JP3060092B2 - 光硬化型塗料組成物 - Google Patents
光硬化型塗料組成物Info
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Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は光照射により硬化可
能な光硬化型塗料組成物に関する。
能な光硬化型塗料組成物に関する。
【０００２】
【従来の技術】近年、有機溶剤を使用する塗料は、作業
者に対する有毒性、火災の危険性、環境汚染、乾燥速度
及び、溶剤の浪費などに問題があるため、有機溶剤を必
須成分として含まず、活性エネルギー線の照射による硬
化を利用した、無溶剤系の塗料が検討されている。無溶
剤系の塗料として、ラジカル重合型の不飽和ポリエステ
ル、ポリエステルアクリレート、ウレタンアクリレー
ト、シリコーンアクリレート、エポキシアクリレートが
あるがラジカル光重合型の硬化は体積収縮が起こり、基
材密着性が劣り、さらに、アクリル系樹脂は特有の臭気
を有し、皮膚刺激性が高いという問題点がある。これら
の問題点を克服する組成物としてエポキシ系光カチオン
ＵＶ硬化樹脂があるが、光反応性が低いため、硬化時に
大きなＵＶエネルギーを必要とする。そのため、高ＵＶ
エネルギー照射装置を必要としたり、照射時間が長くか
かるという欠点があった。
者に対する有毒性、火災の危険性、環境汚染、乾燥速度
及び、溶剤の浪費などに問題があるため、有機溶剤を必
須成分として含まず、活性エネルギー線の照射による硬
化を利用した、無溶剤系の塗料が検討されている。無溶
剤系の塗料として、ラジカル重合型の不飽和ポリエステ
ル、ポリエステルアクリレート、ウレタンアクリレー
ト、シリコーンアクリレート、エポキシアクリレートが
あるがラジカル光重合型の硬化は体積収縮が起こり、基
材密着性が劣り、さらに、アクリル系樹脂は特有の臭気
を有し、皮膚刺激性が高いという問題点がある。これら
の問題点を克服する組成物としてエポキシ系光カチオン
ＵＶ硬化樹脂があるが、光反応性が低いため、硬化時に
大きなＵＶエネルギーを必要とする。そのため、高ＵＶ
エネルギー照射装置を必要としたり、照射時間が長くか
かるという欠点があった。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、有機溶剤、
刺激性のモノマー、オリゴマーを含まず、ＵＶ等の活性
エネルギー線を照射することにより、高速に硬化し、基
材密着性にすぐれる塗料用組成物を提供することを目的
とする。従って、本発明は、従来技術における種々の問
題点、すなわち作業者に対する有害性、環境汚染、臭気
対策、硬化速度、塗料としての物性を大幅に改善するも
のである。
刺激性のモノマー、オリゴマーを含まず、ＵＶ等の活性
エネルギー線を照射することにより、高速に硬化し、基
材密着性にすぐれる塗料用組成物を提供することを目的
とする。従って、本発明は、従来技術における種々の問
題点、すなわち作業者に対する有害性、環境汚染、臭気
対策、硬化速度、塗料としての物性を大幅に改善するも
のである。
【０００４】
【課題を解決するための手段】本発明者は上記課題を解
決するため、鋭意検討した結果、本発明に到達した。す
なわち、本発明の光硬化型塗料組成物の特徴は、一般式
（１）で表されるプロペニルエーテル末端基を有する
（ポリ）エーテルオリゴマー、プロペニルエーテル末端
基を有するポリエステルオリゴマー、プロペニルエーテ
ル末端基を有するウレタンオリゴマーおよび一般式
（６）、一般式（６’）または一般式（７）で表される
プロペニルエーテル末端基を有するモノマーの群から選
ばれる少なくとも２個のプロペニルエーテル末端基を有
する化合物（Ａ）の１種以上、並びに光重合開始剤
（Ｂ）からなる点にある（塩ビ床材被覆用、金属コーテ
ィング用及び光ディスクオーバーコート用を除く）。
決するため、鋭意検討した結果、本発明に到達した。す
なわち、本発明の光硬化型塗料組成物の特徴は、一般式
（１）で表されるプロペニルエーテル末端基を有する
（ポリ）エーテルオリゴマー、プロペニルエーテル末端
基を有するポリエステルオリゴマー、プロペニルエーテ
ル末端基を有するウレタンオリゴマーおよび一般式
（６）、一般式（６’）または一般式（７）で表される
プロペニルエーテル末端基を有するモノマーの群から選
ばれる少なくとも２個のプロペニルエーテル末端基を有
する化合物（Ａ）の１種以上、並びに光重合開始剤
（Ｂ）からなる点にある（塩ビ床材被覆用、金属コーテ
ィング用及び光ディスクオーバーコート用を除く）。
【０００５】
【化１０】 Ｘ1［−Ｏ−（ＡＯ）m−Ｒ1］n （１） ｛式中、ｎは３〜２００の整数であり、ｎ個のｍは０〜
２００の整数であり、ｍの少なくとも１個は１以上であ
る。ｎ個のＲ1の少なくとも２個はプロペニル基であ
り、残りは水素原子、アルキル、アシルまたはアリール
基でもよい。Ａは炭素数２〜１２のアルキレン、アリー
レン、アルアルキレンまたはシクロアルキレン基であ
り、ｍが２以上の場合のＡは同一でも異なっていてもよ
く、（ＡＯ）ｍ部分はランダム付加でもブロック付加で
もよい。Ｘ1は多価アルコール残基である。｝
２００の整数であり、ｍの少なくとも１個は１以上であ
る。ｎ個のＲ1の少なくとも２個はプロペニル基であ
り、残りは水素原子、アルキル、アシルまたはアリール
基でもよい。Ａは炭素数２〜１２のアルキレン、アリー
レン、アルアルキレンまたはシクロアルキレン基であ
り、ｍが２以上の場合のＡは同一でも異なっていてもよ
く、（ＡＯ）ｍ部分はランダム付加でもブロック付加で
もよい。Ｘ1は多価アルコール残基である。｝
【化１１】 Ｘ1［−Ｏ−Ｒ1］n （６） ｛式中、ｎは２〜２００の整数であり、Ｘ1は、ポリグ
リセリン（グリセリンの２〜１８量体）の残基である。
ｎ個のＲ1の少なくとも２個はプロペニル基であり、残
りはアルキル、アシルまたはアリール基でもよい。｝
リセリン（グリセリンの２〜１８量体）の残基である。
ｎ個のＲ1の少なくとも２個はプロペニル基であり、残
りはアルキル、アシルまたはアリール基でもよい。｝
【化１２】 Ｘ1［−Ｏ−Ｒ1］n （６’） ｛式中、ｎは２〜２００の整数であり、Ｘ1は、トリメ
チロールアルカンの２〜３量体の残基である。ｎ個のＲ
1の少なくとも２個はプロペニル基であり、残りは水素
原子、アルキル、アシルまたはアリール基でもよい。｝
チロールアルカンの２〜３量体の残基である。ｎ個のＲ
1の少なくとも２個はプロペニル基であり、残りは水素
原子、アルキル、アシルまたはアリール基でもよい。｝
【化１３】 Ｙ1［−ＣＯ−Ｘ2Ｏ−Ｒ1］n （７） ‖ Ｏ ｛式中、ｎは２〜２００の整数、Ｘ2は、ＨＯＸ2ＯＨで
表されるアルキレンジオール、アリーレンジオール、ポ
リエーテルジオール、ポリウレタンジオールまたはポリ
カーボネートジオールのいずれかのジオールの残基であ
り、Ｙ1は多価カルボン酸残基である。ｎ個のＲ1の少な
くとも２個はプロペニル基であり、残りは水素原子、ア
ルキル、アシルまたはアリール基でもよい。｝
表されるアルキレンジオール、アリーレンジオール、ポ
