JP3111614B2 - 無電解ニッケルめっき浴の再生方法 - Google Patents
無電解ニッケルめっき浴の再生方法Info
- Publication number
- JP3111614B2 JP3111614B2 JP04083316A JP8331692A JP3111614B2 JP 3111614 B2 JP3111614 B2 JP 3111614B2 JP 04083316 A JP04083316 A JP 04083316A JP 8331692 A JP8331692 A JP 8331692A JP 3111614 B2 JP3111614 B2 JP 3111614B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- bath
- nickel
- phosphite
- ions
- salt
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
Landscapes
- Chemically Coating (AREA)
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、水溶性ニッケル塩、錯
化剤及び還元剤として次亜リン酸又はその塩を含む無電
解ニッケルめっき浴の再生方法に関する。
化剤及び還元剤として次亜リン酸又はその塩を含む無電
解ニッケルめっき浴の再生方法に関する。
【０００２】
【従来の技術及び発明が解決しようとする課題】水溶性
ニッケル塩、錯化剤及び還元剤として次亜リン酸又はそ
の塩を含む無電解ニッケルめっき浴（以下、単にＮｉ−
Ｐ浴と略記する）は、次亜リン酸イオンの還元作用でニ
ッケルイオンが金属ニッケルに還元されて被めっき物に
析出していくことにより、めっきが行われる。
ニッケル塩、錯化剤及び還元剤として次亜リン酸又はそ
の塩を含む無電解ニッケルめっき浴（以下、単にＮｉ−
Ｐ浴と略記する）は、次亜リン酸イオンの還元作用でニ
ッケルイオンが金属ニッケルに還元されて被めっき物に
析出していくことにより、めっきが行われる。
【０００３】従って、めっきの進行により、Ｎｉ−Ｐ浴
中のニッケルイオン及び次亜リン酸イオンが低下し、析
出速度が低下したり析出物の組成（ＮｉとＰとの合金組
成）が変化する。このため、従来よりニッケルイオン及
び次亜リン酸イオンを適宜補給し、これらのイオンの濃
度を初期のレベルに戻し、めっきを継続していくことが
行われている。
中のニッケルイオン及び次亜リン酸イオンが低下し、析
出速度が低下したり析出物の組成（ＮｉとＰとの合金組
成）が変化する。このため、従来よりニッケルイオン及
び次亜リン酸イオンを適宜補給し、これらのイオンの濃
度を初期のレベルに戻し、めっきを継続していくことが
行われている。
【０００４】しかし、上記のように次亜リン酸イオンの
還元作用でニッケルイオンを還元する時、同時に次亜リ
ン酸イオンが酸化されて亜リン酸イオンが生成し、これ
が漸次Ｎｉ−Ｐ浴中に蓄積されていく。
還元作用でニッケルイオンを還元する時、同時に次亜リ
ン酸イオンが酸化されて亜リン酸イオンが生成し、これ
が漸次Ｎｉ−Ｐ浴中に蓄積されていく。
【０００５】この亜リン酸イオンは、少量であればめっ
きに殆んど影響を与えないが、多量に蓄積して１００ｇ
／ｌ以上、特に１５０ｇ／ｌ以上になるとめっきに影響
を与える場合が生じ、例えば被めっき物とめっき皮膜
（Ｎｉ−Ｐめっき皮膜）との密着性に問題を与えたり、
めっき皮膜中に共析してその均一性や耐食性に悪影響を
与え、はなはだしい場合はＮｉ−Ｐ浴を分解させる場合
がある。
きに殆んど影響を与えないが、多量に蓄積して１００ｇ
／ｌ以上、特に１５０ｇ／ｌ以上になるとめっきに影響
を与える場合が生じ、例えば被めっき物とめっき皮膜
