゲート開口部が遮断される真空用ゲート弁であって、
前記弁体の側面に、当板部材を配設するとともに、この当板部材に対応する前記弁箱本体にガイドローラを配設し、これら当板部材とガイドローラとの当接により、弁閉状態にある前記弁体を弁箱本体内で支持するようにしたことを特徴としている。
係る構成による本考案の真空用ゲート弁では、差圧のある環境下で、大気圧側からの圧力により、弁体が真空室側に押圧されたときに、ガイドローラが弁体の傾きを押さえることができ、シール部材の転動や磨耗の発生を最小限に抑えることができるので、シール性能が低下することはない。また、弁箱と弁体との接触を防止することができる。
さらに、ガイドローラの当接は当て板部材により行われるので、弁箱と弁体との接触を可及的に少なくし、金属パーティクルの発生を可及的に少なくすることができる。
また、ゲート開閉時には、ゲート開口部9a,9b側に差圧のない環境にて弁体5が移動するため、弁体5は、ガイドローラに接触することなく開閉移動されるが、万が一、弁体がガイドローラに接触しながら開閉移動しても、ガイドローラが当板に当接して回転するので、弁体の移動をスムーズに行い、パーティクルの発生を可及的に少なくすることができる。
また、本考案は、前記当板部材と前記ガイドローラのうち、少なくとも一方は、樹脂により形成されていることが好ましい。
このような構成であれば、高硬度の金属同士の接触が無くなるので、金属パーティクルの発生を可及的に少なくすることができる。
さらに、前記当板部材と前記ガイドローラとの当接面は、前記弁体の前記弁箱に対する当接基準面である前記溝の内壁面より内方に突出して配置されていることが好ましい。
このような構成であれば、弁体と弁箱本体との接触をなくし、弁体の傾きを可及的に少なくすることができる。
以上、説明したように、本考案に係る真空用ゲート弁によれば、ゲート開口部の上流側および下流側との間の差圧により、例えば、大気圧側からの圧力により、真空室側に押圧されたときに、ガイドローラと当板部材とが当接されることにより、弁体の傾き、倒れを防止することができる。このように弁体の移動を防止することにより、シール部材の転動や磨耗の発生を最小限に抑えることができるので、シール性能が低下することはない。
さらに、弁板と弁箱が接触することが無く、金属パーティクルの発生を防止することができる。
さらに、弁体と当板部材との少なくとも一方が樹脂から形成されているため、金属パーティクルの発生を防止することができる。
以下、図面を参照しながら本考案の実施例について説明する。
図1は、本考案の一実施例に係る真空用ゲート弁の概略分解斜視図で、図2はその概略断面図である。
真空用ゲート弁1は、略箱形状の弁箱本体2と、サイドプレート3と、弁箱本体2の下端開口を覆うボンネットフランジ部材4と、軸6に支持された長形の弁体5、とから構成されている。
弁箱本体2のサイドプレート3が装着される一方の長側壁8と他方の長側壁8との間には、略矩形状のゲート開口部9a,9bが貫通して形成されている。
弁箱本体2内には、ゲート開口部9a,9bを上下に挟む態様で図の上方側に上方シール座面11が、図の下方側に下方シール座面16が形成され、これらのシール座面11,16は、段違いではあっても、変形した環になるように、連続して形成されている。これにより、箱形弁箱本体2内部には、上方シール座面11から下方シール座面16に至るまでの、連続したシール座面が構成されている。なお、弁体5の先端部5aが当接されるシール座面11は、図2の断面図で明らかなように、溝21内に構成されている。
また、弁体5は、先端部5a側の幅が細く、基端部5b側の幅が太く形成されることにより、この弁体5が移動したときに、先端部5aおよび基端部5bが、上記した上方シール座面11および下方シール座面6にそれぞれ当接する。
弁体5の先端部5aならびに基端部5bには、図4に示したシール部材37が装着されている。
そして、このようなシール部材37を備えた弁体5が、図2の下方から軸6に案内されて上方に移動されると、シール部材37が、上方シール座面11ならびに下方シール座面16に当接され、これにより、弁箱本体2のゲート開口部9a,9b間の流通が遮断されることになる。
ところで、本実施例による真空用ゲート弁1では、弁体5の移動を案内する溝21内の両壁面に、一対のガイドローラ23と、一対のガイドローラ25とが設置されている。そして、これらのガイドローラ23,25の周面は、溝21の内方に若干、突出して配置されている。ただし、通常時のガイドローラと当板部材は当接しない設計である。ゲート開口部が閉じられた状態では、ガイドローラと当板部材は0.1〜数ミリの隙間をもって配置されている。
