JP3099471B2 - 繊維状のジアセタール化合物及びその製造方法 - Google Patents
繊維状のジアセタール化合物及びその製造方法Info
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Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、繊維状の結晶形態を有
するジアセタール化合物及びその製造方法に関する。
するジアセタール化合物及びその製造方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】１，３：２，４−ジベンジリデンソルビ
ト−ル（以下「ＤＢＳ」と略記する。）及びその芳香環
がメチル基、エチル基、イソプロピル基及びジメチル基
などのアルキル基で置換されたジアセタール化合物が、
ポリエステル成形（特開昭５０−１５１２５０号）、塗
料（特開昭４９−２３２２９号）、インキ（特開昭５１
−５９５０６号）、接着剤（特開昭４８−４４３３２
号）など、広範囲な分野におけるゲル化剤、チキソトロ
−プ剤あるいは増粘剤、更にはポリオレフィン結晶核剤
として有用であることは良く知られている（特開昭５０
−１２４０３４号、特開昭５０−１３９１５０号、特開
昭５０−１３４０３４号、特開昭５１−５９５０６号な
ど）。
ト−ル（以下「ＤＢＳ」と略記する。）及びその芳香環
がメチル基、エチル基、イソプロピル基及びジメチル基
などのアルキル基で置換されたジアセタール化合物が、
ポリエステル成形（特開昭５０−１５１２５０号）、塗
料（特開昭４９−２３２２９号）、インキ（特開昭５１
−５９５０６号）、接着剤（特開昭４８−４４３３２
号）など、広範囲な分野におけるゲル化剤、チキソトロ
−プ剤あるいは増粘剤、更にはポリオレフィン結晶核剤
として有用であることは良く知られている（特開昭５０
−１２４０３４号、特開昭５０−１３９１５０号、特開
昭５０−１３４０３４号、特開昭５１−５９５０６号な
ど）。
【０００３】一般に、チキソトロ−プ剤あるいは増粘剤
などをポリエステル成形、塗料、インキ、接着剤などの
添加剤として適用するに際しては、加熱、冷却など特定
の工程なしに常温で分散して適応できることが望まし
い。
などをポリエステル成形、塗料、インキ、接着剤などの
添加剤として適用するに際しては、加熱、冷却など特定
の工程なしに常温で分散して適応できることが望まし
い。
【０００４】しかしながら、従来公知のジアセタール化
合物は、いずれも粉末状の結晶物であるため、常温分散
方法が適用できず、これらのものを上記各分野に適用す
るためには、溶剤を使用したり、系全体を加熱してジア
セタール化合物を溶解させ、次いで冷却してゲルを形成
する工程、必要に応じて、更に十分に混練する工程など
を必要としていた。
合物は、いずれも粉末状の結晶物であるため、常温分散
方法が適用できず、これらのものを上記各分野に適用す
るためには、溶剤を使用したり、系全体を加熱してジア
セタール化合物を溶解させ、次いで冷却してゲルを形成
する工程、必要に応じて、更に十分に混練する工程など
を必要としていた。
【０００５】本発明者は、かかる問題点を解決するもの
として、先に、ＤＢＳ類／有機溶媒系のゲルを凍結乾燥
して成る、アモロファスでスポンジ状のＤＢＳ類のキセ
ロゲルの製造について提案した（特開昭６３−１２０７
８８号）。
として、先に、ＤＢＳ類／有機溶媒系のゲルを凍結乾燥
して成る、アモロファスでスポンジ状のＤＢＳ類のキセ
ロゲルの製造について提案した（特開昭６３−１２０７
８８号）。
【０００６】この方法で得られるＤＢＳ類は、マトリッ
クス中で形成するフィブリルのＸ線パターンが、もとの
ＤＢＳ類の結晶のそれとは著しく異なっていてアモロフ
ァス的であり、しかも、その電子顕微鏡写真から明らか
なように、断面の直径がおよそ１００オングストローム
と極めて小さいフィブリルから構成されるという特徴を
有している（高分子添加剤の最新技術、ｐ２０４、ＣＭ
Ｃ出版、１９８８年）。
クス中で形成するフィブリルのＸ線パターンが、もとの
ＤＢＳ類の結晶のそれとは著しく異なっていてアモロフ
ァス的であり、しかも、その電子顕微鏡写真から明らか
なように、断面の直径がおよそ１００オングストローム
と極めて小さいフィブリルから構成されるという特徴を
有している（高分子添加剤の最新技術、ｐ２０４、ＣＭ
Ｃ出版、１９８８年）。
【０００７】上記ＤＢＳ類は、常温分散型としての特徴
を有しているが、連続的製造方法が困難な凍結乾燥法を
採用する点に工業化する際の難点を有していた。又、凍
結乾燥物の嵩比重が極めて小さいため、その取扱いに難
点があった。
を有しているが、連続的製造方法が困難な凍結乾燥法を
採用する点に工業化する際の難点を有していた。又、凍
結乾燥物の嵩比重が極めて小さいため、その取扱いに難
点があった。
【０００８】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、作業性に優
れ、従来公知の各分野において常温分散方法が適用でき
る、新規有用な結晶性ジアセタール化合物及びその製造
方法を提供することを目的とする。
れ、従来公知の各分野において常温分散方法が適用でき
る、新規有用な結晶性ジアセタール化合物及びその製造
方法を提供することを目的とする。
【０００９】
【課題を解決するための手段】本発明者は、上記目的を
達成すべく鋭意検討の結果、 １．従来公知の結晶粉末状のＤＢＳ類を特定の温度条件
下で加熱することにより、ゲル形成の状態を経由するこ
となく、結晶性の粉末状から繊維状結晶への結晶形態転
移が発生し、嵩密度がもとの結晶性粉末と余り変化無
く、しかも、文献に未記載の形態、即ち、アモロファス
的なフィブリルとは異なった結晶性で比較的断面の直径
の大きい繊維状態のＤＢＳ類が生成し得る事実を見いだ
し、 ２．更に、溶融ジアセタール化合物の過冷却物を特定の
温度に保持することによっても、上記と同様の結晶性繊
維状形態のジアセタールを調製することができることを
見いだし、 ３．かくして得られる繊維状ＤＢＳ類が常温分散型のチ
キソトロープ剤などとして、又、分散性の良好な高分子
結晶核剤として極めて有用であることを見いだした。本
発明は、かかる知見に基づいて完成されたものである。
達成すべく鋭意検討の結果、 １．従来公知の結晶粉末状のＤＢＳ類を特定の温度条件
下で加熱することにより、ゲル形成の状態を経由するこ
となく、結晶性の粉末状から繊維状結晶への結晶形態転
移が発生し、嵩密度がもとの結晶性粉末と余り変化無
く、しかも、文献に未記載の形態、即ち、アモロファス
的なフィブリルとは異なった結晶性で比較的断面の直径
の大きい繊維状態のＤＢＳ類が生成し得る事実を見いだ
し、 ２．更に、溶融ジアセタール化合物の過冷却物を特定の
温度に保持することによっても、上記と同様の結晶性繊
維状形態のジアセタールを調製することができることを
見いだし、 ３．かくして得られる繊維状ＤＢＳ類が常温分散型のチ
キソトロープ剤などとして、又、分散性の良好な高分子
結晶核剤として極めて有用であることを見いだした。本
発明は、かかる知見に基づいて完成されたものである。
【００１０】本発明に係るジアセタール化合物は、一般
式（Ｉ）で示され、繊維状の結晶形態を有し、断面の直
径が２０００オングストローム〜１０ミクロン、好まし
くは４０００オングストローム以上であることを特徴と
する。
式（Ｉ）で示され、繊維状の結晶形態を有し、断面の直
径が２０００オングストローム〜１０ミクロン、好まし
くは４０００オングストローム以上であることを特徴と
する。
【化１】 ［式中、Ｒ１、Ｒ２は、同一又は異なって、水素原子、
炭素数１〜４のアルキル基を示し、ｍ、ｎは１〜５の整
数を示す。ｐは０又は１を示す。］
炭素数１〜４のアルキル基を示し、ｍ、ｎは１〜５の整
数を示す。ｐは０又は１を示す。］
【００１１】一般式（Ｉ）で表されるジアセタール化合
物として、具体的には、ＤＢＳ、メチル基、エチル基、
イソプロピル基などの炭素数１〜４のアルキル基が夫々
の芳香環に１〜５個置換してなるＤＢＳ、及び同様のキ
シリトール誘導体が例示される。このとき、各置換基の
位置は問わない。又、２個の芳香環への置換基が全く同
じであるいわゆる対称型であっても、あるいは互いに異
なる置換基であるいわゆる非対称型であっても良い。
物として、具体的には、ＤＢＳ、メチル基、エチル基、
イソプロピル基などの炭素数１〜４のアルキル基が夫々
の芳香環に１〜５個置換してなるＤＢＳ、及び同様のキ
シリトール誘導体が例示される。このとき、各置換基の