リエーテルジオール、ポリウレタンジオールまたはポリ
カーボネートジオールのいずれかのジオールの残基であ
り、Ｙ1は多価カルボン酸残基である。ｎ個のＲ1の少な
くとも２個はプロペニル基であり、残りは水素原子、ア
ルキル、アシルまたはアリール基でもよい。｝
【０００６】
【発明の実施の形態】本発明の（Ａ）として、好ましく
はプロペニルエーテル末端基を有するウレタンオリゴマ
ーである。
はプロペニルエーテル末端基を有するウレタンオリゴマ
ーである。
【０００７】一般式（１）において、Ａはアルキレン、
アリーレン、アルアルキレンおよびシクロアルキレン基
よりなる群から選ばれる２価の基であり、使用しうるア
ルキレン基の例には、メチレン、エチレン、プロピレ
ン、ブチレン、ペンチレン、へキシレン、へプチレン、
オクチレン、ノニレン、デシレン、ウンデシレン、ドデ
シレン等があげられる。アリーレン基の例にはフェニレ
ン、ナフチレン、アントリレン、フェナントリレン等が
あげられる。アルアルキレンの例には、ベンジレン、１
−フェニチレン、２−フェニチレン、３−フェニルプロ
ピレン、２−フェニルプロピレン、１−フェニルプロピ
レンなどがあげられる。シクロアルキレン基の例には、
シクロペンチレン、シクロヘキシレン、シクロヘプチレ
ン、シクロオクチレン等があげられる。これらのうち好
ましくは、エチレン基およびプロピレン基である。アル
キレン基が長くなると開始剤の溶解性が悪くなる。
アリーレン、アルアルキレンおよびシクロアルキレン基
よりなる群から選ばれる２価の基であり、使用しうるア
ルキレン基の例には、メチレン、エチレン、プロピレ
ン、ブチレン、ペンチレン、へキシレン、へプチレン、
オクチレン、ノニレン、デシレン、ウンデシレン、ドデ
シレン等があげられる。アリーレン基の例にはフェニレ
ン、ナフチレン、アントリレン、フェナントリレン等が
あげられる。アルアルキレンの例には、ベンジレン、１
−フェニチレン、２−フェニチレン、３−フェニルプロ
ピレン、２−フェニルプロピレン、１−フェニルプロピ
レンなどがあげられる。シクロアルキレン基の例には、
シクロペンチレン、シクロヘキシレン、シクロヘプチレ
ン、シクロオクチレン等があげられる。これらのうち好
ましくは、エチレン基およびプロピレン基である。アル
キレン基が長くなると開始剤の溶解性が悪くなる。
【０００８】Ｘ1は多価アルコール残基であり、多価ア
ルコールとしては以下のものがあげられる。例えば、グ
リセリン、ポリグリセリン（グリセリンの２〜１８量
体、例えばジグリセリン、トリグリセリン、テトラグリ
セリン等）、グリシドールの開環重合物（重合度が２〜
５０００である化合物）、トリメチロールアルカン（ト
リメチロールエタン、トリメチロールプロパン、トリメ
チロールブタン等）および、これらの２〜３量体、モノ
ペンタエリスリトール、ジペンタエリスリトール、１，
３，５−ペンタエリスリトール、ソルビトール、ソルビ
タンソルビタングリセリン縮合物等があげられるが、こ
れらのうち特にグリセリンやポリグリセリンの残基なら
びにトリメチロールアルカンおよびその２〜３量体の残
基等が好ましい。
ルコールとしては以下のものがあげられる。例えば、グ
リセリン、ポリグリセリン（グリセリンの２〜１８量
体、例えばジグリセリン、トリグリセリン、テトラグリ
セリン等）、グリシドールの開環重合物（重合度が２〜
５０００である化合物）、トリメチロールアルカン（ト
リメチロールエタン、トリメチロールプロパン、トリメ
チロールブタン等）および、これらの２〜３量体、モノ
ペンタエリスリトール、ジペンタエリスリトール、１，
３，５−ペンタエリスリトール、ソルビトール、ソルビ
タンソルビタングリセリン縮合物等があげられるが、こ
れらのうち特にグリセリンやポリグリセリンの残基なら
びにトリメチロールアルカンおよびその２〜３量体の残
基等が好ましい。
【０００９】ｎ個のｍは通常０〜２００の整数でありｍ
の少なくとも１個は１以上であり、好ましくは１〜８
０、特に好ましくは１〜５の整数である。ｍが２００を
超えると通常は粘度が高くなり開始剤の溶解が困難にな
る。
の少なくとも１個は１以上であり、好ましくは１〜８
０、特に好ましくは１〜５の整数である。ｍが２００を
超えると通常は粘度が高くなり開始剤の溶解が困難にな
る。
【００１０】ｎは２〜２００、好ましくは３〜１００、
特に好ましくは３〜５の整数である。ｎが２００を超え
ると、通常は粘度が高くなり開始剤の溶解が困難にな
る。ｎ個のＲ1の少なくとも２個はプロペニル基であ
り、残りは水素原子、アルキル、アシルまたはアリール
基でもよい。
特に好ましくは３〜５の整数である。ｎが２００を超え
ると、通常は粘度が高くなり開始剤の溶解が困難にな
る。ｎ個のＲ1の少なくとも２個はプロペニル基であ
り、残りは水素原子、アルキル、アシルまたはアリール
基でもよい。
【００１１】本発明におけるプロペニルエーテル末端基
を有するポリエステルオリゴマーは下記一般式（２）、
（３）または（４）で表される化合物があげられる。
を有するポリエステルオリゴマーは下記一般式（２）、
（３）または（４）で表される化合物があげられる。
【００１２】 ｛式中、ｍは１〜２００の整数、ｎは２〜２００の整数
であり、Ｘ2、Ｘ3はそれぞれＨＯＸ2ＯＨ、ＨＯＸ3ＯＨ
で表されるアルキレンジオール、アリーレンジオール、
ポリエーテルジオール、ポリウレタンジオールまたはポ
リカーボネートジオールのいずれかのジオールの残基で
あり、Ｙ1は多価カルボン酸残基であり、Ｙ2は２価カル
ボン酸残基である。ｎ個のＲ1の少なくとも２個はプロ
ペニル基であり、残りは水素原子、アルキル、アシル又
はアリール基でもよい。｝
であり、Ｘ2、Ｘ3はそれぞれＨＯＸ2ＯＨ、ＨＯＸ3ＯＨ
で表されるアルキレンジオール、アリーレンジオール、
ポリエーテルジオール、ポリウレタンジオールまたはポ
リカーボネートジオールのいずれかのジオールの残基で
あり、Ｙ1は多価カルボン酸残基であり、Ｙ2は２価カル
ボン酸残基である。ｎ個のＲ1の少なくとも２個はプロ
ペニル基であり、残りは水素原子、アルキル、アシル又
はアリール基でもよい。｝
【００１３】一般式（２）におけるＸ2は、ＨＯＸ2ＯＨ
で表されるアルキレンジオール、アリーレンジオール、
ポリエーテルジオール、ポリウレタンジオールまたはポ
リカーボネートジオールのいずれかのジオールの残基で
ある。
で表されるアルキレンジオール、アリーレンジオール、
ポリエーテルジオール、ポリウレタンジオールまたはポ
リカーボネートジオールのいずれかのジオールの残基で
ある。
【００１４】ＨＯＸ2ＯＨで表されるアルキレンジオー
ルの例としては、エチレングリコール、プロピレングリ
コール、１，３−ブタンジオール、１，４−ブタンジオ
ール、１，６−ヘキサンジオール、１，９−ノナンジオ
ール、ネオペンチルグリコール、１．４−シクロヘキサ
ンジオールなどがあげらる。これらのうち好ましくは、
エチレングリコール、およびプロピレングリコールであ
る。
ルの例としては、エチレングリコール、プロピレングリ
コール、１，３−ブタンジオール、１，４−ブタンジオ
ール、１，６−ヘキサンジオール、１，９−ノナンジオ