（Ｎｉ−Ｐめっき皮膜）との密着性に問題を与えたり、
めっき皮膜中に共析してその均一性や耐食性に悪影響を
与え、はなはだしい場合はＮｉ−Ｐ浴を分解させる場合
がある。
【０００６】このため、従来は３〜１０ターン（１ター
ンは最初のＮｉ−Ｐ浴中に含まれていたニッケルイオン
全量が消費乃至は析出した量で、例えば最初のＮｉ−Ｐ
浴中にニッケルイオンが６ｇ／ｌ存在していたとする
と、６ｇ／ｌのニッケルイオンが消費乃至は析出した場
合を１ターンとする。従ってこの場合、３〜１０ターン
はニッケルイオンが１８〜６０ｇ／ｌ消費乃至析出した
ことを意味する。）使用した後は、Ｎｉ−Ｐ浴を廃棄し
ていたのが実情である。
ンは最初のＮｉ−Ｐ浴中に含まれていたニッケルイオン
全量が消費乃至は析出した量で、例えば最初のＮｉ−Ｐ
浴中にニッケルイオンが６ｇ／ｌ存在していたとする
と、６ｇ／ｌのニッケルイオンが消費乃至は析出した場
合を１ターンとする。従ってこの場合、３〜１０ターン
はニッケルイオンが１８〜６０ｇ／ｌ消費乃至析出した
ことを意味する。）使用した後は、Ｎｉ−Ｐ浴を廃棄し
ていたのが実情である。
【０００７】従って、Ｎｉ−Ｐ浴の寿命は比較的短か
く、またＮｉ−Ｐ浴の廃棄に伴う廃液処理が産業上の問
題となっているため、その対策として種々のＮｉ−Ｐ浴
の再生方法、例えば次亜リン酸ナトリウムで処理した強
塩基性アニオン樹脂を使用する方法（Ｐｌａｔｉｎｇ
ａｎｄ Ｓｕｒｆａｃｅ Ｆｉｎｉｓｈｉｎｇ， ７４
く、またＮｉ−Ｐ浴の廃棄に伴う廃液処理が産業上の問
題となっているため、その対策として種々のＮｉ−Ｐ浴
の再生方法、例えば次亜リン酸ナトリウムで処理した強
塩基性アニオン樹脂を使用する方法（Ｐｌａｔｉｎｇ
ａｎｄ Ｓｕｒｆａｃｅ Ｆｉｎｉｓｈｉｎｇ， ７４
〔９〕，８０，（１９８７））などが従来より検討され
ている。
ている。
【０００８】しかし、従来のＮｉ−Ｐ浴の再生方法は、
処理方法が複雑であったり、再生したＮｉ−Ｐ浴中にめ
っきに有害な不純物イオンが混入したり、装置コストが
高いなどの問題があるため、広く実施されるには至って
いない。
処理方法が複雑であったり、再生したＮｉ−Ｐ浴中にめ
っきに有害な不純物イオンが混入したり、装置コストが
高いなどの問題があるため、広く実施されるには至って
いない。
【０００９】本発明は上記事情に鑑みなされたもので、
簡単かつ確実にしかも有害な不純物イオンを混入するよ
うな不都合なくＮｉ−Ｐ浴を再生することができるＮｉ
−Ｐ浴の再生方法を提供することを目的とする。
簡単かつ確実にしかも有害な不純物イオンを混入するよ
うな不都合なくＮｉ−Ｐ浴を再生することができるＮｉ
−Ｐ浴の再生方法を提供することを目的とする。
【００１０】
【課題を解決するための手段及び作用】本発明者は上記
目的を達成するため鋭意検討を行った結果、 長期間め
っきを行って亜リン酸イオンが１００ｇ／ｌ以上蓄積し
たＮｉ−Ｐ浴の老化液に対し、水溶性ニッケル塩を亜リ
ン酸イオン１モルに対し０．５モル以上の割合で添加す
ることにより、亜リン酸イオンが亜リン酸ニッケルとし
て沈殿し、亜リン酸イオンが除去されること、このよう
にして亜リン酸イオンが除去されたＮｉ−Ｐ浴は、これ
を再度使用しても全く支障なくめっきが行われ、亜リン
酸イオンの蓄積で生じる上述したような密着性、均一
性、耐食性等の問題なく良好なめっき皮膜が得られるこ
と、この場合亜リン酸イオン除去処理は単に水溶性ニッ
ケル塩を添加するだけであるので簡単であり、しかもニ
ッケル塩を添加するのでこのニッケル塩がＮｉ−Ｐ浴中
に残っても全く問題がなく、特にＮｉ−Ｐ浴中のニッケ
ル塩と同じニッケル塩を添加すれば不純物の問題は全く
なくなると共に、共通イオンによる塩析効果により亜リ
ン酸ニッケルの沈殿がより確実に生じることを知見し、
本発明をなすに至ったものである。
目的を達成するため鋭意検討を行った結果、 長期間め
