JP3138557B2 - 不揮発性記憶回路の初期書込み方法 - Google Patents

不揮発性記憶回路の初期書込み方法

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JP3138557B2
JP3138557B2 JP1715693A JP1715693A JP3138557B2 JP 3138557 B2 JP3138557 B2 JP 3138557B2 JP 1715693 A JP1715693 A JP 1715693A JP 1715693 A JP1715693 A JP 1715693A JP 3138557 B2 JP3138557 B2 JP 3138557B2
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伸一 菊池
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Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は不揮発性記憶回路の初期
書込み方法に関し、特にフラッシュ型の不揮発性記憶回
の初期書込み方法に関する。
【0002】
【従来の技術】従来、不揮発性記憶回路(以下、フラッ
シュメモリと云う)は、低コスト性および電気的に消去
が可能であることなどの利点があるために、その応用範
囲を含めて将来性が期待されており、近年一段と開発努
力が注がれている。フラッシュメモリのセル構造は、紫
外線消去型の不揮発性メモリと同様の構造を有してお
り、図3(a)および(b)に示されるように、トンネ
ル酸化膜35および基板36に対応して、電荷を蓄積す
る浮遊ゲート31と、書込み、読出しおよび消去を制御
する制御ゲート32と、書込み時に高電圧を印加するド
レイン33と、消去時に高電圧を印加するソース34と
により構成され、一般にスタックゲート型と呼ばれてい
る。本セルに対する書込みは、ドレイン33および制御
ゲート32に対して高電圧が印加され、ドレイン33の
近傍において発生するチャネルホットエレクトロンの浮
遊ゲート31に対する注入により行われる。
【0003】図3(a)は、浮遊ゲート31に電子の注
入が行われた書込み状態を示している。一方、消去につ
いては、ソース34と制御ゲート32との間に印加され
た高電圧により、トンネル酸化膜35を介して生じるト
ンネル現象を利用して、浮遊ゲート31の蓄積された電
荷を引抜くことにより行われる。このトンネル現象を利
用した消去の場合には、浮遊ゲート31に蓄積された電
荷量以上に電荷を引抜くと過剰消去を引起こすことにな
る。図3(b)は、その過剰消去の様子を示す図であ
り、過剰消去によって浮遊ゲート31は正に帯電され、
結果としてセルはディプレッションに移行する。この様
子は、図4のグラフに示されており、図4において、4
1として示される特性は、浮遊ゲート31に対する電子
注入がない時の単体セルの電流電圧特性である。また、
42の特性は、セルにデータ“0”が書込まれた状態、
即ち浮遊ゲート31に電子が注入された状態における特
性であり、しきい値電圧が5V以上に増大している。4
3の特性は、特性42におけるセルに対応して、消去時
間を十分に長くとった場合における特性であり、過剰消
去により、正常な特性41の状態を越えてディプレッシ
ョン状態となっている。
【0004】次に、このような過剰消去により誤動作を
生じる現象について、図5および図6を参照して説明す
る。
【0005】図5はセル部の一部を抜粋して示した回路
図であり、フラッシュメモリ51が、ワード線W1 、W
2 およびW3 とディジット線D1 、D2 およびD3 に論
理和型に接続されている。ここにおいて、セル52には
データ“0”が書込まれており、セル53は過剰消去さ
れてディプレッション状態、即ち浮遊ゲートに電子が注
入されて、書込き前に比較してしきい値電圧が、印加電
圧VCCよりも高い電圧となっている。今、この状態にお
いて、セル52に情報を読出す場合について考えるもの
とする。一般的にはワード線W2 が電源電圧VCCまで上
昇してデータ読出しが開始されるが、この時、セル52
におけるしきい値電圧VTEは、ワード線電位に比較して
レベルが大きい状態にあり、このためにセル52はオン
することなく、従ってデジット線電位VD2は、センスア