ール、ネオペンチルグリコール、１．４−シクロヘキサ
ンジオールなどがあげらる。これらのうち好ましくは、
エチレングリコール、およびプロピレングリコールであ
る。
【００１５】ＨＯＸ2ＯＨで表されるアリーレンジオー
ルの例としては、カテコール、ビス（２−ヒドロキシフ
ェニル）メタン、ビス（４−ヒドロキシフェニル）メタ
ン、ビスフェノールＡなどがあげられる。これらのうち
好ましくは、ビスフェノールＡである。
ルの例としては、カテコール、ビス（２−ヒドロキシフ
ェニル）メタン、ビス（４−ヒドロキシフェニル）メタ
ン、ビスフェノールＡなどがあげられる。これらのうち
好ましくは、ビスフェノールＡである。
【００１６】ＨＯＸ2ＯＨで表されるポリエーテルジオ
ールの例としては、ポリ（オキシエチレン）ジオール、
ポリ（オキシプロピレン）ジオール、ポリ（オキシテト
ラメチレン）ジオール、ビスフェノールＡのエチレンオ
キサイド付加物、およびビスフェノールＡのプロピレン
オキサイド付加物などがあげられる。これらのうち好ま
しくは、ポリ（オキシエチレン）ジオールおよびポリ
（オキシプロピレン）ジオールである。
ールの例としては、ポリ（オキシエチレン）ジオール、
ポリ（オキシプロピレン）ジオール、ポリ（オキシテト
ラメチレン）ジオール、ビスフェノールＡのエチレンオ
キサイド付加物、およびビスフェノールＡのプロピレン
オキサイド付加物などがあげられる。これらのうち好ま
しくは、ポリ（オキシエチレン）ジオールおよびポリ
（オキシプロピレン）ジオールである。
【００１７】上記ポリエーテルジオールの重合度は通常
１〜２００、好ましくは２〜１００、特に好ましくは３
〜２０である。
１〜２００、好ましくは２〜１００、特に好ましくは３
〜２０である。
【００１８】ＨＯＸ2ＯＨで表されるポリウレタンジオ
ールの例としては下記の（ｉ）と（ｉｉ）との反応生成
物があげられる。 （ｉ） Ｈ（ＯＸ5）ｍ−ＯＨで表される化合物 （ｍは０〜２００の整数、Ｘ5は炭素数２〜１２のアル
キレン、アリーレン、アラルキレン、およびシクロアル
キレンの基よりなる群から選ばれる２価の基である） （ｉｉ） ＯＣＮ−Ｚ3−ＮＣＯ （式中、Ｚ3はアルキレン、アリーレン、アラルキレン
およびシクロアルキレンの基からなる群から選ばれる２
価の基である）
ールの例としては下記の（ｉ）と（ｉｉ）との反応生成
物があげられる。 （ｉ） Ｈ（ＯＸ5）ｍ−ＯＨで表される化合物 （ｍは０〜２００の整数、Ｘ5は炭素数２〜１２のアル
キレン、アリーレン、アラルキレン、およびシクロアル
キレンの基よりなる群から選ばれる２価の基である） （ｉｉ） ＯＣＮ−Ｚ3−ＮＣＯ （式中、Ｚ3はアルキレン、アリーレン、アラルキレン
およびシクロアルキレンの基からなる群から選ばれる２
価の基である）
【００１９】上記（ｉ）のポリエーテルジオールにおい
てｍは通常０〜２００、好ましくは、３〜２０の整数で
ある。
てｍは通常０〜２００、好ましくは、３〜２０の整数で
ある。
【００２０】上記（ｉ）のポリエーテルジオールにおい
てＸ5は炭素数２〜１２のアルキレン、アリーレン、ア
ラルキレン、およびシクロアルキレンの基よりなる群か
ら選ばれる２価の基であり、使用しうるアルキレン基の
例には、メチレン、エチレン、プロピレン、ブチレン、
ペンチレン、へキシレン、へプチレン、オクチレン、ノ
ニレン、デシレン、ウンデシレン、ドデシレン等があげ
られる。アリーレン基の例にはフェニレン、ナフチレ
ン、アントリレン、フェナントリレン等があげられる。
アルアルキレンの例には、ベンジレン、１−フェニチレ
ン、２−フェニチレン、３−フェニルプロピレン、２−
フェニルプロピレン、１−フェニルプロピレンなどがあ
げられる。シクロアルキレン基の例には、シクロペンチ
レン、シクロヘキシレン、シクロヘプチレン、シクロオ
クチレン等があげられる。これらのうち好ましくは、エ
チレン、プロピレン基である。アルキレン基が長くなる
と開始剤の溶解性が悪くなる。
てＸ5は炭素数２〜１２のアルキレン、アリーレン、ア
ラルキレン、およびシクロアルキレンの基よりなる群か
ら選ばれる２価の基であり、使用しうるアルキレン基の
例には、メチレン、エチレン、プロピレン、ブチレン、
ペンチレン、へキシレン、へプチレン、オクチレン、ノ
ニレン、デシレン、ウンデシレン、ドデシレン等があげ
られる。アリーレン基の例にはフェニレン、ナフチレ
ン、アントリレン、フェナントリレン等があげられる。
アルアルキレンの例には、ベンジレン、１−フェニチレ
ン、２−フェニチレン、３−フェニルプロピレン、２−
フェニルプロピレン、１−フェニルプロピレンなどがあ
げられる。シクロアルキレン基の例には、シクロペンチ
レン、シクロヘキシレン、シクロヘプチレン、シクロオ
クチレン等があげられる。これらのうち好ましくは、エ
チレン、プロピレン基である。アルキレン基が長くなる
と開始剤の溶解性が悪くなる。
【００２１】上記（ｉｉ）のジイソシアネートの例とし
ては、トルエンジイソシアネート（ＴＤＩ）、ｐ−およ
び、ｍ−フェニレンジイソシアネート、１，４−テトラ
メチレンジイソシアネート、１，６−ヘキサメチレンジ
イソシアネート、２，２，４−トリメチルヘキサメチレ
ンジイソシアネート、１，４−シクロヘキサンジイソシ
アネート、４，４’−ジシクロヘキシルメタンジイソシ
アネート（デスモジュールＷ）、４，４’−ジフェニル
メタンジイソシアネート（ＭＤＩ）、３，３’−ジメチ
ル−４、４’−ジフェニルメタンジイソシアネート、
１，５−テトラヒドロナフタリンジイソシアネート、ナ
フタリン−１，５’−ジイソシアネート、ビス（２−メ
チル−３−イソシアネートフェニル）メタン、４，４’
−ジフェニルプロパンジイソシアネート、テトラメチル
キシレンジイソシアネート（ＴＭＸＤＩ）、イソホロン
ジイソシアネート（ＩＰＤＩ）などがあげられる。これ
らのうち好ましくは、トルエンジイソシアネート（ＴＤ
Ｉ）、４，４’−ジフェニルメタンジイソシアネート
（ＭＤＩ）、イソホロンジイソシアネート（ＩＰＤ
Ｉ）、テトラメチルキシレンジイソシアネート（ＴＭＸ
ＤＩ）、４，４’−ジシクロヘキシルメタンジイソシア
ネート（デスモジュールＷ）、１，６−ヘキサメチレン
ジイソシアネートである。
ては、トルエンジイソシアネート（ＴＤＩ）、ｐ−およ
び、ｍ−フェニレンジイソシアネート、１，４−テトラ
メチレンジイソシアネート、１，６−ヘキサメチレンジ
イソシアネート、２，２，４−トリメチルヘキサメチレ
ンジイソシアネート、１，４−シクロヘキサンジイソシ
アネート、４，４’−ジシクロヘキシルメタンジイソシ
アネート（デスモジュールＷ）、４，４’−ジフェニル
メタンジイソシアネート（ＭＤＩ）、３，３’−ジメチ
ル−４、４’−ジフェニルメタンジイソシアネート、
１，５−テトラヒドロナフタリンジイソシアネート、ナ
フタリン−１，５’−ジイソシアネート、ビス（２−メ
チル−３−イソシアネートフェニル）メタン、４，４’
−ジフェニルプロパンジイソシアネート、テトラメチル
キシレンジイソシアネート（ＴＭＸＤＩ）、イソホロン
ジイソシアネート（ＩＰＤＩ）などがあげられる。これ
らのうち好ましくは、トルエンジイソシアネート（ＴＤ
Ｉ）、４，４’−ジフェニルメタンジイソシアネート
（ＭＤＩ）、イソホロンジイソシアネート（ＩＰＤ
Ｉ）、テトラメチルキシレンジイソシアネート（ＴＭＸ
ＤＩ）、４，４’−ジシクロヘキシルメタンジイソシア
ネート（デスモジュールＷ）、１，６−ヘキサメチレン
ジイソシアネートである。
【００２２】ＨＯＸ2ＯＨで表されるポリカーボネート
ジオールの例としては下記の一般式であげられる化合物
があげられる。 （ｍは１〜２００の整数であり、Ｘ6は炭素数２〜１２
のアルキレン、アリーレン、アラルキレン、およびシク
ロアルキレンの基よりなる群から選ばれる２価の基であ
る）
ジオールの例としては下記の一般式であげられる化合物
があげられる。 （ｍは１〜２００の整数であり、Ｘ6は炭素数２〜１２
のアルキレン、アリーレン、アラルキレン、およびシク
ロアルキレンの基よりなる群から選ばれる２価の基であ
る）
【００２３】上記一般式においてｍは通常１〜２００の
整数、好ましくは３〜２０の整数である。
整数、好ましくは３〜２０の整数である。
【００２４】上記のポリカーボネートジオールにおいて
Ｘ6は炭素数２〜１２のアルキレン、アリーレン、アラ
ルキレン、およびシクロアルキレンの基よりなる群から
選ばれる２価の基であり、使用しうるアルキレン基の例
には、メチレン、エチレン、プロピレン、ブチレン、ペ
ンチレン、へキシレン、へプチレン、オクチレン、ノニ
レン、デシレン、ウンデシレン、ドデシレン等があげら
れる。アリーレン基の例にはフェニレン、ナフチレン、
アントリレン、フェナントリレン等があげられる。アル
アルキレンの例には、ベンジレン、１−フェニチレン、
２−フェニチレン、３−フェニルプロピレン、２−フェ
ニルプロピレン、１−フェニルプロピレンなどがあげら
れる。シクロアルキレン基の例には、シクロペンチレ
ン、シクロヘキシレン、シクロヘプチレン、シクロオク
チレン等があげられる。これらのうち好ましくは、エチ
レン、およびプロピレン基である。アルキレン基が長く
なると開始剤の溶解性が悪くなる。
Ｘ6は炭素数２〜１２のアルキレン、アリーレン、アラ
ルキレン、およびシクロアルキレンの基よりなる群から
選ばれる２価の基であり、使用しうるアルキレン基の例
には、メチレン、エチレン、プロピレン、ブチレン、ペ
ンチレン、へキシレン、へプチレン、オクチレン、ノニ
レン、デシレン、ウンデシレン、ドデシレン等があげら
れる。アリーレン基の例にはフェニレン、ナフチレン、
アントリレン、フェナントリレン等があげられる。アル
アルキレンの例には、ベンジレン、１−フェニチレン、
２−フェニチレン、３−フェニルプロピレン、２−フェ
ニルプロピレン、１−フェニルプロピレンなどがあげら
れる。シクロアルキレン基の例には、シクロペンチレ
ン、シクロヘキシレン、シクロヘプチレン、シクロオク
チレン等があげられる。これらのうち好ましくは、エチ
レン、およびプロピレン基である。アルキレン基が長く
なると開始剤の溶解性が悪くなる。
【００２５】一般式（２）におけるＸ3は、上記のＸ2で
示されるものと同一のものがあげられ、Ｘ2とＸ3は同一
でも、異なっていてもよい。
示されるものと同一のものがあげられ、Ｘ2とＸ3は同一
でも、異なっていてもよい。
【００２６】一般式（２）におけるＹ1は多価カルボン
酸残基であり、Ｙ2は２価カルボン酸残基である。２価
カルボン酸の例としては、フタル酸、イソフタル酸、テ
レフタル酸、シュウ酸、マロン酸、コハク酸、グルタル
酸、アジピン酸等があげられ、３価以上のものとしたは
トリメリット酸、ピリメリット酸、その他のポリカルボ
ン酸等があげられる。これらのうちＹ1、Ｙ2ともにイソ
フタル酸、テレフタル酸、およびアジピン酸が好まし
い。
酸残基であり、Ｙ2は２価カルボン酸残基である。２価
カルボン酸の例としては、フタル酸、イソフタル酸、テ
レフタル酸、シュウ酸、マロン酸、コハク酸、グルタル
酸、アジピン酸等があげられ、３価以上のものとしたは
トリメリット酸、ピリメリット酸、その他のポリカルボ
ン酸等があげられる。これらのうちＹ1、Ｙ2ともにイソ
フタル酸、テレフタル酸、およびアジピン酸が好まし
い。
【００２７】一般式（２）において、ｍは通常１〜２０
０、好ましくは１〜８０、特に好ましくは１〜２０の整
数である。ｍが２００をこえると粘度が高くなり開始剤
の溶解が困難になる。
０、好ましくは１〜８０、特に好ましくは１〜２０の整
数である。ｍが２００をこえると粘度が高くなり開始剤
の溶解が困難になる。
【００２８】一般式（２）おいて、ｎは通常２〜２０
０、好ましくは３〜１００、特に好ましくは３〜２０の
整数である。ｎが２００より大きくなると、粘度が高く
なり開始剤の溶解が困難になる。ｎ個のＲ1の少なくと
も２個はプロペニル基であり、残りは水素原子、アルキ
ル、アシル又はアリール基でもよい。
０、好ましくは３〜１００、特に好ましくは３〜２０の
整数である。ｎが２００より大きくなると、粘度が高く
なり開始剤の溶解が困難になる。ｎ個のＲ1の少なくと
も２個はプロペニル基であり、残りは水素原子、アルキ
ル、アシル又はアリール基でもよい。
【００２９】一般式（３）は、 ｛式中、ｍは１〜２００の整数、ｎは２〜２００の整数
であり、Ｘ2はアルキレンまたはアリーレン基であり、
Ｘ1は多価アルコール残基である。ｎ個のＲ1の少なくと
も２個はプロペニル基であり、残りは水素原子、アルキ
ル、アシルまたはアリール基でもよい。｝で表される。
であり、Ｘ2はアルキレンまたはアリーレン基であり、
Ｘ1は多価アルコール残基である。ｎ個のＲ1の少なくと
も２個はプロペニル基であり、残りは水素原子、アルキ
ル、アシルまたはアリール基でもよい。｝で表される。
【００３０】一般式（３）におけるＸ1は一般式（１）
で示されたものと同一のものがあげられ、Ｘ2、ｍおよ
びｎは、それぞれ一般式（２）で示されたものと同一の
ものがあげられる。
で示されたものと同一のものがあげられ、Ｘ2、ｍおよ
びｎは、それぞれ一般式（２）で示されたものと同一の
ものがあげられる。
【００３１】一般式（４）は、 ｛式中、ｍは１〜２００、ｎは２〜２００の整数であ
り、Ｘ2、Ｘ3はそれぞれ、ＨＯＸ2ＯＨ、ＨＯＸ3ＯＨで
表されるアルキレンジオール、アリーレンジオール、ポ
リエーテルジオール、ポリウレタンジオールまたはポリ
カーボネートジオールのいずれかのジオールの残基であ
り、Ｘ1は多価アルコール残基である。ｎ個のＲ1の少な
くとも２個はプロペニル基であり、残りは水素原子、ア
ルキル、アシル又はアリール基でもよい。｝表される。
り、Ｘ2、Ｘ3はそれぞれ、ＨＯＸ2ＯＨ、ＨＯＸ3ＯＨで
表されるアルキレンジオール、アリーレンジオール、ポ
リエーテルジオール、ポリウレタンジオールまたはポリ
カーボネートジオールのいずれかのジオールの残基であ
り、Ｘ1は多価アルコール残基である。ｎ個のＲ1の少な
くとも２個はプロペニル基であり、残りは水素原子、ア
ルキル、アシル又はアリール基でもよい。｝表される。
【００３２】一般式（４）におけるＸ1は一般式（１）
で示されたものと同一のものがあげられ、Ｘ2、Ｘ3、ｍ
およびｎは、それぞれ一般式（２）で示されたものと同
一のものがあげられ、Ｘ2とＸ3は同一でも、異なってい
てもよい。
で示されたものと同一のものがあげられ、Ｘ2、Ｘ3、ｍ
およびｎは、それぞれ一般式（２）で示されたものと同
一のものがあげられ、Ｘ2とＸ3は同一でも、異なってい
てもよい。
【００３３】本発明の（Ａ）におけるプロペニルエーテ
ル末端基を有するウレタンオリゴマーは下記一般式
（５）で表される。 ｛式中、ｍは０〜２００、ｎは２〜２００の整数であ
り、Ｑ1は−ＯＸ2Ｏ−または−Ｎ（Ｒ2）−Ｘ4−Ｎ（Ｒ
2）−で表される基であり、Ｑ2は−ＯＸ2Ｏ−で表され
る基である。Ｘ2は、ＨＯＸ2ＯＨで表されるアルキルジ
オール、アリールジオール、ポリ エーテルジオール、
ポリエステルジオールまたはポリカーボネートジオール
のいずれかのジオールの残基である。−Ｎ（Ｒ2）−Ｘ4
−Ｎ（Ｒ2）−はＨＮ（Ｒ2）−Ｘ4−Ｎ（Ｒ2）Ｈで表さ
れるジアミン残基であり、Ｘ4は炭素数２〜１２のアル
キレン、アリーレン、アラルキレンまたはシクロアルキ
レン基であり、Ｒ2は炭素数２〜１２のアルキル、アリ
ール、アラルキルまたはシクロアルキル基である。Ｚ1
は多価イソシアネート残基であり、Ｚ2は２価イソシア
ネート残基である。ｎ個のＲ1の少なくとも２個はプロ
ペニル基であり、残りは水素原子、アルキル、アシルま
たはアリール基でもよい。｝
ル末端基を有するウレタンオリゴマーは下記一般式
（５）で表される。 ｛式中、ｍは０〜２００、ｎは２〜２００の整数であ
り、Ｑ1は−ＯＸ2Ｏ−または−Ｎ（Ｒ2）−Ｘ4−Ｎ（Ｒ
2）−で表される基であり、Ｑ2は−ＯＸ2Ｏ−で表され
る基である。Ｘ2は、ＨＯＸ2ＯＨで表されるアルキルジ
オール、アリールジオール、ポリ エーテルジオール、
ポリエステルジオールまたはポリカーボネートジオール
のいずれかのジオールの残基である。−Ｎ（Ｒ2）−Ｘ4
−Ｎ（Ｒ2）−はＨＮ（Ｒ2）−Ｘ4−Ｎ（Ｒ2）Ｈで表さ
れるジアミン残基であり、Ｘ4は炭素数２〜１２のアル
キレン、アリーレン、アラルキレンまたはシクロアルキ
レン基であり、Ｒ2は炭素数２〜１２のアルキル、アリ
ール、アラルキルまたはシクロアルキル基である。Ｚ1
は多価イソシアネート残基であり、Ｚ2は２価イソシア
ネート残基である。ｎ個のＲ1の少なくとも２個はプロ
ペニル基であり、残りは水素原子、アルキル、アシルま
たはアリール基でもよい。｝
【００３４】一般式（５）において、Ｚ2における２価
イソシアネートとしては前記式（ｉｉ）であげられたも
のと同一のものがあげられる。Ｚ1における多価イソシ
アネートとしてはリジンエステルトリイソシアネート、
ヘキサメチレントリイソシアネートおよびポリフェニル
ポリイソシアネート等があげられる。
イソシアネートとしては前記式（ｉｉ）であげられたも
のと同一のものがあげられる。Ｚ1における多価イソシ
アネートとしてはリジンエステルトリイソシアネート、
ヘキサメチレントリイソシアネートおよびポリフェニル
ポリイソシアネート等があげられる。
【００３５】一般式（５）において、Ｑ1は−ＯＸ2Ｏ−
または−Ｎ（Ｒ2）−Ｘ4−Ｎ（Ｒ2）−で表される基で
あり、Ｑ2は−ＯＸ2Ｏ−で表される基である。Ｘ2はＨ
ＯＸ2ＯＨで表されるアルキレンジオール、アリ−レン
ジオール、ポリエーテルジオール、ポリエステルジオー
ルまたはポリカーボネートジオールのいずれかのジオー
ルの残基であり、Ｘ2は一般（２）におけるＸ2と同一の
ものがあげられる。
または−Ｎ（Ｒ2）−Ｘ4−Ｎ（Ｒ2）−で表される基で
あり、Ｑ2は−ＯＸ2Ｏ−で表される基である。Ｘ2はＨ
ＯＸ2ＯＨで表されるアルキレンジオール、アリ−レン
ジオール、ポリエーテルジオール、ポリエステルジオー
ルまたはポリカーボネートジオールのいずれかのジオー
ルの残基であり、Ｘ2は一般（２）におけるＸ2と同一の
ものがあげられる。
【００３６】上記ＨＯＸ2ＯＨがポリエステルジオール
の場合、下記の（ｉｉｉ）と（ｉｖ）との反応生成物が
あげられる。 （ｉｉｉ） Ｈ（ＯＸ7）ｍ−ＯＨ （ｍは０〜２００の整数、Ｘ7は炭素数２〜１２のアル
キレン、アリーレン、アラルキレン、およびシクロアル
キレンの基よりなる群から選ばれる２価の基である） （ｉｖ） ＨＯＯＣ−Ｙ3−ＣＯＯＨ （式中、Ｙ3はアルキレン、アリーレン、アラルキレン
およびシクロアルキレンの基よりなる群から選ばれる２
価の基である）
の場合、下記の（ｉｉｉ）と（ｉｖ）との反応生成物が
あげられる。 （ｉｉｉ） Ｈ（ＯＸ7）ｍ−ＯＨ （ｍは０〜２００の整数、Ｘ7は炭素数２〜１２のアル
キレン、アリーレン、アラルキレン、およびシクロアル
キレンの基よりなる群から選ばれる２価の基である） （ｉｖ） ＨＯＯＣ−Ｙ3−ＣＯＯＨ （式中、Ｙ3はアルキレン、アリーレン、アラルキレン
およびシクロアルキレンの基よりなる群から選ばれる２
価の基である）
【００３７】上記（ｉｉｉ）のポリエーテルジオールに
おいてｍは通常０〜２００、好ましくは、３〜２０の整
数である。
おいてｍは通常０〜２００、好ましくは、３〜２０の整
数である。
【００３８】上記（ｉｉｉ）のポリエーテルジオールに
おいてＸ7は炭素数２〜１２のアルキレン、アリーレ
ン、アラルキレンおよびシクロアルキレンの基よりなる
群から選ばれる２価の基であり、使用しうるアルキレン
基の例には、メチレン、エチレン、プロピレン、ブチレ
ン、ペンチレン、へキシレン、へプチレン、オクチレ
ン、ノニレン、デシレン、ウンデシレン、ドデシレン等
があげられる。アリーレン基の例にはフェニレン、ナフ
チレン、アントリレン、フェナントリレン等があげられ
る。アルアルキレンの例には、ベンジレン、１−フェニ
チレン、２−フェニチレン、３−フェニルプロピレン、
２−フェニルプロピレン、１−フェニルプロピレンなど
があげられる。シクロアルキレン基の例には、シクロペ
ンチレン、シクロヘキシレン、シクロヘプチレン、シク
ロオクチレン等があげられる。これらのうち好ましく
は、エチレン基およびプロピレン基である。アルキレン
基が長くなると開始剤の溶解性が悪くなる。
おいてＸ7は炭素数２〜１２のアルキレン、アリーレ
ン、アラルキレンおよびシクロアルキレンの基よりなる
群から選ばれる２価の基であり、使用しうるアルキレン
基の例には、メチレン、エチレン、プロピレン、ブチレ
ン、ペンチレン、へキシレン、へプチレン、オクチレ
ン、ノニレン、デシレン、ウンデシレン、ドデシレン等
があげられる。アリーレン基の例にはフェニレン、ナフ
チレン、アントリレン、フェナントリレン等があげられ
る。アルアルキレンの例には、ベンジレン、１−フェニ
チレン、２−フェニチレン、３−フェニルプロピレン、
２−フェニルプロピレン、１−フェニルプロピレンなど
があげられる。シクロアルキレン基の例には、シクロペ
ンチレン、シクロヘキシレン、シクロヘプチレン、シク
ロオクチレン等があげられる。これらのうち好ましく
は、エチレン基およびプロピレン基である。アルキレン
基が長くなると開始剤の溶解性が悪くなる。
【００３９】上記（ｉｖ）のジカルボン酸の例として
は、フタル酸、イソフタル酸、テレフタル酸、シュウ
酸、マロン酸、コハク酸、グルタル酸、アジピン酸、ポ
リカルボン酸等があげられる。これらのうち好ましく
は、イソフタル酸、テレフタル酸、およびアジピン酸で
ある。Ｘ4は、一般式（２）におけるＸ2と同一のものが
あげられ、Ｒ2は一般式（１）中のＡで示されたものと
同一のものがあげられ、ｍおよびｎは一般式（２）で示
したものと同一のものがあげられる。
は、フタル酸、イソフタル酸、テレフタル酸、シュウ
酸、マロン酸、コハク酸、グルタル酸、アジピン酸、ポ
リカルボン酸等があげられる。これらのうち好ましく
は、イソフタル酸、テレフタル酸、およびアジピン酸で
ある。Ｘ4は、一般式（２）におけるＸ2と同一のものが
あげられ、Ｒ2は一般式（１）中のＡで示されたものと
同一のものがあげられ、ｍおよびｎは一般式（２）で示
したものと同一のものがあげられる。
【００４０】本発明の（Ａ）におけるプロペニルエーテ
ル末端基を有するモノマーは下記一般式（６）または一
般式（７）で表される。 Ｘ1［−Ｏ−Ｒ1］n （６） （式中、ｎは２〜２００の整数であり、Ｘ1は多価アル
コール残基である。ｎ個のＲ1の少なくとも２個はプロ
ペニル基であり、残りは水素原子、アルキル、アシルま
たはアリール基でもよい。）
ル末端基を有するモノマーは下記一般式（６）または一
般式（７）で表される。 Ｘ1［−Ｏ−Ｒ1］n （６） （式中、ｎは２〜２００の整数であり、Ｘ1は多価アル
コール残基である。ｎ個のＲ1の少なくとも２個はプロ
ペニル基であり、残りは水素原子、アルキル、アシルま
たはアリール基でもよい。）
【００４１】一般式（６）において、ｎは通常２〜２０
０、好ましくは２〜６の整数である。ｎが２００を超え
ると粘度が高くハンドリングが悪くなる。Ｘ1は一般式
（１）で示したものと同一のものがあげられる。
０、好ましくは２〜６の整数である。ｎが２００を超え
ると粘度が高くハンドリングが悪くなる。Ｘ1は一般式
（１）で示したものと同一のものがあげられる。
【００４２】 ｛式中、ｎは２−２００、Ｘ2は、ＨＯＸ2ＯＨで表され
るアルキレンジオール、アリーレンジオール、ポリエー
テルジオール、ポリウレタンジオールまたはポリカーボ
ネートジオールのいずれかのジオールの残基であり、Ｙ
1は多価カルボン酸残基である。ｎ個のＲ1の少なくとも
２個はプロペニル基であり、残りは水素原子、アルキ
ル、アシルまたはアリール基でもよい。｝一般式（７）
において、ｎは通常２〜２００、好ましくは２〜６の整
数である。ｎが２００を超えると粘度が高くハンドリン
グが悪くなる。Ｙ1およびＸ2は一般式（２）であげられ
たものと同一のものがあげられる。
るアルキレンジオール、アリーレンジオール、ポリエー
テルジオール、ポリウレタンジオールまたはポリカーボ
ネートジオールのいずれかのジオールの残基であり、Ｙ
1は多価カルボン酸残基である。ｎ個のＲ1の少なくとも
２個はプロペニル基であり、残りは水素原子、アルキ
ル、アシルまたはアリール基でもよい。｝一般式（７）
において、ｎは通常２〜２００、好ましくは２〜６の整
数である。ｎが２００を超えると粘度が高くハンドリン
グが悪くなる。Ｙ1およびＸ2は一般式（２）であげられ
たものと同一のものがあげられる。
【００４３】本発明において使用される光重合開始剤
（Ｂ）としては、公知の光カチオン重合開始剤が使用で
きる。例えば、トリフェニルスルホニウムヘキサフルオ
ロアンチモネート、トリフェニルスルホニウムホスフェ
ート、Ｐ−（フェニルチオ）フェニルジフェニルスルホ
ニウムヘキサフルオロアンチモネート、Ｐ−（フェニル
チオ）フェニルジフェニルスルホニウムヘキサフルオロ
ホスフェート、４−クロルフェニルジフェニルスルホニ
ウムヘキサフルオロホスフェート、４−クロルフェニル
ジフェニルスルホニウムヘキサフルオロアンチモネー
ト、ビス［４−ジフェニル−スルフォニオ）フェニル］
スルフィド−ビス−ヘキサフルオロフォスフェート、ビ
ス［４−ジフェニル−スルフォニオ）フェニル］スルフ
ィド‐ビス‐ヘキサフルオロアンチモネート、（２、４
−シクロペンタジエン−１−イル）［（１−メチルエチ
ル）ベンゼン］−Ｆｅ−ヘキサフルオロホスフェート等
を挙げることができる。これらは市場より容易に入手す
ることができる。例えば、旭電化（株）製、ＳＰ−１５
０、ＳＰ−１７０、チバ・ガイギー社製、イルガキュア
ー２６１、ユニオンカーバイド社製、ＵＶＲ−６９７
４、ＵＶＲ−６９９０等を挙げることができる。
（Ｂ）としては、公知の光カチオン重合開始剤が使用で
きる。例えば、トリフェニルスルホニウムヘキサフルオ
ロアンチモネート、トリフェニルスルホニウムホスフェ
ート、Ｐ−（フェニルチオ）フェニルジフェニルスルホ
ニウムヘキサフルオロアンチモネート、Ｐ−（フェニル
チオ）フェニルジフェニルスルホニウムヘキサフルオロ
ホスフェート、４−クロルフェニルジフェニルスルホニ
ウムヘキサフルオロホスフェート、４−クロルフェニル
ジフェニルスルホニウムヘキサフルオロアンチモネー
ト、ビス［４−ジフェニル−スルフォニオ）フェニル］
スルフィド−ビス−ヘキサフルオロフォスフェート、ビ
ス［４−ジフェニル−スルフォニオ）フェニル］スルフ
ィド‐ビス‐ヘキサフルオロアンチモネート、（２、４
−シクロペンタジエン−１−イル）［（１−メチルエチ
ル）ベンゼン］−Ｆｅ−ヘキサフルオロホスフェート等
を挙げることができる。これらは市場より容易に入手す
ることができる。例えば、旭電化（株）製、ＳＰ−１５
０、ＳＰ−１７０、チバ・ガイギー社製、イルガキュア
ー２６１、ユニオンカーバイド社製、ＵＶＲ−６９７
４、ＵＶＲ−６９９０等を挙げることができる。
【００４４】本発明において組成物の粘度を調節する目
的で必要に応じて反応性希釈剤（Ｃ）を使用できる。
的で必要に応じて反応性希釈剤（Ｃ）を使用できる。
【００４５】該（Ｃ）は下記一般式（８）であらわされ
る化合物があげられる。 ＣＨ3−ＣＨ＝ＣＨ−Ｏ−Ｘ2−Ｏ−Ｒ3 （８） ｛式中、Ｘ2は、ＨＯＸ2ＯＨで表されるアルキレンジオ
ール、アリーレンジオール、ポリエーテルジオール、ポ
リウレタンジオールまたはポリカーボネートジオールの
いずれかのジオールの残基であり、Ｒ3は炭素数が２〜
１２のアルキル、アリール、アラルキル、シクロアルキ
ル基または水素原子である。｝
る化合物があげられる。 ＣＨ3−ＣＨ＝ＣＨ−Ｏ−Ｘ2−Ｏ−Ｒ3 （８） ｛式中、Ｘ2は、ＨＯＸ2ＯＨで表されるアルキレンジオ
ール、アリーレンジオール、ポリエーテルジオール、ポ
リウレタンジオールまたはポリカーボネートジオールの
いずれかのジオールの残基であり、Ｒ3は炭素数が２〜
１２のアルキル、アリール、アラルキル、シクロアルキ
ル基または水素原子である。｝
【００４６】上記一般式においてＸ2は一般式（２）で
示されたものと同一のものがあげられ、Ｒ3は炭素数が
２〜１２のアルキル、アリール、アラルキル、シクロア
ルキル基または水素原子である。
示されたものと同一のものがあげられ、Ｒ3は炭素数が
２〜１２のアルキル、アリール、アラルキル、シクロア
ルキル基または水素原子である。
【００４７】本発明において（Ａ）、および（Ｂ）の使
用割合は通常（Ａ）９５〜９９．９重量％、（Ｂ）０．
０１〜５重量％、好ましくは（Ａ）９６〜９８重量％、
（Ｂ）２〜４重量％である。
用割合は通常（Ａ）９５〜９９．９重量％、（Ｂ）０．
０１〜５重量％、好ましくは（Ａ）９６〜９８重量％、
（Ｂ）２〜４重量％である。
【００４８】本発明において（Ａ）、（Ｂ）の合計重量
に対して（Ｃ）を通常５〜６０重量％、好ましくは１０
〜３０重量％であり、（Ｃ）が６０重量％をこえると、
硬化速度が大幅に低下する。
に対して（Ｃ）を通常５〜６０重量％、好ましくは１０
〜３０重量％であり、（Ｃ）が６０重量％をこえると、
硬化速度が大幅に低下する。
【００４９】本発明の組成物には必要により（Ａ）とと
もに公知の光ラジカル重合性組成物（Ｄ）を併用するこ
とができる。含有する（Ｄ）の量としては、通常（Ａ）
成分１００重量部に対し０〜１００重量部を使用し、好
ましくは１０〜４０％である。
もに公知の光ラジカル重合性組成物（Ｄ）を併用するこ
とができる。含有する（Ｄ）の量としては、通常（Ａ）
成分１００重量部に対し０〜１００重量部を使用し、好
ましくは１０〜４０％である。
【００５０】本発明の組成物には、更に必要に応じて、
エポキシ樹脂、（例えば、ビスフェノールＡ型エポキシ
樹脂、ビスフェノールＦ型エポキシ樹脂、テトラブロモ
ビスフェノールＡ型エポキシ樹脂、ノボラック型エポキ
シ樹脂等）、顔料、着色剤、無機充填剤、非反応樹脂、
その他各種添加剤等を含有させることができる。
エポキシ樹脂、（例えば、ビスフェノールＡ型エポキシ
樹脂、ビスフェノールＦ型エポキシ樹脂、テトラブロモ
ビスフェノールＡ型エポキシ樹脂、ノボラック型エポキ
シ樹脂等）、顔料、着色剤、無機充填剤、非反応樹脂、
その他各種添加剤等を含有させることができる。
【００５１】使用できる光としては高圧水銀ランプ、メ
タルハライドランプ、低圧水銀ランプ等から放出される
紫外線などをあげることができる。
タルハライドランプ、低圧水銀ランプ等から放出される
紫外線などをあげることができる。
【００５２】以上、詳述した本発明の塗料組成物は、木
工合板、家具、楽器などに使用できる。
工合板、家具、楽器などに使用できる。
【００５３】
【実施例】以下、実施例を以て本発明を具体的に説明す
るが、本発明はこれらに限定されない。
るが、本発明はこれらに限定されない。
【００５４】実施例１ 以下の（Ａ）、（Ｂ）及び（Ｃ）を混合して光硬化型塗
料組成物を得た。 （Ａ） Ｐｒ−Ｏ−（ＣＨ2ＣＨ2Ｏ）12−Ｐｒ ７７部 （Ｂ） ＵＶＲ−６９７４ ３部 （Ｃ） Ｐｒ−Ｏ−ＣＨ2ＣＨ2−ＯＨ ２０部 この組成物を１５０ｍｍ×１００ｍｍ×１０ｍｍ（厚
さ）の合板上にバーコータで塗装し、その後ＵＶ照射装
置で８０Ｗ／ｃｍ高圧水銀灯１灯、照射距離１５ｃｍ、
コンベア速度１０ｍ／分で照射した。硬化状態は良好で
あり、合板との密着性も良好であった。
料組成物を得た。 （Ａ） Ｐｒ−Ｏ−（ＣＨ2ＣＨ2Ｏ）12−Ｐｒ ７７部 （Ｂ） ＵＶＲ−６９７４ ３部 （Ｃ） Ｐｒ−Ｏ−ＣＨ2ＣＨ2−ＯＨ ２０部 この組成物を１５０ｍｍ×１００ｍｍ×１０ｍｍ（厚
さ）の合板上にバーコータで塗装し、その後ＵＶ照射装
置で８０Ｗ／ｃｍ高圧水銀灯１灯、照射距離１５ｃｍ、
コンベア速度１０ｍ／分で照射した。硬化状態は良好で
あり、合板との密着性も良好であった。
【００５５】実施例２ （Ａ）として以下の化合物７７部を用いその他は実施例
１と同様に行った。結果も同様であり良好であった。 Ｙ：テレフタル酸残基
１と同様に行った。結果も同様であり良好であった。 Ｙ：テレフタル酸残基
【００５６】実施例３ （Ａ）として以下の化合物７７部を用いその他は実施例
１と同様に行った。結果も同様であり良好であった。 Ｘ：トリエチレングリコール残基 Ｚ：４，４’−ジフェニルメタンジイソシアネート残基
１と同様に行った。結果も同様であり良好であった。 Ｘ：トリエチレングリコール残基 Ｚ：４，４’−ジフェニルメタンジイソシアネート残基
【００５７】
【発明の効果】本発明は、有機溶剤、刺激性のモノマ
ー、オリゴマーを含まず、ＵＶ等の活性エネルギー線を
照射することにより、高速に硬化し、基材密着性にすぐ
れ、有害性、環境汚染、臭気のない、塗料としての物性
を大幅に改善するものである。
ー、オリゴマーを含まず、ＵＶ等の活性エネルギー線を
照射することにより、高速に硬化し、基材密着性にすぐ
れ、有害性、環境汚染、臭気のない、塗料としての物性
を大幅に改善するものである。
フロントページの続き (56)参考文献 特開 平９−137079（ＪＰ，Ａ) 特開 平９−143390（ＪＰ，Ａ) 特開 平９−143391（ＪＰ，Ａ) 米国特許5334772（ＵＳ，Ａ) “Ｊ．Ｍａｃｒｏｍｏｌ．Ｓｃｉ．, Ｐｕｒｅ Ａｐｐｌ．Ｃｈｅｍ．”, 1994年，Ａ31（12），ｐ．1927−1941 (58)調査した分野(Int.Cl.7，ＤＢ名) C09D 4/00 C08F 299/06 C09D 167/07 C09D 175/16 ＣＡ（ＳＴＮ) ＣＡＯＬＤ（ＳＴＮ) ＲＥＧＩＳＴＲＹ（ＳＴＮ)
Claims (9)
- 【請求項１】 一般式（１）で表されるプロペニルエー
テル末端基を有する（ポリ）エーテルオリゴマー、プロ
ペニルエーテル末端基を有するポリエステルオリゴマ
ー、プロペニルエーテル末端基を有するウレタンオリゴ
マーおよび一般式（６）、一般式（６’）または一般式
（７）で表されるプロペニルエーテル末端基を有するモ
ノマーの群から選ばれる少なくとも２個のプロペニルエ
ーテル末端基を有する化合物（Ａ）の１種以上、並びに
光重合開始剤（Ｂ）からなる光硬化型塗料組成物（塩ビ
床材被覆用、金属コーティング用及び光ディスクオーバ
ーコート用を除く。）。 【化１】 Ｘ1［−Ｏ−（ＡＯ）m−Ｒ1］n （１） ｛式中、ｎは３〜２００の整数であり、ｎ個のｍは０〜
２００の整数であり、ｍの少なくとも１個は１以上であ
る。ｎ個のＲ1の少なくとも２個はプロペニル基であ
り、残りは水素原子、アルキル、アシルまたはアリール
基でもよい。Ａは炭素数２〜１２のアルキレン、アリー
レン、アルアルキレンまたはシクロアルキレン基であ
り、ｍが２以上の場合のＡは同一でも異なっていてもよ
く、（ＡＯ）ｍ部分はランダム付加でもブロック付加で
もよい。Ｘ1は多価アルコール残基である。｝ 【化２】 Ｘ1［−Ｏ−Ｒ1］n （６） ｛式中、ｎは２〜２００の整数であり、Ｘ1は、ポリグ
リセリン（グリセリンの２〜１８量体）の残基である。
ｎ個のＲ1の少なくとも２個はプロペニル基であり、残
りはアルキル、アシルまたはアリール基でもよい。｝ 【化３】 Ｘ1［−Ｏ−Ｒ1］n （６’） ｛式中、ｎは２〜２００の整数であり、Ｘ1は、トリメ
チロールアルカンの２〜３量体の残基である。ｎ個のＲ
1の少なくとも２個はプロペニル基であり、残りは水素
原子、アルキル、アシルまたはアリール基でもよい。｝ 【化４】 Ｙ1［−ＣＯ−Ｘ2Ｏ−Ｒ1］n （７） ‖ Ｏ ｛式中、ｎは２〜２００の整数、Ｘ2は、ＨＯＸ2ＯＨで
表されるアルキレンジオール、アリーレンジオール、ポ
リエーテルジオール、ポリウレタンジオールまたはポリ
カーボネートジオールのいずれかのジオールの残基であ
り、Ｙ1は多価カルボン酸残基である。ｎ個のＲ1の少な
くとも２個はプロペニル基であり、残りは水素原子、ア