っきを行って亜リン酸イオンが１００ｇ／ｌ以上蓄積し
たＮｉ−Ｐ浴の老化液に対し、水溶性ニッケル塩を亜リ
ン酸イオン１モルに対し０．５モル以上の割合で添加す
ることにより、亜リン酸イオンが亜リン酸ニッケルとし
て沈殿し、亜リン酸イオンが除去されること、このよう
にして亜リン酸イオンが除去されたＮｉ−Ｐ浴は、これ
を再度使用しても全く支障なくめっきが行われ、亜リン
酸イオンの蓄積で生じる上述したような密着性、均一
性、耐食性等の問題なく良好なめっき皮膜が得られるこ
と、この場合亜リン酸イオン除去処理は単に水溶性ニッ
ケル塩を添加するだけであるので簡単であり、しかもニ
ッケル塩を添加するのでこのニッケル塩がＮｉ−Ｐ浴中
に残っても全く問題がなく、特にＮｉ−Ｐ浴中のニッケ
ル塩と同じニッケル塩を添加すれば不純物の問題は全く
なくなると共に、共通イオンによる塩析効果により亜リ
ン酸ニッケルの沈殿がより確実に生じることを知見し、
本発明をなすに至ったものである。
【００１１】従って、本発明は、水溶性ニッケル塩、錯
化剤及び還元剤として次亜リン酸又はその塩を含み、か
つめっきにより次亜リン酸又はその塩が酸化して生成し
た亜リン酸イオンを１００ｇ／ｌ以上含有する無電解ニ
ッケルめっき浴の老化液に、水溶性ニッケル塩を上記亜
リン酸イオン１モルに対し、０．５モル以上の割合で添
加して亜リン酸ニッケルを生成沈殿させ、この沈殿物を
除去することを特徴とにする無電解ニッケルめっき浴の
再生方法を提供する。
化剤及び還元剤として次亜リン酸又はその塩を含み、か
つめっきにより次亜リン酸又はその塩が酸化して生成し
た亜リン酸イオンを１００ｇ／ｌ以上含有する無電解ニ
ッケルめっき浴の老化液に、水溶性ニッケル塩を上記亜
リン酸イオン１モルに対し、０．５モル以上の割合で添
加して亜リン酸ニッケルを生成沈殿させ、この沈殿物を
除去することを特徴とにする無電解ニッケルめっき浴の
再生方法を提供する。
【００１２】以下、本発明につき更に詳しく説明する
と、本発明のＮｉ−Ｐ浴としては公知のものを使用する
ことができ、水溶性ニッケル塩としては硫酸ニッケル、
塩化ニッケル、酢酸ニッケルなどが使用され、錯化剤と
してはクエン酸、コハク酸、リンゴ酸、酢酸、乳酸など
のカルボン酸やそれらの塩などが用いられる。また、次
亜リン酸又はその塩としては、通常次亜リン酸ナトリウ
ムが用いられる。これら成分の濃度も通常の範囲であ
り、例えば水溶性ニッケル塩は０．０５〜０．３モル／
ｌ、錯化剤は該ニッケル塩１モルに対し１〜５モル／ｌ
の範囲、次亜リン酸又はその塩は１５〜９０ｇ／ｌとす
ることができる。なお、Ｎｉ−Ｐ浴には安定剤、ｐＨ調
整剤などを添加し得、Ｎｉ−Ｐ浴のｐＨもアルカリ性、
酸性とすることができるが、連続使用のためのめっき液
としてはｐＨが３．５〜６．５とすることが通常であ
る。
と、本発明のＮｉ−Ｐ浴としては公知のものを使用する
ことができ、水溶性ニッケル塩としては硫酸ニッケル、
塩化ニッケル、酢酸ニッケルなどが使用され、錯化剤と
してはクエン酸、コハク酸、リンゴ酸、酢酸、乳酸など
のカルボン酸やそれらの塩などが用いられる。また、次
亜リン酸又はその塩としては、通常次亜リン酸ナトリウ
ムが用いられる。これら成分の濃度も通常の範囲であ
り、例えば水溶性ニッケル塩は０．０５〜０．３モル／
ｌ、錯化剤は該ニッケル塩１モルに対し１〜５モル／ｌ
の範囲、次亜リン酸又はその塩は１５〜９０ｇ／ｌとす
ることができる。なお、Ｎｉ−Ｐ浴には安定剤、ｐＨ調
整剤などを添加し得、Ｎｉ−Ｐ浴のｐＨもアルカリ性、
酸性とすることができるが、連続使用のためのめっき液
としてはｐＨが３．５〜６．５とすることが通常であ
る。
【００１３】このＮｉ−Ｐ浴を用いためっき法も通常の
方法を採用し得るが、めっき反応の進行と共にＮｉ−Ｐ
浴中のニッケルオン、次亜リン酸イオンが低下すると共
