JP3068275B2 - 情報記録媒体の製造方法 - Google Patents
情報記録媒体の製造方法Info
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Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、凹凸状プリフォーマッ
トパターンを有する光学的情報記録媒体の製造方法に関
する。
トパターンを有する光学的情報記録媒体の製造方法に関
する。
【０００２】
【従来の技術】従来、光記録媒体において、情報の記録
密度の向上、情報の記録・再生速度及び記録・再生の信
頼性向上を目的として、該光記録媒体を形成する基板上
に記録・再生レーザ光の案内溝を形成することが一般に
行なわれている。
密度の向上、情報の記録・再生速度及び記録・再生の信
頼性向上を目的として、該光記録媒体を形成する基板上
に記録・再生レーザ光の案内溝を形成することが一般に
行なわれている。
【０００３】透明なプラスチック基板に案内溝（プリフ
ォーマット）を形成する方法として、例えばコンプレッ
ション法、インジェクション法、キャスティング法、お
よびフォトポリマー（２Ｐ）法などが知られている。光
記録媒体を作成するためには、前記プリフォーマットを
形成した基板上に下引層を介して、又は直接に記録層を
形成する。この記録層の形成は、記録層が金属および金
属酸化物の場合には、一般的に真空蒸着法、スパッター
法などの気相成膜法によって行なわれる。
ォーマット）を形成する方法として、例えばコンプレッ
ション法、インジェクション法、キャスティング法、お
よびフォトポリマー（２Ｐ）法などが知られている。光
記録媒体を作成するためには、前記プリフォーマットを
形成した基板上に下引層を介して、又は直接に記録層を
形成する。この記録層の形成は、記録層が金属および金
属酸化物の場合には、一般的に真空蒸着法、スパッター
法などの気相成膜法によって行なわれる。
【０００４】また、記録層が有機色素で構成される場合
には、有機色素を溶媒に溶解した溶液を基板上に塗布す
ることによって記録層を形成している。
には、有機色素を溶媒に溶解した溶液を基板上に塗布す
ることによって記録層を形成している。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、有機色
素溶液を基板に塗布する場合、次の様な問題がある。 （１）溶媒によってプラスチック基板が溶解する。 （２）使用する有機色素が、プラスチック基板を溶解し
ない溶媒に溶解する色素に限定される。
素溶液を基板に塗布する場合、次の様な問題がある。 （１）溶媒によってプラスチック基板が溶解する。 （２）使用する有機色素が、プラスチック基板を溶解し
ない溶媒に溶解する色素に限定される。
【０００６】その結果、ガラス基板、又は光学的に不透
明であるが耐溶剤性の良好な基板上では、溶媒塗布によ
って記録層を形成することができるが、より実体にそく
した光学的に透明なプラスチック基板（たとえば、ＰＣ
又はＰＭＭＡなど）上には、記録・再生特性に優れた有
機色素記録層を形成することが困難である。従って、現
状において開示されている多半の有機色素記録材料を溶
媒塗布方法によってプラスチック基板上に塗布すること
はむずかしい問題点がある。
明であるが耐溶剤性の良好な基板上では、溶媒塗布によ
って記録層を形成することができるが、より実体にそく
した光学的に透明なプラスチック基板（たとえば、ＰＣ
又はＰＭＭＡなど）上には、記録・再生特性に優れた有
機色素記録層を形成することが困難である。従って、現
状において開示されている多半の有機色素記録材料を溶
媒塗布方法によってプラスチック基板上に塗布すること
はむずかしい問題点がある。
【０００７】これらの問題点を解決する方法として、従
来知られている方法としては、 プリグルーブを形成したプラスチック基板上に耐溶剤
