JP3087171B2 - しいたけ菌床の発生方法 - Google Patents
しいたけ菌床の発生方法Info
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Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、しいたけ菌床栽培
の培養完了後の発生工程において、菌床を損傷させるこ
となく、優良品質のきのこを菌床の上面から継続的に発
生させるしいたけ菌床の発生方法に関する。
の培養完了後の発生工程において、菌床を損傷させるこ
となく、優良品質のきのこを菌床の上面から継続的に発
生させるしいたけ菌床の発生方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】これまでの常法である菌床を裸にして全
面を露出させる発生方法においては、きのこの発生を促
す２通りの方式があり、いずれかの方法が採用されてい
る。第一の方式は、菌床が乾燥しないよう毎日１〜３時
間程度、多量に連続して散水を行い、きのこが発生して
くるのを待つという方式で「散水方式」と呼ばれてい
る。この場合には、きのこが長時間に亙り少しずつ発生
する分散的な発生となる。この散水方式には、散水する
ための大量の水が必要なこと、毎日の散水のため、発生
してくるきのこが、９５％というような水分の多いきの
ことなり、日持ちが悪いという品質上の問題点がある。
面を露出させる発生方法においては、きのこの発生を促
す２通りの方式があり、いずれかの方法が採用されてい
る。第一の方式は、菌床が乾燥しないよう毎日１〜３時
間程度、多量に連続して散水を行い、きのこが発生して
くるのを待つという方式で「散水方式」と呼ばれてい
る。この場合には、きのこが長時間に亙り少しずつ発生
する分散的な発生となる。この散水方式には、散水する
ための大量の水が必要なこと、毎日の散水のため、発生
してくるきのこが、９５％というような水分の多いきの
ことなり、日持ちが悪いという品質上の問題点がある。
【０００３】第二の方式は、原木栽培と同様に菌床を浸
水することにより、菌床への水の補給と水温による低温
刺激を与えて、きのこの発生を促す方式で「浸水方式」
と呼ばれ、２０日〜３０日に１回程度浸水を繰り返す。
この場合には刺激により集中的な発生となる。この浸水
方式では、水分が８５％〜９０％の優良な品質のきのこ
の生長収穫ができるが、裸にした菌床の水分管理が難し
く、一般に乾燥し過ぎて次回の発生が不良となること、
さらに浸水時の窒息で菌床の活力が低下して菌床の寿命
が短くなり、一代の発生量が少ないという問題点があ
る。
水することにより、菌床への水の補給と水温による低温
刺激を与えて、きのこの発生を促す方式で「浸水方式」
と呼ばれ、２０日〜３０日に１回程度浸水を繰り返す。
この場合には刺激により集中的な発生となる。この浸水
方式では、水分が８５％〜９０％の優良な品質のきのこ
の生長収穫ができるが、裸にした菌床の水分管理が難し
く、一般に乾燥し過ぎて次回の発生が不良となること、
さらに浸水時の窒息で菌床の活力が低下して菌床の寿命
が短くなり、一代の発生量が少ないという問題点があ
る。
【０００４】そしてこれらいずれの方式においても、菌
床の全面からきのこが発生するので、側面から発生する
きのこが互いに接触して変形が起こるのを防ぐため、発
生室における菌床の配置の仕方は、菌床どうしの間隔を
数cm〜１０cm程度開けて並べる方法が一般に行われてい
る。このため発生室の収容密度が低く、広い面積の発生
室が必要となるという問題点がある。
床の全面からきのこが発生するので、側面から発生する
きのこが互いに接触して変形が起こるのを防ぐため、発
生室における菌床の配置の仕方は、菌床どうしの間隔を
数cm〜１０cm程度開けて並べる方法が一般に行われてい
る。このため発生室の収容密度が低く、広い面積の発生
室が必要となるという問題点がある。
【０００５】菌床の全面から発生するのを抑制する技術
として、特開昭６３−２７６４２１が提案されている。
この方法は、合成樹脂製袋を栽培容器として長円柱状に
菌床を成形し、上部中央には浅い穴を設けることで、菌
床上部を早く完熟させ、発生工程では菌床の上面を露出
させ、当該露出面からのみきのこを生長収穫する。この
方法によると、中下段の部分は穴がないので熟成が遅れ
て未熟の状態にあり、菌床上部以外の部分からはきのこ
の発生を抑制することができる。
として、特開昭６３−２７６４２１が提案されている。
この方法は、合成樹脂製袋を栽培容器として長円柱状に
菌床を成形し、上部中央には浅い穴を設けることで、菌
床上部を早く完熟させ、発生工程では菌床の上面を露出
させ、当該露出面からのみきのこを生長収穫する。この
方法によると、中下段の部分は穴がないので熟成が遅れ
て未熟の状態にあり、菌床上部以外の部分からはきのこ
の発生を抑制することができる。
【０００６】しかし、１番〜２番発生では熟成の進んだ
菌床上部からきのこが発生するが、やがて下部も熟成し
てくるようになり、培地の分解により菌床側面と袋の間
に隙間ができ、この隙間のできた部分に原基が形成さ
れ、３番以降の発生では側面にもきのこが発生してくる
ようになる。従って、３番発生以降の管理は側面の袋を
取り除いて管理することが必要となり、菌床の全面を露
出して発生管理するのと同様の問題がおこる。また、こ
の方法は菌床の形状が長円柱状に限定されるのに対し、
最近、大きいきのこが発生しやすいように大きい菌床
（培地重量が２．５kg〜３kg程度）を使い、更に収容密
度を高めるため角型の菌床が多く採用されており、この
角型の菌床では仕込み時から菌床側面と袋の間に隙間が
できており、１番発生から菌床側面にきのこが発生す
る。即ち、菌床上面のみからの発生が継続せず、また角
型の菌床には不適なため、一般には採用されるに至って
いない。
菌床上部からきのこが発生するが、やがて下部も熟成し
てくるようになり、培地の分解により菌床側面と袋の間
に隙間ができ、この隙間のできた部分に原基が形成さ
れ、３番以降の発生では側面にもきのこが発生してくる
ようになる。従って、３番発生以降の管理は側面の袋を
取り除いて管理することが必要となり、菌床の全面を露
出して発生管理するのと同様の問題がおこる。また、こ
の方法は菌床の形状が長円柱状に限定されるのに対し、
最近、大きいきのこが発生しやすいように大きい菌床
（培地重量が２．５kg〜３kg程度）を使い、更に収容密
度を高めるため角型の菌床が多く採用されており、この
角型の菌床では仕込み時から菌床側面と袋の間に隙間が
できており、１番発生から菌床側面にきのこが発生す
る。即ち、菌床上面のみからの発生が継続せず、また角
型の菌床には不適なため、一般には採用されるに至って
いない。
【０００７】このように現時点では、幾多の問題点を抱
えながらも、菌床の全面露出による方法が広く行われて
いる実情にある。
えながらも、菌床の全面露出による方法が広く行われて
いる実情にある。
【０００８】
【発明が解決しようとする課題】本発明は従来のかかる
問題点を解消するためになされたもので、円柱状及び角
型を問わずどんな形状の菌床であっても、簡易な方法に
より、上面のみを露出させた菌床の水分を適正に保持し
て、優良な品質のきのこが上面からのみ継続的に発生す
るしいたけ菌床の発生方法を提供する。
問題点を解消するためになされたもので、円柱状及び角
型を問わずどんな形状の菌床であっても、簡易な方法に
より、上面のみを露出させた菌床の水分を適正に保持し
て、優良な品質のきのこが上面からのみ継続的に発生す
るしいたけ菌床の発生方法を提供する。
【０００９】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するた
め、本発明は、しいたけ菌床栽培の培養完了後の発生工
程において、栽培容器の上部を取除いて菌床上面のみを
露出させ、その他の部分は菌床側面及び底面部分との間
に若干の隙間を保持させて栽培容器として残し、その隙
間に注水することで菌床側面及び底面からのきのこの発
生を抑制し、菌床上面からのみ発生させることを特徴と
するしいたけ菌床の発生方法である。
め、本発明は、しいたけ菌床栽培の培養完了後の発生工
程において、栽培容器の上部を取除いて菌床上面のみを
露出させ、その他の部分は菌床側面及び底面部分との間
に若干の隙間を保持させて栽培容器として残し、その隙
間に注水することで菌床側面及び底面からのきのこの発
生を抑制し、菌床上面からのみ発生させることを特徴と
するしいたけ菌床の発生方法である。
【００１０】また上記構成において、栽培容器の上部を
取除いて菌床上面のみを露出させたうえ、その 栽培容
器の上縁部を外側から伸縮体で軽く絞ることにより菌床
側面と前記上縁部内壁との空間を狭くして成るしいたけ
菌床の発生方法である。
取除いて菌床上面のみを露出させたうえ、その 栽培容
器の上縁部を外側から伸縮体で軽く絞ることにより菌床
側面と前記上縁部内壁との空間を狭くして成るしいたけ
菌床の発生方法である。
【００１１】また上記各構成において、培養完了前の少
なくとも３日間乃至発生工程に入った直後の少なくとも
５日間の期間を２３℃〜３０℃の温度帯で管理して菌床
上面の露出時に加わる開放刺激によるきのこの発生を抑
制し、その後随時に１０℃〜２０℃の温度に下げること
で、菌床上面からのみ効果的に発生させるしいたけ菌床
の発生方法である。
なくとも３日間乃至発生工程に入った直後の少なくとも
５日間の期間を２３℃〜３０℃の温度帯で管理して菌床
上面の露出時に加わる開放刺激によるきのこの発生を抑
制し、その後随時に１０℃〜２０℃の温度に下げること
で、菌床上面からのみ効果的に発生させるしいたけ菌床
の発生方法である。
【００１２】さらに上記各構成において栽培容器の下部
に排水小孔を開設し、菌床側面及び底面と栽培容器の隙
間に注水した水の自然減量による空気の送込みと完全排
水後の補給注水による水の送込みを間断に繰り返すこと
で、菌床全面の活性化を図り、継続的なきのこの発生を
促すしいたけ菌床の発生方法である。
に排水小孔を開設し、菌床側面及び底面と栽培容器の隙
間に注水した水の自然減量による空気の送込みと完全排
水後の補給注水による水の送込みを間断に繰り返すこと
で、菌床全面の活性化を図り、継続的なきのこの発生を
促すしいたけ菌床の発生方法である。
【００１３】
（その１）第１図に示すような菌床１０を用意した。こ
の菌床１０は栽培容器にポリプロピレン製袋にフィルタ
−が装着された栽培袋を使用し、横２０cm縦１２cm高さ
１７cm重量約２７００gの角型に培地を成形し、常法に
より殺菌、冷却、接種を行った。種菌は北研６００号を
使用した。培養は２０℃±１℃で１００日間管理し、１
５℃の環境で栽培袋上面を切り取り、第３図に示すよう
に菌床同士の設置間隔を１cmとり、菌床側面と栽培袋フ
ィルムの隙間に注水した後散水を３日に１回としてきの
この発生を行った。
の菌床１０は栽培容器にポリプロピレン製袋にフィルタ
−が装着された栽培袋を使用し、横２０cm縦１２cm高さ
１７cm重量約２７００gの角型に培地を成形し、常法に
より殺菌、冷却、接種を行った。種菌は北研６００号を
使用した。培養は２０℃±１℃で１００日間管理し、１
５℃の環境で栽培袋上面を切り取り、第３図に示すよう
に菌床同士の設置間隔を１cmとり、菌床側面と栽培袋フ
ィルムの隙間に注水した後散水を３日に１回としてきの
この発生を行った。
【００１４】（その２）（その１）と同様の菌床を、培
養は２０℃±１℃で８０日間管理し、８１日目から８５
日目までを２５℃とした。２５℃の環境で栽培袋上面を
切り取り、図２に示すように菌床同士の設置間隔を１cm
として菌床側面と栽培袋フィルムの隙間に注水し、１日
に１回の散水をしながら１５日間管理をして、２０℃と
２５℃の管理期間を合わせて１００日間とした。その後
温度を１５℃に低下させて、散水を３日に１回としてき
のこの発生を行った。
養は２０℃±１℃で８０日間管理し、８１日目から８５
日目までを２５℃とした。２５℃の環境で栽培袋上面を
切り取り、図２に示すように菌床同士の設置間隔を１cm
として菌床側面と栽培袋フィルムの隙間に注水し、１日
に１回の散水をしながら１５日間管理をして、２０℃と
２５℃の管理期間を合わせて１００日間とした。その後
温度を１５℃に低下させて、散水を３日に１回としてき
のこの発生を行った。
【００１５】（その３）栽培袋上面切り取り時にあわせ
てふくろ低部に小孔を開けて他の環境は（その２）と同
様に管理し、きのこの発生を行った。
てふくろ低部に小孔を開けて他の環境は（その２）と同
様に管理し、きのこの発生を行った。
【００１６】（その４）栽培袋上部切取り時にあわせて
上部切取り済みである栽培袋の上縁部を外側より弱い伸
縮率の輪ゴムで軽く絞り、その他の環境は（その３）と
同様に管理し、きのこを発生させた。輪ゴムによる上縁
部の絞り込みにより菌床側面と前記上縁部内壁との空間
がより狭くなる結果、栽培容器内の乾燥が有効に防止さ
れ、菌床全面の活性化が助長されて継続的なきのこの発
生が促される。
上部切取り済みである栽培袋の上縁部を外側より弱い伸
縮率の輪ゴムで軽く絞り、その他の環境は（その３）と
同様に管理し、きのこを発生させた。輪ゴムによる上縁
部の絞り込みにより菌床側面と前記上縁部内壁との空間
がより狭くなる結果、栽培容器内の乾燥が有効に防止さ
れ、菌床全面の活性化が助長されて継続的なきのこの発
生が促される。
【００１７】（対照例）菌床を２０℃±１℃で１００日
間培養し、栽培袋全部を取り除き、菌床同士の間隔を１
０cm空けて設置した。その後の温度を１５℃に低下させ
て、第１回目のきのこ発生及び収穫の後、３時間程度の
浸水管理を行って第２回目以降のきのこの発生を行っ
た。
間培養し、栽培袋全部を取り除き、菌床同士の間隔を１
０cm空けて設置した。その後の温度を１５℃に低下させ
て、第１回目のきのこ発生及び収穫の後、３時間程度の
浸水管理を行って第２回目以降のきのこの発生を行っ
た。
【００１８】その結果を下記の表１に示す。
【００１９】
【表１】 試験数 １菌床１世代当りの芽数 きのこの １菌床の 上面 側面 底面 合計 平均個重 平均発生量 （その１） 1000 ４１ ８ ０ ４９ ２４ｇ 1176ｇ （その２） 1000 ４７ １ ０ ４８ ２４ｇ 1152ｇ （その３） 1000 ５５ １ ０ ５６ ２３ｇ 1288ｇ （その４） 1000 ５８ ０ ０ ５８ ２３ｇ 1334ｇ 対照例 1000 １３ ６８ １１ ９２ １２ｇ 1104ｇ
【００２０】上記の結果から明らかなように、各実施の
形態は対照例に比べ大幅に菌床上面からの発生芽数が多
く、比率も高い。また、実施態様の比較では、その１＜
その２＜その３の順に菌床上面からのきのこの発生率が
高くなっている。さらに、きのこの平均個重が対照例１
２ｇに比較して実施の態様は２３〜２４ｇと約２倍の重
さでボリュ−ムのある良品質のきのこが多く、収穫の手
間が少なく高単価で販売できるため収益性が非常に良い
ことを示しており、きのこの総重量も多い。
形態は対照例に比べ大幅に菌床上面からの発生芽数が多
く、比率も高い。また、実施態様の比較では、その１＜
その２＜その３の順に菌床上面からのきのこの発生率が
高くなっている。さらに、きのこの平均個重が対照例１
２ｇに比較して実施の態様は２３〜２４ｇと約２倍の重
さでボリュ−ムのある良品質のきのこが多く、収穫の手
間が少なく高単価で販売できるため収益性が非常に良い
ことを示しており、きのこの総重量も多い。
【００２１】
（その５）前記の各実施の態様は、栽培環境を空調によ
ってコントロ−ルした場合を示したが、自然栽培にも応
用が可能である。その１と同様の菌床１０を冬〜春にか
けて準備し、自然環境において培養を行い、夏場の２５
℃を超える高温時期に栽培袋の上部分を切り取り、袋の
底部分に小孔を開けて散水管理を行った。散水は１日に
１回の割合で、菌床側面と袋フィルムの間に水が溜まる
程度に行い、溜まった水は、底部分の小孔から数分間で
排出された。上記のような管理を行いながら秋期の気温
の低下を持つと、最低温度が１５℃を下回るころから、
菌床上面のみからきのこの発生が確認された。また、対
照区として高温時期に袋をすべて取り去り、菌床を裸の
状態で散水管理を行ってきたものは、発生時期は同様で
あったが、きのこの発生は菌床の全面から行われた。
ってコントロ−ルした場合を示したが、自然栽培にも応
用が可能である。その１と同様の菌床１０を冬〜春にか
けて準備し、自然環境において培養を行い、夏場の２５
℃を超える高温時期に栽培袋の上部分を切り取り、袋の
底部分に小孔を開けて散水管理を行った。散水は１日に
１回の割合で、菌床側面と袋フィルムの間に水が溜まる
程度に行い、溜まった水は、底部分の小孔から数分間で
排出された。上記のような管理を行いながら秋期の気温
の低下を持つと、最低温度が１５℃を下回るころから、
菌床上面のみからきのこの発生が確認された。また、対
照区として高温時期に袋をすべて取り去り、菌床を裸の
状態で散水管理を行ってきたものは、発生時期は同様で
あったが、きのこの発生は菌床の全面から行われた。
【００２２】その結果を下記の表２に示す。
【００２３】
【表２】 試験数 １菌床１世代当りの芽数 きのこの １菌床の 上面 側面 底面 合計 平均個重 平均発生量 （その５） 1000 ５６ ４ ０ ６０ ２２ｇ 1320ｇ 対照例 1000 ５ ６６ １３ ８４ １５ｇ 1260ｇ
【００２４】対照例に比べ大幅に菌床上面からの発生芽
数が多く、比率も高い。また、きのこの平均個重も対照
例に比較して重くボリュ−ムのある良品質のきのこが採
れている。
数が多く、比率も高い。また、きのこの平均個重も対照
例に比較して重くボリュ−ムのある良品質のきのこが採
れている。
【００２５】本発明は、以上のように構成されているの
で、露出した菌床の上面は新鮮な空気に触れて、上部表
面に準備されていた原基は適正な環境で、きのこへと生
長し、側面及び底面の原基は、菌床側面と袋の隙間に注
水して水と接触させることでその生長活動を抑制するも
のである。なお、栽培容器の上部を取除いて菌床上面の
みを露出させたうえ、その 栽培容器の上縁部を外側か
ら伸縮体で軽く絞ることにより菌床側面と前記上縁部内
壁との空間を狭くした
で、露出した菌床の上面は新鮮な空気に触れて、上部表
面に準備されていた原基は適正な環境で、きのこへと生
長し、側面及び底面の原基は、菌床側面と袋の隙間に注
水して水と接触させることでその生長活動を抑制するも
のである。なお、栽培容器の上部を取除いて菌床上面の
みを露出させたうえ、その 栽培容器の上縁部を外側か
ら伸縮体で軽く絞ることにより菌床側面と前記上縁部内
壁との空間を狭くした
【００２６】菌床の側面及び底面が余りにも長時間に亘
って水と接触していると、部分的に水分過多となるの
で、栽培容器の下部に排水用の小孔から水が抜けること
により空気に入替わる状態を間断に繰り返すことが容易
にできる。また、余分な水は排水用の小孔から速やかに
抜けるので、菌床の上から直接散水するという簡易な方
法で側面と栽培容器の隙間へ注水ができる。散水も隙間
が一時的に満水となる程度で充分なので、多量の水は、
必要としない。菌床側面が栽培容器に包まれていること
で容易に水分が保持できて過乾燥になることがなく、側
面隙間の水と空気の交互の入替えによりしいたけ菌糸は
健康に活動し、菌床内の水分状態は適正に保たれて寿命
が長くなり、菌床上面から継続してきのこを発生するの
に効果的である。
って水と接触していると、部分的に水分過多となるの
で、栽培容器の下部に排水用の小孔から水が抜けること
により空気に入替わる状態を間断に繰り返すことが容易
にできる。また、余分な水は排水用の小孔から速やかに
抜けるので、菌床の上から直接散水するという簡易な方
法で側面と栽培容器の隙間へ注水ができる。散水も隙間
が一時的に満水となる程度で充分なので、多量の水は、
必要としない。菌床側面が栽培容器に包まれていること
で容易に水分が保持できて過乾燥になることがなく、側
面隙間の水と空気の交互の入替えによりしいたけ菌糸は
健康に活動し、菌床内の水分状態は適正に保たれて寿命
が長くなり、菌床上面から継続してきのこを発生するの
に効果的である。
【００２７】このように栽培容器の一部を取り除いて菌
床上面を露出させることは、側面にある原基にも刺激を
加えることであり、一方、菌床側面と容器の隙間への注
水はこの部分の原基の生長を抑制することであり、抑制
力が刺激より強いことが必要となる。例えば、菌床の移
動後に露出させる場合、移動方法によっては強い振動の
刺激が加わり、きのこが発生してくる可能性が高まる。
そこで抑制をより確実にするために、培養完了の少なく
とも３日前から２３℃〜３５℃の温度帯で管理し、その
後、栽培容器の一部を取り除いて菌床上面を露出させ、
菌床側面と容器の隙間に注水する作業を行い、その後も
続けて３日間以上２３℃〜３５℃の温度帯で管理するこ
とによりきのこが発生しにくい温度条件下に置き、菌床
上面を露出させたときに加わる一時的な開放刺激による
きのこの発生を避けることができ、その後発生させたい
時点で１０℃〜２０℃の温度に下げることで、上面から