に、ｐＨが低下する。このため、連続的又は間欠的にＮ
ｉ−Ｐ浴に対し補給剤として水溶性ニッケル塩、次亜リ
ン酸又はその塩を添加すると共に、水酸化ナトリウム、
アンモニア水等のｐＨ上昇剤を添加し、Ｎｉ−Ｐ浴中の
ニッケルイオン濃度、次亜リン酸イオン濃度及びｐＨを
所定濃度に維持する。これによって、長期間に亘り良好
な無電解めっきを行うことができるが、Ｎｉ−Ｐ浴中に
次亜リン酸イオンの酸化によって生じる亜リン酸イオン
が蓄積し、亜リン酸イオンが１００ｇ／ｌ以上、特に１
５０ｇ／ｌ以上になると、密着性、均一性、耐食性等の
問題が生じてくる。
方法を採用し得るが、めっき反応の進行と共にＮｉ−Ｐ
浴中のニッケルオン、次亜リン酸イオンが低下すると共
に、ｐＨが低下する。このため、連続的又は間欠的にＮ
ｉ−Ｐ浴に対し補給剤として水溶性ニッケル塩、次亜リ
ン酸又はその塩を添加すると共に、水酸化ナトリウム、
アンモニア水等のｐＨ上昇剤を添加し、Ｎｉ−Ｐ浴中の
ニッケルイオン濃度、次亜リン酸イオン濃度及びｐＨを
所定濃度に維持する。これによって、長期間に亘り良好
な無電解めっきを行うことができるが、Ｎｉ−Ｐ浴中に
次亜リン酸イオンの酸化によって生じる亜リン酸イオン
が蓄積し、亜リン酸イオンが１００ｇ／ｌ以上、特に１
５０ｇ／ｌ以上になると、密着性、均一性、耐食性等の
問題が生じてくる。
【００１４】本発明は、このように老化しためっき液に
水溶性ニッケル塩を添加し、蓄積された亜リン酸イオン
を亜リン酸ニッケルとして沈殿させるものである。
水溶性ニッケル塩を添加し、蓄積された亜リン酸イオン
を亜リン酸ニッケルとして沈殿させるものである。
【００１５】ここで、水溶性ニッケル塩としては、特に
制限されないが、Ｎｉ−Ｐ浴中にニッケルイオンを供給
するニッケル塩と同じものを用いることが、Ｎｉ−Ｐ浴
の浴組成を損なうことがなく、不純物混入の問題が全く
生じないと共に、共通イオンによる塩析効果が有効に発
揮されて、亜リン酸イオンをより効果的に亜リン酸ニッ
ケルとして沈殿させることができるため、推奨される。
制限されないが、Ｎｉ−Ｐ浴中にニッケルイオンを供給
するニッケル塩と同じものを用いることが、Ｎｉ−Ｐ浴
の浴組成を損なうことがなく、不純物混入の問題が全く
生じないと共に、共通イオンによる塩析効果が有効に発
揮されて、亜リン酸イオンをより効果的に亜リン酸ニッ
ケルとして沈殿させることができるため、推奨される。
【００１６】この水溶性ニッケル塩の添加は、亜リン酸
イオン１モルに対して０．５モル以上、好ましくは１モ
ル以上の割合とするもので、水溶性ニッケル塩が０．５
モルより少ないと亜リン酸イオンを沈殿除去する効果が
十分達成されず、特に上述した水溶性ニッケル塩補給剤
をＮｉ−Ｐ浴のニッケル濃度維持のために添加する添加
量（通常３〜１５ｇ／ｌ＝亜リン酸イオンを１００ｇ／
ｌ含むＮｉ−Ｐ浴に対し、該亜リン酸イオン１モルに対
し０．５モルより少ない量）では実質上亜リン酸イオン
の除去効果は期待できない。なお、水溶性ニッケル塩の
添加量上限は２．５モル、特に２モルとすることが好ま
しい。
イオン１モルに対して０．５モル以上、好ましくは１モ
ル以上の割合とするもので、水溶性ニッケル塩が０．５
モルより少ないと亜リン酸イオンを沈殿除去する効果が
十分達成されず、特に上述した水溶性ニッケル塩補給剤
をＮｉ−Ｐ浴のニッケル濃度維持のために添加する添加
量（通常３〜１５ｇ／ｌ＝亜リン酸イオンを１００ｇ／
ｌ含むＮｉ−Ｐ浴に対し、該亜リン酸イオン１モルに対
し０．５モルより少ない量）では実質上亜リン酸イオン
の除去効果は期待できない。なお、水溶性ニッケル塩の
添加量上限は２．５モル、特に２モルとすることが好ま
しい。
【００１７】この水溶性ニッケル塩を添加して亜リン酸
イオン除去処理を行う場合、Ｎｉ−Ｐ浴をｐＨ３．５〜
