JPH10323790A - レーザ加工装置 - Google Patents
レーザ加工装置Info
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- JPH10323790A JPH10323790A JP9137052A JP13705297A JPH10323790A JP H10323790 A JPH10323790 A JP H10323790A JP 9137052 A JP9137052 A JP 9137052A JP 13705297 A JP13705297 A JP 13705297A JP H10323790 A JPH10323790 A JP H10323790A
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 紫外線レーザの照射時の移動による筋むらの
発生を抑制することにある。 【構成】 加工対象物１の被加工面２に短波長の紫外線
レーザＬを照射して前記被加工面２をエッチングするレ
ーザ発振器３と、前記レーザ発振器３と加工対象物１と
の間に配置され、前記レーザ発振器３から照射される紫
外線レーザＬを加工対象物１の被加工面２に向けて反射
するミラー４に振動を付与するスピーカ５ａと、前記紫
外線レーザＬに対して加工対象物１を移動させるＸＹテ
ーブル６とを具備し、スピーカ５ａによるミラー４の振
動でもって紫外線レーザＬを被加工面２上で振動させな
がら移動させる。
発生を抑制することにある。 【構成】 加工対象物１の被加工面２に短波長の紫外線
レーザＬを照射して前記被加工面２をエッチングするレ
ーザ発振器３と、前記レーザ発振器３と加工対象物１と
の間に配置され、前記レーザ発振器３から照射される紫
外線レーザＬを加工対象物１の被加工面２に向けて反射
するミラー４に振動を付与するスピーカ５ａと、前記紫
外線レーザＬに対して加工対象物１を移動させるＸＹテ
ーブル６とを具備し、スピーカ５ａによるミラー４の振
動でもって紫外線レーザＬを被加工面２上で振動させな
がら移動させる。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明はレーザ加工装置に関し、
詳しくは、高性能の光学レンズを必要とする応用分野
〔カメラ、計測装置、レーザプリンタ等〕や大口径の光
学素子を必要とするプロジェクタ、大型レーザ装置及び
リソグラフィー装置に必要とされるレンズ、ミラー等を
高精度で製作するためのレーザ加工装置に関する。
詳しくは、高性能の光学レンズを必要とする応用分野
〔カメラ、計測装置、レーザプリンタ等〕や大口径の光
学素子を必要とするプロジェクタ、大型レーザ装置及び
リソグラフィー装置に必要とされるレンズ、ミラー等を
高精度で製作するためのレーザ加工装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】例えば、精密加工用として使用されるレ
ーザ加工装置などでは、微小なスポットにレーザを集光
させるために高精度の光学レンズや反射ミラー等が必要
である。一般に、この種の光学素子〔以下、光学レンズ
と称す〕は、光学ガラスで組成されるものと、光学プラ
スチックで組成されるものとに大別される。
ーザ加工装置などでは、微小なスポットにレーザを集光
させるために高精度の光学レンズや反射ミラー等が必要
である。一般に、この種の光学素子〔以下、光学レンズ
と称す〕は、光学ガラスで組成されるものと、光学プラ
スチックで組成されるものとに大別される。
【０００３】これらいずれか一方で組成される光学レン
ズでは、その光学面〔以下、レンズ面と称す〕の形状
が、レーザ光の集光特性に大きく影響する。即ち、前記
光学レンズに入射するレーザが平行波面を具備していた
としても、その光学レンズが波面収差を有している場
合、レーザ光の集光スポット径が増大し、結果として集
光強度が低下する。
ズでは、その光学面〔以下、レンズ面と称す〕の形状
が、レーザ光の集光特性に大きく影響する。即ち、前記
光学レンズに入射するレーザが平行波面を具備していた
としても、その光学レンズが波面収差を有している場
合、レーザ光の集光スポット径が増大し、結果として集
光強度が低下する。
【０００４】そのため、上述した光学レンズでは、ポイ