ルキル、アシルまたはアリール基でもよい。｝ - 【請求項２】 プロペニルエーテル末端基を有するポリ
エステルオリゴマーが下記一般式（２）、一般式（３）
または一般式は（４）で表されるオリゴマーである請求
項１記載の組成物。 【化５】 Ｙ1［−ＣＯ−（Ｘ2Ｏ−ＣＹ2Ｃ−Ｏ）m−Ｘ3Ｏ−Ｒ1］n （２） ‖ ‖ ‖ Ｏ Ｏ Ｏ ｛式中、ｍは１〜２００の整数、ｎは２〜２００の整数
であり、Ｘ2、Ｘ3はそれぞれＨＯＸ2ＯＨ、ＨＯＸ3ＯＨ
で表されるアルキレンジオール、アリーレンジオール、
ポリエーテルジオール、ポリウレタンジオールまたはポ
リカーボネートジオールのいずれかのジオールの残基で
あり、Ｙ1は多価カルボン酸残基であり、Ｙ2は２価カル
ボン酸残基である。ｎ個のＲ1の少なくとも２個はプロ
ペニル基であり、残りは水素原子、アルキル、アシルま
たはアリール基でもよい。｝ 【化６】 Ｘ1［−Ｏ−（ＣＸ2Ｏ）m−Ｒ1］n （３） ‖ Ｏ ｛式中、ｍは１〜２００の整数、ｎは２〜２００の整数
であり、Ｘ2はアルキレンまたはアリーレン基であり、
Ｘ1は多価アルコール残基である。ｎ個のＲ1の少なくと
も２個はプロペニル基であり、残りは水素原子、アルキ
ル、アシルまたはアリール基でもよい。｝ 【化７】 Ｘ1［−（ＯＸ2ＯＣ）m−ＯＸ3Ｏ−Ｒ1］n （４） ‖ Ｏ ｛式中、ｍは１〜２００、ｎは２〜２００の整数であ
り、Ｘ2、Ｘ3はそれぞれ、ＨＯＸ2ＯＨ、ＨＯＸ3ＯＨで
表されるアルキレンジオール、アリーレンジオール、ポ
リエーテルジオール、ポリウレタンジオールまたはポリ
カーボネートジオールのいずれかのジオールの残基であ
り、Ｘ1は多価アルコール残基である。ｎ個のＲ1の少な
くとも２個はプロペニル基であり、残りは水素原子、ア
ルキル、アシル又はアリール基でもよい。｝ - 【請求項３】 プロペニルエーテル末端基を有するウレ
タンオリゴマーが下記一般式（５）で表されるオリゴマ
ーである請求項１記載の組成物。 【化８】 Ｚ1［−Ｎ−Ｃ−（Ｑ1−Ｃ−ＮＺ2Ｎ−Ｃ）m−Ｑ2−Ｒ1］n （５） ｜ ‖ ‖ ｜ ｜ ‖ Ｈ Ｏ Ｏ Ｈ Ｈ Ｏ ｛式中、ｍは０〜２００、ｎは２〜２００の整数であ
り、Ｑ1は−ＯＸ2Ｏ−または−Ｎ（Ｒ2）−Ｘ4−Ｎ（Ｒ
2）−で表される基であり、Ｑ2は−ＯＸ2Ｏ−で表され
る基である。Ｘ2は、ＨＯＸ2ＯＨで表されるアルキルジ
オール、アリールジオール、ポリエーテルジオール、ポ
リエステルジオールまたはポリカーボネートジオールの
いずれかのジオールの残基である。−Ｎ（Ｒ2）−Ｘ4−
Ｎ（Ｒ2）−はＨＮ（Ｒ2）−Ｘ4−Ｎ（Ｒ2）Ｈで表され
るジアミン残基であり、Ｘ4は炭素数２〜１２のアルキ
レン、アリーレン、アラルキレンまたはシクロアルキレ
ン基であり、Ｒ2は炭素数２〜１２のアルキル、アリー
ル、アラルキルまたはシクロアルキル基である。Ｚ1は
多価イソシアネート残基であり、Ｚ2は２価イソシアネ
ート残基である。ｎ個のＲ1の少なくとも２個はプロペ
ニル基であり、残りは水素原子、アルキル、アシルまた
はアリール基でもよい。｝ - 【請求項４】 （Ａ）の含量が９５〜９９．９重量％、
（Ｂ）の含量が０．０１〜５重量％である請求項１〜３
のいずれか記載の組成物。 - 【請求項５】 さらに反応性希釈剤（Ｃ）が配合されて
なり、組成物の重量に対して、（Ｃ）の含量が、５〜６
０重量％、（Ａ）の含量が５０〜９０重量％、（Ｂ）の
含量が０．０１〜５重量％である請求項１〜４のいずれ
か記載の組成物。 - 【請求項６】 （Ｃ）が下記一般式（８）で表される反
応性希釈剤である請求項５記載の組成物。 【化９】 ＣＨ3−ＣＨ＝ＣＨ−Ｏ−Ｘ2−Ｏ−Ｒ3 （８） ｛式中、Ｘ2は、ＨＯＸ2ＯＨで表されるアルキレンジオ
ール、アリーレンジオール、ポリエーテルジオール、ポ
リウレタンジオールまたはポリカーボネートジオールの
いずれかのジオールの残基であり、Ｒ3は炭素数が２〜
１２のアルキル、アリール、アラルキル、シクロアルキ
ル基または水素原子である。｝ - 【請求項７】 請求項１〜６のいずれか記載の組成物
に、さらにエポキシ樹脂を含有させてなる光硬化型塗料
組成物（塩ビ床材被覆用、金属コーティング用及び光デ
ィスクオーバーコート用を除く。）。 - 【請求項８】 木工合板用である請求項１〜７のいずれ
か記載の光硬化型塗料組成物。 - 【請求項９】 請求項１〜８のいずれか記載の組成物を
塗布・硬化させることを特徴とする木工合板、家具また
は楽器（金属製を除く。）の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7328278A JP3060092B2 (ja) | 1995-11-21 | 1995-11-21 | 光硬化型塗料組成物 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7328278A JP3060092B2 (ja) | 1995-11-21 | 1995-11-21 | 光硬化型塗料組成物 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH09143392A JPH09143392A (ja) | 1997-06-03 |
| JP3060092B2 true JP3060092B2 (ja) | 2000-07-04 |
Family
ID=18208446
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP7328278A Expired - Fee Related JP3060092B2 (ja) | 1995-11-21 | 1995-11-21 | 光硬化型塗料組成物 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3060092B2 (ja) |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP4050330B2 (ja) * | 1997-07-11 | 2008-02-20 | 昭和電工株式会社 | 新規なエーテル化合物およびその製造法 |
| US20070066777A1 (en) * | 2004-09-03 | 2007-03-22 | Bzowej Eugene I | Methods for producing crosslinkable oligomers |
-
1995
- 1995-11-21 JP JP7328278A patent/JP3060092B2/ja not_active Expired - Fee Related
Non-Patent Citations (1)
| Title |
|---|
| "Ｊ．Ｍａｃｒｏｍｏｌ．Ｓｃｉ．，Ｐｕｒｅ Ａｐｐｌ．Ｃｈｅｍ．"，１９９４年，Ａ３１（１２），ｐ．１９２７−１９４１ |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH09143392A (ja) | 1997-06-03 |
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