６．５、特に４〜５に調整して行うことが好ましい。ま
た、処理温度は２０〜９０℃とすることができるが、通
常は室温でよい。更に、好ましくはスターラー等による
撹拌又は無撹拌下で１〜２４時間、特に５〜１５時間処
理することが好ましい。この場合、ニッケル塩を添加し
た後、室温下に放置しておくだけでもよい。
イオン除去処理を行う場合、Ｎｉ−Ｐ浴をｐＨ３．５〜
６．５、特に４〜５に調整して行うことが好ましい。ま
た、処理温度は２０〜９０℃とすることができるが、通
常は室温でよい。更に、好ましくはスターラー等による
撹拌又は無撹拌下で１〜２４時間、特に５〜１５時間処
理することが好ましい。この場合、ニッケル塩を添加し
た後、室温下に放置しておくだけでもよい。
【００１８】このようにして処理した後は、生成した亜
リン酸ニッケルの沈殿を濾過などの方法で除去する。
リン酸ニッケルの沈殿を濾過などの方法で除去する。
【００１９】この再生Ｎｉ−Ｐ浴は、必要によりそのニ
ッケルイオン濃度、次亜リン酸イオン濃度、ｐＨを調整
した後、再度同じようにめっきに使用でき、このＮｉ−
Ｐ浴中に再度亜リン酸イオンが蓄積されてきた場合は上
述したように再生処理を行うことにより、繰り返して使
用でき、従ってＮｉ−Ｐ浴の寿命を延長することができ
る。
ッケルイオン濃度、次亜リン酸イオン濃度、ｐＨを調整
した後、再度同じようにめっきに使用でき、このＮｉ−
Ｐ浴中に再度亜リン酸イオンが蓄積されてきた場合は上
述したように再生処理を行うことにより、繰り返して使
用でき、従ってＮｉ−Ｐ浴の寿命を延長することができ
る。
【００２０】
【実施例】以下、実施例と比較例を示し、本発明を具体
的に説明するが、本発明は下記の実施例に制限されるも
のではない。
的に説明するが、本発明は下記の実施例に制限されるも
のではない。
【００２１】〔実施例，比較例〕下記組成のＮｉ−Ｐ浴
Ｎｏ．１〜６を調製し、その次亜リン酸ナトリウム濃
度、亜リン酸ナトリウム濃度を測定すると共に、比重を
測定し、また被めっきサンプルとして亜鉛置換処理を施
したアルミニウム板を用い、９０℃で９０分間無電解ニ
ッケルめっきを行い、その密着性を評価した。結果を表
１に示す。
Ｎｏ．１〜６を調製し、その次亜リン酸ナトリウム濃
度、亜リン酸ナトリウム濃度を測定すると共に、比重を
測定し、また被めっきサンプルとして亜鉛置換処理を施
したアルミニウム板を用い、９０℃で９０分間無電解ニ
ッケルめっきを行い、その密着性を評価した。結果を表
１に示す。
【００２２】Ｎｏ．１（新浴） 硫酸ニッケル ６．０ｇ／ｌ 錯化剤 １５０ ｇ／ｌ 次亜リン酸ナトリウム ３０ ｇ／ｌ 安定剤 微 量 ｐＨ（アンモニア水で調製） ４．５Ｎｏ．２ Ｎｏ．１の新浴にＨ3ＰＯ3を２モル／ｌ添加後、ｐＨを
アンモニア水で４．５に調整した浴。Ｎｏ．３ Ｎｏ．１の新浴を硫酸ニッケル、次亜リン酸ナトリウ
ム、ＮａＯＨを補給しながら３．５−ターン使用した浴
（アンモニア水でｐＨを４．５に調整）。Ｎｏ．４ Ｎｏ．３の浴にＨ3ＰＯ3を１モル／ｌ添加後、ｐＨをア
ンモニア水で４．５に調整した浴。Ｎｏ．５ Ｎｏ．４の浴に硫酸ニッケルを２モル／ｌ添加し、室温
下に１５時間放置した後、濾過により亜リン酸ニッケル
を除去した浴。Ｎｏ．６ Ｎｏ．３の浴の硫酸ニッケルを２モル／ｌ添加し、室温
下に１５時間放置した後、濾過により亜リン酸ニッケル
を除去した浴。
アンモニア水で４．５に調整した浴。Ｎｏ．３ Ｎｏ．１の新浴を硫酸ニッケル、次亜リン酸ナトリウ
ム、ＮａＯＨを補給しながら３．５−ターン使用した浴
（アンモニア水でｐＨを４．５に調整）。Ｎｏ．４ Ｎｏ．３の浴にＨ3ＰＯ3を１モル／ｌ添加後、ｐＨをア
ンモニア水で４．５に調整した浴。Ｎｏ．５ Ｎｏ．４の浴に硫酸ニッケルを２モル／ｌ添加し、室温
下に１５時間放置した後、濾過により亜リン酸ニッケル
を除去した浴。Ｎｏ．６ Ｎｏ．３の浴の硫酸ニッケルを２モル／ｌ添加し、室温