ントに集光したレーザが最小のスポット径を持つような
レンズ面を形成する必要がある。そこで、本出願人は、
短波長の紫外線レーザを加工対象物の表面に照射するこ
とによりその表面をエッチングして高精度な非球面加工
を実現したレンズ面の形成方法を先に提案している（特
開平８−２００７７号公報）。
ントに集光したレーザが最小のスポット径を持つような
レンズ面を形成する必要がある。そこで、本出願人は、
短波長の紫外線レーザを加工対象物の表面に照射するこ
とによりその表面をエッチングして高精度な非球面加工
を実現したレンズ面の形成方法を先に提案している（特
開平８−２００７７号公報）。
【０００５】このレンズ面の形成方法は、光学ガラスか
らなる母体の表面に光学素子用樹脂をコーティングした
光学レンズのレンズ面の反射波面を干渉計により測定
し、その干渉計による反射波面をコンピュータシステム
によりモニタリングしながら、そのコンピュータシステ
ムからのモニタリング情報に基づいて前記レンズ面に対
して短波長紫外線レーザを走査させることにより、その
レンズ面を前記短波長紫外線レーザにより非接触でエッ
チングして最適な反射波面となる形状に表面加工するも
のである。
らなる母体の表面に光学素子用樹脂をコーティングした
光学レンズのレンズ面の反射波面を干渉計により測定
し、その干渉計による反射波面をコンピュータシステム
によりモニタリングしながら、そのコンピュータシステ
ムからのモニタリング情報に基づいて前記レンズ面に対
して短波長紫外線レーザを走査させることにより、その
レンズ面を前記短波長紫外線レーザにより非接触でエッ
チングして最適な反射波面となる形状に表面加工するも
のである。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】ところで、前述したレ
ンズ面の形成方法では、紫外線レーザを光学レンズのレ
ンズ面にスポット状に集光させてそのレンズ面を加工す
るようにしているが、その場合、紫外線レーザをレンズ
面上で移動させなければならない。
ンズ面の形成方法では、紫外線レーザを光学レンズのレ
ンズ面にスポット状に集光させてそのレンズ面を加工す
るようにしているが、その場合、紫外線レーザをレンズ
面上で移動させなければならない。
【０００７】しかしながら、レンズ面上では、紫外線レ
ーザの移動に伴って筋むらが発生し、良好な面加工を実
現することが困難となる。特に、紫外線レーザの照射回
数や照射強度を上げるとその筋むらの発生が顕著となっ
て実用上問題があった。
ーザの移動に伴って筋むらが発生し、良好な面加工を実
現することが困難となる。特に、紫外線レーザの照射回
数や照射強度を上げるとその筋むらの発生が顕著となっ
て実用上問題があった。
【０００８】そこで、本出願人は前述したレンズ面の形
成方法におけるレーザ加工を改善するために本発明を提
案し、その目的とするところは、紫外線レーザの照射時
の移動による筋むらの発生を抑制することにある。
成方法におけるレーザ加工を改善するために本発明を提
案し、その目的とするところは、紫外線レーザの照射時
の移動による筋むらの発生を抑制することにある。
【０００９】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
の技術的手段として、本発明は、加工対象物の被加工面
に短波長の紫外線レーザを照射して前記被加工面をエッ
チングするレーザ発振器と、前記レーザ発振器と加工対
象物との間に配置され、前記レーザ発振器から照射され
る紫外線レーザを加工対象物の被加工面に向けて反射す
るミラーに振動を付与する振動付与手段と、前記紫外線
レーザと加工対象物とを相対的に移動させる駆動機構と
を具備し、前記振動付与手段によるミラーの振動でもっ
て紫外線レーザを被加工面上で振動させながら移動させ
ることを特徴とする。
の技術的手段として、本発明は、加工対象物の被加工面
に短波長の紫外線レーザを照射して前記被加工面をエッ
チングするレーザ発振器と、前記レーザ発振器と加工対
象物との間に配置され、前記レーザ発振器から照射され
る紫外線レーザを加工対象物の被加工面に向けて反射す
るミラーに振動を付与する振動付与手段と、前記紫外線
レーザと加工対象物とを相対的に移動させる駆動機構と
を具備し、前記振動付与手段によるミラーの振動でもっ
て紫外線レーザを被加工面上で振動させながら移動させ
ることを特徴とする。
【００１０】尚、前記振動付与手段としては、ホワイト
ノイズを振動源とするスピーカ又はピエゾ素子トランス
レータが好適である。また、被加工面としては、光学ガ
ラスからなる母体の表面に光学素子用樹脂をコーティン
グした光学面、又は、光学ガラス又は石英ガラスからな
る母体の光学面が適用可能であり、前記光学面を最適な
透過波面又は反射波面となる形状に加工する。
ノイズを振動源とするスピーカ又はピエゾ素子トランス
レータが好適である。また、被加工面としては、光学ガ
ラスからなる母体の表面に光学素子用樹脂をコーティン
グした光学面、又は、光学ガラス又は石英ガラスからな
る母体の光学面が適用可能であり、前記光学面を最適な
透過波面又は反射波面となる形状に加工する。
【００１１】
【発明の実施の形態】本発明の実施形態を図１乃至図５
に示して説明する。
に示して説明する。
【００１２】本発明のレーザ加工装置は、図１に示すよ
うに加工対象物１の被加工面２に短波長の紫外線レーザ
Ｌを照射するレーザ発振器３と、そのレーザ発振器３と
加工対象物１との間に配置され、レーザ発振器３から照
射される紫外線レーザＬを加工対象物１の被加工面２に
向けて反射するミラー４に振動を付与する振動付与手段
５と、加工対象物１をモータ等の駆動源（図示せず）に
よりＸＹ方向に移動可能とする駆動機構６（以下、ＸＹ
テーブルと称す）とを具備する。尚、前述したレーザ発
振器３の直前には、レーザ発振器３から出射される紫外
線レーザＬを絞り込むためのアパチャー７が配置され、
ＸＹテーブル６上の加工対象物１の上方には、紫外線レ
ーザＬを被加工面２上に集光させるための集束レンズ８
が配置される。
うに加工対象物１の被加工面２に短波長の紫外線レーザ
Ｌを照射するレーザ発振器３と、そのレーザ発振器３と
加工対象物１との間に配置され、レーザ発振器３から照
射される紫外線レーザＬを加工対象物１の被加工面２に
向けて反射するミラー４に振動を付与する振動付与手段
５と、加工対象物１をモータ等の駆動源（図示せず）に
よりＸＹ方向に移動可能とする駆動機構６（以下、ＸＹ
テーブルと称す）とを具備する。尚、前述したレーザ発
振器３の直前には、レーザ発振器３から出射される紫外
線レーザＬを絞り込むためのアパチャー７が配置され、
ＸＹテーブル６上の加工対象物１の上方には、紫外線レ
ーザＬを被加工面２上に集光させるための集束レンズ８
が配置される。
【００１３】前述した振動付与手段５は、具体的に、レ
ーザ発振器３から照射された紫外線レーザＬを加工対象
物１の被加工面２に向けて反射するミラー４をスピーカ
５ａの振動面に配したものが好適である。
ーザ発振器３から照射された紫外線レーザＬを加工対象
物１の被加工面２に向けて反射するミラー４をスピーカ
５ａの振動面に配したものが好適である。
【００１４】この実施形態で適用する加工対象物１の被
加工面２は、光学ガラスからなる母体の表面に光学素子
用樹脂をコーティングした光学面、又は、光学ガラス又
は石英ガラスからなる母体の光学面が好適である。具体
的に、加工対象物１としては、例えばＢＫ７等の光学ガ
ラスからなる母体の表面に、ポリメタクリル酸メチル
（ＰＭＭＡ）、ポリカーボネートやアクリル樹脂等の光
学素子用樹脂を例えばその膜厚が数ミクロンから数ミリ
程度となるようにコーティングした光学レンズがある。
その他、光学ガラス又は石英ガラスからなる母体自体の
光学レンズであってもよい。
加工面２は、光学ガラスからなる母体の表面に光学素子
用樹脂をコーティングした光学面、又は、光学ガラス又
は石英ガラスからなる母体の光学面が好適である。具体
的に、加工対象物１としては、例えばＢＫ７等の光学ガ
ラスからなる母体の表面に、ポリメタクリル酸メチル
（ＰＭＭＡ）、ポリカーボネートやアクリル樹脂等の光
学素子用樹脂を例えばその膜厚が数ミクロンから数ミリ
程度となるようにコーティングした光学レンズがある。
その他、光学ガラス又は石英ガラスからなる母体自体の
光学レンズであってもよい。
【００１５】短波長の紫外線レーザＬを照射するレーザ
発振器３は、例えば１１０〜２２０ｎｍの短波長を有す
る紫外線レーザＬを光源とするもので、その紫外線レー