また、このようなガイドローラ23,25は、樹脂あるいは金属から形成されている。
一方、図2に示したように、このようなガイドローラ23,25と当接する弁体5の対応部分には、当板部材26,27がそれぞれ配設されている。このような当板部材26,27も、ガイドローラ23,25と同様に、金属あるいは樹脂により形成されている。しかしながら、例えば、当板部材26,27と対応するガイドローラ23、25が、金属から形成されている場合は、当板部材26,27は樹脂により形成されることが好ましい。すなわち、ガイドローラと当板部材のうち、少なくとも一方は、樹脂から形成されることにより、金属同士の接触とならないことが好ましい。また、このような当板部材26,27も、弁体5を案内する溝21の内方に、若干突出して配置されていることが好ましい。
このように、ガイドローラ23、25、ならびに当板部材26,27が若干溝21の内方に突出して配置すれば、弁体5が他の部分に当接することを可及的に防止することができる。
本実施例による真空用ゲート弁1によれば、軸6の駆動により弁体5が溝21に案内されて、弁箱本体2のゲート開口部9a,9bに向かって直線的に移動する。
したがって、ゲート閉鎖時に、仮にゲート開口部9a側が減圧室側に、ゲート開口部9b側が大気側に接続され、弁体5がゲート開口部9a側に強く押圧されていたとしても、この弁体5が弁箱本体2の側壁面などに全面的に密着してしまうことがない。
しかも、弁体5とガイドローラとの移動初期の接触は、当板部材26,27を介して行われるので、ガイドローラ25,26および当板部材26,27のいずれか一方が樹脂から形成されていれば、金属パーティクルによる環境汚染を防止することができる。
なお、ガイドローラ23,25および当板部材26,27として金属を用いる場合は、例えば、ステンレスから形成されることが好ましく、樹脂から形成する場合は、例えば、PTFE、PEEK,PIなどを用いることが好ましい。
以上、本考案の一実施例について説明したが、本考案は、上記実施例に何ら限定されない。
例えば、上記実施例では、弁箱本体2内に一対のガイドローラ23、23およびガイドローラ25,25を設けたが、ガイドローラ23,25を両側に設けなくても良く、少なくとも減圧室側に配置されていればよい。
また、弁箱本体の形状、弁体の形状などは、上記実施例に何ら限定されない。
図1は本考案の一実施例による真空用ゲート弁の分解斜視図である。 図2は図1を組み付けたときの要部断面図である。 図3は従来の真空用ゲート弁の断面図である。 図4は真空用ゲート弁に使用されたシール部材の斜視図である。
符号の説明
1 真空用ゲート弁
2 弁箱本体
5 弁体
6 軸
7 短側壁
8 長側壁
9a,9b ゲート開口部
11,16 シール座面
13 シール部材
23,25 ガイドローラ
26,27 当板部材

Claims (3)

  1. 略箱形状の弁箱本体に貫通してゲート開口部が形成されるとともに、このゲート開口部を横断する方向に弁体を移動させるための溝が、前記ゲート開口部と直交する方向に形成されており、前記弁体を取り付けた軸が前記ゲート開口部側へ直線運動することにより、この軸に取り付けられた前記弁体が、前記溝に沿って前記ゲート開口部を横断する方向に移動されるとともに、前記弁体が所定距離移動されて前記ゲート開口部の最終到達部に達したときに、前記弁体の外周に取り付けられたシール部材が、前記弁箱本体内のシール座面に当接し、この当接により、前記ゲート開口部が遮断される真空用ゲート弁であって、
    前記弁体の側面に、当板部材を配設するとともに、この当板部材に対応する前記弁箱本体にガイドローラを配設し、これら当板部材とガイドローラとの当接により、弁閉状態にある前記弁体を弁箱本体内で支持するようにしたことを特徴とする真空用ゲート弁。
  2. 前記当板部材と前記ガイドローラのうち、少なくとも一方は、樹脂により形成されていることを特徴とする請求項1に記載の真空用ゲート弁。
  3. 前記当板部材と前記ガイドローラとの当接面は、前記弁体の前記弁箱に対する当接基準面である前記溝の内壁面より内方に突出して配置されていることを特徴とする請求項1または2に記載の真空用ゲート弁。
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