下に１５時間放置した後、濾過により亜リン酸ニッケル
を除去した浴。
【００２３】
【表１】
【００２４】表１の結果より、本発明によれば、水溶性
ニッケル塩の添加で亜リン酸イオンを確実に除去し得る
と共に、亜リン酸除去後のめっき液は再使用しても密着
性が良好であり、有効に再使用し得ることが認められ
た。
ニッケル塩の添加で亜リン酸イオンを確実に除去し得る
と共に、亜リン酸除去後のめっき液は再使用しても密着
性が良好であり、有効に再使用し得ることが認められ
た。
【００２５】
【発明の効果】本発明によれば、亜リン酸イオンが多量
に蓄積した老化Ｎｉ−Ｐ浴から亜リン酸イオンを不純物
を導入することなく簡単かつ確実にしかも安価に除去
し、Ｎｉ−Ｐ浴を再生し得る。
に蓄積した老化Ｎｉ−Ｐ浴から亜リン酸イオンを不純物
を導入することなく簡単かつ確実にしかも安価に除去
し、Ｎｉ−Ｐ浴を再生し得る。
Claims (1)
- 【請求項１】 水溶性ニッケル塩、錯化剤及び還元剤と
して次亜リン酸又はその塩を含み、かつめっきにより次
亜リン酸又はその塩が酸化して生成した亜リン酸イオン
を１００ｇ／ｌ以上含有する無電解ニッケルめっき浴の
老化液に、水溶性ニッケル塩を上記亜リン酸イオン１モ
ルに対し、０．５モル以上の割合で添加して亜リン酸ニ
ッケルを生成沈殿させ、この沈殿物を除去することを特
徴とする無電解ニッケルめっき浴の再生方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP04083316A JP3111614B2 (ja) | 1992-03-05 | 1992-03-05 | 無電解ニッケルめっき浴の再生方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP04083316A JP3111614B2 (ja) | 1992-03-05 | 1992-03-05 | 無電解ニッケルめっき浴の再生方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH05247660A JPH05247660A (ja) | 1993-09-24 |
| JP3111614B2 true JP3111614B2 (ja) | 2000-11-27 |
Family
ID=13799025
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP04083316A Expired - Fee Related JP3111614B2 (ja) | 1992-03-05 | 1992-03-05 | 無電解ニッケルめっき浴の再生方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3111614B2 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0568773U (ja) * | 1992-02-26 | 1993-09-17 | 陸運電機株式会社 | ２灯交互点滅警報灯 |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE102006025847A1 (de) * | 2006-06-02 | 2007-12-06 | Merck Patent Gmbh | Verwendung von Phosphinsäure in der Galvanotechnik |
-
1992
- 1992-03-05 JP JP04083316A patent/JP3111614B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0568773U (ja) * | 1992-02-26 | 1993-09-17 | 陸運電機株式会社 | ２灯交互点滅警報灯 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH05247660A (ja) | 1993-09-24 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US4483711A (en) | Aqueous electroless nickel plating bath and process | |
| JP4091518B2 (ja) | 金属の無電解析出法 | |
| JP4576456B2 (ja) | 水酸化クロム、その製造方法、それを用いた三価クロム含有液及びクロムめっき方法 | |
| US20110162974A1 (en) | Method for manufacturing chromium hydroxide | |
| JP6930966B2 (ja) | 金を無電解めっきするためのめっき浴組成物、および金層を析出させる方法 | |
| JP2005501964A (ja) | 無電解ニッケル鍍金溶液およびその使用法 | |
| JP3111614B2 (ja) | 無電解ニッケルめっき浴の再生方法 | |
| US5221328A (en) | Method of controlling orthophosphite ion concentration in hyphophosphite-based electroless plating baths | |
| JP2000503354A (ja) | 無電解ニッケルめっき浴からのオルト亜燐酸塩イオンの除去 | |
| JPH0613753B2 (ja) | 無電解メッキに使用する微細な金属体を含む溶液の製造方法 | |
| JP2000256864A (ja) | アルミニウム又はアルミニウム合金表面の亜鉛置換方法、そのための置換液及び亜鉛置換皮膜を有するアルミニウム又はアルミニウム合金 | |
| US6524642B1 (en) | Electroless metal-plating process | |
| JPS59185770A (ja) | 化学ニツケルめつき浴の廃液からニツケルを回収する方法 | |
| US5338342A (en) | Stabilized electroless nickel plating baths | |
| JPH11269658A (ja) | 無電解パラジウムメッキ液 | |
| JPS6141774A (ja) | 水性・無電解ニツケル改良浴及び方法 | |
| JP2001049448A (ja) | 無電解ニッケルめっき方法 | |
| JP2902335B2 (ja) | 無電解ニッケルめっき浴または無電解ニッケル合金めっき浴の再生方法 | |
| JPH0565661A (ja) | 無電解ニツケルめつき皮膜の製造法 | |
| JPH108261A (ja) | 無電解めっき浴の再生方法 | |
| US4038085A (en) | Method of treating electroless nickel plating bath | |
| JP2002226975A (ja) | 無電解金めっき液 | |
| JPS60118288A (ja) | 水の処理方法 | |
| JP2769774B2 (ja) | 無電解ニッケルめっき廃液の再生処理方法とその装置 | |
| CA2226744A1 (en) | Nickel hypophosphite solutions containing increased nickel concentration |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |