JP3107409B2 - クメンハイドロパーオキサイドの製造方法 - Google Patents
クメンハイドロパーオキサイドの製造方法Info
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Description
クメンハイドロパーオキサイド(以下CHPと称する)を
製造する方法に関する。
は、クメン法フェノールプロセスの重要な行程であり、
又CHPも各種反応の酸化剤として多く利用されている。
含有ガスの存在下に、一般的には数気圧の加圧下で行わ
れる。反応により生成する物質はCHP以外では、ジメチ
ルフェニルカルビノール(以下C'nolと称する)とアセ
トフェノン(以下A'noneと称する)が大半を占めるが、
ギ酸、酢酸等の有機酸も一部副生する。CHPは酸性領域
では分解し易い物質であり、従って有機酸の生成による
反応液pHの低下は反応収率上好ましくないと言う事が従
来の常識であった。また、アルカリ領域においてもCHP
は分解する。それ故、クメンの液相酸化反応は中性−弱
アルカリ性域に於いて行われるのが一般的である。そこ
で従来の方法に於いては、炭酸ナトリウム、炭酸カリウ
ム等のアルカリ塩類を添加する事により、反応液を中性
−弱アルカリ性域に保った状態で反応が行われていた。
目をする水の添加は反応収率上必ずしも有利ではない事
が判明した。特公昭54- 9185号及び特公昭55- 8502号に
は、これら第三物質及び水の添加を行わない酸化反応方
法が開示されているが、特公昭54- 9185号の方法では、
有機酸生成に大きな影響を及ぼすCHP 濃度と反応液の滞
留時間の関係は明確にされておらず、したがって高CHP
濃度域においても反応時間は長く、また実施例の方法で
は反応圧力が低く低酸化速度となっており、工業生産上
改善が必要であり、また特公昭55- 8502号の方法では、
酸化反応器内におけるCHP 濃度が低く、この濃度のもの
をそのまま濃縮工程で濃縮するには効率が悪く、濃縮工
程に入る前に予備濃縮塔において減圧下に反応熱を利用
したCHPの事前濃縮を行わなければならず、予備濃縮塔
の設置が必要であると共にCHP の濃縮度にも限界があ
り、いずれの方法も工業上満足できるものではなかっ
た。
スの存在下におけるクメンの液相酸化反応に於いては、
C'nol やA'noneといった主要副生物の他に、ギ酸や酢酸
等の有機酸も一部副生する。従来のアルカリ塩類を添加
する方法に於いては副生した有機酸は中和され、反応液
は弱アルカリ性〜中性域に保たれている。これ故、反応
液中のCHP は分解する事もなく、安定した反応操作が行
われる。しかし、本発明の様にアルカリ塩類や触媒の添
加もなく酸化反応を行う場合に於いては、副生した有機
酸は中和される事も無く反応液中に存在し、反応液はCH
P が分解し易い酸性域となる。中でも、高CHP 濃度下や
高反応温度における反応ではこうした有機酸の副生量が
多くなる。副生した有機酸は反応液のpHを低下させ、CH
P の酸分解を促進して酸化禁止剤であるフェノールを副
生し、酸化速度の低下とCHP収率の低下を招く事とな
る。
度を20〜25重量%またはそれ以下の低い濃度で酸化反応
を行う、及び/又は反応温度を低くする方法により、有
機酸ひいてはフェノールの副生を低くする努力がなされ
ていた。また反応圧力を低下する方法も、例えば低沸点
の有機酸やその前駆体を反応器流出ガスと共に反応器外
に流出させ、反応液への有機酸の蓄積を防止する効果が
考えられる。しかし、工業的見地からすると前者の低CH
P 濃度下で反応する方法は、後に続くCHP 濃縮行程での
設備費及び濃縮に要する用役費面から好ましくない。ま
た、後者の二つの方法では酸化速度が遅くなり、所要反
応器容積が大きくなるといった弊害を招く。
につき鋭意検討した結果、本発明を完成させるに至っ
た。
有ガス存在下に液相酸化して、クメンハイドロパーオキ
サイドを連続的に製造する方法に於いて、該反応を2個
以上の直列に繋いだ多段反応器によりアルカリ塩類や触
媒の不存在下に行い、反応液中のクメンハイドロパーオ
キサイドの濃度が25重量%以下の領域に於けるトータル
の反応液滞留時間及び反応液温度をそれぞれ0.1 〜15時
間、100 〜120 ℃、また25重量%を越える領域に於ける
トータルの反応液滞留時間及び反応液温度をそれぞれ0.