ザＬとしては、光学素子用樹脂をコーティングした場合
には１９３ｎｍの短波長のＡｒＦからなるエキシマレー
ザが好適であり、また、石英ガラスの場合には、１５３
ｎｍの短波長のフッ素レーザが好適であり、その他水素
レーザ等が使用可能である。
発振器３は、例えば１１０〜２２０ｎｍの短波長を有す
る紫外線レーザＬを光源とするもので、その紫外線レー
ザＬとしては、光学素子用樹脂をコーティングした場合
には１９３ｎｍの短波長のＡｒＦからなるエキシマレー
ザが好適であり、また、石英ガラスの場合には、１５３
ｎｍの短波長のフッ素レーザが好適であり、その他水素
レーザ等が使用可能である。
【００１６】このレーザ加工装置では、レーザ発振器３
から出射された紫外線レーザＬをアパチャー７で絞り込
んだ上でミラー４により反射させ、ＸＹテーブル６上の
加工対象物１に向けて照射し、集束レンズ８により被加
工面２上でスポット状となるように設定する。この時、
ＸＹテーブル６をＸＹ方向に移動させることにより、紫
外線レーザＬを被加工面２上で移動することになる。
から出射された紫外線レーザＬをアパチャー７で絞り込
んだ上でミラー４により反射させ、ＸＹテーブル６上の
加工対象物１に向けて照射し、集束レンズ８により被加
工面２上でスポット状となるように設定する。この時、
ＸＹテーブル６をＸＹ方向に移動させることにより、紫
外線レーザＬを被加工面２上で移動することになる。
【００１７】この短波長の紫外線レーザＬの照射により
被加工面２を非接触でエッチングする。その被加工面２
が光学素子用樹脂の場合には高分子材料のＣ−Ｃ結合が
破壊されてポリマーからモノマーへの分解が生じ、ま
た、石英ガラスの場合にはＳｉＯ2 が飛散し、エッチン
グ後の表面がスムーズな加工が実現される。
被加工面２を非接触でエッチングする。その被加工面２
が光学素子用樹脂の場合には高分子材料のＣ−Ｃ結合が
破壊されてポリマーからモノマーへの分解が生じ、ま
た、石英ガラスの場合にはＳｉＯ2 が飛散し、エッチン
グ後の表面がスムーズな加工が実現される。
【００１８】この紫外線レーザＬの移動時、スピーカ５
ａを駆動してその振動面に配したミラー４に振動を付与
する。このミラー４への振動付与は、ホワイトノイズ
（高周波雑音）を振動源とすることにより、振動の周期
性をなくすようにしている。このミラー４の振動によ
り、被加工面２上では、紫外線レーザＬが振動しながら
移動するため、筋むらが発生することを抑制することが
できる。特に、紫外線レーザＬの照射回数や照射強度を
上げた場合には、筋むらを抑制する作用が顕著に現出す
る。
ａを駆動してその振動面に配したミラー４に振動を付与
する。このミラー４への振動付与は、ホワイトノイズ
（高周波雑音）を振動源とすることにより、振動の周期
性をなくすようにしている。このミラー４の振動によ
り、被加工面２上では、紫外線レーザＬが振動しながら
移動するため、筋むらが発生することを抑制することが
できる。特に、紫外線レーザＬの照射回数や照射強度を
上げた場合には、筋むらを抑制する作用が顕著に現出す
る。
【００１９】図２（ａ）は紫外線レーザＬをスピーカ５
ａにより振動させた場合での被加工面２を示し、同図
（ｂ）は紫外線レーザＬを振動させない場合での被加工
面２を示し、ともに加工対象物１として光学ガラス（Ｂ
Ｋ７）を使用した。この両者を比較してみると、紫外線
レーザＬを振動させながら加工した場合〔同図（ｂ）参
照〕の方が、紫外線レーザＬを振動させないで加工した
場合〔同図（ａ）参照〕よりも筋むらの少ない良好な面
加工となっているのが明らかである。
ａにより振動させた場合での被加工面２を示し、同図
（ｂ）は紫外線レーザＬを振動させない場合での被加工
面２を示し、ともに加工対象物１として光学ガラス（Ｂ
Ｋ７）を使用した。この両者を比較してみると、紫外線
レーザＬを振動させながら加工した場合〔同図（ｂ）参
照〕の方が、紫外線レーザＬを振動させないで加工した
場合〔同図（ａ）参照〕よりも筋むらの少ない良好な面
加工となっているのが明らかである。
【００２０】また、前述の実施形態では、振動付与手段
として、スピーカ５ａを使用したが、本発明はこれに限
定されることなく、例えば、モータや超音波等による振
動付与手段であってもよく、また、他の実施形態として
図３及び図４に示すようにピエゾ素子トランスレータ５