性の優れた下引き層を形成し、該下引層上に有機色素記
録層を溶媒塗布方法により形成する。 光学的特性は悪いが耐溶剤性に優れたプラスチック基
材（例えば、ポリエチレンテフタレート）に有機色素を
塗布した後、プリグループ付の基板に貼り合せる。この
方法は、例えば特開昭６１−１１５１８６号公報に開示
されている。また、プリグルーブ付基板に他の基材に塗
布された色素を転写する方法が開示されている。（特願
平２−２７３８１３号）
来知られている方法としては、 プリグルーブを形成したプラスチック基板上に耐溶剤
性の優れた下引き層を形成し、該下引層上に有機色素記
録層を溶媒塗布方法により形成する。 光学的特性は悪いが耐溶剤性に優れたプラスチック基
材（例えば、ポリエチレンテフタレート）に有機色素を
塗布した後、プリグループ付の基板に貼り合せる。この
方法は、例えば特開昭６１−１１５１８６号公報に開示
されている。また、プリグルーブ付基板に他の基材に塗
布された色素を転写する方法が開示されている。（特願
平２−２７３８１３号）
【０００８】しかしながら、の方法では、 （ａ）下引層の形成工程が増加し、製造の歩留の低下を
引きおこす。 （ｂ）Ｓ／Ｎ値の低下を引きおこす。などの問題点があ
る。
引きおこす。 （ｂ）Ｓ／Ｎ値の低下を引きおこす。などの問題点があ
る。
【０００９】また、上記の改良方法では、図５の記録
媒体の断面の模式図で示される様に、プラスチック基板
３の凹凸状のプリグルーブの凹状部に、均一に有機色素
記録層が転写されず、図５（ｂ）で示される様な空間が
不規則に生じる。その結果、プリグルーブからのレーザ
光の反射光によって得られるプリフォーマット信号は不
安定となり、オートトラッキングエラーが発生しやすく
なる。
媒体の断面の模式図で示される様に、プラスチック基板
３の凹凸状のプリグルーブの凹状部に、均一に有機色素
記録層が転写されず、図５（ｂ）で示される様な空間が
不規則に生じる。その結果、プリグルーブからのレーザ
光の反射光によって得られるプリフォーマット信号は不
安定となり、オートトラッキングエラーが発生しやすく
なる。
【００１０】したがって、従来の方法においては、プラ
スチック基板を用い、かつ有機色素を記録層として用い
た光学的情報記録媒体の製造上の問題点が十分に解決さ
れていない。実際には、記録媒体用基板として実用的な
プラスチック基板の表面を溶解しない溶媒を用いて、塗
布法によって記録層を形成する場合においては、使用す
ることができない有機色素媒体が数多く存在する。すな
わち、プラスチック基板を溶解しない溶媒に２〜５ｗｔ
％溶解する有機色素は限定されている。
スチック基板を用い、かつ有機色素を記録層として用い
た光学的情報記録媒体の製造上の問題点が十分に解決さ
れていない。実際には、記録媒体用基板として実用的な
プラスチック基板の表面を溶解しない溶媒を用いて、塗
布法によって記録層を形成する場合においては、使用す
ることができない有機色素媒体が数多く存在する。すな
わち、プラスチック基板を溶解しない溶媒に２〜５ｗｔ
％溶解する有機色素は限定されている。
【００１１】本発明は、この様な従来の問題点を解決す
るためになされたものであり、プラスチック基板を溶解
する溶媒のみに溶解可能な有機色素からなる記録層を、
プリグルーブの形成と同時にプラスチック基板上に転写
性良く形成することが可能な情報記録媒体の製造方法を
提供することを目的とするものである。
るためになされたものであり、プラスチック基板を溶解
する溶媒のみに溶解可能な有機色素からなる記録層を、
プリグルーブの形成と同時にプラスチック基板上に転写
性良く形成することが可能な情報記録媒体の製造方法を
提供することを目的とするものである。
【００１２】
【課題を解決するための手段】即ち、本発明は、表面に
凸凹状プリフォーマットパターンを有しているプラスチ
ック基板の、該表面上に有機色素記録層を具備している
情報記録媒体の製造方法であつて、表面に該凸凹状プリ
フォーマットパターンに対応する凸部を有する転写用原
盤の該凸部上に該有機色素記録層を形成した後、該転写
用原盤を該プラスチック基板に押圧して、該プラスチッ
ク基板に該凸凹状プリフォーマットパターンを形成する
と共に該有機色素記録層を転写する工程を有することを
特徴とする情報記録媒体の製造方法である。
凸凹状プリフォーマットパターンを有しているプラスチ
ック基板の、該表面上に有機色素記録層を具備している
情報記録媒体の製造方法であつて、表面に該凸凹状プリ
フォーマットパターンに対応する凸部を有する転写用原
盤の該凸部上に該有機色素記録層を形成した後、該転写
用原盤を該プラスチック基板に押圧して、該プラスチッ
ク基板に該凸凹状プリフォーマットパターンを形成する
と共に該有機色素記録層を転写する工程を有することを
特徴とする情報記録媒体の製造方法である。
【００１３】以下、本発明を詳細に説明する。本発明
は、プラスチック基板上に凹凸形状のプリフォーマット
パターンおよび、有機色素記録層を形成してなる光学的
情報記録媒体を製造する方法において、凹凸形状のプリ
フォーマットパターンの形成と、有機色素記録層の形成
を同時に行い、かつ有機色素記録層をプラスチック基板
上へ形成する方法として、熱プレス又は光による転写法
によって形成することを特徴とする光記録媒体の製造方
法である。
は、プラスチック基板上に凹凸形状のプリフォーマット
パターンおよび、有機色素記録層を形成してなる光学的
情報記録媒体を製造する方法において、凹凸形状のプリ
フォーマットパターンの形成と、有機色素記録層の形成
を同時に行い、かつ有機色素記録層をプラスチック基板
上へ形成する方法として、熱プレス又は光による転写法
によって形成することを特徴とする光記録媒体の製造方
法である。
【００１４】本発明により、プラスチック基板上に、該
基板に溶媒によるダメージをあたえることなく、かつ凹
凸状プリグルーブの凹状部への有機記録層の安定した転
写性を有する光学的情報記録媒体を得ることができる。
基板に溶媒によるダメージをあたえることなく、かつ凹
凸状プリグルーブの凹状部への有機記録層の安定した転
写性を有する光学的情報記録媒体を得ることができる。
【００１５】また、本発明の方法により、耐溶剤性の低
いプラスチック基板上に設けることができなかった有機
色素記録層を、凹凸状プリフォーマットが形成されたプ
ラスチック基板上に安定して形成することが可能となっ
た。
いプラスチック基板上に設けることができなかった有機
色素記録層を、凹凸状プリフォーマットが形成されたプ
ラスチック基板上に安定して形成することが可能となっ
た。
【００１６】図１は本発明の情報記録媒体の製造方法の
一例を示す模式図である。同図において、本発明の情報
記録媒体の製造方法は、クロムからなる幅３μｍ、高さ
３０００ÅのＡＴ用プリフォーマットパターニング用の
凸状部６を１２μｍピッチで形成したプレス原盤１のク
ロムパターン形成表面上に、有機色素溶液を溶媒塗布法
によって形成し、溶媒を十分蒸発させ有機色素膜２ａを
形成する（図１（ａ）参照）。
一例を示す模式図である。同図において、本発明の情報
記録媒体の製造方法は、クロムからなる幅３μｍ、高さ
３０００ÅのＡＴ用プリフォーマットパターニング用の
凸状部６を１２μｍピッチで形成したプレス原盤１のク
ロムパターン形成表面上に、有機色素溶液を溶媒塗布法
によって形成し、溶媒を十分蒸発させ有機色素膜２ａを
形成する（図１（ａ）参照）。
【００１７】次に、プラスチック基板３を、前記有機色
素膜２ａを形成した基板上に接触させ、熱プレスローラ
５，５′を通して、圧力２０〜２００Ｋｇ／ｃｍ2 、温
度１００〜２００℃でプレス成形することによってプラ
スチック基板表面に凹凸状プリグルーブ４と同時に有機
色素記録層２を形成する（図１（ｂ），（ｃ）参照）。
素膜２ａを形成した基板上に接触させ、熱プレスローラ
５，５′を通して、圧力２０〜２００Ｋｇ／ｃｍ2 、温
度１００〜２００℃でプレス成形することによってプラ
スチック基板表面に凹凸状プリグルーブ４と同時に有機
色素記録層２を形成する（図１（ｂ），（ｃ）参照）。
【００１８】熱プレスを行なう場合、転写精度を高くす
るためにプラスチック基板３をあらかじめ熱変形温度の
近傍の温度に加温しておくことが望ましい。又は、通常
の平行平板プレスによって、圧力２０〜２００Ｋｇ、温
度１００〜２００℃、時間１０〜６０ｓｅｃで圧縮成形
することによって図１Ａに示される様な記録媒体を得る
ことができる。
るためにプラスチック基板３をあらかじめ熱変形温度の
近傍の温度に加温しておくことが望ましい。又は、通常
の平行平板プレスによって、圧力２０〜２００Ｋｇ、温
度１００〜２００℃、時間１０〜６０ｓｅｃで圧縮成形
することによって図１Ａに示される様な記録媒体を得る
ことができる。
【００１９】プレス原盤としては、転写圧力が低い場合
はガラス板を用いた通常のフォトマスクパターンを用い
ることができる。（図２（ａ）参照）また、転写圧力が
高い場合は、第２図（ａ）〜（ｆ）で示される様な方法
で、２Ｐ材を用いて、注型成形により光硬化させ、電鋳
により作成された電鋳製のプレス原盤を用いる。
はガラス板を用いた通常のフォトマスクパターンを用い
ることができる。（図２（ａ）参照）また、転写圧力が
高い場合は、第２図（ａ）〜（ｆ）で示される様な方法
で、２Ｐ材を用いて、注型成形により光硬化させ、電鋳
により作成された電鋳製のプレス原盤を用いる。
【００２０】さらに、連続生産性を高めるためには、図
２で作成したプレス原盤をロール状に固定し、図３に模
式的に示される製造方法によって情報記録媒体を製造す
ることができる。すなわち、有機色素溶液１７をグラビ
アコータ１４でロール状プレス原盤１５に転写し、溶媒
を乾燥後、プラスチック基板３をロール状プレス原盤１
５とプレス用鏡面ロール１６の間を通すことによって、
プラスチック基板上にプリグルーブと有機色素記録層２
を同時に形成することができる。図４はロール状プレス
原盤１５を示す斜視図であり、１３は電鋳プレス原盤を
示す。
２で作成したプレス原盤をロール状に固定し、図３に模
式的に示される製造方法によって情報記録媒体を製造す
ることができる。すなわち、有機色素溶液１７をグラビ
アコータ１４でロール状プレス原盤１５に転写し、溶媒
を乾燥後、プラスチック基板３をロール状プレス原盤１
５とプレス用鏡面ロール１６の間を通すことによって、
プラスチック基板上にプリグルーブと有機色素記録層２
を同時に形成することができる。図４はロール状プレス
原盤１５を示す斜視図であり、１３は電鋳プレス原盤を
示す。
【００２１】プレス温度はプラスチック基板のＴｇ近傍
で行なわれ、通常８０〜２００℃付近で行なわれる。プ
レス圧力は、２０〜２００Ｋｇ／ｃｍ2で行なわれる。
また、有機色素記録層の熱分解温度は、用いられるプラ
スチック基板のＴｇ又は熱変形温度よりも５〜１０℃以
上高いことが必要である。
で行なわれ、通常８０〜２００℃付近で行なわれる。プ
レス圧力は、２０〜２００Ｋｇ／ｃｍ2で行なわれる。
また、有機色素記録層の熱分解温度は、用いられるプラ
スチック基板のＴｇ又は熱変形温度よりも５〜１０℃以
上高いことが必要である。
【００２２】本発明において、プラスチック基板として
は光学的に記録・再生に於いて不都合の少ないものが好
ましく、また基板側から記録・再生光を入射する場合に
は、使用する光に対して透過率の高いものであればよ
い。例えば、アクリル系樹脂、ポリエステル樹脂、ポリ
カーボネート樹脂、ビニル系樹脂、ポリスルホン樹脂、
ポリイミド系樹脂、ポリアセタール樹脂、ポリオレフィ
ン樹脂、ポリアミド樹脂、セルロース誘導体などを用い
ることができる。
は光学的に記録・再生に於いて不都合の少ないものが好
ましく、また基板側から記録・再生光を入射する場合に
は、使用する光に対して透過率の高いものであればよ
