JP3106257U - 内外環型加熱コイル盤 - Google Patents
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Abstract
【課題】内外の二つのコイルで形成された加熱コイルが二つの集中する磁場波ピークを発生し、鍋の負荷に二つの集中する加熱渦流を具備させて、ホール熱を発生し、これにより鍋の底部を広く加熱し或いは内外の鍋を均一に加熱することができる内外環型加熱コイル盤の提供。
【解決手段】コイル盤支持フレーム、鉄粉芯と加熱コイルを具え、該コイル盤支持フレームは内環支持フレームと外環支持フレームに分けられ、内、外環支持フレームと鉄粉芯の上に設置された加熱コイルも相互に隔離された内加熱コイル盤と外加熱コイル盤に分けられ、内、外環支持フレーム及び内、外加熱コイル盤が同一平面上、或いは異なる平面上、或いは円弧鍋底の内に凹んだ円弧面に位置し、内加熱コイル盤と外加熱コイル盤が直列或いは並列の方式で接続され、加熱コイル盤は一般に内に凹んだ盤状とされる。
【選択図】図1
【解決手段】コイル盤支持フレーム、鉄粉芯と加熱コイルを具え、該コイル盤支持フレームは内環支持フレームと外環支持フレームに分けられ、内、外環支持フレームと鉄粉芯の上に設置された加熱コイルも相互に隔離された内加熱コイル盤と外加熱コイル盤に分けられ、内、外環支持フレーム及び内、外加熱コイル盤が同一平面上、或いは異なる平面上、或いは円弧鍋底の内に凹んだ円弧面に位置し、内加熱コイル盤と外加熱コイル盤が直列或いは並列の方式で接続され、加熱コイル盤は一般に内に凹んだ盤状とされる。
【選択図】図1
Description
本考案は電磁調理器及び類似の装置中での使用に適合する加熱コイル盤に係り、特に内外環型加熱コイル盤に関する。
現在の電磁調理器に採用されている加熱コイル盤は、コイル盤サポートフレーム、鉄粉芯、及び加熱コイルが組み合わされてなる。そのうち加熱コイルは複数のコイルが同心円状、同平面をなすコイル盤とされ、且つコイルとコイルの間が緊密に当接されて一体とされ、その後コイル盤サポートフレームに支持される。このようなタイプの加熱コイルは磁場中の磁力線の特徴により、円盤コイルの中間位置に発生する磁場強度が最大となり、集中磁場ピークを形成し、電磁調理器で鍋類に加熱する時はこの区域に集中する。もし鍋類の加熱底部が比較的大きかったり或いは図4、5のように親子型の鍋である場合は、加熱が非常に不均一となり、加熱効果が下がる。このため、改善の必要がある。
本考案の主要な目的は、二つの集中磁場ピークを発生でき、鍋に二つの集中する加熱渦流を具備させてジュール熱を発生させる内外加熱コイル盤を提供し、従来の技術の不足のところを克服することにある。
請求項1の考案は、コイル盤支持フレーム、鉄粉芯と加熱コイルを具えた内外環型加熱コイル盤において、該コイル盤支持フレームは内環支持フレーム(5)と外環支持フレーム(6)に分けられ、内、外環支持フレームと鉄粉芯の上に設置された加熱コイルも相互に隔離された内加熱コイル盤(7)と外加熱コイル盤(8)に分けられたことを特徴とする、内外環型加熱コイル盤としている。
請求項2の考案は、請求項1記載の内外環型加熱コイル盤において、内環支持フレーム(5)と外環支持フレーム(6)、及び内加熱コイル盤(7)と外加熱コイル盤(8)が同一平面上、或いは異なる平面上、或いは円弧鍋底の内に凹んだ円弧面に位置することを特徴とする、内外環型加熱コイル盤としている。
請求項3の考案は、請求項2記載の内外環型加熱コイル盤において、内加熱コイル盤(7)の最外周(10)と外加熱コイル盤(8)の最内周(9)が直列の方式で接続されたことを特徴とする、内外環型加熱コイル盤としている。
請求項4の考案は、請求項2記載の内外環型加熱コイル盤において、内加熱コイル盤(7)と外加熱コイル盤(8)が並列の方式で接続され、内加熱コイル盤(7)と開始端子(1)と外加熱コイル盤(8)の開始端子(3)が接続され、内加熱コイル盤(7)の終了端子(2)と外加熱コイル盤(8)の終了端子(4)が接続されたことを特徴とする、内外環型加熱コイル盤としている。
請求項5の考案は、請求項2記載の内外環型加熱コイル盤において、内加熱コイル盤(7)と外加熱コイル盤(8)が回路により単独制御されることを特徴とする、内外環型加熱コイル盤としている。
請求項6の考案は、請求項2、3、4、5のいずれか記載の内外環型加熱コイル盤において、加熱コイル盤が内に凹んだ盤状とされ、内環支持フレーム(5)と内加熱コイル盤(7)が盤底面に設置され、外環支持フレーム(6)と外加熱コイル盤(8)が盤上面に設置されたことを特徴とする、内外環型加熱コイル盤としている。
請求項2の考案は、請求項1記載の内外環型加熱コイル盤において、内環支持フレーム(5)と外環支持フレーム(6)、及び内加熱コイル盤(7)と外加熱コイル盤(8)が同一平面上、或いは異なる平面上、或いは円弧鍋底の内に凹んだ円弧面に位置することを特徴とする、内外環型加熱コイル盤としている。