位置は問わない。又、２個の芳香環への置換基が全く同
じであるいわゆる対称型であっても、あるいは互いに異
なる置換基であるいわゆる非対称型であっても良い。
【００１２】当該繊維状ジアセタール化合物は、公知の
合成法（例えば、特公昭４８−４３７４８号、特開昭５
６−１０８７９１号、特開昭５６−１６１３９１号、特
開平１−１４９７８９号、特開平２−２３１４８８号）
によって得られたジアセタ−ル化合物の粉末、好ましく
は揮発成分が０〜２０重量％程度の乾燥粉末を１２０〜
２５０℃、好ましくは１３０〜２００℃程度に加熱して
粉末状結晶から繊維状結晶への結晶形態転移を生じせし
めることにより容易に得ることができる。
合成法（例えば、特公昭４８−４３７４８号、特開昭５
６−１０８７９１号、特開昭５６−１６１３９１号、特
開平１−１４９７８９号、特開平２−２３１４８８号）
によって得られたジアセタ−ル化合物の粉末、好ましく
は揮発成分が０〜２０重量％程度の乾燥粉末を１２０〜
２５０℃、好ましくは１３０〜２００℃程度に加熱して
粉末状結晶から繊維状結晶への結晶形態転移を生じせし
めることにより容易に得ることができる。
【００１３】粉末結晶から繊維状結晶への結晶形態の転
移速度は、加熱温度が高いほど大きく、例えば、加熱処
理を１４０〜２００℃で１５〜６０分程度行うことによ
り、形態転移が完了する。
移速度は、加熱温度が高いほど大きく、例えば、加熱処
理を１４０〜２００℃で１５〜６０分程度行うことによ
り、形態転移が完了する。
【００１４】この微粉末結晶の熱処理方法において、１
２０℃未満では転移速度が小さく、実質的に転移が生じ
ていないため実用的でなく、２５０℃を越える温度では
ジアセタール化合物の分解や着色を伴うため好ましくな
い。
２０℃未満では転移速度が小さく、実質的に転移が生じ
ていないため実用的でなく、２５０℃を越える温度では
ジアセタール化合物の分解や着色を伴うため好ましくな
い。
【００１５】もう一つの方法として、溶融物の高温処理
方法がある。この方法は、溶融ジアセタール化合物の過
冷却物を１２０〜２５０℃に高温保持することにより達
成される。急激に１００℃以下に冷却すると球晶形態と
なってしまい、結晶性繊維形態を得ることができない。
又、一般に２５０℃を越える温度では繊維状結晶の成長
速度が小さく、ジアセタール化合物の分解が惹起され実
用的でない。
方法がある。この方法は、溶融ジアセタール化合物の過
冷却物を１２０〜２５０℃に高温保持することにより達
成される。急激に１００℃以下に冷却すると球晶形態と
なってしまい、結晶性繊維形態を得ることができない。
又、一般に２５０℃を越える温度では繊維状結晶の成長
速度が小さく、ジアセタール化合物の分解が惹起され実
用的でない。
【００１６】加熱による結晶間の形態転移或いは溶融過
冷却物から繊維状結晶形成への形態変化を生ぜしめる熱
処理は、結晶粉末あるいは溶融物の静置状態で、又は適
当な混合の状態で行うことができる。
冷却物から繊維状結晶形成への形態変化を生ぜしめる熱
処理は、結晶粉末あるいは溶融物の静置状態で、又は適
当な混合の状態で行うことができる。
【００１７】又、加熱処理工程における雰囲気は、特に
限定しないで行うことができる。即ち、常圧でも減圧で
も加圧でもよく、空気存在下でも窒素、二酸化炭素、ア
ルゴン等の不活性気体下でも水蒸気、メタノール、炭化
水素などの溶剤ガス雰囲気下などのいずれでもよい。一
般には、減圧下、窒素ガス雰囲気が望ましい。
限定しないで行うことができる。即ち、常圧でも減圧で
も加圧でもよく、空気存在下でも窒素、二酸化炭素、ア
ルゴン等の不活性気体下でも水蒸気、メタノール、炭化
水素などの溶剤ガス雰囲気下などのいずれでもよい。一
般には、減圧下、窒素ガス雰囲気が望ましい。
【００１８】かくして得られる繊維状ジアセタール化合
物は、従来公知のジアセタール化合物と比較して、単位
重量当たりの比表面積が大きいにも拘らず嵩比重はあま
り変わらず（０．３程度）、前記凍結乾燥物にみられた
嵩比重が極めて小さく（０．０１程度）、取り扱いにく
いといった欠点も解消されており、これまでジアセター
ル化合物が用いられてきた分野、例えば、ポリエステル
成形、塗料、インキ、接着剤などの分野における常温分