ｂを使用することも可能である。
として、スピーカ５ａを使用したが、本発明はこれに限
定されることなく、例えば、モータや超音波等による振
動付与手段であってもよく、また、他の実施形態として
図３及び図４に示すようにピエゾ素子トランスレータ５
ｂを使用することも可能である。
【００２１】このピエゾ素子トランスレータ５ｂは、固
定板９と可動板１１との間に、例えば柱形状を有する３
本のピエゾ素子１０を介設した構造のものである。そし
て、このピエゾ素子トランスレータ５ｂの可動板１１に
ミラー４を貼着する。前述の３本のピエゾ素子１０から
なる３軸のピエゾ素子トランスレータでは、各ピエゾ素
子１０への通電によりそのピエゾ素子１０の変位でもっ
てミラー４を二次元的に振動させる。
定板９と可動板１１との間に、例えば柱形状を有する３
本のピエゾ素子１０を介設した構造のものである。そし
て、このピエゾ素子トランスレータ５ｂの可動板１１に
ミラー４を貼着する。前述の３本のピエゾ素子１０から
なる３軸のピエゾ素子トランスレータでは、各ピエゾ素
子１０への通電によりそのピエゾ素子１０の変位でもっ
てミラー４を二次元的に振動させる。
【００２２】この実施形態の場合も、レーザ発振器３か
ら出射された紫外線レーザＬをアパチャー７で絞り込ん
だ上でミラー４により反射させ、ＸＹテーブル６上の加
工対象物１に向けて照射する。この時、ＸＹテーブル６
をＸＹ方向に移動させることにより、紫外線レーザＬを
被加工面２上で移動させるが、これと同時にピエゾ素子
１０への通電により変位させて可動板１１を介して設け
られたミラー４に二次元的な振動を付与する。このミラ
ー４への振動付与は、ホワイトノイズ（高周波雑音）を
振動源とすることにより、振動の周期性をなくすように
している。このミラー４への振動の付与により紫外線レ
ーザＬを振動させながら移動させ、被加工面２をエッチ
ングして所定の面加工を実行する。
ら出射された紫外線レーザＬをアパチャー７で絞り込ん
だ上でミラー４により反射させ、ＸＹテーブル６上の加
工対象物１に向けて照射する。この時、ＸＹテーブル６
をＸＹ方向に移動させることにより、紫外線レーザＬを
被加工面２上で移動させるが、これと同時にピエゾ素子
１０への通電により変位させて可動板１１を介して設け
られたミラー４に二次元的な振動を付与する。このミラ
ー４への振動付与は、ホワイトノイズ（高周波雑音）を
振動源とすることにより、振動の周期性をなくすように
している。このミラー４への振動の付与により紫外線レ
ーザＬを振動させながら移動させ、被加工面２をエッチ
ングして所定の面加工を実行する。
【００２３】図５（ａ）は紫外線レーザＬをピエゾ素子
トランスレータ５ｂにより振動させた場合での被加工面
２を示し、同図（ｂ）は紫外線レーザＬを振動させない
場合での被加工面２を示し、ともに加工対象物１として
光学ガラスにアクリル樹脂をコーティングしたものを使
用した。この両者を比較してみると、紫外線レーザＬを
振動させながら加工した場合〔同図（ｂ）参照〕の方
が、紫外線レーザＬを振動させないで加工した場合〔同
図（ａ）参照〕よりも筋むらの少ない良好な面加工とな
っているのが明らかである。
トランスレータ５ｂにより振動させた場合での被加工面
２を示し、同図（ｂ）は紫外線レーザＬを振動させない
場合での被加工面２を示し、ともに加工対象物１として
光学ガラスにアクリル樹脂をコーティングしたものを使
用した。この両者を比較してみると、紫外線レーザＬを
振動させながら加工した場合〔同図（ｂ）参照〕の方
が、紫外線レーザＬを振動させないで加工した場合〔同
図（ａ）参照〕よりも筋むらの少ない良好な面加工とな
っているのが明らかである。
【００２４】尚、精密加工用レーザ装置などで使用さ
れ、均等なレーザを集光させるための光学レンズのレン
ズ面を被加工面２としてレーザ加工するに際しては、被
加工面２の透過波面又は反射波面をモニタリングしなが
ら、そのモニタリング情報に基づいて被加工面２を紫外
線レーザＬの照射により非接触でエッチングして最適な
透過波面又は反射波面となる形状に加工すれば、最適な
透過波面又は反射波面をリアルタイムで目標設定するこ
とができる点で好適である。
れ、均等なレーザを集光させるための光学レンズのレン
ズ面を被加工面２としてレーザ加工するに際しては、被