請求項3の考案は、請求項2記載の内外環型加熱コイル盤において、内加熱コイル盤(7)の最外周(10)と外加熱コイル盤(8)の最内周(9)が直列の方式で接続されたことを特徴とする、内外環型加熱コイル盤としている。
請求項4の考案は、請求項2記載の内外環型加熱コイル盤において、内加熱コイル盤(7)と外加熱コイル盤(8)が並列の方式で接続され、内加熱コイル盤(7)と開始端子(1)と外加熱コイル盤(8)の開始端子(3)が接続され、内加熱コイル盤(7)の終了端子(2)と外加熱コイル盤(8)の終了端子(4)が接続されたことを特徴とする、内外環型加熱コイル盤としている。
請求項5の考案は、請求項2記載の内外環型加熱コイル盤において、内加熱コイル盤(7)と外加熱コイル盤(8)が回路により単独制御されることを特徴とする、内外環型加熱コイル盤としている。
請求項6の考案は、請求項2、3、4、5のいずれか記載の内外環型加熱コイル盤において、加熱コイル盤が内に凹んだ盤状とされ、内環支持フレーム(5)と内加熱コイル盤(7)が盤底面に設置され、外環支持フレーム(6)と外加熱コイル盤(8)が盤上面に設置されたことを特徴とする、内外環型加熱コイル盤としている。
本考案は内外の二つのコイルで形成された加熱コイルを採用したことにより、二つの集中する磁場ピークを発生し、これにより鍋に二つの集中する加熱渦流ループを発生させてジュール熱の効果を発生させることができる。これにより鍋の底部が大きい場合も、或いは親子式の鍋であっても均一な加熱が行なえ、良好な加熱効果を形成できる。
本考案は、コイル盤支持フレーム、鉄粉芯と加熱コイルを具えた内外環型加熱コイル盤において、該コイル盤支持フレームは内環支持フレームと外環支持フレームに分けられ、内、外環支持フレームと鉄粉芯の上に設置された加熱コイルも相互に隔離された内加熱コイル盤と外加熱コイル盤に分けられたことを特徴とする。
上述の内環支持フレームと外環支持フレーム、及び内加熱コイル盤と外加熱コイル盤は同一平面上、或いは異なる平面上、或いは円弧鍋底の内に凹んだ円弧面に位置する。また、内加熱コイル盤の最外周と外加熱コイル盤の最内周が直列の方式で接続されうる。或いは内加熱コイル盤と外加熱コイル盤が並列の方式で接続され、即ち、内加熱コイル盤と開始端子と外加熱コイル盤の開始端子が接続され、内加熱コイル盤の終了端子と外加熱コイル盤の終了端子が接続される。加熱コイル盤は内に凹んだ盤状とされ、内環支持フレームと内加熱コイル盤が盤底面に設置され、外環支持フレームと外加熱コイル盤が盤上面に設置される。
本考案は内外の二つのコイルで形成された加熱コイルを採用したことにより、二つの集中する磁場ピークを発生し、これにより鍋に二つの集中する加熱渦流ループを発生させてジュール熱の効果を発生させることができる。これにより鍋の底部が大きい場合も、或いは親子式の鍋であっても均一な加熱が行なえ、良好な加熱効果を形成できる。
図1、2に示されるように、本考案の内外環型加熱コイル盤は、コイル盤支持フレーム、鉄粉芯と加熱コイルを具え、該コイル盤支持フレームは内環支持フレーム(5)と外環支持フレーム(6)に分けられ、内、外環支持フレームと鉄粉芯の上に設置された加熱コイルも相互に隔離された内加熱コイル盤(7)と外加熱コイル盤(8)に分けられている。加熱コイル盤が内に凹んだ盤状とされ、内環支持フレーム(5)と内加熱コイル盤(7)が盤底面に設置され、外環支持フレーム(6)と外加熱コイル盤(8)が盤上面に設置されている。内加熱コイル盤(7)の最外周(10)と外加熱コイル盤(8)の最内周(9)が直列の方式で接続されている。或いは、内加熱コイル盤(7)と外加熱コイル盤(8)が並列の方式で接続され、内加熱コイル盤(7)と開始端子(1)と外加熱コイル盤(8)の開始端子(3)が接続され、内加熱コイル盤(7)の終了端子(2)と外加熱コイル盤(8)の終了端子(4)が接続される。
加熱コイル盤は図3のように平板盤状とされて内環支持フレーム(5)と外環支持フレーム(6)、及び内加熱コイル盤(7)と外加熱コイル盤(8)が同一平面上に設けられうる。図3において、他の構造に変更はない。このような加熱コイル盤は図4、5に示される親子型の鍋に特に適合し、図4、5中、符号11は内鍋、符号12は外鍋を示す。
加熱コイル盤は更に鍋底の内凹円弧面上に設置可能である。内加熱コイル盤(7)と外加熱コイル盤(8)は回路により単独制御されうる。
本考案の技術に基づき、2周以上の加熱コイル盤を設計可能で、例えば、3周、4周、或いはそれ以上の周数の加熱コイル盤とすることができる。
(1)開始端子
(3)開始端子
(2)終了端子
(4)終了端子
(5)内環支持フレーム
(6)外環支持フレーム
(7)内加熱コイル盤
(8)外加熱コイル盤
(9)最内周
(10)最外周
(11)内鍋
(12)外鍋
(3)開始端子
(2)終了端子
(4)終了端子
(5)内環支持フレーム
(6)外環支持フレーム
(7)内加熱コイル盤
(8)外加熱コイル盤
(9)最内周
(10)最外周
(11)内鍋
(12)外鍋
Claims (6)
- コイル盤支持フレーム、鉄粉芯と加熱コイルを具えた内外環型加熱コイル盤において、該コイル盤支持フレームは内環支持フレーム(5)と外環支持フレーム(6)に分けられ、内、外環支持フレームと鉄粉芯の上に設置された加熱コイルも相互に隔離された内加熱コイル盤(7)と外加熱コイル盤(8)に分けられたことを特徴とする、内外環型加熱コイル盤。
- 請求項1記載の内外環型加熱コイル盤において、内環支持フレーム(5)と外環支持フレーム(6)、及び内加熱コイル盤(7)と外加熱コイル盤(8)が同一平面上、或いは異なる平面上、或いは円弧鍋底の内に凹んだ円弧面に位置することを特徴とする、内外環型加熱コイル盤。
- 請求項2記載の内外環型加熱コイル盤において、内加熱コイル盤(7)の最外周(10)と外加熱コイル盤(8)の最内周(9)が直列の方式で接続されたことを特徴とする、内外環型加熱コイル盤。
- 請求項2記載の内外環型加熱コイル盤において、内加熱コイル盤(7)と外加熱コイル盤(8)が並列の方式で接続され、内加熱コイル盤(7)と開始端子(1)と外加熱コイル盤(8)の開始端子(3)が接続され、内加熱コイル盤(7)の終了端子(2)と外加熱コイル盤(8)の終了端子(4)が接続されたことを特徴とする、内外環型加熱コイル盤。
- 請求項2記載の内外環型加熱コイル盤において、内加熱コイル盤(7)と外加熱コイル盤(8)が回路により単独制御されることを特徴とする、内外環型加熱コイル盤。
- 請求項2、3、4、5のいずれか記載の内外環型加熱コイル盤において、加熱コイル盤が内に凹んだ盤状とされ、内環支持フレーム(5)と内加熱コイル盤(7)が盤底面に設置され、外環支持フレーム(6)と外加熱コイル盤(8)が盤上面に設置されたことを特徴とする、内外環型加熱コイル盤。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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JP2004003808U JP3106257U (ja) | 2004-06-29 | 2004-06-29 | 内外環型加熱コイル盤 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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JP2004003808U JP3106257U (ja) | 2004-06-29 | 2004-06-29 | 内外環型加熱コイル盤 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
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JP3106257U true JP3106257U (ja) | 2004-12-16 |
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ID=43259582
Family Applications (1)
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JP2004003808U Expired - Lifetime JP3106257U (ja) | 2004-06-29 | 2004-06-29 | 内外環型加熱コイル盤 |
Country Status (1)
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JP (1) | JP3106257U (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2013218942A (ja) * | 2012-04-11 | 2013-10-24 | Mitsubishi Electric Corp | 誘導加熱装置 |
CN107713704A (zh) * | 2016-08-11 | 2018-02-23 | 福州耕耘专利开发有限公司 | 内外双重套置电感应加热锅 |
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2004
- 2004-06-29 JP JP2004003808U patent/JP3106257U/ja not_active Expired - Lifetime
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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JP2013218942A (ja) * | 2012-04-11 | 2013-10-24 | Mitsubishi Electric Corp | 誘導加熱装置 |
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