1 〜10時間、90〜115 ℃とし、且つクメンハイドロパー
オキサイドの反応液の全滞留時間が3 〜16時間であり、
また反応圧力が2〜10kg/cm2ゲージ圧力のもとに反応を
行うことを特徴とするクメンハイドロパーオキサイドの
製造方法である。
酸やフェノールの副生を抑制し、これら副生物による酸
化阻害を受ける事もなく、高酸化速度及び高収率でCHP
を製造する方法を提供するものである。
列に接続し、その第1の反応器に原料クメンを供給す
る。第2、第3と進むにつれて反応液のCHP 濃度は高く
なり、副生する有機酸やフェノール濃度も上昇してく
る。有機酸の生成量は、CHP 濃度に大きく依存する。ま
た反応液温度にも依存すると言われているが、これと同
等又はそれ以上に反応器内滞留時間、即ち反応時間に極
めて大きく依存する。定かではないがこれは有機酸がCH
P より生成するアルコール及びアルデヒドの酸化により
生成され、この有機酸の促進作用によりCHP が酸分解し
てフェノールを生成するといった逐次反応により生成す
る為であろうと思われる。そこで、有機酸の生成し易い
高CHP 濃度域、特に25重量%を越えるCHP 濃度下での反
応時間を短くして、有機酸が生成する前に反応器外に流
出させてしまうと都合が良い。
P 濃度が25重量%を越えるCHP 濃度領域に於けるトータ
ル反応時間を0.1 〜10時間とし、且つ全CHP 濃度域での
トータル反応時間が3〜16時間となる様に反応を行う
と良い。25重量%以下の領域に於いては反応時間の悪影
響はさほど大きくはないが、工業的見地からはトータル
反応時間は0.1 〜15時間が良好である。
でかつ、最終反応器のCHP 濃度が35重量%を越える場合
に於いては、反応液中のCHP濃度が25重量%を越え35重
量%以下の領域に於けるトータル反応時間を0.1 〜6時
間、35重量%を越える領域に於けるトータル反応時間を
0.1 〜4時間とし、且つ全CHP 濃度域でのトータル反応
時間が3〜15時間となる様に反応を行うと良い。25重量
%以下の領域に於いては、上述した理由によりトータル
反応時間を0.1 〜15時間とするのが良い。
CHP 濃度が25重量%以下の領域に於いては100 〜120
℃、25重量%を越える領域に於いては90〜115 ℃とする
のが良い。特に35重量%以上のCHP 濃度域に於いては90
〜110 ℃とするのが好ましい。反応圧力は有機酸の蓄積
防止面からは低い程好ましい。しかし酸化速度を高いレ
ベルに維持するためには、2kg/cm2 ゲージ圧力以上、
好ましくは2〜10kg/cm2 ゲージ圧力が良い。
り、酸化速度を高いレベルに維持したままで有機酸の副
生を抑制し、ひいては酸化反応阻害物質であるフェノー
ルの副生を大きく低減することが可能となる。
あり、通常は空気が使用される。またその量は、反応器
出口ガス中の酸素濃度が8vol %以下、好ましくは2〜
7vol %となるように供給される。
であるが、撹拌槽や撹拌気泡塔タイプのものであっても
良い。ガスの吹き込み装置は、通常反応器内にガスが出
来る限り均一に分散する様に工夫されている。ガス分散
が不十分であると気液接触面積が減少し、反応液中への
酸素の供給が酸素消費速度に追いつかず、その結果反応
速度が大きく低下する事にもつながる。
的に説明する。
CHP を 2.6重量%含有したクメンを毎時38kgの速度で連
続的に供給した。また、反応器流出ガス中の酸素濃度が
5vol %になる様に空気を100 μm の焼結板より連続的
に供給し、108℃、6kg/cm2ゲージ圧力のもとで反応を
行った。反応液の滞留時間は4時間であり、CHP 、有
機酸及びフェノール濃度はそれぞれ、23重量%、125 mg
/L、11mg/Lであった。
ンレス製の第2反応器に毎時29kgの速度で連続的に供給
した。反応温度100 ℃、圧力及び流出ガス中の酸素濃度
は第1反応器と同じ値で反応を行った。第2反応液の滞
留時間及びCHP 、有機酸、フェノールの濃度はそれぞ
れ、2.5 時間、30重量%、175 mg/L、16mg/Lであっ
た。
mのステンレス製の第3反応器に毎時25kgの速度で連続
的に供給した。反応温度98℃、圧力及び流出ガス中の酸
素濃度は第1反応器と同じ値で反応を行った。第3反応
液の滞留時間及びCHP、有機酸、フェノールの濃度はそ
れぞれ、2.0 時間、35重量%、230 mg/L、22mg/Lで
あった。
mのステンレス製の第4反応器に毎時10kgの速度で連続
的に供給した。反応温度98℃、圧力及び流出ガス中の酸
素濃度は第1反応器と同じ値で反応を行った。第4反応
液の滞留時間及びCHP 、有機酸、フェノールの濃度はそ
れぞれ、2.0 時間、40重量%、310 mg/L、31mg/Lで
あった。以上の条件で約2週間連続運転を続けたが、い
ずれの反応器も安定した運転が出来た。
CHP を 2.6重量%含有したクメンを毎時60kgの速度で連
続的に供給した。また、反応器流出ガス中の酸素濃度が
5vol %になる様に空気を100 μm の焼結板より連続的
に供給し、108℃、6kg/cm2ゲージ圧力の元で反応を行
った。反応液の滞留時間は2.5 時間であり、CHP、有機
酸及びフェノール濃度はそれぞれ、14重量%、65mg/
L、6mg/Lであった。
ンレス製の第2反応器に毎時31kgの速度で連続的に供給
した。反応温度104 ℃、圧力及び流出ガス中の酸素濃度
は第1反応器と同じ値で反応を行った。第2反応液の滞
留時間およびCHP、また有機酸、フェノールの濃度はそ
れぞれ、2.2時間、23重量%、120 mg/L、11mg/L
であった。
mのステンレス製の第3反応器に毎時20kgの速度で連続
的に供給した。反応温度101 ℃、圧力及び流出ガス中の
酸素濃度は第1反応器と同じ値で反応を行った。第3反
応液の滞留時間及びCHP 、有機酸、フェノールの濃度は
それぞれ、2.1 時間、30重量%、170 mg/L、16mg/L
であった。
mのステンレス製の第4反応器に毎時10kgの速度で連続
的に供給した。反応温度98℃、圧力及び流出ガス中の酸
素濃度は第1反応器と同じ値で反応を行った。第4反応
液の滞留時間及びCHP 、有機酸、フェノールの濃度はそ
れぞれ、1.9 時間、35重量%、220 mg/L、21mg/Lで
あった。以上の条件で約2週間連続運転を続けたが、い
ずれの反応器も安定した運転が出来た。
CHP を 2.6重量%含有したクメンを毎時38kgの速度で連
続的に供給した。また、反応器流出ガス中の酸素濃度が
5vol %になる様に空気を100 μm の焼結板より連続的
に供給し、107℃、6kg/cm2 ゲージ圧力のもとで反応
を行った。反応液の滞留時間は4時間であり、CHP 、有
機酸及びフェノール濃度はそれぞれ、22重量%、110 mg
/L、10mg/Lであった。
ンレス製の第2反応器に毎時29kgの速度で連続的に供給
した。反応温度103 ℃、圧力及び流出ガス中の酸素濃度
は第1反応器と同じ値で反応を行った。第2反応液の滞
留時間およびCHP 、また有機酸、フェノールの濃度はそ
れぞれ、2.5 時間、30重量%、170 mg/L、17mg/Lで
あった。
mのステンレス製の第3反応器に毎時29kgの速度で連続
的に供給した。反応温度101 ℃、圧力及び流出ガス中の
酸素濃度は第1反応器と同じ値で反応を行った。第3反
応液の滞留時間及びCHP 、有機酸、フェノールの濃度は
それぞれ、1.4 時間、34.5重量%、235 mg/L、23mg/
Lであった。
mのステンレス製の第4反応器に毎時17kgの速度で連続
的に供給した。反応温度99℃、圧力及び流出ガス中の酸
素濃度は第1反応器と同じ値で反応を行った。第4反応
液の滞留時間及びCHP 、有機酸、フェノールの濃度はそ
れぞれ、1.1 時間、39.5重量%、300 mg/L、30mg/L
であった。
mのステンレス製の第5反応器に毎時15kgの速度で連続
的に供給した。反応温度98℃、圧力及び流出ガス中の酸
素濃度は第1反応器と同じ値で反応を行った。第4反応
液の滞留時間及びCHP 、また有機酸、フェノールの濃度
はそれぞれ、1.0 時間、42.5重量%、340 mg/L、34mg
/Lであった。以上の条件で約2週間連続運転を続けた
が、いずれの反応器も安定した運転が出来た。
第2反応器は、第1反応液を毎時8.5kg の速度でフィー
ドした以外は、実施例1の第2反応器と同じ条件で運転
した。反応液の滞留時間は約12時間であり、反応液中の
CHP 濃度は一時的に約40wt%まで上昇した。しかし、有
機酸とフェノールが経時的に増加するにつれて、その後
は逆にCHP 濃度は低下していった。約2日間連続運転後
のCHP 濃度は26重量%まで低下していた。また有機酸及
びフェノール濃度はそれぞれ1600mg/L、300 mg/Lに
も達しており、依然として安定化する傾向は見られなか
った。
同じ条件で反応を行った。比較例1と同様に反応液中の
CHP 濃度は一時的に約37wt%まで上昇した。しかし、有
機酸とフェノールが経時的に増加するにつれて、その後
は逆にCHP 濃度は低下していった。約5日間連続運転後
のCHP 濃度は25重量%まで低下した。また、有機酸及び
フェノール濃度はそれぞれ1500mg/L、250 mg/Lにも
達しており、依然として安定化する傾向は見られなかっ
た。
と同じ条件で反応を行った。比較例1と同様に反応液中
のCHP 濃度は一時的に約39wt%まで上昇した。しかし、
有機酸とフェノールが経時的に増加するにつれて、その
後は逆にCHP 濃度は低下していった。約2日間連続運転
後のCHP 濃度は26重量%まで低下した。また、有機酸及
びフェノール濃度はそれぞれ1100mg/L、120 mg/Lに
も達しており、依然として安定化する傾向は見られなか
った。
1と同じ方法で第1反応器を運転した。運転は安定して
いたが、反応液のCHP 濃度は17重量%と実施例1に比べ
て低い値であった。
触媒の不存在下においても、有機酸やフェノールの副生
量が少ない。これ故、これら物質による酸化反応阻害を
受けること無く、高濃度CHP 下での長期安定運転が可能
となる。又、高CHP 濃度域での反応温度を比較的高くと
る事が出来る事から、酸化速度の上昇、ひいては反応器
容積の低減につながる。更に、最終反応液中のCHP 濃度
を高く出来る事より、CHP 濃縮系での所要エネルギーや
濃縮装置の設備費が大幅に削減出来るので産業に寄与す
ること極めて大である。
Claims (6)
- 【請求項1】 クメンを酸素または酸素含有ガス存在下
に液相酸化して、クメンハイドロパーオキサイドを連続
的に製造する方法に於いて、該反応を2個以上の直列に
繋いだ多段反応器によりアルカリ塩類や触媒の不存在下
に行い、反応液中のクメンハイドロパーオキサイドの濃
度が25重量%以下の領域に於けるトータルの反応液滞留
時間及び反応液温度をそれぞれ0.1〜15時間、100〜120
℃、また25重量%を越える領域に於けるトータルの反応
液滞留時間及び反応液温度をそれぞれ0.1〜10時間、90
〜115℃とし、且つクメンハイドロパーオキサイドの反
応液の全滞留時間が3〜16時間であり、また反応圧力が
2〜10kg/cm2ゲージ圧力のもとに反応を行うことを特徴
とするクメンハイドロパーオキサイドの製造方法。 - 【請求項2】 反応を3個以上の直列に繋いだ多段反応
器により行い、反応液中のクメンハイドロパーオキサイ
ドの濃度が25重量%以下の領域に於けるトータルの反応
液滞留時間及び反応液温度を0.1〜15時間、100〜120
℃、25重量%を越え35重量%以下の領域に於けるトータ
ルの反応液滞留時間及び反応液温度を0.1 〜6時間、90
〜115℃、35重量%を越える領域に於けるトータルの反
応液滞留時間及び反応液温度をそれぞれ0.1〜4時間、9
0〜110℃とし、且つクメンハイドロパーオキサイドの反
応液の全滞留時間が3〜16時間である請求項1記載の方
法。 - 【請求項3】 最終の反応器に於けるクメンハイドロパ
ーオキサイドの濃度が50重量%以下である請求項1又は
2記載の方法。 - 【請求項4】 反応を4個の直列に繋いだ多段反応器に
より行い、第1反応器のクメンハイドロパーオキサイド
濃度、反応液滞留時間及び反応液温度をそれぞれ25重量
%以下、0.1〜15時間及び100〜120℃、第2反応器のク
メンハイドロパーオキサイド濃度及び反応液温度をそれ
ぞれ25重量%を越え30重量%以下及び95〜115℃、第3
反応器のクメンハイドロパーオキサイド濃度及び反応液
温度をそれぞれ30重量%を越え35重量%以下及び90〜11
0℃とし、第2反応器と第3反応器のトータルの反応液
滞留時間を0.1 〜6時間、また第4反応器のクメンハイ
ドロパーオキサイド濃度、反応液滞留時間及び反応液温
度をそれぞれ35重量%を越え40重量%以下、0.1〜4時
間及び90〜110℃とし、且つクメンハイドロパーオキサ
イドの反応液の全滞留時間が3〜16時間である請求項1
記載の方法。 - 【請求項5】 反応を4個の直列に繋いだ多段反応器に
より行い、第1反応器のクメンハイドロパーオキサイド
濃度及び反応液温度をそれぞれ18重量%以下及び100〜1
20℃、第2反応器のクメンハイドロパーオキサイド濃度
及び反応液温度をそれぞれ18重量%を越え25重量%以下
及び95〜115℃とし、第1反応器と第2反応器のトータ
ルの反応液滞留時間を0.1〜15時間、また第3反応器の
クメンハイドロパーオキサイド濃度及び反応液温度をそ
れぞれ25重量%を越え30重量%以下及び90〜110℃、第
4反応器のクメンハイドロパーオキサイド濃度及び反応
液温度をそれぞれ30重量%を越え35重量%以下及び90〜
105℃、第3反応器と第4反応器のトータルの反応液滞
留時間を0.1〜10時間とし、且つクメンハイドロパーオ
キサイドの反応液の全滞留時間が3〜 16時間である請
求項1記載の方法。 - 【請求項6】 反応を5個の直列に繋いだ多段反応器に
より行い、第1反応器のクメンハイドロパーオキサイド
濃度、反応液滞留時間及び反応液温度をそれぞれ25重量
%以下、0.1〜15時間及び100〜120 ℃、第2反応器のク
メンハイドロパーオキサイド濃度及び反応液温度をそれ
ぞれ25重量%を越え30重量%以下及び95〜115℃、第3
反応器のクメンハイドロパーオキサイド濃度及び反応液
温度をそれぞれ30重量%を越え35重量%以下及び90〜11
0℃とし、第2反応器と第3反応器のトータルの反応液
滞留時間を0.1〜5時間、また第4反応器のクメンハイ
ドロパーオキサイド濃度、反応液滞留時間及び反応液温
度をそれぞれ35重量%を越え40重量%以下、0.1〜3時
間及び90〜110℃、第5反応器のクメンハイドロパーオ
キサイド濃度、反応液滞留時間及び反応液温度をそれぞ
れ40重量%を越え45重量%以下、0.1〜2時間及び90〜1
10℃とし、且つクメンハイドロパーオキサイドの反応液
の全滞留時間が3〜16時間である請求項1記載の方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP03068112A JP3107409B2 (ja) | 1991-04-01 | 1991-04-01 | クメンハイドロパーオキサイドの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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JP03068112A JP3107409B2 (ja) | 1991-04-01 | 1991-04-01 | クメンハイドロパーオキサイドの製造方法 |
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Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH04305564A JPH04305564A (ja) | 1992-10-28 |
JP3107409B2 true JP3107409B2 (ja) | 2000-11-06 |
Family
ID=13364334
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
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JP03068112A Expired - Lifetime JP3107409B2 (ja) | 1991-04-01 | 1991-04-01 | クメンハイドロパーオキサイドの製造方法 |
Country Status (1)
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Families Citing this family (4)
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ES2719606T3 (es) | 2012-04-26 | 2019-07-11 | Borealis Ag | Reducción de las impurezas orgánicas en aguas residuales |
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-
1991
- 1991-04-01 JP JP03068112A patent/JP3107409B2/ja not_active Expired - Lifetime
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