散型のゲル化剤、チキソトロ−プ剤あるいは増粘剤とし
て有用であり、又、分散性の良好なポリオレフィン結晶
核剤としても適用される。
物は、従来公知のジアセタール化合物と比較して、単位
重量当たりの比表面積が大きいにも拘らず嵩比重はあま
り変わらず（０．３程度）、前記凍結乾燥物にみられた
嵩比重が極めて小さく（０．０１程度）、取り扱いにく
いといった欠点も解消されており、これまでジアセター
ル化合物が用いられてきた分野、例えば、ポリエステル
成形、塗料、インキ、接着剤などの分野における常温分
散型のゲル化剤、チキソトロ−プ剤あるいは増粘剤とし
て有用であり、又、分散性の良好なポリオレフィン結晶
核剤としても適用される。
【００１９】以下、実施例を掲げ、本発明を詳しく説明
する。 実施例１ ＤＢＳ結晶粉末（商品名「ゲルオ−ルＤ」、新日本理化
株式会社製）４５ｇを１０×２０×４cmステンレスバッ
トに投入し、これを１３０℃にセットした恒温室に４０
分間静置した。光学顕微鏡（日本分光株式会社製、偏光
顕微鏡、以下同様）によるクルスニコル下での観察の結
果、図１に示す顕微鏡写真の如く繊維状に結晶形態転移
していることが確認された。
する。 実施例１ ＤＢＳ結晶粉末（商品名「ゲルオ−ルＤ」、新日本理化
株式会社製）４５ｇを１０×２０×４cmステンレスバッ
トに投入し、これを１３０℃にセットした恒温室に４０
分間静置した。光学顕微鏡（日本分光株式会社製、偏光
顕微鏡、以下同様）によるクルスニコル下での観察の結
果、図１に示す顕微鏡写真の如く繊維状に結晶形態転移
していることが確認された。
【００２０】応用例１ 実施例１で得た繊維状結晶のＤＢＳ２ｇを常温でスチレ
ンモノマ−１００ｇに添加し、１０分間ホモジナイズ混
合した後、１日静置すると流動性のないゲル状となっ
た。
ンモノマ−１００ｇに添加し、１０分間ホモジナイズ混
合した後、１日静置すると流動性のないゲル状となっ
た。
【００２１】応用比較例１ ゲルオ−ルＤ結晶粉末を用いて、応用例１と同じ方法で
スチレンモノマ−に適応したところ、流動性状にほとん
ど変化なく、ゲルの形成も認められなかった。
スチレンモノマ−に適応したところ、流動性状にほとん
ど変化なく、ゲルの形成も認められなかった。
【００２２】実施例２ １，３：２，４−ビス（ｐ−メチルベンジリデン）ソル
ビトールの結晶粉末（商品名「ゲルオ−ルＭＤ」、新日
本理化株式会社製）４５ｇを１０×２０×４cmステンレ
スバットに投入し、これを１９０℃にセットした窒素雰
囲気の恒温室に１０分間静置した。クルスニコル下での
光学顕微鏡観察の結果、図２に示す顕微鏡写真の如く繊
維状に結晶形態転移していることが確認された。
ビトールの結晶粉末（商品名「ゲルオ−ルＭＤ」、新日
本理化株式会社製）４５ｇを１０×２０×４cmステンレ
スバットに投入し、これを１９０℃にセットした窒素雰
囲気の恒温室に１０分間静置した。クルスニコル下での
光学顕微鏡観察の結果、図２に示す顕微鏡写真の如く繊
維状に結晶形態転移していることが確認された。
【００２３】応用例２ 実施例２で得た繊維状結晶のメチル置換ＤＢＳ２ｇを常
温でスチレンモノマ−１００ｇに添加し、１０分間ホモ
ジナイズ混合した後、１日静置すると流動性のないゲル
状となった。
温でスチレンモノマ−１００ｇに添加し、１０分間ホモ
ジナイズ混合した後、１日静置すると流動性のないゲル
状となった。
【００２４】応用比較例２ ゲルオ−ルＭＤ結晶粉末を用いて、応用例２と同じ方法
でスチレンモノマ−に適応したところ、流動性状にほと
んど変化なく、ゲルの形成も認められなかった。
でスチレンモノマ−に適応したところ、流動性状にほと
んど変化なく、ゲルの形成も認められなかった。
【００２５】実施例３ 窒素雰囲気下で２７０℃の１０×２０×４cmステンレス
バットに、ゲルオールＭＤ結晶粉末１０ｇを投入して、
ゲルオールＭＤの溶融体とした。次に、２００℃の窒素
雰囲気下の恒温室にバットを移動し、２０分間保持した
後、室温に戻した。クスニコル下での光学顕微鏡観察の
結果、図３に示す顕微鏡写真の如く繊維状の結晶形態が
生成していることが確認された。
バットに、ゲルオールＭＤ結晶粉末１０ｇを投入して、
ゲルオールＭＤの溶融体とした。次に、２００℃の窒素
雰囲気下の恒温室にバットを移動し、２０分間保持した