ンプ入力基準電位VREF に比較してレベルが大となり、
データ“0”の読出しが行われる。この状態における内
部波形が図6に示される。
【0006】図6において、時間T1 においてはワード
線W2 の電位が上昇し、時間T3 において出力が立ち下
がり始めてデータ“0”が出力される。ここにおいて、
同じデジット線D2 に接続されているセル53が過剰消
去状態、即ちディプレッション状態にあるものとする
と、ワード線W3 の電位が上昇しなくてもセル53はオ
ンの状態となっているために、デジット線D2 の電位V
D2は、図6にVD2’として示されるように、セル53を
通して流れる電流IL により低下してくる。この電位V
D2’は、時間T2 においてセンスアンプ入力基準電圧V
REF を下回り、これによって、その出力波形は、図6の
Dout として示されるように推移し、誤データが出力さ
れる。以上のことより明らかなように、フラッシュメモ
リにおいては、過剰消去は誤動作を引起す要因となるた
め、絶対に存在してはならない状態である。このため、
フラッシュメモリにおいては、消去動作が開始される前
に、消去対象の全てのセルのしきい値電圧を揃える目的
で、“0”データを書込む初期書込み機能が付与されて
いるのが一般である。この時のセルしきい値電圧VTE
分布状態が図7に示されている。
【0007】図7において、VTINIは初期分布の中心
値、VPVはプログラムベリファイ電圧、VEVは消去ベリ
ファイ電圧である。一般的に最も消去の遅いセルのしき
い値電圧VTEと消去ベリファイ電圧VEVとを比較するこ
とにより、消去時間TE が決定されるが、この時に最も
消去の早いセル(最もしきい値電圧VTEが小さいセルに
相当)のしきい値電圧が負の状態、即ちディプレッショ
ン状態になっていなければ、正常な消去が行われたこと
になる。このように、消去後のセルのしきい値電圧VTE
の分布は、基本的に消去前の初期書込み時のしきい値電
圧分布に依存している。図7において、71は初期書込
み時におけるセルしきい値電圧分布、72は消去ベリフ
ァイ電圧VEVにおける消去後のセルしきい値電圧分布、
73は消去ベリファイ電圧をVEVより小さくVEV’に設
定した時のセルしきい値電圧分布であり、過剰消去によ
るディプレッションが発生している状態を示している。
また74は、データ“0”を全てのセルに再度書込んだ
時点におけるしきい値電圧分布を示しており、しきい値
電圧の最小値を有するセルが、プログラムベリファイ電
圧VPVに等しくなった時のしきい値電圧分布状態であ
る。このプログラムベリファイ電圧VPVは、製品ごとに
或る特定の値に設定される。
【0008】このように、初期書込み機能は、フラッシ
ュメモリを動作させる上において不可欠の機能であり、
従来は、図8に示されるフローチャートに示されるよう
な手順により行われている。
【0009】図8において、まずステップ801におい
て書込みのための高電圧VPP(通常12V)を電源端子
に印加する。その後ステップ802において、該当ブロ
ックまたはチップ全体のセルの先頭番地を選択する。図
8の例では番地の“0”番地が選択されている。次に、
ステップ803において書込み回数の計数を行うライト
カウンタを初期状態にし、ステップ804において計数
値を一つ増加させる。この状態において、ステップ80
6において、1回目の書込みが終了した場合には、正常
に書込みが行われたか否かを検証する。この検証を行う
ことをベリファイと呼び、前記プログラムベリファイ電
圧VPVとセルしきい値電圧との比較が行われる。当該ベ
リファイが正常な場合には、ステップ807において最
終アドレスであるか否かが判定されて、最終アドレスで
ない場合には、ステップ811においてアドレス値を一
つ増加させて次の番地に対する書込みを行い、ステップ
803に戻る。そしてステップ803に戻ることによ
り、ライトカウンタは再度初期状態にセットされる。
【0010】また、ステップ806において、ベリファ
イが異常である場合には、ステップ808においてライ
ト回数が最大であるか否かが判定されて、最大でない場
合においては、ステップ804に戻り、再度ライトカウ
ンタにデータ“0”の書込みが行われる。これにより、
ステップ804を介してライトカウンタにおいては、一
つ計数値が増加する。ライト回数としては或る最大回数
が設定されており、ステップ808において最大である
場合には、ステップ809において全ての手順は終了と
