JP3085875B2 - 光学面の形成方法 - Google Patents
光学面の形成方法Info
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- JP3085875B2 JP3085875B2 JP07083604A JP8360495A JP3085875B2 JP 3085875 B2 JP3085875 B2 JP 3085875B2 JP 07083604 A JP07083604 A JP 07083604A JP 8360495 A JP8360495 A JP 8360495A JP 3085875 B2 JP3085875 B2 JP 3085875B2
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- lens
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Description
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は光学面の形成方法に関
し、詳しくは、高性能の光学レンズを必要とする応用分
野〔カメラ、計測装置、レーザプリンタ等〕や大口径の
光学素子を必要とするプロジェクタ、大型レーザ装置及
びリソグラフィー装置に必要とされるレンズ、ミラー等
を高精度で製作する光学面の形成方法に関する。
し、詳しくは、高性能の光学レンズを必要とする応用分
野〔カメラ、計測装置、レーザプリンタ等〕や大口径の
光学素子を必要とするプロジェクタ、大型レーザ装置及
びリソグラフィー装置に必要とされるレンズ、ミラー等
を高精度で製作する光学面の形成方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】例えば、精密加工用レーザ装置などで
は、微小なスポットにレーザを集光させるために高精度
の光学レンズや反射ミラー等が必要である。一般に、こ
の種の光学素子〔以下、光学レンズと称す〕は、光学ガ
ラスで組成されるものと、光学プラスチックで組成され
るものとに大別される。
は、微小なスポットにレーザを集光させるために高精度
の光学レンズや反射ミラー等が必要である。一般に、こ
の種の光学素子〔以下、光学レンズと称す〕は、光学ガ
ラスで組成されるものと、光学プラスチックで組成され
るものとに大別される。
【０００３】これらいずれか一方で組成される光学レン
ズでは、その光学面〔以下、レンズ面と称す〕の形状
が、レーザ光の集光特性に大きく影響する。即ち、前記
光学レンズに入射するレーザが平行波面を具備していた
としても、その光学レンズが波面収差を有している場
合、レーザ光の集光スポット径が増大し、結果として集
光強度が低下する。
ズでは、その光学面〔以下、レンズ面と称す〕の形状
が、レーザ光の集光特性に大きく影響する。即ち、前記
光学レンズに入射するレーザが平行波面を具備していた
としても、その光学レンズが波面収差を有している場
合、レーザ光の集光スポット径が増大し、結果として集
光強度が低下する。
【０００４】そのため、上述した光学レンズでは、ポイ
ントに集光したレーザが最小のスポット径を持つような
レンズ面を形成する必要がある。そこで、このレンズ面
の形成は、以下のような非球面加工により行なわれてい
るのが現状である。光学プラスチックを組成とする光学
レンズでは、例えば、切削加工したり、金型内成形する
ことにより非球面加工を行い、また、光学ガラスを組成
とする光学レンズでは、研磨加工したり、ガラスの溶融
プレス加工することにより非球面加工を行なっている。
ントに集光したレーザが最小のスポット径を持つような
レンズ面を形成する必要がある。そこで、このレンズ面
の形成は、以下のような非球面加工により行なわれてい
るのが現状である。光学プラスチックを組成とする光学
レンズでは、例えば、切削加工したり、金型内成形する
ことにより非球面加工を行い、また、光学ガラスを組成
とする光学レンズでは、研磨加工したり、ガラスの溶融
