JP3069035B2 - ショット補給方法および連続ショット加工設備 - Google Patents

ショット補給方法および連続ショット加工設備

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JP3069035B2 JP7341598A JP34159895A JP3069035B2 JP 3069035 B2 JP3069035 B2 JP 3069035B2 JP 7341598 A JP7341598 A JP 7341598A JP 34159895 A JP34159895 A JP 34159895A JP 3069035 B2 JP3069035 B2 JP 3069035B2
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Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、例えば、脱スケー
ルを目的としたステンレス熱延鋼帯のショットブラスト
に代表されるような、搬送される被加工品に対して連続
的にショット加工を行うことのできる連続ショット加工
設備に関し、特に、鋼帯の搬送方向等に沿ってショット
加工装置が複数台設置された設備におけるショット補給
方法と、当該ショット補給方法が実施可能な連続ショッ
ト加工設備に関する。
【0002】
【従来の技術】一般に、ショットブラスト装置は、被加
工品の表面にショットを投射する複数個のインペラー
と、各インペラーにショットを均等に導入するためのセ
パレータを備えており、鋼帯の脱スケール用のショット
ブラスト装置では、例えば、投射されて回収されたショ
ットや新たなショットがバケットエレベータに補給さ
れ、バケットエレベータからセパレータに供給されるよ
うになっている。そして、セパレータ内のショット数が
所定値以下となると、外部ホッパーからバケットエレベ
ータに一定時間ショットを自動的に補給することによ
り、インペラーからのショットの投射が安定的に行われ
るようにしている。
【0003】また、ステンレス熱延鋼帯の表面の酸化ス
ケール除去を目的としたショットブラストにおいては、
このようなショットブラスト装置をラインに沿って二台
直列に配置して行われる場合がある。この場合には、前
段のショットブラストにより鋼帯の表面に投射されたシ
ョットのうち、そのまま鋼帯の上に乗って後段のショッ
トブラスト位置まで搬送されるものが多数あり、これが
後段のショットブラスト装置内に回収されるため、後段
のショットブラスト装置内のショット量は増大し、前段
のショットブラスト装置内のショット量は減少する状態
となる。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】このような状態になる
と、後段のバケットエレベータで運ばれるショット量が
過多となってバケットエレベータの故障が生じやすくな
るし、前段のバケットエレベータへの新たなショットの
供給量が増大するため、コスト増となるという問題点が
ある。そのため、前段のインペラーにより投射されて鋼
帯の表面に乗ったショットを、後段のショットブラスト
装置の手前でブロワーにより落下させ、前段のショット
ブラスト装置内に回収することも行われているが、その
効果は十分なものではない。
【0005】本発明は、このような従来技術の問題点を
解決することを課題とするものであって、ショットブラ
スト装置がラインに沿って複数台、直列に配置されてい
る場合の各装置に対するショットの補給方法として、好
適な方法およびこの方法が適用可能な設備を提供する。
【0006】
【課題を解決するための手段】上記課題を解決するため
に、請求項1に係る発明は、ショット投射装置と、当該
ショット投射装置にショットを供給する供給装置と、当
該供給装置にショットを補給する補給装置と、を備えた
ショット加工装置が、被加工品の搬送方向に沿って複数
台設置された連続ショット加工設備でのショット補給方
法において、前記複数台のショット加工装置のうち上流
側に配置されたショット加工装置の供給装置へのショッ
トの補給を、これより下流側に配置されたショット加工
装置の供給装置内のショット量が所定値以上である場合
には、当該下流側の供給装置内から行うことを特徴とす
るショット補給方法を提供する。
【0007】請求項2に係る発明は、ショット投射装置
と、当該ショット投射装置にショットを供給する供給装
置と、当該供給装置にショットを補給する補給装置と、
を備えたショット加工装置が、被加工品の搬送方向に沿
って複数台設置された連続ショット加工設備において、
前記複数台のショット加工装置のうち下流側に配置され
たショット加工装置の供給装置から、これより上流側に
配置されたショット加工装置の供給装置へショットを戻
すショット戻し手段と、このショット戻し手段による戻
しショット量を調節する戻し量調節手段と、前記上流側
のショット加工装置で補給装置から供給装置へのショッ
ト補給量を調節する上流側補給量調節手段と、前記上流
側の供給装置内のショット量を検出する上流側ショット
量検出手段と、前記下流側の供給装置内のショット量を
検出する下流側ショット量検出手段と、前記上流側ショ
ット量検出手段からの上流側ショット量検出値および下
流側ショット量検出手段からの下流側ショット量検出値
に基づいて、前記戻し量調節手段による戻しショット量
および上流側補給量調節手段によるショット補給量を制
御する上流側ショット補給制御手段と、を備えたことを
特徴とする連続ショット加工設備を提供する。
【0008】
【発明の実施の形態】以下、本発明の実施形態について
図面に基づいて説明する。図1は、本発明の一実施形態
が適用された連続ショットブラスト設備を示す概略構成
図である。図1に示すように、この実施形態では、搬送
される鋼帯Sの搬送方向に沿って二台のショットブラス
ト装置1,2が設置されている。
【0009】各ショットブラスト装置(ショット加工装
置)1,2は、鋼帯Sを挟んで対向配置された二対四個
のインペラー(ショット投射装置)11,21と、各イ
ンペラー11,21に均等にショットを導入するセパレ
ータ(供給装置)12,22と、各セパレータ12,2
2内にショットを供給するバケットエレベータ(供給装
置)13,23と、新たなショットを外部から補給する
ホッパー(補給装置)14,24と、投射されて回収さ
れたショットおよび/またはホッパー14,24からの
新たなショットを、各バケットエレベータ13,23ま
で搬送して下部のバケットに導入するコンベヤ(供給装
置)15,25とで構成されている。
【0010】鋼帯Sは、前段の下流側のインペラー11
より下流に配置されたデフレクタロールD1 ,D2 によ
って、前段のショットブラスト後に斜め上方に所定距離
だけ搬送されてから、水平搬送に戻って後段のインペラ
ー21に向かうようになっており、この斜め上方に搬送
されている鋼帯Sの上方に、当該鋼帯Sの上面に乗った
ショットを吹き飛ばして落下させるブロワーBが設置さ
れている。
【0011】ホッパー14,24のショット排出用配管
には、制御装置10からの電気信号IH1,IH2により自
動開閉される補給弁14a,24aが設置されている。
ここで、前段の補給弁14aは本発明の上流側補給量調
節手段に相当する。前段のショットブラスト装置1のセ
パレータ12の下部タンク12aには、前段用のコンベ
ヤ15に向かう戻し配管16が接続され、下部タンク1
2aの所定レベル以上のショットがコンベヤ15に排出
されるようになっている。後段のショットブラスト装置
2のセパレータ22の下部タンク22aには、前段のシ
ョットブラスト装置1の下方に向かう戻し配管(ショッ
ト戻し手段)3が接続され、この戻し配管3の下方に
は、この戻し配管3から排出されたショットを前段用の
コンベヤ15に向けて搬送するコンベヤ(ショット戻し
手段)4が設置されている。なお、前記戻し配管3に
は、制御装置10からの電気信号IM により所定開度で
自動開閉される戻し弁(戻し量調節手段)31が設置さ
れている。
【0012】また、各ショットブラスト装置1,2内の
インペラー11,21への供給可能ショット量(本発明
の供給装置に相当する、セパレータ12,22、バケッ
トエレベータ13,23、およびコンベヤ15,25内
のショットの合計量)が十分であるか否かは、各バケッ
トエレベータ13,23にかかる電流によって検出可能
であるため、ここでは、各バケットエレベータ13,2
3の電流値IB1,IB2を各段の供給可能ショット量とし
て制御装置10に入力している。すなわち、前段のバケ
ットエレベータ13が本発明の上流側ショット量検出手
段に、後段のバケットエレベータ23が本発明の下流側
ショット量検出手段に相当する。
【0013】前記制御装置10は、例えばマイクロコン
ピュータによって構成され、入力された各バケットエレ
ベータ13,23の電流値IB1,IB2に応じて所定の演
算処理を行い、当該演算処理の結果に応じて、前記補給
弁14a,24aに向けて電気信号IH1,IH2を、前記
戻し弁31に向けて電気信号IM をそれぞれ出力するも
のである。
【0014】図2は、この制御装置10内で行われる演
算処理のうち、前段のショットブラスト装置1のバケッ
トエレベータ13へのショット補給を制御するための演
算処理(上流側ショット補給制御手段)を示すフローチ
ャートであり、この演算処理はメインプログラムに対す
る所定時間毎のタイマ割込みによって行われる。この演
算処理では、ステップS1で、前段のバケットエレベー
タ13の電流値IB1および後段のバケットエレベータ2
3の電流値IB2をそれぞれ読み込んでステップS2に移
行し、前記電流値IB1が所定値A以下であればステップ
S3に移行し、そうでなければメインプログラムに復帰
する。ここで、前記所定値Aは、前段のショット量が最
低必要量である時のバケットエレベータ13の電流値で
あり、ショットブラスト条件や鋼帯Sの搬送速度および
板幅に応じて設定され、記憶装置に記憶されている。
【0015】次いで、ステップS3では、前記電流値I
B2が所定値a以上である否かを判定し、そうであればス
テップS4に移行し、そうでなければステップS5に移
行する。ここで、前記所定値aは、後段のショット量が
十分である時のバケットエレベータ23の電流値(例え
ば、装置メーカーによる推奨値もしくは通常操業時に測
定された値)であり、ショットブラスト条件や鋼帯Sの
搬送速度および板幅に応じて設定され、記憶装置に記憶
されている。
【0016】次いで、ステップS4では、戻し弁31を
所定開度で所定時間t1 だけ開く電気信号IM を戻し弁
31に出力して、ステップS5では、補給弁14aを所
定時間t2 だけ開く電気信号IH1を補給弁14aに出力
して、それぞれメインプログラムに復帰する。ここで、
前記所定時間t1 ,t2 および戻し弁31の開度は、シ
ョットブラスト条件や鋼帯Sの搬送速度および板幅に応
じて設定され、記憶装置に記憶されている。
【0017】なお、後段の補給弁24aの開閉は、別の
演算処理によって、後段のバケットエレベータ23から
の電流値IB2が所定値b(<a)以下となったときに、
補給弁24aを所定時間t3 だけ開く電気信号IH2が補
給弁24aに出力されるようになっている。ここで、前
記所定値bは、後段のショット量が最低必要量である時
のバケットエレベータ23の電流値であり、所定時間t
3 とともに、ショットブラスト条件や鋼帯Sの搬送速度
および板幅に応じて設定される。
【0018】また、メインプログラムにより、戻し弁3
1および補給弁14a,24aは、電気信号IM
H1,IH2が出力されていない場合には常時閉じるよう
になっている。したがって、前段のインペラー11から
投射された後に回収されずに鋼帯Sの表面に乗ったまま
搬送され、ブロワーBによっても落下しなかったショッ
トは、そのまま後段のインペラー21位置まで搬送さ
れ、コンベヤ25で回収されてバケットエレベータ23
からセパレータ22に向かうため、ブロワーBによって
も落下しないショットの量が多いと、後段のショットブ
ラスト装置2内のショット量は増大し、前段のショット
ブラスト装置1内のショット量は減少していく。これに
伴い、前段のバケットエレベータ13の電流値IB1が所
定値A以下となって、後段のバケットエレベータ23の
電流値IB2が所定値a以上となれば、制御装置10から
電気信号IM が戻し弁31に出力されて、戻し弁31が
所定開度で所定時間t1 だけ開き、後段の下部タンク2
2aから、戻し配管3、コンベヤ4、およびコンベヤ1
5を介して、前段のバケットエレベータ13にショット
が補給される。
【0019】これにより、ショット量の多い後段の下部
タンク22a内のショットがショット量の少ない前段の
下部タンク12aに移行するため、後段のショット量の
増大が抑えられてバケットエレベータ23で運ばれるシ
ョット量が過多とならないことから、バケットエレベー
タ23の故障が少なくなるとともに、前段のショットの
補給に新たなショットを使用しないため、コストが低減
される。
【0020】一方、前述のように、後段のショットブラ
スト装置2内のショット量が増大し、前段のショットブ
ラスト装置1内のショット量が減少していき、これに伴
って、前段のバケットエレベータ13の電流値IB1が所
定値A以下となっても、後段のバケットエレベータ23
の電流値IB2が所定値a未満であれば、制御装置10か
ら電気信号IH1が補給弁14aに出力されて、補給弁1
4aが所定時間t2 だけ開き、ホッパー14から前段の
バケットエレベータ13に新たなショットが補給され
る。
【0021】また、後段のショットブラスト装置2内の
ショット量が減少していき、後段のバケットエレベータ
23からの電流値IB2が所定値b以下となれば、制御装
置10から電気信号IH2が補給弁24aに出力されて、
補給弁24aが所定時間t3だけ開き、ホッパー24か
ら後段のバケットエレベータ23に新たなショットが補
給される。
【0022】図3は、図1の設備で実際に本発明の方法
を実施した一例を示すタイムチャートであり、図4は、
比較のために行った従来の方法の一例を示すタイムチャ
ートである。図3および4に示すように、板幅が100
0mmから1200mmに変化すると、前段から後段へ
のショットの移行量が大きくなり、前段のバケットエレ
ベータ13に頻繁にショットを補給する必要が出てくる
が、従来の方法では、後段から前段へショットを戻す戻
し配管3を設けていないため、図4に示すように、その
度毎に前段の補給弁14aを開け、新たなショットを補
給して前段のショット量を確保することになる。また、
前段から後段へのショットの移行により、後段のバケッ
トエレベータ23のショット量は過多になって重故障が
生じる。
【0023】これに対して、本発明の方法では、図3に
示すように、後段のバケットエレベータ23のショット
量が多いときには戻し配管3によって後段から前段へシ
ョットが補給されるため、後段のバケットエレベータ2
3のショット量は過多にならない。また、図3に示す本
発明例と図4に示す従来例とで、ショット原単位(鋼帯
1トン当たりに使用したショットの総重量)を比較した
グラフを図5に示す。このグラフから分かるように、従
来例のショット原単位は本発明例の1.8倍であり、本
発明の方法によるコスト削減効果は非常に高いものであ
る。
【0024】以上のように、この実施形態では、各ショ
ットブラスト装置1,2内のショット量が常に安定する
ため、ショットの投射が安定して行われることによっ
て、ショットブラストの効果が安定的に得られるととも
に、新ショットの使用量が減少し、バケットエレベータ
23の故障も減少することによって、ショットの原単位
および設備稼働コストが低減される。
【0025】なお、前記実施形態では、各段のショット
ブラスト1,2内の供給可能ショット量を、各バケット
エレベータ13,23にかかる電流によって検出してい
るが、本発明のショット量検出手段はこれに限定され
ず、例えば、セパレータ12,22の下部タンク12
a,22a内のショット量をレベルセンサで検出して、
その検出値を供給可能ショット量としてもよい。
【0026】また、前記実施形態では、ショットブラス
ト装置がラインに沿って二台直列に配置されているが、
本発明は三台以上のショットブラスト装置が直列に配列
された場合にも当然に適用される。また、ショット加工
装置はショットブラスト装置に限定されず、ショットピ
ーニング装置などでも同様に適用される。
【0027】
【発明の効果】以上説明したように、請求項1の方法に
よれば、被加工品の搬送方向に沿って複数台ショット加
工装置が設置された連続加工設備において、上流側のシ
ョット加工装置から下流側のショット加工装置へのショ
ット移行量が増加すると、下流側の供給装置から上流側
の供給装置へショットが補給されるため、下流側の供給
装置内のショット量が過多にならないようにすることが
できる。また、上流側の供給装置への新ショットの補給
量が低減されるため、コストを削減することができる。
【0028】請求項2の装置によれば、前記請求項1の
方法が実施可能となる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の一実施形態が適用された連続ショット
ブラスト設備を示す概略構成図である。
【図2】図1の制御装置内で行われる演算処理の一部を
示すフローチャートである。
【図3】本発明の方法の一実施例を示すタイムチャート
である。
【図4】従来の方法の一例を示すタイムチャートであ
る。
【図5】本発明例と従来例とで、ショット原単位を比較
したグラフである。
【符号の説明】
1 前段のショットブラスト装置(上流側のショット
加工装置) 2 後段のショットブラスト装置(下流側のショット
加工装置) 3 戻し配管(ショット戻し手段) 4 コンベヤ(ショット戻し手段) 10 制御装置(上流側ショット補給制御手段) 11 インペラー(ショット投射装置) 12 セパレータ(供給装置) 13 バケットエレベータ(供給装置,上流側ショット
量検出手段) 14 ホッパー(補給装置) 14a 補給弁(上流側補給量調節手段) 21 インペラー(ショット投射装置) 22 セパレータ(供給装置) 23 バケットエレベータ(供給装置,下流側ショット
量検出手段) 24 ホッパー(補給装置) 31 戻し弁(戻し量調節手段) S 鋼帯(被加工品)

Claims (2)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 ショット投射装置と、当該ショット投射
    装置にショットを供給する供給装置と、当該供給装置に
    ショットを補給する補給装置と、を備えたショット加工
    装置が、被加工品の搬送方向に沿って複数台設置された
    連続ショット加工設備でのショット補給方法において、 前記複数台のショット加工装置のうち上流側に配置され
    たショット加工装置の供給装置へのショットの補給を、
    これより下流側に配置されたショット加工装置の供給装
    置内のショット量が所定値以上である場合には、当該下
    流側の供給装置内から行うことを特徴とするショット補
    給方法。
  2. 【請求項2】 ショット投射装置と、当該ショット投射
    装置にショットを供給する供給装置と、当該供給装置に
    ショットを補給する補給装置と、を備えたショット加工
    装置が、被加工品の搬送方向に沿って複数台設置された
    連続ショット加工設備において、 前記複数台のショット加工装置のうち下流側に配置され
    たショット加工装置の供給装置から、これより上流側に
    配置されたショット加工装置の供給装置へショットを戻
    すショット戻し手段と、このショット戻し手段による戻
    しショット量を調節する戻し量調節手段と、前記上流側
    のショット加工装置で補給装置から供給装置へのショッ
    ト補給量を調節する上流側補給量調節手段と、前記上流
    側の供給装置内のショット量を検出する上流側ショット
    量検出手段と、前記下流側の供給装置内のショット量を
    検出する下流側ショット量検出手段と、前記上流側ショ
    ット量検出手段からの上流側ショット量検出値および下
    流側ショット量検出手段からの下流側ショット量検出値
    に基づいて、前記戻し量調節手段による戻しショット量
    および上流側補給量調節手段によるショット補給量を制
    御する上流側ショット補給制御手段と、を備えたことを
    特徴とする連続ショット加工設備。
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