なり、この場合においては、初期書込み機能が不良であ
るものと判定される。ステップ807において最終アド
レスである場合には、ステップ810において電源端子
PPに対する高圧電圧に印加が除去されて、ステップ8
12において手順の終了となる。
【0011】このように、従来においては、ベリファイ
電圧VPVとセルしきい値電圧とのレベルを書込みサイク
ルごとに比較して、ベリファイ電圧VPVがセルしきい値
電圧を越えたサイクルにおいて該当番地に対する書込み
を終了させており、このようにして該当セルに対する全
初期書込みが終了すると、本来の消去動作に移行すると
いう手順が行われている。そして、この場合、消去動作
としては、該当ブロックまたは該当チップの全セルのソ
ース電極に対して高電圧を印加し、浮遊ゲートを接地電
位に落して該当全セルを一斉に消去することが行われて
いる。
【0012】
【発明が解決しようとする課題】上述した従来の不揮発
性記憶回路における初期書込み方式としては、初期書込
み対象セルのしきい値電圧の内、プログラムベリファイ
電圧VPVに比較して、最も書込みの遅いセルのしきい値
電圧がVTEを越えたサイクルにおいて、各アドレスの初
期書込みが終了したことになる。この状態においては、
PV近傍のしきい値電圧VTEを有するセル群において
は、書込み条件に対して十分に浮遊ゲートに対する電子
の蓄積が為された状態にはなく、該当セルのしきい値電
圧分布は完全に飽和することはなく、その分布は本来の
製造条件等によるバラツキの分布とは異なっており、よ
り広がった分布状態となっている。この状態における分
布状態は、図7のしきい値電圧分布74に示されるとう
りである。
【0013】このことは、このしきい値電圧分布を有す
るセル群を一斉に消去すると、消去されたセルのしきい
値分布は、ベリファイ終了直後のセルしきい値電圧分布
に依存するために、結果的に大きく広がったセルしきい
値電圧分布を有することになり、図7の73のしきい値
電圧分布に示されるような過剰消去を引起し、誤動作の
要因になるという欠点がある。
【0014】また、このことにより、消去時における消
去ベリファイ電圧VEVを余り低い値に設定することがで
きないことになり、不揮発性記憶回路の低電圧動作を阻
害するという欠点があるとともに、ひいては当該不揮発
性記憶回路の信頼性をも低下させるという欠点がある。
【0015】
【課題を解決するための手段】第1の発明の構成は、フ
ラッシュ型不揮発性記憶回路に含まれる全ての消去対象
セルの初期データ書込み後におけるプログラムベリファ
イを完了し、消去対象の全セルに対するデータ“0”の
初期書込み終了後における追加書込みを実施する不揮発
性記憶回路の初期書込み方法において、前記追加書込み
が、消去動作後の消去ベリファイ電圧を低減するように
所定回数実施される際に、初期書込み該当ブロックまた
はチップ全体における先頭番地を選択する第1のステッ
プと、消去対象セルに対する書込み回数を計数するライ
トカウンタを初期状態の前記所定回数に設定する第2の
ステップと、前記ライトカウンタの計数値を一つ増加さ
せる第3のステップと、前記消去対象のセルにおける先
頭番地のセルにデータ“0”を書込む第4のステップ
と、前記消去対象のセルの書込み番地が最終であるか否
かを判定する第5のステップと、この第5のステップ
で、前記書込み番地が最終番地でないと判定した場合
に、当該番地を一つ増加させて、前記第2のステップに
戻る第6のステップと、前記第5のステップで、前記書
込み番地が最終番地あると判定した場合に、そのセルに
対し前記所定回数分の追加書込みが実行されたか否かを
判定する第7のステップと、この第7のステップで、前
記所定回数の追加書込みが実行されていないと判定した
場合に、前記第3のステップに戻り以降のステップを実
行する第8のステップと、前記第7のステップで、前記
所定回数の追加書込みが実行されていると判定した場合
に、初期データ書込み用として印加された電源電圧をリ
セットして、消去時書込み手順を終了とする第9のステ
ップとを有することを特徴とする。
【0016】また、第2の発明においては、追加書込み
が、消去動作後の消去ベリファイ電圧を低減するように
所定回数実施される際に、初期書込み該当ブロックまた
はチップ全体における先頭番地を選択する第1のステッ
プと、消去対象セルに対する書込み回数を計数するライ
トカウンタを初期状態の前記所定回数に設定する第2の
ステップと、前記ライトカウンタの計数値を一つ増加さ
せる第3のステップと、前記消去対象のセルにおける先
頭番地のセルにデータ“0”を書込む第4のステップ
と、前記消去対象のセルに対し前記所定回数分の追加書
込みが実行されたか否かを判定する第5のステップと、
この第5のステップで、前記所定回数の追加書込みが実
行されていないと判定した場合に、前記第3のステップ
に戻り以降のステップを実行する第6ステップと、前記
第5のステップで、前記所定回数の追加書込みが実行さ
れていると判定した場合に、消去対象のセルの書込み番
地が最終であるか否かを判定する第7のステップと、こ
の第7のステップで、前記書込み番地が最終番地でない
と判定した場合に、当該番地を一つ増加させて、前記第
2のステップに戻る第8のステップと、前記第7のステ
ップで、前記書込み番地が最終番地であると判定した場
合に、初期データ書込み用として印加された電源電圧を
リセットして、消去時書込み手順を終了とする第9のス
テップとを有することを特徴とする。
【0017】
【実施例】次に、本発明について図面を参照して説明す
る。
【0018】図1は本発明の第1の実施例における消去
時初期書込み方式の手順を示すフローチャートである。
【0019】図1において、まずステップ101におい
て、初期データ書込みのための高電圧VPPを電源端子に
印加する。次いで、ステップ102において、初期書込
み該当ブロックまたはチップ全体のセルの先頭番地を選
択する。図1の例では仮の例として“0”番地が選択さ
れている。次に、ステップ103において書込み回数の
計数を行うライトカウンタを初期状態にし、ステップ1
04においてライトカウンタの計数値を一つ増加させ
る。ステップ105においては、この状態の下において
該当番地のセルにデータ“0”を書込む。この1回目の
データ書込みが終了した時点において、ステップ106
において書込みデーが正常に書込まれたか否かを検証す
る。この検証機能はベリファイと呼ばれ、検証の内容と
しては、前記プログラムベリファイ電圧VPVとセルしき
い値電圧との比較が行われる。当該ベリファイが正常な
場合には、ステップ107において当該番地が最終番地
であるか否かの判定を行い、最終番地でない場合には、
ステップ110におい番地を一つ増加させてステップ1
03に戻り、再度ステップ103以降のステップに移行
する。また、ステップ106においてベリファイが異常
である場合には、未だ書込みレベルが不十分であるた
め、ステップ108において、書込み回数が設定された
最大回数に到達したか否かを判定し、当該書込み回数が
最大回数を越えていない場合にはステップ104に戻
り、再度ステップ104以降のステップの実行に移行す
る。またステップ108において最大回数を越えている
場合には、初期書込みが不良であるものと判定されて、
ステップ109において手順は終了となる。この場合に
は、当該デバイスは不良であると判定されたことにな
る。
【0020】また、ステップ107において、消去対象
の全セルに対するデータ“0”の初期書込みが終了する
と、本発明の特徴とするステップ111以降の追加書込
みサイクルが実行される。ステップ111においては、
ステップ102の場合と同様に、初期書込み該当ブロッ
クまたはチップ全体における先頭番地を選択する。ステ
ップ112においては、書込み回数の計数を行うライト
カウンタを初期状態に設定し、ステップ113において
ライトカウンタを一つ増加させる。次いで、ステップ1
14においては先頭番地のセルにデータ“0”を書込
む。ステップ115においては書込み番地が最終である
か否かの判定を行い、当該書込み番地が最終番地でない
場合には、ステップ117において番地を一つ増加させ
てステップ112に戻り、再度ステップ112以降のス
テップが実行される。また、ステップ115において最
終番地であると判定された場合には、ステップ116に
おいて所定の書込み回数分の追加書込みが実行されたか
否かの判定を行い、当該所定回数の追加書込みが終了し
ている場合には、ステップ118において電源電圧VPP
をリセットし、ステップ119において全ての手順が終
了となる。またステップ116において所定回数の追加
書込みが終了していない場合には、ステップ113に戻
り、再度ステップ113以降の手順が実行される。
【0021】次に、本発明の第2の実施例について説明
する。
【0022】図2は本発明の第2の実施例における消去
時初期書込み方式の手順を示すフローチャートである。
【0023】図2において、ステップ201〜210に
示される、全ての消去対象セルの初期データ書込み後に
おけるプログラムベリファイを完了し、消去対象の全セ
ルに対するデータ“0”の初期書込みを終了する手順の
内容については、前述の第1の実施例の場合と全く同様
である。本実施例の第1の実施例と異なる点は、本実施
例においては、ステップ207において消去対象の全セ
ルに対するデータ“0”の書込みが終了した後に実行さ
れる追加書込み方式として、該当番地に対して連続して
所定回数の追加書込みを実行し、この追加書込みが終了
した後に次の番地に移行して、同様に所定回数の追加書
込みを実行するという手順が行われていることである。
【0024】即ち、図2において、本発明の特徴とする
追加書込みサイクルにおけるステップ211において
は、初期書込み該当ブロックまたはチップ全体における
先頭番地を選択し、ステップ212においては、書込み
回数の計数を行うライトカウンタを初期状態に設定し
て、ステップ213においてライトカウンタを一つ増加
させる。次いで、ステップ214においては先頭番地の
セルにデータ“0”を書込む。次いで、ステップ215
において前記書込み回数が所定の回数に到達しているか
否かが判定されて、当該書込み回数が所定の回数に達し
ていない場合には、ステップ213に戻り、ステップ2
13以降の手順に従って、同一番地に対し連続して追加
書込みが実行される。またステップ215において書込
み回数が所定回数に達している場合には、ステップ21
6において書込み番地が最終であるか否かの判定を行
い、当該書込み番地が最終番地でない場合には、ステッ
プ218において番地を一つ増加させてステップ212
に戻り、再度ステップ212以降のステップが実行され
る。また、ステップ216において最終番地であると判
断された場合には、ステップ217において電源電圧V
PPをリセットし、ステップ219において全ての手順が
終了となる。
【0025】即ち、本実施例における消去時初期書込み
手順と、前述の第1の実施例における消去時初期書込み
手順との相違点は、本発明特有の追加書込みサイクルに
おいて、ステップ111以降の手順における差異にあ
り、第1の実施例においては、最終番地の確認後におい
て書込み回数の確認を行っているのに対し、本実施例に
おいては、書込み回数の確認を行ってから最終番地の確
認を行っていることである。
【0026】
【発明の効果】以上説明したように、本発明は、消去対
象セルの初期書込み後のプラグラムベリファイ完了直後
に、複数回の追加書込みサイクルを、全ての消去対象セ
ルに対して実行する手順を有することにより、初期書込
み時におけるセルしきい値電圧分布の分散を抑制するこ
とが可能となり、過剰消去による誤動作を防止すること
ができるとともに、消去ベリファイ電圧値を低いレベル
に設定することができるために低電圧動作を可能にする
という効果がある。
【0027】また、過剰消去に対応する動作マージンを
十分に確保することができ、信頼性を向上させることが
できるという効果がある。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の第1の実施例の消去時初期書込み手順
を示すフローチャートである。
【図2】本発明の第2の実施例の消去時初期書込み手順
を示すフローチャートである。
【図3】フラッシュ型不揮発性記憶セルの電子注入時お
よび消去時の動作説明用断面図である。
【図4】フラッシュ型不揮発性記憶セルのドレイン電流
・ゲート電圧特性を示す図である。
【図5】フラッシュ型不揮発性記憶回路のセル部の部分
回路図である。
【図6】フラッシュ型不揮発性記憶回路のセル部の動作
特性を示す図である。
【図7】フラッシュメモリの初期書込み機能に対応する
セルしきい値電圧分布状態を示す図である。
【図8】従来例の消去時初期書込み手順を示すフローチ
ャートである。
【符号の説明】
31 浮遊ゲート 32 制御ゲート 33 ドレイン 34 ソース 35 トンネル酸化膜 36 基盤 51 フラッシュメモリセル 52、53 セル D1 〜D3 デジット線 W1 〜W3 ワード線 101〜119、201〜219、801〜812
ステップ
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名) G11C 16/00 - 16/34

Claims (2)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 フラッシュ型不揮発性記憶回路に含まれ
    る全ての消去対象セルの初期データ書込み後におけるプ
    ログラムベリファイを完了し、消去対象の全セルに対す
    るデータ“0”の初期書込み終了後における追加書込み
    を実施する不揮発性記憶回路の初期書込み方法におい
    て、前記追加書込みが、消去動作後の消去ベリファイ電
    圧を低減するように所定回数実施される際に、 初期書込み該当ブロックまたはチップ全体における先頭
    番地を選択する第1のステップと、 消去対象セルに対する書込み回数を計数するライトカウ
    ンタを初期状態の前記所定回数に設定する第2のステッ
    プと、 前記ライトカウンタの計数値を一つ増加させる第3のス
    テップと、 前記消去対象のセルにおける先頭番地のセルにデータ
    “0”を書込む第4のステップと、 前記消去対象のセルの書込み番地が最終であるか否かを
    判定する第5のステップと、 この第5のステップで、前記書込み番地が最終番地でな
    いと判定した場合に、当該番地を一つ増加させて、前記
    第2のステップに戻る第6のステップと、 前記第5のステップで、前記書込み番地が最終番地ある
    と判定した場合に、そのセルに対し前記所定回数分の追
    加書込みが実行されたか否かを判定する第7のステップ
    と、 この第7のステップで、前記所定回数の追加書込みが実
    行されていないと判定した場合に、前記第3のステップ
    に戻り以降のステップを実行する第8のステップと、 前記第7のステップで、前記所定回数の追加書込みが実
    行されていると判定した場合に、初期データ書込み用と
    して印加された電源電圧をリセットして、消去時書込み
    手順を終了とする第9のステップとを有することを特徴
    とする不揮発性記憶回路の初期書込み方法。
  2. 【請求項2】 フラッシュ型不揮発性記憶回路に含まれ
    る全ての消去対象セルの初期データ書込み後におけるプ
    ログラムベリファイを完了し、消去対象の全セルに対す
    るデータ“0”の初期書込み終了後における追加書込み
    を実施する不揮発性記憶回路の初期書込み方法におい
    て、前記追加書込みが、消去動作後の消去ベリファイ電
    圧を低減するように所定回数実施される際に、 初期書込み該当ブロックまたはチップ全体における先頭
    番地を選択する第1のステップと、 消去対象セルに対する書込み回数を計数するライトカウ
    ンタを初期状態の前記所定回数に設定する第2のステッ
    プと、 前記ライトカウンタの計数値を一つ増加させる第3のス
    テップと、 前記消去対象のセルにおける先頭番地のセルにデータ
    “0”を書込む第4のステップと、 前記消去対象のセルに対し前記所定回数分の追加書込み
    が実行されたか否かを判定する第5のステップと、 この第5のステップで、前記所定回数の追加書込みが実
    行されていないと判定した場合に、前記第3のステップ
    に戻り以降のステップを実行する第6ステップと、 前記第5のステップで、前記所定回数の追加書込みが実
    行されていると判定した場合に、消去対象のセルの書込
    み番地が最終であるか否かを判定する第7のステップ
    と、 この第7のステップで、前記書込み番地が最終番地でな
    いと判定した場合に、当該番地を一つ増加させて、前記
    第2のステップに戻る第8のステップと、 前記第7のステップで、前記書込み番地が最終番地であ
    ると判定した場合に、初期データ書込み用として印加さ
    れた電源電圧をリセットして、消去時書込み手順を終了
    とする第9のステップとを有することを特徴とする不揮
    発性記憶回路の初期書込み方法。
JP1715693A 1993-02-04 1993-02-04 不揮発性記憶回路の初期書込み方法 Expired - Fee Related JP3138557B2 (ja)

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