のみ効果的に発生させることができる。
床上面を露出させることは、側面にある原基にも刺激を
加えることであり、一方、菌床側面と容器の隙間への注
水はこの部分の原基の生長を抑制することであり、抑制
力が刺激より強いことが必要となる。例えば、菌床の移
動後に露出させる場合、移動方法によっては強い振動の
刺激が加わり、きのこが発生してくる可能性が高まる。
そこで抑制をより確実にするために、培養完了の少なく
とも３日前から２３℃〜３５℃の温度帯で管理し、その
後、栽培容器の一部を取り除いて菌床上面を露出させ、
菌床側面と容器の隙間に注水する作業を行い、その後も
続けて３日間以上２３℃〜３５℃の温度帯で管理するこ
とによりきのこが発生しにくい温度条件下に置き、菌床
上面を露出させたときに加わる一時的な開放刺激による
きのこの発生を避けることができ、その後発生させたい
時点で１０℃〜２０℃の温度に下げることで、上面から
のみ効果的に発生させることができる。
【図１】本発明方法の手順を示す模式図。
【図２】本発明方法を実施した場合の発生室における栽
培容器の配置状態を示す略図的側面図。
培容器の配置状態を示す略図的側面図。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 高野 茂雄 栃木県下都賀郡壬生町駅東町７番３号株 式会社北研内 (72)発明者 小野寺 勝昭 岩手県胆沢郡胆沢町若柳字愛宕517 (56)参考文献 特開 昭63−276421（ＪＰ，Ａ) 特開 平３−112417（ＪＰ，Ａ) (58)調査した分野(Int.Cl.7，ＤＢ名) A01G 1/04
Claims (4)
- 【請求項１】 しいたけ菌床栽培の培養完了後の発生工
程において、栽培容器の上部を取除いて菌床上面のみを
露出させ、その他の部分は菌床側面及び底面部分との間
に若干の隙間を保持させて栽培容器として残し、その隙
間に注水することで菌床側面及び底面からのきのこの発
生を抑制し、菌床上面からのみ発生させることを特徴と
するしいたけ菌床の発生方法。 - 【請求項２】 栽培容器の上部を取除いて菌床上面のみ
を露出させたうえ、その栽培容器の上縁部を外側から伸
縮体で軽く絞ることにより菌床側面と前記上縁部内壁と
の空間を狭くした請求項１記載のしいたけ菌床の発生方
法。 - 【請求項３】 培養完了前の少なくとも３日間及び／又
は発生工程管理後の少なくとも３日間の期間を２３℃〜
３５℃の温度帯で管理して菌床上面の露出時に加わる開
放刺激によるきのこの発生を抑制し、その後随時に１０
℃〜２０℃の温度に下げることで、菌床上面からのみ効
果的に発生させる請求項１又は２記載のしいたけ菌床の
発生方法。 - 【請求項４】 栽培容器の下部に排水小孔を開設し、菌
床側面及び底面と栽培容器の隙間に注水した水の自然減
量による空気の送込みと完全排水後の補給注水による水
の送込みを間断に繰り返すことで、菌床全面の活性化を
図り、継続的なきのこの発生を促す請求項１ないし３の
うちいずれか一項記載のしいたけ菌床の発生方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP09290387A JP3087171B2 (ja) | 1997-01-31 | 1997-10-06 | しいたけ菌床の発生方法 |
Applications Claiming Priority (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9-33174 | 1997-01-31 | ||
| JP3317497 | 1997-01-31 | ||
| JP09290387A JP3087171B2 (ja) | 1997-01-31 | 1997-10-06 | しいたけ菌床の発生方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH10271913A JPH10271913A (ja) | 1998-10-13 |
| JP3087171B2 true JP3087171B2 (ja) | 2000-09-11 |
Family
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