い。例えば、アクリル系樹脂、ポリエステル樹脂、ポリ
カーボネート樹脂、ビニル系樹脂、ポリスルホン樹脂、
ポリイミド系樹脂、ポリアセタール樹脂、ポリオレフィ
ン樹脂、ポリアミド樹脂、セルロース誘導体などを用い
ることができる。
【００２３】有機色素記録層は、使用する光の波長付
近、例えば再生光のエネルギービームの波長が６５０ｎ
ｍ〜９００ｎｍである場合には、着色記録部に形成され
るピット等に於ける反射率と未記録部のそれとの差が大
きいものが好ましく、また、記録する為には上記の波長
域に吸収のある事が必要である。また、再生光のエネル
ギービームによって記録部および未記録部の反射率の変
化し難いものが好ましい。
近、例えば再生光のエネルギービームの波長が６５０ｎ
ｍ〜９００ｎｍである場合には、着色記録部に形成され
るピット等に於ける反射率と未記録部のそれとの差が大
きいものが好ましく、また、記録する為には上記の波長
域に吸収のある事が必要である。また、再生光のエネル
ギービームによって記録部および未記録部の反射率の変
化し難いものが好ましい。
【００２４】有機色素記録層を形成するには、有機色素
薄膜が色素の溶液又は分散系による連続塗布が可能であ
るものが量産製造に好ましい。例えば、アントラキノン
誘導体（特にインダスレン骨格を有するもの）、ジオキ
サジン化合物及びその誘導体、トリフェノジチアジン化
合物、フェナンスレン誘導体、シアニン化合物、メロシ
アニン化合物、ピリリウム系化合物、キサンチン系化合
物、トリフェニルメタン系化合物、クロコニウム系色
素、アゾ色素、クロコン類、アジン類、インジゴイド
類、メチン系色素、アズレン類、スクアリウム誘導体、
硫化染料及び金属のジチオラート錯体等の色素を挙げる
ことが出来る。また、これらの染料の中にすでに公知の
クエンチャー、金属錯体、赤外吸収剤を添加することが
できる。
薄膜が色素の溶液又は分散系による連続塗布が可能であ
るものが量産製造に好ましい。例えば、アントラキノン
誘導体（特にインダスレン骨格を有するもの）、ジオキ
サジン化合物及びその誘導体、トリフェノジチアジン化
合物、フェナンスレン誘導体、シアニン化合物、メロシ
アニン化合物、ピリリウム系化合物、キサンチン系化合
物、トリフェニルメタン系化合物、クロコニウム系色
素、アゾ色素、クロコン類、アジン類、インジゴイド
類、メチン系色素、アズレン類、スクアリウム誘導体、
硫化染料及び金属のジチオラート錯体等の色素を挙げる
ことが出来る。また、これらの染料の中にすでに公知の
クエンチャー、金属錯体、赤外吸収剤を添加することが
できる。
【００２５】かかる色素からなる有機系薄膜は、色素を
溶媒に溶解または分散した後、溶存酸素を除去した色素
溶液を公知の塗布方法により塗工することにより形成さ
れる。
溶媒に溶解または分散した後、溶存酸素を除去した色素
溶液を公知の塗布方法により塗工することにより形成さ
れる。
【００２６】
【実施例】以下に実施例を挙げて本発明を具体的に説明
する。
する。
【００２７】実施例１ 下記構造式（１）で示されるアズレン系色素をジクロル
エタン溶媒に３．０ｗｔ％の濃度になるように溶解さ
せ、
エタン溶媒に３．０ｗｔ％の濃度になるように溶解さ
せ、
【００２８】
【化４】
【００２９】 λmax ＝８５１ｎｍ， ε＝１．４３×１０5 ｍｏｌ-1
【００３０】図１に示す様なニッケル電鋳プレス原盤上
にスピンコーターで塗布し、溶媒を乾燥して除去して有
機色素膜を形成した。次に、温度１００℃の環境下に２
０分間放置した厚さ０．４ｍｍのＰＭＭＡ基板を該プレ
ス原盤上にかさね合わせ、１６０℃の熱プレスローラ
５、５′の間を圧力８０Ｋｇ／ｃｍ2 ，ローラの回転速
度０．２ｍ／ｍｉｎで通過させることによって凹凸状プ
リグルーブ４および有機色素記録層２が同時に形成され
た図１に示される記録媒体Ａを作成した。
にスピンコーターで塗布し、溶媒を乾燥して除去して有
機色素膜を形成した。次に、温度１００℃の環境下に２
０分間放置した厚さ０．４ｍｍのＰＭＭＡ基板を該プレ
ス原盤上にかさね合わせ、１６０℃の熱プレスローラ
５、５′の間を圧力８０Ｋｇ／ｃｍ2 ，ローラの回転速
度０．２ｍ／ｍｉｎで通過させることによって凹凸状プ
リグルーブ４および有機色素記録層２が同時に形成され
た図１に示される記録媒体Ａを作成した。
【００３１】次に、記録媒体Ａの有機色素記録層を形成
した面上にエチレン−酢酸ビニル（ＥＶＡ）系のホット
メルト系接着剤（ヒロダイン７５８０又は日本マタイエ
ルフォンＯＨ５０６）を介して、厚み０．３ｍｍの保護
基板をラミネート加工し、さらに０．４ｍｍのＰＭＭＡ
基板表面上にハードコート層を設け、カード状に切断す
ることによって光カード記録媒体を得ることができた。
した面上にエチレン−酢酸ビニル（ＥＶＡ）系のホット
メルト系接着剤（ヒロダイン７５８０又は日本マタイエ
ルフォンＯＨ５０６）を介して、厚み０．３ｍｍの保護
基板をラミネート加工し、さらに０．４ｍｍのＰＭＭＡ
基板表面上にハードコート層を設け、カード状に切断す
ることによって光カード記録媒体を得ることができた。
【００３２】従来、上記構造式（Ｉ）で示されるアズレ
ン系有機色素媒体は、エタノール等のアルコール系、ジ
アセトンアルコール等のプラスチック基板を溶解しない
溶媒には溶解しない。
ン系有機色素媒体は、エタノール等のアルコール系、ジ
アセトンアルコール等のプラスチック基板を溶解しない
溶媒には溶解しない。
【００３３】実施例２ 実施例１で示される有機色素を下記の構造式（２）で示
される色素に変えても、同様な光記録媒体を製造するこ
とができた。
される色素に変えても、同様な光記録媒体を製造するこ
とができた。
【００３４】
【化５】
【００３５】 λmax ＝８１８ｎｍ， ε＝１．１６×１０5 ｍｏｌ-1
【００３６】実施例３ 実施例２で示される有機色素を下記の構造式（３）で示
される色素に変えても、同様な光記録媒体を製造するこ
とができた。
される色素に変えても、同様な光記録媒体を製造するこ
とができた。
【００３７】
【化６】
【００３８】 λmax ＝８１５ｎｍ， ε＝１．５４×１０5 ｍｏｌ-1
【００３９】
【発明の効果】以上説明した様に、本発明により、従
来、ジクロルエタン、ジクロルメタン等のプラスチック
基板を溶解する溶媒のみに溶解可能な有機色素からなる
記録層を、プリグルーブの形成と同時にプラスチック基
板上に転写性良く形成することが可能となった。
来、ジクロルエタン、ジクロルメタン等のプラスチック
基板を溶解する溶媒のみに溶解可能な有機色素からなる
記録層を、プリグルーブの形成と同時にプラスチック基
板上に転写性良く形成することが可能となった。
【図１】本発明の情報記録媒体の製造方法の一例を示す
模式図である。
模式図である。
【図２】プリフォーマットパターンが形成された熱プレ
ス原盤の製造方法を示す工程図である。
ス原盤の製造方法を示す工程図である。
【図３】本発明の情報記録媒体の連続的製造方法を示す
模式図である。
模式図である。
【図４】ロール状プレス原盤を示す斜視図である。
【図５】従来の熱転写によるプリグルーブ形成基板への
記録層の転写例を示す説明図である。
記録層の転写例を示す説明図である。
【符号の説明】 １ プレス原盤 ２ 有機色素記録層 ２ａ 有機色素膜 ３ プラスチック基板 ４ 凹凸状プリフォーマット ５，５′ プレスローラ上部 ６ 凸状部 ７ ガラス ８ プリフォーマットパターン ９ ２Ｐ材 １０ ＵＶランプ １１ ２Ｐ硬化層 １２ 電鋳 １３ 電鋳プレス原盤 １４ グラビアコータ １５ ロール状プレス原盤 １６ プレス用鏡面ロール １７ 有機色素溶液
Claims (6)
- 【請求項１】 表面に凸凹状プリフォーマットパターン
を有しているプラスチック基板の、該表面上に有機色素
記録層を具備している情報記録媒体の製造方法であつ
て、表面に該凸凹状プリフォーマットパターンに対応す