加工面２の透過波面又は反射波面をモニタリングしなが
ら、そのモニタリング情報に基づいて被加工面２を紫外
線レーザＬの照射により非接触でエッチングして最適な
透過波面又は反射波面となる形状に加工すれば、最適な
透過波面又は反射波面をリアルタイムで目標設定するこ
とができる点で好適である。
【００２５】この被加工面２をモニタリングするために
は被加工面２と対向させて干渉計を配置する。この干渉
計は、例えば赤色光〔６３３ｎｍ〕又は緑色光〔５４３
ｎｍ〕のＨｅ−Ｎｅレーザ等の光源を含む光学系及びＣ
ＣＤカメラを具備し、光源から発せられた測定レーザを
被加工面２で透過又は反射させて干渉計に内蔵している
平面参照板からの反射光と干渉させてＣＣＤカメラで撮
像する。このＣＣＤカメラからの撮像信号を画像処理
し、被加工面２での透過波面又は反射波面をディスプレ
イ装置による画面表示でもってモニタリングする。
は被加工面２と対向させて干渉計を配置する。この干渉
計は、例えば赤色光〔６３３ｎｍ〕又は緑色光〔５４３
ｎｍ〕のＨｅ−Ｎｅレーザ等の光源を含む光学系及びＣ
ＣＤカメラを具備し、光源から発せられた測定レーザを
被加工面２で透過又は反射させて干渉計に内蔵している
平面参照板からの反射光と干渉させてＣＣＤカメラで撮
像する。このＣＣＤカメラからの撮像信号を画像処理
し、被加工面２での透過波面又は反射波面をディスプレ
イ装置による画面表示でもってモニタリングする。
【００２６】以上の実施形態では、加工対象物１をＸＹ
ステージ６上に載置してその加工対象物１を移動させる
ようにしたが、本発明はこれに限定されることなく、加
工対象物１を固定した状態でミラー４を移動させて紫外
線レーザＬを走査するようにしてもよい。更に、本発明
は、精密加工用レーザ装置などで使用され、均等なレー
ザを集光させるための光学レンズ以外の各種の光学レン
ズに適用可能であるのは勿論である。
ステージ６上に載置してその加工対象物１を移動させる
ようにしたが、本発明はこれに限定されることなく、加
工対象物１を固定した状態でミラー４を移動させて紫外
線レーザＬを走査するようにしてもよい。更に、本発明
は、精密加工用レーザ装置などで使用され、均等なレー
ザを集光させるための光学レンズ以外の各種の光学レン
ズに適用可能であるのは勿論である。
【００２７】
【発明の効果】本発明によれば、振動付与手段によるミ
ラーの振動でもって紫外線レーザを被加工面上で振動さ
せながら移動させるようにしたから、その紫外線レーザ
照射の移動に伴って被加工面に筋むらが発生することを
抑制でき、紫外線レーザの照射回数や照射強度を上げて
も筋むらをできる限り抑制することができるので、良好
な面加工が実現でき、高品質の加工対象物を製作するこ
とができる。
ラーの振動でもって紫外線レーザを被加工面上で振動さ
せながら移動させるようにしたから、その紫外線レーザ
照射の移動に伴って被加工面に筋むらが発生することを
抑制でき、紫外線レーザの照射回数や照射強度を上げて
も筋むらをできる限り抑制することができるので、良好
な面加工が実現でき、高品質の加工対象物を製作するこ
とができる。
【図１】本発明の実施形態におけるレーザ加工装置を示
す概略構成図
す概略構成図
【図２】（ａ）は紫外線レーザをスピーカにより振動さ
せた場合での被加工面の状態を示す拡大図 （ｂ）は紫外線レーザを振動させない場合での被加工面
の状態を示す拡大図
せた場合での被加工面の状態を示す拡大図 （ｂ）は紫外線レーザを振動させない場合での被加工面
の状態を示す拡大図
【図３】本発明の他の実施形態におけるレーザ加工装置
を示す概略構成図
を示す概略構成図
【図４】図３のＩ−Ｉ線に沿う断面図
【図５】（ａ）は紫外線レーザをピエゾ素子トランスレ
ータにより振動させた場合での被加工面の状態を示す拡
大図 （ｂ）は紫外線レーザを振動させない場合での被加工面
の状態を示す拡大図
ータにより振動させた場合での被加工面の状態を示す拡
大図 （ｂ）は紫外線レーザを振動させない場合での被加工面
の状態を示す拡大図
１ 加工対象物 ２ 被加工面 ３ レーザ発振器 ４ ミラー ５ 振動付与手段 ５ａ スピーカ ５ｂ ピエゾ素子トランスレータ ６ 駆動機構（ＸＹテーブル） Ｌ 紫外線レーザ
Claims (4)