後、室温に戻した。クスニコル下での光学顕微鏡観察の
結果、図３に示す顕微鏡写真の如く繊維状の結晶形態が
生成していることが確認された。
【００２６】
【発明の効果】本発明に係る方法により得られる繊維状
結晶のジアセタール化合物は、作業性に優れ、常温分散
型の流動性改質剤や結晶性高分子の良好な分散性核剤と
して各種分野において幅広く適用することができる。
結晶のジアセタール化合物は、作業性に優れ、常温分散
型の流動性改質剤や結晶性高分子の良好な分散性核剤と
して各種分野において幅広く適用することができる。
【図１】実施例１で得られた繊維状結晶ＤＢＳのクルス
ニコル下での光学顕微鏡写真である。
ニコル下での光学顕微鏡写真である。
【図２】実施例２で得られた繊維状結晶のメチル置換Ｄ
ＢＳのクルスニコル下での光学顕微鏡写真である。
ＢＳのクルスニコル下での光学顕微鏡写真である。
【図３】実施例３で得られた繊維状結晶のメチル置換Ｄ
ＢＳのクルスニコル下での光学顕微鏡写真である。
ＢＳのクルスニコル下での光学顕微鏡写真である。
Claims (3)
- 【請求項１】 一般式（Ｉ）で表され、繊維状の結晶形
態を有し、断面の直径が２０００オングストローム〜１
０ミクロンであることを特徴とするジアセタール化合
物。 【化１】 ［式中、Ｒ１、Ｒ２は、同一又は異なって、水素原子、
炭素数１〜４のアルキル基を示し、ｍ、ｎは１〜５の整
数を示す。ｐは０又は１を示す。］ - 【請求項２】 結晶粉末状のジアセタール化合物を１２
０〜２５０℃で加熱して結晶形態を転移せしめることを
特徴とする請求項１に記載のジアセタール化合物の製造
方法。 - 【請求項３】 溶融ジアセタール化合物の過冷却物を１
２０〜２５０℃で保持して結晶化せしめることを特徴と
する請求項１に記載のジアセタール化合物の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP03299774A JP3099471B2 (ja) | 1991-10-18 | 1991-10-18 | 繊維状のジアセタール化合物及びその製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP03299774A JP3099471B2 (ja) | 1991-10-18 | 1991-10-18 | 繊維状のジアセタール化合物及びその製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH07149766A JPH07149766A (ja) | 1995-06-13 |
| JP3099471B2 true JP3099471B2 (ja) | 2000-10-16 |
Family
ID=17876797
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP03299774A Expired - Fee Related JP3099471B2 (ja) | 1991-10-18 | 1991-10-18 | 繊維状のジアセタール化合物及びその製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3099471B2 (ja) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| PL1765843T3 (pl) * | 2004-07-09 | 2017-01-31 | Basf Se | Sposób wytwarzania sproszkowanej kompozycji acetalu alditolu |
-
1991
- 1991-10-18 JP JP03299774A patent/JP3099471B2/ja not_active Expired - Fee Related
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| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH07149766A (ja) | 1995-06-13 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |