JP3123099U - ガス供給機器用流路ブロック、及び半導体製造用ガス供給ユニット - Google Patents

Abstract

【課題】ガス供給ユニットのコンパクト化と、フィルタのメンテナンスの容易化との２つの課題を両立させることを目的とする。
【解決手段】流体が流れる流路３１を有し、一方の継手側接続部３１ｃにはフランジ部３２を設けた継手部材３と、流体が流れる流路２１を有し、一方の本体側接続部２１ｄには前記ボルト穴に合致するねじ部２２を形成した本体部材２と、前記継手部材３と、前記本体部材２とを前記ボルト穴３４と前記ねじ部２２を利用して締結するボルト５と、前記継手部材３と、前記本体部材２との間に挟着したガスケット付フィルタ４とからなる流路ブロックをガス供給ユニットの入口に設けることでなる。
【選択図】図１

Description

本考案は、ガス供給、特に半導体製造用ガス供給に用いられる流路ブロック、及び半導体製造用ガス供給ユニットに関する。

半導体製造に用いられる流体制御機器及びガス供給ラインには、流体制御精度の向上及びガス置換の容易性の要求からデッドボリュームを最小し、且つコンタミネーションのないクリーンなガス供給が求められている。また、半導体製造に用いられる流体制御機器は、例えば、開閉弁、レギュレータ、マスフローコントローラなどで構成され、ガス供給の上流側より流れてきたコンタミネ−ションが、これら流体制御機器の弁座部や、センサ部などに付着すると、開閉弁の閉動作ができなくなったり、レギュレータによる圧力制御やマスフローコントローラの流量制御に誤差を生じさせてしまったりする。そのため、ガス供給ラインの要所にフィルタを設け、微細なコンタミネーションの除去を行っている。

一方、半導体製造に用いられるガスには腐食性ガスが用いられ、継続的に使用するとガス供給路内壁への生成物付着が避けられない。特に微細な多孔質構造であるフィルタ部に生成物が付着するとフィルタが目詰まりを起こし、必要な流量が流れなくなる恐れがある。そのため、定期的なメンテナンスが欠かせない。

このような背景から、特許文献１には、基体に設けた流入口から流入する被処理流体を濾過部により濾過して流出口から流出させるフィルタ装置であって、前記流入口と流出口とは基体の一面に設けられるとともに、前記濾過部は、前記流入口に通じる流入路の終端と、前記流出口に通じる流出路の始端とが開口し基体の他面に凹設された濾過室と、前記濾過室において前記終端と始端との間の流路に配されるフィルタ部材と、前記濾過室を封止する天板とからなるフィルタ装置が開示されている。

また、特許文献２には、ベース部材と、２以上の流体制御機器と、該流体制御機器同士を連通させるためにベース部材の上面かつ該流体制御機器の下面に取り付けられる流路ブロックを有するガス供給ユニットであって、複数ある流路ブロックの一つが、入力ポートと出力ポートと、入力ポートと出力ポートとの間に形成された気密なフィルタ室と、フィルタ室に内蔵されたフィルタとを有するガス供給ユニットが開示されている。

また、特許文献３には、入口通路および出口通路が形成されたブロック状本体に、流体の圧力および流量のいずれかを検出するセンサと、センサからの信号に基づいて流体の通路の開閉度を制御するアクチュエータとが取り付けられ、本体の入口通路に通じる導入通路を有する通路ブロックが本体に突き合わせられており、本体の入口通路と通路ブロックの導入通路との突き合わせ部にガスケットフィルタが装着されている流体制御器が、記載されている。

特開平１１−１６５０１２号公報 特開２００３−２３４２６１号公報 特開２０００−１６７３１８号公報

しかしながら、特許文献１に開示のフィルタ装置は、ガス供給ユニットのブロック上面に取付けられているため、その分ガス供給ユニットが長くなるという課題を残している。また、特許文献２に開示のフィルタ装置は、流体制御機器とベースプレートに挟まれたブロック内に設けられていることから、メンテナンスの際には、流体制御機器等を分解しなければならず、メンテナンス性に劣るという課題がある。
更に、特許文献１、特許文献２及び特許文献３に記載のフィルタ装置、ガス供給ユニット及び流体制御器においては、メンテナンスの際にフィルタ装置部分を分解すると、フィルタ装置から下流部分がクリーンルーム内の室内空気に曝され、ガス供給ユニットの流路内部を汚染してしまうという問題がある。例えば、特許文献３においてガスケットフィルタはレギュレータ又はマスフローコントローラの入口通路に設けられている。従って、フィルタ部分を分解すると、レギュレータ又はマスフローコントローラの内部を汚染させ、圧力制御や流量制御に誤差を証しさせてしまう恐れがある。そのために、フィルタのメンテナンス後には、窒素等の不活性ガスを長時間流してパージしなければ使用に供することができない。

即ち、本考案が解決しようとする問題点は、ガス供給ユニットのコンパクト化と、フィルタのメンテナンスの容易化との２つの課題を両立させることができていないという点にある。

本考案は、流体が流れる流路を有し、前記流路の両端に継手側接続部を形成し、一方の継手側接続部にはフランジ部と、該フランジ部に形成した複数のボルト穴を設けた継手部材と、流体が流れる流路を有し、前記流路の両端に本体側接続部を形成し、少なくとも一方の本体側接続部には前記ボルト穴に合致するねじ部を形成した本体部材と、前記継手部材と、前記本体部材とを前記ボルト穴と前記ねじ部を利用して締結するボルトと、前記継手部材の継手側接続部と、前記本体部材の本体側接続部との間に挟着したガスケット付フィルタとからなり、前記本体部材の他方の本体側接続部は、前記本体部材の上面に設けられるとともに、前記本体部材の上面には、複数のねじ部と、複数のボルト穴と、複数の位置決め穴とを設け、前記本体部材の下面には、複数の位置決めピンを設けたガス供給機器用流路ブロックである。

また、請求項２に記載の発明は、ベースプレートと、複数の流体制御機器と、複数の流路ブロックからなる半導体製造用ガス供給ユニットにおいて、前記ガス供給ユニットの入口側及び／又は出口側に設けられたブロックが、請求項１に記載のガス供給機器用流路ブロックである半導体製造用ガス供給ユニットである。

このような構成であるので、フィルタ付の半導体製造用ガス供給ユニットをコンパクトにすることによってデッドスペースを最小とすると共に、ボルトを緩めるだけでフィルタのメンテナンスが可能であるので、メンテナンスの容易な半導体製造用ガス供給ユニットとすることができる。

このとき、前記ガス供給ユニットの入口側及び／又は出口側に設けられた前記ブロックに接続される流体制御機器が開閉弁とすることが望ましい。入口側及び／又は出口側に設けられた前記流体制御機器が開閉弁であるので、フィルタのメンテナンスにおいて、開閉弁を閉にさせておくことで、半導体製造用ガス供給ユニットの流路内部を汚染させることがなく、クリーン度を維持した状態で、フィルタのメンテナンスを可能とする半導体製造用ガス供給ユニットを提供することができる。

また、請求項４に記載の発明は、ベースプレートと、複数の流体制御機器と、複数の流路ブロックからなる半導体製造用ガス供給ユニットにおいて、前記ガス供給ユニットの入口側及び／又は出口側に設けられた流体制御機器の端部に複数のねじ部を形成した本体側接続部を有する流体機器の本体部材と、流体が流れる流路を有し、前記流路の両端に継手側接続部を形成し、一方の継手側接続部側にはフランジ部と、該フランジ部に形成した複数のボルト穴からなる継手部材とを、前記ボルト穴と前記流体制御機器の本体部材のねじ部とをボルトを利用して締結する際、前記継手部材の継手側接続部と、前記本体部材の本体側接続部との間にガスケット付フィルタを挟着した半導体製造用ガス供給ユニットである。

この構成によれば、流体機器の本体部材本体側接続部と継手部材の継手側接続部との間にガスケット付フィルタを挟着するので、更に半導体製造用ガス供給ユニットをコンパクト化することができる。

更に、前記ガス供給ユニットの入口側及び／又は出口側に設けられた前記流体制御機器が開閉弁である半導体製造用ガス供給ユニットとすることが望ましい。入口側及び／又は出口側に設けられた前記流体制御機器が開閉弁であるので、フィルタのメンテナンスにおいて、開閉弁を閉にさせておくことで、半導体製造用ガス供給ユニットの流路内部を汚染させることがなく、クリーン度を維持した状態で、フィルタのメンテナンスを可能とするガス供給機器用流路ブロック及び半導体製造用ガス供給ユニットを提供することができる。

本考案は、継手部材の継手側接続部と、本体部材の本体側接続部との間にガスケット付フィルタを挟着し、ボルトで締結する構造としたので、ガス供給ラインをコンパクトにすることによってデッドスペースを最小とすると共に、ボルトを緩めるだけでフィルタのメンテナンスが可能であるので、メンテナンスの容易なガス供給ユニットを提供することができる。

本考案の最良の形態を図１から３を用いて説明する。図１は、本考案のガス供給機器用流路ブロックの一実施例の縦断面図を、図２は、側面図を、また図3は、平面図を示している。

図１において、ガス供給機器用流路ブロック１は、本体部材２と、継手部材３と、ガスケット付フィルタ４、及び２本のボルト５（図２参照）からなっている。本体部材２は、内部に流体が流れる流路２１が設けられ、一方の本体側流路出口２１ａは本体部材２の上面に設け、本体側接続部２１ｃを形成している。他方、本体側流路入口２１ｂは、本体部材２の側面に設け、本体側接続部２１ｄを有している。

また、継手部材３は、内部に流体が流れる流路３１が貫通するように設けられ、その両端に、継手側接続部３１ｃを有した継手側流路出口３１ａと、継手側接続部３１ｄを有した継手側流路入口３１ｂを形成し、外面には、継手側流路出口３１ａ側にフランジ部３２が、継手側流路入口３１ｂ側に継手部３３が形成されている。また、腐食性ガスからの耐食性を有し、コンタミネーションの付着を抑制するために、本体部材２及び継手部材３は、例えば、ＳＵＳ３１６Ｌを材料とし、流路２１及び流路３１の内表面は、例えば、電解研磨などを施して、鏡面仕上げを行っている。また、接続部３１ｄは、別配管部材との接続部であって、例えば、米国ケイジョン社のＶＣＲ継手構造とすることができる。

また、ガスケット付フィルタ４を挟着する本体側接続部２１ｄと、継手側接続部３１ｃは、シール性能を確保するためにスパロール加工によって断面Ｒ形状とするとともに加工硬化によって硬度を高めている。

ガスケット付フィルタ４は、リング状のガスケット部４１の中央開口内部に濾過用の微粉末粒子を充填し所定厚さに焼結一体化してなるディスク状のフィルタ部４２とからなる。フィルタ部４２は、例えば、微細金属繊維をその粒界で粒界腐食することによって切断した例えば太さ０．５〜１０μｍでアスペクト比率２〜２０の金属短繊維を厚さ０．３〜２ｍｍ程度に焼結してなる濾過材、又は、粗大空孔を持つ支持体の表面上に前記と同様程度の金属短繊維の微細粒子を懸濁した懸濁液を吸引法によって例えば厚さ０．１〜０．８ｍｍ程度に吸引積層させ、さらに一体焼結することで形成されてなる積層濾材を採用することができる。また、耐食性を必要とすることから、例えばニッケルやその合金、例えばハステロイ（登録商標），インコネル（登録商標）などの他、ステンレス鋼（３１６，３１６Ｌなど）やさらには銀などから選択され、材質や粒子形態が単一のみの他、２以上から適宜選択した混合乃至複合構造として成形した焼結体も採用される。

また、リング状のガスケット部４１は、ニッケル又はステンレス鋼（３１６Ｌ）などからなり、表面に銀メッキを施したものが実用化されている。
そして、図２に示すように、継手部材３のフランジ部３２には、２箇所のボルト穴３４が形成してあり、一方、本体部材２の側面には、前記ボルト穴３４の位置にあうように２箇所の側面ねじ部２２（図示せず）か形成されている。
しかるに、本体部材２と継手部材３との間にガスケット付フィルタ４を狭着し、ボルト５を締め付けると、本体部材２の本体側接続部２１ｄと、継手部材３の継手側接続部３１ｃとでガスケット部４１を押さえつけ、本体部材２と継手部材３とがシール状態で締結されることとなる。

従って、継手部材３の継手側流路入口３１ｂから本体部材２の本体側流路出口２１ａに向かってガスを流すと、この下流に位置するガス制御機器や半導体製造に害となるコンタミネーションをフィルタ部４２で除去する。このとき、ガス供給機器用流路ブロック１は、従来技術に比べて、フランジ部３２の厚さ分（約４ｍｍ程度）だけ大きくなるのみで、非常にコンパクトでデッドスペースが最小なガス供給機器用流路ブロックである。

図３において、本体部材２の上面には、２箇所の締結用ボルト穴２３と、２箇所の締結用ねじ部２４と、２箇所の位置決めピン穴２５ａとが形成されている。また、図２において、本体部材２の下面には、位置決めピン２６ａが形成されている。これらは、ガス供給機器用流路ブロック１の、下面にガス供給ユニットのベースプレートを、上面に流体機器を取り付けるための構成である。以下の実施例において、その詳細を説明する。

図４に、本考案のガス供給ユニットの一実施例を示す。ガス供給ユニット１００は、ベースプレート１０１と、該ベースプレート１０１の上に設けた複数の略Ｖ字状の流体制御機器連結流路を有した流路ブロック１０２ａ、１０２ｂ、１０２ｃ、１０２ｄ、１０２ｆ及び１０２ｇと、窒素ガス等のパージガスを導入するパージライン流路１０２ｊを有する流路ブロック１０２ｅと、ガス供給ユニット出口流路１０２ｋを有する１０２ｈとを設け、更にそれぞれの流路ブロックを跨ぐように設けた複数の流体制御装置（例えば、開閉弁１０３ａからｄ、レギュレータ１０４、マスフローコントローラ１０５、圧力センサ１０６など）からなっている。

ガス供給機器用流路ブロック１は、ガス供給ユニット１００を構成する流体制御装置類へコンタミネーションが混入しないように、ガス供給ユニット１００のガス流入側最初の流路ブロックとして用いられる。もしくは、ガス供給ユニットの下流に位置する半導体製造装置（図示せず）へコンタミネーションを流さないように、ユニット末端の流路ブロックとして用いてもよい。
ベースプレート１０１には、ブロック締結用ねじ１０１ａ及び（図示しない）位置決めピン穴１０１ｂが設けてあり、ガス供給機器用流路ブロック１の位置決めピン２６ａをベースプレート１０１の位置決めピン穴１０１ｂへ挿入して定位置が決まるようにしている。そして、本体部材２に設けた締結用ボルト穴と、ブロック締結用ねじ１０１ａとを利用してガス供給機器用流路ブロック１は、ベースプレート１０１に固定される。また、同様にして複数の流路ブロック１０２ａから１０２ｈが、ベースプレート１０１に固定される。

続いて、複数の流路ブロックを跨ぐように各種の流体制御機器が固定される。このとき、隣同士の流体ブロックの上面に設けた接続口の間隔が流体制御機器の接続口の間隔と一致しなければならない。しかるに、流体制御機器の下面に設けた位置決めピンをガス供給機器用流路ブロック１の上面に設けた位置決めピン穴２５ａに挿入し、また締結用ねじ部２４を利用して流体制御機器が締結される。
このようにして、ガス供給ユニット１００は必要な機能の流体制御機器を搭載したユニットとなる。

例えば、図４に示したガス供給ユニットは、図の向かって右方向からガスが導入され、ガスケット付フィルタ４を内蔵したガス供給機器用流路ブロック１にてコンタミネーションを除去し、開閉弁１０３ａを経由して、レギュレータ１０４へ導入される。ここで導入ガスの圧力が制御され、圧力センサ１０６で圧力制御の結果がモニターされる。
開閉弁１０３ｂ、１０３ｃを経て、流れるガスは、マスフローコントローラ１０５で質量流量が制御され、開閉弁１０３ｄを経て、下流へ導出される。
また、パージライン流路１０２ｊを有する流路ブロック１０２ｅに接続された開閉弁１０３ｃは、三方弁で、初期のガス系の立ち上げ時、マスフローコントローラなどの流体制御機器の交換時や、ガス種を変更するときなどにここから窒素ガス等を導入してパージする。

さて、ガス供給ユニットに腐食性ガスを流し続けているとやがて微量な生成物が流路内に付着する。特に微細な多孔質であるフィルタは、その影響が顕著で、表面積が大きい分生成物の付着が多く、場合によっては、目詰まりをおこして必要なガス流量を確保できなくなる。

このようなとき、ガス供給ユニット１００は、ガス供給機器用流路ブロック１が、ガス流入側最初の流路ブロックもしくは末端の流路ブロックとして用いられているので、コンパクトでデッドスペースが最小なガス供給ユニット１００を構成すると共に、ボルト５を緩めるとガスケット付フィルタ４を容易に取り出せ、交換できる。したがって、短時間で容易にメンテナンスができる。
また、メンテナンスのときには、開閉弁１０３ａを予め閉じておくことで、開閉弁１０３ａより下流の流体制御機器は、密閉状態が保たれ、外部からコンタミネーションが混入することを防止できる。従って、ガス供給ユニット１００の流路内部は常にクリーンな状態を保つことができ、流体制御機器の故障や制御誤差の増大を防止することができる。

図５は、ガス供給ユニットの他の実施例の側面図を示している。ガス供給ユニット１００は、ベースプレート１０１と、該ベースプレート１０１の上に設けた複数の略Ｖ字状の流体制御機器連結流路を有した流路ブロック１０２ａ、１０２ｂ、１０２ｃ、１０２ｄ、１０２ｆ及び１０２ｇと、窒素ガス等のパージガスを導入するパージライン流路１０２ｊを有する流路ブロック１０２ｅと、ガス供給ユニット出口流路１０２ｋを有する１０２ｈとを設け、更にそれぞれの流路ブロックを跨ぐように設けた複数の流体制御装置（例えば、開閉弁１０３ａからｄ、レギュレータ１０４、マスフローコントローラ１０５、圧力センサ１０６など）からなっている。

開閉弁本体部材１０３ｅと、継手部材３との間にガスケット付フィルタ４を挟着し、（図示しない）ボルト５で開閉弁本体部材１０３ｅと、継手部材３とを締結してること以外は、その構成および使用方法において、図４に示したガス供給ユニットと全く同様としている。
図５に示したガス供給ユニットによれば、開閉弁本体部材１０３ｅと、継手部材３との間にガスケット付フィルタ４を挟着させているので、図４に示したガス供給ユニットよりも更にコンパクトが図られ、デッドスペースを最小とすることができるとともに、ボルト５を緩めるとガスケット付フィルタ４を容易に取り出せ、交換できる。したがって、短時間で容易にメンテナンスができる。

また、メンテナンスのときには、開閉弁１０３ａを予め閉じておくことで、開閉弁１０３ａより下流の流体制御機器は、密閉状態が保たれ、外部からコンタミネーションが混入することを防止できる。従って、ガス供給ユニット１００の流路内部は常にクリーンな状態を保つことができ、流体制御機器の故障や制御誤差の増大を防止することができる。

図６は、ガス供給機器用流路ブロックの他の実施例の縦断面図である。図１に示したガスケット付フィルタは、ガスケットの内径側にフィルタを設けているので、流下抵抗が大きいことが懸念される。このような場合、ガスケット付フィルタを図６のように設けることができる。即ち、図６に示したガスケット付フィルタは、フィルタ部４２が円筒状に下流側へ延長されており、フィルタ部の表面積を増加させることによって流下抵抗の低減を図っている。
ガスケット付フィルタの形態においては、これに限らず、本体部材と継手部材とに狭着され、本体部材と継手部材とをシール状態に可能なガスケットを有するフィルタであればよい。

また、図６において、ガスケット付フィルタ４の外周には、リテーナ６を設けている。ガスケット付フィルタ４は、シール性能を安定にするために、ガスケット部４１を継手側接続部３１ｃと、本体側接続部２１ｄとで確実に挟着することが重要である。しかしながら、ガスケット付フィルタ４は、本体部材２の側面方向に取り付けられるため、その取付けは容易ではない。

そこで、ガスケット付フィルタ４の外周にリテーナ６を係止させておき、取付け時には、本体側接続部２１ｄ近傍に設けた凹部２１ｅに挿入するように設けると、取付けは極めて容易である。凹部２１ｅは、継手部材２側へ設けてもよいし、図１に示したガス供給機器用流路ブロックのガスケット付フィルタへ適用しても有益であることは言うまでもない。リテーナ６は、ステンレス鋼の薄板をプレス等で容易に成形することができる。

本考案のガス供給機器用流路ブロック、及び半導体製造用ガス供給ユニットは、半導体製造用ガス供給ラインに利用できる。

本考案のガス供給機器用流路ブロックの一実施例の縦断面図である。 本考案のガス供給機器用流路ブロックの一実施例の側面面図である。 本考案のガス供給機器用流路ブロックの一実施例の平面面図である。 本考案のガス供給ユニットの一実施例の側面図である。 本考案のガス供給ユニットの他の実施例の側面図である。 本考案のガス供給機器用流路ブロックの他の実施例の縦断面図である。

符号の説明

１：ガス供給機器用流路ブロック
２：本体部材、２１：流路、２１ａ：本体側流路出口、２１ｂ：本体側流路入口、２１ｃ、２１ｄ：本体側接続部、２１ｅ：凹部、２２：側面ねじ部、２３：締結用ボルト穴、２４：締結用ねじ部、２５ａ：位置決めピン穴、２６ａ：位置決めピン
３：継手部材３、３１：流路、３１ａ：継手側流路出口、３１ｂ：継手側流路入口、３１ｃ、３１ｄ：継手側接続部、３２：フランジ部、３３：継手部、３４：ボルト穴
４：ガスケット付フィルタ、４１：ガスケット部、４２：フィルタ部
５：ボルト、６：リテーナ、
１００：ガス供給ユニット、
１０１：ベースプレート、１０１ａ：ブロック締結用ねじ、１０１ｂ：位置決めピン穴
１０２ａ〜１０２ｈ：流路ブロック、１０２ｉ：流体制御機器連結流路、１０２ｊ：パージライン流路、１０２ｋ：ガス供給ユニット出口流路、１０３ａ〜１０３ｄ：開閉弁、１０３ｅ：開閉弁本体部材、１０４：レギュレータ、１０５：マスフローコントローラ、１０６：圧力センサ

Claims (5)

1. 流体が流れる流路を有し、前記流路の両端に継手側接続部を形成し、一方の継手側接続部にはフランジ部と、該フランジ部に形成した複数のボルト穴を設けた継手部材と、
   流体が流れる流路を有し、前記流路の両端に本体側接続部を形成し、少なくとも一方の本体側接続部には前記ボルト穴に合致するねじ部を形成した本体部材と、
   前記継手部材と、前記本体部材とを前記ボルト穴と前記ねじ部を利用して締結するボルトと、
   前記継手部材の継手側接続部と、前記本体部材の本体側接続部との間に挟着したガスケット付フィルタとからなり、
   前記本体部材の他方の本体側接続部は、前記本体部材の上面に設けられるとともに、
   前記本体部材の上面には、複数のねじ部と、複数のボルト穴と、複数の位置決め穴とを設け、
   前記本体部材の下面には、複数の位置決めピンを設けた
   ことを特徴とするガス供給機器用流路ブロック。
2. ベースプレートと、複数の流体制御機器と、複数の流路ブロックからなる半導体製造用ガス供給ユニットにおいて、
   前記ガス供給ユニットの入口側及び／又は出口側に設けられたブロックが、請求項１に記載のガス供給機器用流路ブロックである
   ことを特徴とする半導体製造用ガス供給ユニット。
3. 前記ガス供給ユニットの入口側及び／又は出口側に設けられた前記ブロックに接続される流体制御機器が開閉弁であることを特徴とする請求項２に記載の半導体製造用ガス供給ユニット。
4. ベースプレートと、複数の流体制御機器と、複数の流路ブロックからなる半導体製造用ガス供給ユニットにおいて、
   前記ガス供給ユニットの入口側及び／又は出口側に設けられた流体制御機器の端部に複数のねじ部を形成した本体側接続部を有する流体機器の本体部材と、
   流体が流れる流路を有し、前記流路の両端に継手側接続部を形成し、一方の継手側接続部側にはフランジ部と、該フランジ部に形成した複数のボルト穴からなる継手部材とを、前記ボルト穴と前記流体制御機器の本体部材のねじ部とをボルトを利用して締結する際、
   前記継手部材の継手側接続部と、前記本体部材の本体側接続部との間にガスケット付フィルタを挟着した
   ことを特徴とする半導体製造用ガス供給ユニット。
5. 前記ガス供給ユニットの入口側及び／又は出口側に設けられた前記流体制御機器が開閉弁であることを特徴とする請求項４に記載の半導体製造用ガス供給ユニット。
   
   

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