- 【請求項１】 加工対象物の被加工面に短波長の紫外線
レーザを照射して前記被加工面をエッチングするレーザ
発振器と、前記レーザ発振器と加工対象物との間に配置
され、前記レーザ発振器から照射される紫外線レーザを
加工対象物の被加工面に向けて反射するミラーに振動を
付与する振動付与手段と、前記紫外線レーザと加工対象
物とを相対的に移動させる駆動機構とを具備したことを
特徴とするレーザ加工装置。 - 【請求項２】 前記振動付与手段は、ホワイトノイズを
振動源とするスピーカであることを特徴とする請求項１
記載のレーザ加工装置。 - 【請求項３】 前記振動付与手段は、ホワイトノイズを
振動源とするピエゾ素子トランスレータであることを特
徴とする請求項１記載のレーザ加工装置。 - 【請求項４】 請求項１乃至３記載の被加工面は、光学
ガラスからなる母体の表面に光学素子用樹脂をコーティ
ングした光学面、又は、光学ガラス又は石英ガラスから
なる母体の光学面であり、前記光学面を最適な透過波面
又は反射波面となる形状に加工することを特徴とするレ
ーザ加工装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9137052A JPH10323790A (ja) | 1997-05-27 | 1997-05-27 | レーザ加工装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9137052A JPH10323790A (ja) | 1997-05-27 | 1997-05-27 | レーザ加工装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH10323790A true JPH10323790A (ja) | 1998-12-08 |
Family
ID=15189762
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP9137052A Withdrawn JPH10323790A (ja) | 1997-05-27 | 1997-05-27 | レーザ加工装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH10323790A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2009006436A (ja) * | 2007-06-27 | 2009-01-15 | Mitsubishi Materials Corp | 加工工具の製造方法及び加工工具 |
| KR101186245B1 (ko) * | 2010-05-26 | 2012-09-27 | 한국기계연구원 | 레이저 가공 시스템 및 이를 이용한 레이저 가공 방법 |
-
1997
- 1997-05-27 JP JP9137052A patent/JPH10323790A/ja not_active Withdrawn
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2009006436A (ja) * | 2007-06-27 | 2009-01-15 | Mitsubishi Materials Corp | 加工工具の製造方法及び加工工具 |
| KR101186245B1 (ko) * | 2010-05-26 | 2012-09-27 | 한국기계연구원 | 레이저 가공 시스템 및 이를 이용한 레이저 가공 방법 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| RD03 | Notification of appointment of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7423 Effective date: 20040210 |
|
| A300 | Withdrawal of application because of no request for examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A300 Effective date: 20040803 |