プレス加工することにより非球面加工を行なっている。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】ところで、光学プラス
チックのみを組成とする光学レンズでは、前述した高精
度な非球面加工を行なうことが容易である反面、その非
球面加工における光学歪みが大きく、また、温度変化に
よりその焦点距離が変動すると共に熱膨張による影響も
大きく、更に、経時的な変化により水分の吸収で屈折率
が変化して焦点距離が変動する問題があり、好適なもの
ではなかった。
チックのみを組成とする光学レンズでは、前述した高精
度な非球面加工を行なうことが容易である反面、その非
球面加工における光学歪みが大きく、また、温度変化に
よりその焦点距離が変動すると共に熱膨張による影響も
大きく、更に、経時的な変化により水分の吸収で屈折率
が変化して焦点距離が変動する問題があり、好適なもの
ではなかった。
【０００６】これに対して、光学ガラスのみを組成とす
る光学レンズでは、非球面加工における光学歪みが小さ
く、温度変化及び熱膨張による影響や経時的な変化も少
なくて好適であるが、非球面加工自体が非常に困難であ
った。即ち、作業者の熟練度を必要とし、加工ごとにそ
の表面状態を検査するという作業を繰り返さなければな
らず、前記熟練度を必要とする上に加工作業に時間がか
かり、いずれにしても高精度の非球面加工を実現するこ
とが困難であった。
る光学レンズでは、非球面加工における光学歪みが小さ
く、温度変化及び熱膨張による影響や経時的な変化も少
なくて好適であるが、非球面加工自体が非常に困難であ
った。即ち、作業者の熟練度を必要とし、加工ごとにそ
の表面状態を検査するという作業を繰り返さなければな
らず、前記熟練度を必要とする上に加工作業に時間がか
かり、いずれにしても高精度の非球面加工を実現するこ
とが困難であった。
【０００７】そこで、本発明は上記問題点に鑑みて提案
されたもので、その目的とするところは、光学ガラスと
光学プラスチックの両者の欠点を相殺し、高精度な非球
面加工を実現し得るレンズ面の形成方法を提供すること
にある。
されたもので、その目的とするところは、光学ガラスと
光学プラスチックの両者の欠点を相殺し、高精度な非球
面加工を実現し得るレンズ面の形成方法を提供すること
にある。
【０００８】
【０００９】
【課題を解決するための手段】 上記目的を達成するため
の技術的手段として 、本発明方法は、光学ガラスからな
る母体の表面に光学素子用樹脂をコーティングした光学
面、或いは、光学ガラス又は石英ガラスからなる母体の
光学面の透過波面又は反射波面をモニタリングしなが
ら、そのモニタリング情報に基づいて前記光学面を短波
長紫外線ビームの照射により非接触でエッチングして最
適な透過波面又は反射波面となる形状に加工するように
したことを特徴とする。
の技術的手段として 、本発明方法は、光学ガラスからな
る母体の表面に光学素子用樹脂をコーティングした光学
面、或いは、光学ガラス又は石英ガラスからなる母体の
光学面の透過波面又は反射波面をモニタリングしなが
ら、そのモニタリング情報に基づいて前記光学面を短波
長紫外線ビームの照射により非接触でエッチングして最
適な透過波面又は反射波面となる形状に加工するように
したことを特徴とする。
【００１０】
【作用】本発明に係るレンズ面の形成方法では、光学ガ
ラスからなる母体の表面に光学素子用樹脂をコーティン
グした光学面、また、光学ガラス又は石英ガラスからな
る母体の光学面を被加工対象とするため、光学ガラスが
有する長所として、非球面加工における光学歪みが小さ
くて光学的特性が良好である。また、光学素子用樹脂を
コーティングした光学面の場合、その光学素子用樹脂が
有する長所として、高精度な非球面加工が実現容易とな
る。
ラスからなる母体の表面に光学素子用樹脂をコーティン
グした光学面、また、光学ガラス又は石英ガラスからな
る母体の光学面を被加工対象とするため、光学ガラスが
有する長所として、非球面加工における光学歪みが小さ
くて光学的特性が良好である。また、光学素子用樹脂を
コーティングした光学面の場合、その光学素子用樹脂が
有する長所として、高精度な非球面加工が実現容易とな
る。
【００１１】また、光学面の透過波面又は反射波面をモ
ニタリングしながら、そのモニタリング情報に基づいて
前記光学面を短波長紫外線ビームの照射により非接触で
エッチングすることにより、最適な透過波面又は反射波
面をリアルタイムで目標として設定することができ、更
に、短波長紫外線ビームが有する長所として、エッチン
グ後の表面がスムーズな加工を実現できて微細な表面加
工を可能とする。
ニタリングしながら、そのモニタリング情報に基づいて
前記光学面を短波長紫外線ビームの照射により非接触で
エッチングすることにより、最適な透過波面又は反射波
面をリアルタイムで目標として設定することができ、更
に、短波長紫外線ビームが有する長所として、エッチン
グ後の表面がスムーズな加工を実現できて微細な表面加
工を可能とする。
【００１２】
【実施例】本発明に係るレンズ面の形成方法の実施例を
図１乃至図４に示して説明する。尚、図１及び図２は光
学ガラスからなる母体の表面に光学素子用樹脂をコーテ
ィングした光学面についての実施例で、図３及び図４は
光学ガラス又は石英ガラスからなる母体の光学面につい
ての実施例である。また、図１及び図３は各実施例でレ
ンズ面の反射波面をモニタリングする場合で、図２及び
図４はレンズ面の透過波面をモニタリングする場合を示
す。
図１乃至図４に示して説明する。尚、図１及び図２は光
学ガラスからなる母体の表面に光学素子用樹脂をコーテ
ィングした光学面についての実施例で、図３及び図４は
光学ガラス又は石英ガラスからなる母体の光学面につい
ての実施例である。また、図１及び図３は各実施例でレ
ンズ面の反射波面をモニタリングする場合で、図２及び
図４はレンズ面の透過波面をモニタリングする場合を示
す。
【００１３】図１又は図３に示すように被加工対象物で
ある光学レンズ１を適宜の手段により位置決めした状態
で支持固定する。図１に示す光学レンズ１は、ＢＫ７等
の光学ガラスからなる母体２の表面に、ポリメタクリル
酸メチル（ＰＭＭＡ）やポリカーボネート等の光学素子
用樹脂３を例えばその膜厚が数ミクロンから数ミリ程度
となるようにコーティングしたものである。また、図３
に示す光学レンズ１’は、光学ガラス又は石英ガラスか
らなる母体２’そのものである。
ある光学レンズ１を適宜の手段により位置決めした状態
で支持固定する。図１に示す光学レンズ１は、ＢＫ７等
の光学ガラスからなる母体２の表面に、ポリメタクリル
酸メチル（ＰＭＭＡ）やポリカーボネート等の光学素子
用樹脂３を例えばその膜厚が数ミクロンから数ミリ程度
となるようにコーティングしたものである。また、図３
に示す光学レンズ１’は、光学ガラス又は石英ガラスか
らなる母体２’そのものである。
【００１４】前記光学レンズ１，１’の被加工面である
レンズ面４、４’と対向させて干渉計５を配置する。ま
た、光学レンズ１，１’の後方、即ち、干渉計５と反対
側にミラー６を光学レンズ１，１’と対向配置する。
レンズ面４、４’と対向させて干渉計５を配置する。ま
た、光学レンズ１，１’の後方、即ち、干渉計５と反対
側にミラー６を光学レンズ１，１’と対向配置する。
【００１５】前記干渉計５はコンピュータシステム７と
接続され、例えば赤色光〔６３３ｎｍ〕又は緑色光〔５
４３ｎｍ〕のＨｅ−Ｎｅレーザ等の光源を含む光学系及
びＣＣＤカメラを具備し、光源から発せられた測定レー
ザＳを光学レンズ１，１’の表面で反射させて干渉計に
内蔵している平面参照板からの反射光と干渉させてＣＣ
Ｄカメラで撮像する。このＣＣＤカメラからの撮像信号
をコンピュータシステム７で画像処理し、レンズ面４，
４’での反射波面をモニタリングする。このモニタリン
グは、コンピュータシステム７のディスプレイ装置に画
面表示することが可能である。
接続され、例えば赤色光〔６３３ｎｍ〕又は緑色光〔５
４３ｎｍ〕のＨｅ−Ｎｅレーザ等の光源を含む光学系及
びＣＣＤカメラを具備し、光源から発せられた測定レー
ザＳを光学レンズ１，１’の表面で反射させて干渉計に
内蔵している平面参照板からの反射光と干渉させてＣＣ
Ｄカメラで撮像する。このＣＣＤカメラからの撮像信号