る凸部を有する転写用原盤の該凸部上に該有機色素記録
層を形成した後、該転写用原盤を該プラスチック基板に
押圧して、該プラスチック基板に該凸凹状プリフォーマ
ットパターンを形成すると共に該有機色素記録層を転写
する工程を有することを特徴とする情報記録媒体の製造
方法。 - 【請求項２】 該有機色素が、該プラスチック基板のガ
ラス転移温度または熱変形温度よりも５℃以上高い熱分
解温度を有するものである請求項１記載の情報記録媒体
の製造方法。 - 【請求項３】 該有機色素が、該プラスチック基板のガ
ラス転移温度または熱変形温度よりも１０℃以上高い熱
分解温度を有するものである請求項２記載の情報記録媒
体の製造方法。 - 【請求項４】 該基板がポリメチルメタクリレート基板
で、該有機色素が下記構造式（１）で示されるアズレニ
ウム色素である請求項１記載の情報記録媒体の製造方
法。 【化１】 - 【請求項５】 該基板がポリメチルメタクリレート基板
で、該有機色素が下記構造式（２）で示されるポリメチ
ン色素である請求項１記載の情報記録媒体の 製造方法。 【化２】 - 【請求項６】 該基板がポリメチルメタクリレート基板
で、該有機色素が下記構造式（３）で示されるポリメチ
ン色素である請求項１記載の情報記録媒体の製造方法。 【化３】
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3252767A JP3068275B2 (ja) | 1991-09-05 | 1991-09-05 | 情報記録媒体の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3252767A JP3068275B2 (ja) | 1991-09-05 | 1991-09-05 | 情報記録媒体の製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0562258A JPH0562258A (ja) | 1993-03-12 |
| JP3068275B2 true JP3068275B2 (ja) | 2000-07-24 |
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ID=17242015
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
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| JP3252767A Expired - Fee Related JP3068275B2 (ja) | 1991-09-05 | 1991-09-05 | 情報記録媒体の製造方法 |
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| JP (1) | JP3068275B2 (ja) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4883628A (en) * | 1983-12-05 | 1989-11-28 | Allied-Signal Inc. | Method for preparing tenacity and modulus polyacrylonitrile fiber |
-
1991
- 1991-09-05 JP JP3252767A patent/JP3068275B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
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| JPH0562258A (ja) | 1993-03-12 |
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