をコンピュータシステム７で画像処理し、レンズ面４，
４’での反射波面をモニタリングする。このモニタリン
グは、コンピュータシステム７のディスプレイ装置に画
面表示することが可能である。
【００１６】一方、光学レンズ１，１’と干渉計５との
間にレーザ発振器８を配置し、その前方にミラー９を移
動可能に配置する。このレーザ発振器８は、例えば１１
０〜２２０ｎｍの短波長を有する紫外線レーザを光源と
するもので、その紫外線レーザとしては、図１に示すよ
うに光学素子用樹脂３をコーティングした場合には１９
３ｎｍの短波長のＡｒＦからなるエキシマレーザが好適
であり、また、図３に示すように石英ガラスの場合に
は、１５３ｎｍの短波長のフッ素レーザが好適であり、
その他水素レーザ等が使用可能である。尚、前記レーザ
発振器８以外にも、ＡｒＦ紫外線ランプ等の紫外線ラン
プを光源として紫外線ビームを照射する構造のものであ
っても使用可能である。また、空気中での吸収が大きい
真空紫外線光源を使用する場合には、系全体を容器の中
に設置し、Ａｒガス等でガス置換するか真空に排気して
使用する。
間にレーザ発振器８を配置し、その前方にミラー９を移
動可能に配置する。このレーザ発振器８は、例えば１１
０〜２２０ｎｍの短波長を有する紫外線レーザを光源と
するもので、その紫外線レーザとしては、図１に示すよ
うに光学素子用樹脂３をコーティングした場合には１９
３ｎｍの短波長のＡｒＦからなるエキシマレーザが好適
であり、また、図３に示すように石英ガラスの場合に
は、１５３ｎｍの短波長のフッ素レーザが好適であり、
その他水素レーザ等が使用可能である。尚、前記レーザ
発振器８以外にも、ＡｒＦ紫外線ランプ等の紫外線ラン
プを光源として紫外線ビームを照射する構造のものであ
っても使用可能である。また、空気中での吸収が大きい
真空紫外線光源を使用する場合には、系全体を容器の中
に設置し、Ａｒガス等でガス置換するか真空に排気して
使用する。
【００１７】また、前記ミラー９は、レンズ面４，４’
と干渉計５との対向面で二次元的にＸＹ移動可能なよう
に駆動源１０を具備し、その駆動源１０が前記コンピュ
ータシステム７に接続されて制御可能となっている。
と干渉計５との対向面で二次元的にＸＹ移動可能なよう
に駆動源１０を具備し、その駆動源１０が前記コンピュ
ータシステム７に接続されて制御可能となっている。
【００１８】本発明方法では、前記光学レンズ１，１’
のレンズ面４，４’の反射波面をモニタリングしなが
ら、そのモニタリング情報に基づいて前記レンズ面４，
４’を短波長紫外線レーザＬ，Ｌ’により非接触でエッ
チングして最適な反射波面となる形状に表面加工する。
具体的に、レンズ面４，４’の反射波面のモニタリング
は、前記レンズ面４，４’と対向する干渉計５によりコ
ンピュータシステム７でもって行なわれる。また、レン
ズ面４，４’の表面加工は、レーザ発振器８から発せら
れた短波長紫外線レーザＬ，Ｌ’をミラー９で反射させ
てレンズ面４，４’に照射することにより行なわれ、前
記ミラー９を駆動源１０によりＸＹ方向に任意に移動さ
せることによってレンズ面全体に前記短波長紫外線レー
ザＬを照射可能とする。
のレンズ面４，４’の反射波面をモニタリングしなが
ら、そのモニタリング情報に基づいて前記レンズ面４，
４’を短波長紫外線レーザＬ，Ｌ’により非接触でエッ
チングして最適な反射波面となる形状に表面加工する。
具体的に、レンズ面４，４’の反射波面のモニタリング
は、前記レンズ面４，４’と対向する干渉計５によりコ
ンピュータシステム７でもって行なわれる。また、レン
ズ面４，４’の表面加工は、レーザ発振器８から発せら
れた短波長紫外線レーザＬ，Ｌ’をミラー９で反射させ
てレンズ面４，４’に照射することにより行なわれ、前
記ミラー９を駆動源１０によりＸＹ方向に任意に移動さ
せることによってレンズ面全体に前記短波長紫外線レー
ザＬを照射可能とする。
【００１９】より具体的に説明すると、干渉計５の光源
から発せられた測定レーザＳが光学レンズ１，１’の表
面で反射し、その反射光が干渉計５のＣＣＤカメラによ
り撮像される。このＣＣＤカメラによる撮像信号をコン
ピュータシステム７で画像処理することにより、レンズ
面４，４’で生じる干渉縞から得られる位相分布をコン
ピュータシステム７のディスプレイに画面表示すること
でもって、レンズ面４，４’を通過する測定レーザＳに
よる反射波面をモニタリングする。
から発せられた測定レーザＳが光学レンズ１，１’の表
面で反射し、その反射光が干渉計５のＣＣＤカメラによ
り撮像される。このＣＣＤカメラによる撮像信号をコン
ピュータシステム７で画像処理することにより、レンズ
面４，４’で生じる干渉縞から得られる位相分布をコン
ピュータシステム７のディスプレイに画面表示すること
でもって、レンズ面４，４’を通過する測定レーザＳに
よる反射波面をモニタリングする。
【００２０】このレンズ面４，４’の反射波面のモニタ
リングに基づいて、コンピュータシステム７でレンズ面
４，４’の表面状態を判別し、その表面状態から目標と
するレンズ面４，４’を形成するため、コンピュータシ
ステム７からの出力によりミラー９の駆動源１０を制御
する。一方、レーザ発振器８から発せられた短波長紫外
線レーザＬ，Ｌ’をミラー９でレンズ面４，４’に照射
することにより、そのレンズ面４の光学素子用樹脂３又
はレンズ面４’の石英ガラスを非接触でエッチングす
る。
リングに基づいて、コンピュータシステム７でレンズ面
４，４’の表面状態を判別し、その表面状態から目標と
するレンズ面４，４’を形成するため、コンピュータシ
ステム７からの出力によりミラー９の駆動源１０を制御
する。一方、レーザ発振器８から発せられた短波長紫外
線レーザＬ，Ｌ’をミラー９でレンズ面４，４’に照射
することにより、そのレンズ面４の光学素子用樹脂３又
はレンズ面４’の石英ガラスを非接触でエッチングす
る。
【００２１】この時、光源に短波長紫外線レーザＬ，
Ｌ’を使用したことにより、光学素子用樹脂３の表面近
傍では高分子材料のＣ−Ｃ結合が破壊されてポリマーか
らモノマーへの分解が生じ、また、石英ガラスの表面で
はＳｉＯ2 が飛散し、エッチング後の表面がスムーズな
加工が実現される。
Ｌ’を使用したことにより、光学素子用樹脂３の表面近
傍では高分子材料のＣ−Ｃ結合が破壊されてポリマーか
らモノマーへの分解が生じ、また、石英ガラスの表面で
はＳｉＯ2 が飛散し、エッチング後の表面がスムーズな
加工が実現される。
【００２２】この短波長紫外線レーザＬ，Ｌ’によるエ
ッチングを、前記コンピュータシステム７による駆動源
１０の制御でもってミラー９をレンズ面４，４’の全体
に亘って移動させながら行なう。この時、前述したよう
にレンズ面４，４’の反射波面のモニタリング情報に基
づき、ミラー９の停止位置を制御することにより、短波
長紫外線レーザＬ，Ｌ’の照射によるレンズ面４，４’
でのエッチング位置を適正に設定すると共に、前記ミラ
ー９の移動速度を制御することにより、前記短波長紫外
線レーザＬ，Ｌ’のパルス数及び強度からなる照射光量
を適正に設定し、レンズ面４，４’でのエッチング深さ
を最適値に設定することにより、レンズ面４，４’の反
射波面を補正し、所望の反射波面を持つレンズ面を形成
する。
ッチングを、前記コンピュータシステム７による駆動源
１０の制御でもってミラー９をレンズ面４，４’の全体
に亘って移動させながら行なう。この時、前述したよう
にレンズ面４，４’の反射波面のモニタリング情報に基
づき、ミラー９の停止位置を制御することにより、短波
長紫外線レーザＬ，Ｌ’の照射によるレンズ面４，４’
でのエッチング位置を適正に設定すると共に、前記ミラ
ー９の移動速度を制御することにより、前記短波長紫外
線レーザＬ，Ｌ’のパルス数及び強度からなる照射光量
を適正に設定し、レンズ面４，４’でのエッチング深さ
を最適値に設定することにより、レンズ面４，４’の反
射波面を補正し、所望の反射波面を持つレンズ面を形成
する。
【００２３】尚、干渉計５と対向させた一方のレンズ面
４，４’の形成が完了すれば、その光学レンズ１を反転
させて他方のレンズ面４，４’の形成を上述と同一方法
で実施する。
４，４’の形成が完了すれば、その光学レンズ１を反転
させて他方のレンズ面４，４’の形成を上述と同一方法
で実施する。
【００２４】以上の実施例では、レンズ面４，４’の反
射波面をモニタリングする場合について説明したが、本
発明はこれに限定されることなく、図２又は図４に示す
ように光学レンズ１，１’の後方にミラー９を配置し、
レンズ面４，４’の透過波面をモニタリングするように
してもよい。また、本発明は、光学素子用樹脂のみから
なる光学素子への加工を行なうことも可能である。ま
た、ミラー９を移動するのではなく、光学レンズ１，
１’を移動ステージで動かすようにしてもよい。
射波面をモニタリングする場合について説明したが、本
発明はこれに限定されることなく、図２又は図４に示す
ように光学レンズ１，１’の後方にミラー９を配置し、
レンズ面４，４’の透過波面をモニタリングするように
してもよい。また、本発明は、光学素子用樹脂のみから
なる光学素子への加工を行なうことも可能である。ま
た、ミラー９を移動するのではなく、光学レンズ１，
１’を移動ステージで動かすようにしてもよい。
【００２５】更に、本発明は、精密加工用レーザ装置な
どで使用され、均等なレーザを集光させるための光学レ
ンズ以外の各種の光学レンズに適用可能であるのは勿論
である。
どで使用され、均等なレーザを集光させるための光学レ
ンズ以外の各種の光学レンズに適用可能であるのは勿論
である。
【００２６】
【発明の効果】本発明方法によれば、光学ガラスからな
る母体の表面に光学素子用樹脂をコーティングした光学
面、また、光学ガラス又は石英ガラスからなる母体の光
学面を被加工対象とする点、及び、その光学面の透過波
面又は反射波面をモニタリングしながら、そのモニタリ
ング情報に基づいて前記光学面を短波長紫外線ビームの
照射により非接触でエッチングして表面加工する点か
ら、非球面加工における光学歪みが小さくて光学的特性
が良好な長所、又は、高精度な非球面加工が実現容易な
長所を有し、エッチング後の表面がスムーズな加工を可
能とする短波長紫外線ビームの長所から最適な透過波面
又は反射波面を有する光学面を容易に製作することが実
現できてその実用的価値は大である。
る母体の表面に光学素子用樹脂をコーティングした光学
面、また、光学ガラス又は石英ガラスからなる母体の光
学面を被加工対象とする点、及び、その光学面の透過波
面又は反射波面をモニタリングしながら、そのモニタリ
ング情報に基づいて前記光学面を短波長紫外線ビームの
照射により非接触でエッチングして表面加工する点か
ら、非球面加工における光学歪みが小さくて光学的特性
が良好な長所、又は、高精度な非球面加工が実現容易な
長所を有し、エッチング後の表面がスムーズな加工を可
能とする短波長紫外線ビームの長所から最適な透過波面
又は反射波面を有する光学面を容易に製作することが実
現できてその実用的価値は大である。
【図１】光学素子用樹脂をコーティングした光学面につ
いての実施例で、レンズ面の反射波面をモニタリングす
る場合の装置構成を示す概略図
いての実施例で、レンズ面の反射波面をモニタリングす
る場合の装置構成を示す概略図
【図２】光学素子用樹脂をコーティングした光学面につ
いての実施例で、レンズ面の透過波面をモニタリングす
る場合の装置構成を示す概略図
いての実施例で、レンズ面の透過波面をモニタリングす
る場合の装置構成を示す概略図
【図３】光学ガラス又は石英ガラスからなる母体の光学
面についての実施例で、レンズ面の反射波面をモニタリ
ングする場合の装置構成を示す概略図
面についての実施例で、レンズ面の反射波面をモニタリ
ングする場合の装置構成を示す概略図
【図４】光学ガラス又は石英ガラスからなる母体の光学
面についての実施例で、レンズ面の透過波面をモニタリ
ングする場合の装置構成を示す概略図
面についての実施例で、レンズ面の透過波面をモニタリ
ングする場合の装置構成を示す概略図
２ 母体 ２’ 母体〔石英ガラス〕 ３ 光学素子用樹脂 ４ 光学面〔レンズ面〕 ４’ 光学面〔レンズ面〕 Ｌ 短波長紫外線ビーム〔短波長紫外線レーザ〕 Ｌ’ 短波長紫外線ビーム〔短波長紫外線レーザ〕
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 中塚 正大 大阪府吹田市山田丘２−６ 大阪大学レ ーザー核融合研究センター内 (72)発明者 徳村 啓雨 大阪府大阪市東淀川区南江口３丁目２番 30号 日本非球面レンズ株式会社内 (56)参考文献 特開 平８−252870（ＪＰ，Ａ) 特開 昭61−275138（ＪＰ，Ａ) 特開 昭61−21925（ＪＰ，Ａ) 特表 昭57−502049（ＪＰ，Ａ) (58)調査した分野(Int.Cl.7，ＤＢ名) B29D 11/00 B23K 26/00 G02B 1/10 - 1/12 C03B 23/00
Claims (2)
- 【請求項１】光学ガラスからなる母体の表面に光学素子
用樹脂をコーティングした光学面の透過波面又は反射波
面をモニタリングしながら、そのモニタリング情報に基
づいて前記光学面を短波長紫外線ビームの照射により非
接触でエッチングして最適な透過波面又は反射波面とな
る形状に加工するようにしたことを特徴とする光学面の
形成方法。 - 【請求項２】光学ガラス又は石英ガラスからなる母体の
光学面の透過波面又は反射波面をモニタリングしなが
ら、そのモニタリング情報に基づいて前記光学面を短波
長紫外線ビームの照射により非接触でエッチングして最
適な透過波面又は反射波面となる形状に加工するように
したことを特徴とする光学面の形成方法。
Priority Applications (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP07083604A JP3085875B2 (ja) | 1994-04-11 | 1995-04-10 | 光学面の形成方法 |
| US08/626,423 US5729344A (en) | 1995-04-10 | 1996-04-02 | Method and apparatus for forming an optical surface by optical etching |
Applications Claiming Priority (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7171194 | 1994-04-11 | ||
| JP6-71711 | 1994-04-11 | ||
| JP07083604A JP3085875B2 (ja) | 1994-04-11 | 1995-04-10 | 光学面の形成方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0820077A JPH0820077A (ja) | 1996-01-23 |
| JP3085875B2 true JP3085875B2 (ja) | 2000-09-11 |
Family
ID=26412821
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP07083604A Expired - Fee Related JP3085875B2 (ja) | 1994-04-11 | 1995-04-10 | 光学面の形成方法 |
Country Status (1)
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|---|---|
| JP (1) | JP3085875B2 (ja) |
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100450767B1 (ko) * | 2002-02-05 | 2004-10-01 | 한국전자통신연구원 | 광 크로스 커넥터용 광스위치의 거울면 반사도 개선방법 |
-
1995
- 1995-04-10 JP JP07083604A patent/JP3085875B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0820077A (ja) | 1996-01-23 |
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