JP3057717B2 - ウェハー吸着装置 - Google Patents
ウェハー吸着装置Info
- Publication number
- JP3057717B2 JP3057717B2 JP15913190A JP15913190A JP3057717B2 JP 3057717 B2 JP3057717 B2 JP 3057717B2 JP 15913190 A JP15913190 A JP 15913190A JP 15913190 A JP15913190 A JP 15913190A JP 3057717 B2 JP3057717 B2 JP 3057717B2
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- wafer
- wafer suction
- valve
- vacuum
- pipe
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Lifetime
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- Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
- Jigs For Machine Tools (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、半導体装置の製造工程に用いられるウェハ
ーの真空吸着装置に関するものである。
ーの真空吸着装置に関するものである。
近年、半導体装置、特に超LSIと呼ばれる1Mbit,4Mbi
t,DRAM等を製造するウェハーラインにおいては、装置内
外からの塵埃を如何にしてウェハー上に付着させないよ
うにするか、換言すれば、如何に正常な雰囲気でウェハ
ーを処理するかがLSIの歩留まりを向上させる重要な要
素となっている。従って、ウェハーの搬送においても、
いかにして塵埃をウェハーに付着させずに行なうかがI
C、LSIの歩留まり向上に大きく影響することは、周知の
事実である。
t,DRAM等を製造するウェハーラインにおいては、装置内
外からの塵埃を如何にしてウェハー上に付着させないよ
うにするか、換言すれば、如何に正常な雰囲気でウェハ
ーを処理するかがLSIの歩留まりを向上させる重要な要
素となっている。従って、ウェハーの搬送においても、
いかにして塵埃をウェハーに付着させずに行なうかがI
C、LSIの歩留まり向上に大きく影響することは、周知の
事実である。
従来の一般的な枚葉式のウェハー搬送装置は、ベルト
コンベアー状のウェハー駆動輪にウェハーを載せ、この
駆動輪を回転させることによってウェハーを搬送してい
た。第５図に、従来のこの種の半導体ウェハー搬送装置
の概念図を表わす。キャリア１に挿入されたウェハー２
を、ウェハー駆動輪３上に載せ、ウェハー駆動輪３を図
内矢印４方向に回転させることによってゴムリング５を
動かし、ウェハー２を搬送するものである。
コンベアー状のウェハー駆動輪にウェハーを載せ、この
駆動輪を回転させることによってウェハーを搬送してい
た。第５図に、従来のこの種の半導体ウェハー搬送装置
の概念図を表わす。キャリア１に挿入されたウェハー２
を、ウェハー駆動輪３上に載せ、ウェハー駆動輪３を図
内矢印４方向に回転させることによってゴムリング５を
動かし、ウェハー２を搬送するものである。
しかしながら、この方法を用いても、ウェハー２の裏
面にウェハー駆動輪３による傷や塵埃（図示省略）が付
着することが周知の事実となったため、最近では、塵埃
対策を一歩進めた製造装置には、ロボット式の舌状支持
部を持ち、この舌状支持部にウェハー吸着装置を具備し
たウェハー搬送装置を内蔵するものが増えてきた。第６
図は、ロボット式の舌状支持部を持つ従来のウェハー搬
送装置の一般的な例を示す斜視図を表わす。キャリア１
に挿入されたウェハー２を、舌状支持部６に載せ、駆動
部７によって舌状支持部６を駆動し、ウェハー２をキャ
リア１から搬出した後に他所に搬送する。この際、ウェ
ハー２の支持は、舌状支持部６の上面でかつウェハー２
に接触する部分の内の少なくとも１箇所にウェハー吸着
部８を設け、ウェハー２を吸着支持する方法を採るのが
一般的である。
面にウェハー駆動輪３による傷や塵埃（図示省略）が付
着することが周知の事実となったため、最近では、塵埃
対策を一歩進めた製造装置には、ロボット式の舌状支持
部を持ち、この舌状支持部にウェハー吸着装置を具備し
たウェハー搬送装置を内蔵するものが増えてきた。第６
図は、ロボット式の舌状支持部を持つ従来のウェハー搬
送装置の一般的な例を示す斜視図を表わす。キャリア１
に挿入されたウェハー２を、舌状支持部６に載せ、駆動
部７によって舌状支持部６を駆動し、ウェハー２をキャ
リア１から搬出した後に他所に搬送する。この際、ウェ
ハー２の支持は、舌状支持部６の上面でかつウェハー２
に接触する部分の内の少なくとも１箇所にウェハー吸着
部８を設け、ウェハー２を吸着支持する方法を採るのが
一般的である。
第７図は、従来のウェハー吸着部と、真空系配管の配
管系統図を表わす。ウェハー吸着部８には、真空発生源
９から配管された真空配管10が接続されており、この真
空配管10中には、ウェハー２の吸着と解放の切り替えの
ために３方弁11が挿入され、ウェハー２を吸着する際
は、３方弁11の切り替え操作によりウェハー吸着部８と
真空発生源９とを接続し、ウェハー２を吸着する。ま
た、ウェハー２を解放する際には、３方弁11の切り替え
操作により、ウェハー吸着部８を大気圧に戻し、ウェハ
ー２を解放する。
管系統図を表わす。ウェハー吸着部８には、真空発生源
９から配管された真空配管10が接続されており、この真
空配管10中には、ウェハー２の吸着と解放の切り替えの
ために３方弁11が挿入され、ウェハー２を吸着する際
は、３方弁11の切り替え操作によりウェハー吸着部８と
真空発生源９とを接続し、ウェハー２を吸着する。ま
た、ウェハー２を解放する際には、３方弁11の切り替え
操作により、ウェハー吸着部８を大気圧に戻し、ウェハ
ー２を解放する。
以上説明したように、従来この種のウェハー吸着装置
を具備するウェハー搬送装置はロボット式の舌状支持部
を持ち、この舌状支持部にウェハー吸着部を具備し、ウ
ェハーの吸着、解放は真空配管中の３方弁を駆動してウ
ェハー吸着部の状態を真空から大気、大気から真空へと
切り替えて行なうため、ウェハー吸着部を大気に戻す時
に３方弁からウェハー吸着部までの配管内に堆積してい
る塵埃及び、３方弁から解放されているポートより吸引
される塵埃がウェハー上の吸着面に接触するといった現
象が発生する。この結果塵埃を多量に発生させ、LSIの
製造工程中の歩留まり低下を引き起こすといった種々の
欠点を有している。
を具備するウェハー搬送装置はロボット式の舌状支持部
を持ち、この舌状支持部にウェハー吸着部を具備し、ウ
ェハーの吸着、解放は真空配管中の３方弁を駆動してウ
ェハー吸着部の状態を真空から大気、大気から真空へと
切り替えて行なうため、ウェハー吸着部を大気に戻す時
に３方弁からウェハー吸着部までの配管内に堆積してい
る塵埃及び、３方弁から解放されているポートより吸引
される塵埃がウェハー上の吸着面に接触するといった現
象が発生する。この結果塵埃を多量に発生させ、LSIの
製造工程中の歩留まり低下を引き起こすといった種々の
欠点を有している。
本発明のウェハー吸着装置は、真空発生源と、ウェハ
ー吸着部と、前記ウェハー吸着部と前記真空発生源とを
接続する真空配管と、前記真空配管中に管路を遮断すべ
く設置せた自動開閉弁Ａと、前記自動開閉弁Ａと前記ウ
ェハー吸着部との間に設置させたマスフローコントロー
ラーＡと、前記マスフローコントローラーＡと前記ウェ
ハー吸着部との間に分岐配管させたパージ配管と、前記
パージ配管の管路を遮断すべく設置させた自動開閉弁Ｂ
と、前記自動開閉弁Ｂをバイパスすべく設置させた手動
流量調整弁と、前記パージ配管内のパージガスの流量を
コントロールすべく前記ウェハー吸着部と前記自動開閉
弁との間に設置させたマスフローコントローラーＢとを
有する。
ー吸着部と、前記ウェハー吸着部と前記真空発生源とを
接続する真空配管と、前記真空配管中に管路を遮断すべ
く設置せた自動開閉弁Ａと、前記自動開閉弁Ａと前記ウ
ェハー吸着部との間に設置させたマスフローコントロー
ラーＡと、前記マスフローコントローラーＡと前記ウェ
ハー吸着部との間に分岐配管させたパージ配管と、前記
パージ配管の管路を遮断すべく設置させた自動開閉弁Ｂ
と、前記自動開閉弁Ｂをバイパスすべく設置させた手動
流量調整弁と、前記パージ配管内のパージガスの流量を
コントロールすべく前記ウェハー吸着部と前記自動開閉
弁との間に設置させたマスフローコントローラーＢとを
有する。
次に、本発明について、図面を参照して説明する。第
１図は、本発明の実施例１を示す配管系統図、第２図
は、自動開閉弁Ａ、Ｂ及びマスフローコントローラー
Ａ、Ｂのタイミングチャート、第３図は、マスフローコ
ントローラーＡ、Ｂのバルブ開度を示すタイミングチャ
ートである。
１図は、本発明の実施例１を示す配管系統図、第２図
は、自動開閉弁Ａ、Ｂ及びマスフローコントローラー
Ａ、Ｂのタイミングチャート、第３図は、マスフローコ
ントローラーＡ、Ｂのバルブ開度を示すタイミングチャ
ートである。
真空発生源９と、ウェハー吸着部８と、ウェハー吸着
部８と真空発生源９とを接続する真空配管10と、真空配
管10中に管路を遮断すべく設置させた自動開閉弁A12
と、自動開閉弁A12とウェハー吸着部８との間に設置さ
せたマスフローコントローラーA13と、マスフローコン
トローラーA13とウェハー吸着部８との間に分岐配管さ
せたパージ配管14と、パージ配管14の管路を遮断すべく
設置させた自動開閉弁B15と、自動開閉弁B15をバイパス
すべく設置させた手動流量調整弁16と、パージ配管14内
のパージガスの流量をコントロールすべくウェハー吸着
部８と自動開閉弁B15との間に設置させたマスフローコ
ントローラーB17を有し、手動流量調整弁16は、常時パ
ージガスを少量流すようにあらかじめ調整しておく。
部８と真空発生源９とを接続する真空配管10と、真空配
管10中に管路を遮断すべく設置させた自動開閉弁A12
と、自動開閉弁A12とウェハー吸着部８との間に設置さ
せたマスフローコントローラーA13と、マスフローコン
トローラーA13とウェハー吸着部８との間に分岐配管さ
せたパージ配管14と、パージ配管14の管路を遮断すべく
設置させた自動開閉弁B15と、自動開閉弁B15をバイパス
すべく設置させた手動流量調整弁16と、パージ配管14内
のパージガスの流量をコントロールすべくウェハー吸着
部８と自動開閉弁B15との間に設置させたマスフローコ
ントローラーB17を有し、手動流量調整弁16は、常時パ
ージガスを少量流すようにあらかじめ調整しておく。
ウェハー２を吸着する際には、ウェハー吸着部８をウ
ェハー２に近ずけ、第２図のように自動開閉弁A12を開
ける。このとき、マスフローコントローラーA13は、流
量調整をゼロにしておき、自動開閉弁A12開後、第３図
のようにランピング制御を行ない、ゆっくりと真空配管
10の管路を開いて行く。こうしてウェハー吸着部８の真
空度を徐々に上げ、ウェハー２を吸着させる。ウェハー
２を解放する際には、第２図のように自動開閉弁A12を
閉じ、自動開閉弁B15を開ける。このとき、マスフロー
コントローラーB17は、流量調整をゼロにしておき、自
動開閉弁B15開後、第３図のようにランピング制御を行
ない、ゆっくりとパージ配管14の管路を開いて行く。こ
うして、ウェハー吸着部８の真空度を徐々に下げ、ウェ
ハー２の吸着を解放する。
ェハー２に近ずけ、第２図のように自動開閉弁A12を開
ける。このとき、マスフローコントローラーA13は、流
量調整をゼロにしておき、自動開閉弁A12開後、第３図
のようにランピング制御を行ない、ゆっくりと真空配管
10の管路を開いて行く。こうしてウェハー吸着部８の真
空度を徐々に上げ、ウェハー２を吸着させる。ウェハー
２を解放する際には、第２図のように自動開閉弁A12を
閉じ、自動開閉弁B15を開ける。このとき、マスフロー
コントローラーB17は、流量調整をゼロにしておき、自
動開閉弁B15開後、第３図のようにランピング制御を行
ない、ゆっくりとパージ配管14の管路を開いて行く。こ
うして、ウェハー吸着部８の真空度を徐々に下げ、ウェ
ハー２の吸着を解放する。
第４図は、本発明の実施例２を表わす配管系統図であ
る。本実施例は、パージ配管14中にガスフィルター18を
挿入し、他は、前記実施例と同様である。本実施例によ
れば、パージ配管14からウェハー吸着部８に入り込む塵
埃を更に低減できるため、前記実施例よりも更に清浄な
ウェハー吸着を実現できるものである。
る。本実施例は、パージ配管14中にガスフィルター18を
挿入し、他は、前記実施例と同様である。本実施例によ
れば、パージ配管14からウェハー吸着部８に入り込む塵
埃を更に低減できるため、前記実施例よりも更に清浄な
ウェハー吸着を実現できるものである。
以上説明したように、本発明によれば、ウェハーを真
空吸着する際に吸引をゆっくりと行い、塵埃の巻き上げ
を抑え、解放する際には、真空配管とは異なるラインか
らパージガスを導入し、ウェハー吸着部を大気に戻すこ
とが可能となり、真空配管中に吸引されたウェハー上へ
の再付着を防止できるばかりでなく、ウェハー吸着部を
大気に戻す際、パージガスの流量を徐々に増加させるこ
とにより、パージガスによる塵埃の巻き上げをも抑制
し、結果として、ウェハー上への塵埃の付着を従来のウ
ェハー吸着装置に比べ格段に低減し、ひいてはIC、LSI
の生産歩留まりを高めるといった効果を有するウェハー
吸着装置を提供するものである。
空吸着する際に吸引をゆっくりと行い、塵埃の巻き上げ
を抑え、解放する際には、真空配管とは異なるラインか
らパージガスを導入し、ウェハー吸着部を大気に戻すこ
とが可能となり、真空配管中に吸引されたウェハー上へ
の再付着を防止できるばかりでなく、ウェハー吸着部を
大気に戻す際、パージガスの流量を徐々に増加させるこ
とにより、パージガスによる塵埃の巻き上げをも抑制
し、結果として、ウェハー上への塵埃の付着を従来のウ
ェハー吸着装置に比べ格段に低減し、ひいてはIC、LSI
の生産歩留まりを高めるといった効果を有するウェハー
吸着装置を提供するものである。
第１図は、本発明の実施例１を示す配管系統図、第２図
は、自動開閉弁Ａ、Ｂ及びマスフローコントローラー
Ａ、Ｂのタイミングチャート、第３図は、マスフローコ
ントローラーＡ、Ｂのバルブ開度を示すタイミングチャ
ート、第４図は、本発明の実施例２を表わす配管系統
図、第５図は、従来のゴムベルト式ウェハー搬送装置を
示す概念図、第６図は、従来の真空吸着装置を用いたウ
ェハー搬送装置の斜視図、第７図は、ウェハー吸着部と
真空配管系統図を表わしている。 １……キャリア、２……ウェハー、３……ウェハー駆動
輪、４……矢印、５……ゴムリング、６……舌状支持
部、７……駆動部、８……ウェハー吸着部、９……真空
発生源、10……真空配管、11……３方弁、12……自動開
閉弁Ａ、13……マスフローコントローラＡ、14……パー
ジ配管、15……自動開閉弁Ｂ、16……手動流量調整弁、
17……マスフローコントローラーＢ、18……ガスフィル
ター。
は、自動開閉弁Ａ、Ｂ及びマスフローコントローラー
Ａ、Ｂのタイミングチャート、第３図は、マスフローコ
ントローラーＡ、Ｂのバルブ開度を示すタイミングチャ
ート、第４図は、本発明の実施例２を表わす配管系統
図、第５図は、従来のゴムベルト式ウェハー搬送装置を
示す概念図、第６図は、従来の真空吸着装置を用いたウ
ェハー搬送装置の斜視図、第７図は、ウェハー吸着部と
真空配管系統図を表わしている。 １……キャリア、２……ウェハー、３……ウェハー駆動
輪、４……矢印、５……ゴムリング、６……舌状支持
部、７……駆動部、８……ウェハー吸着部、９……真空
発生源、10……真空配管、11……３方弁、12……自動開
閉弁Ａ、13……マスフローコントローラＡ、14……パー
ジ配管、15……自動開閉弁Ｂ、16……手動流量調整弁、
17……マスフローコントローラーＢ、18……ガスフィル
ター。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (58)調査した分野(Int.Cl.7，ＤＢ名) H01L 21/68 B23Q 3/08
Claims (1)
- 【請求項１】真空発生源と、ウェハー吸着部と、前記ウ
ェハー吸着部と前記真空発生源とを接続する真空配管
と、前記真空配管中に管路を遮断すべく設置させた自動
開閉弁Ａと、前記自動開閉弁Ａと前記ウェハー吸着部と
の間に設置させたマスフローコントローラーＡと、前記
マスフローコントローラーＡと前記ウェハー吸着部との
間に分岐配管させたパージ配管と、前記パージ配管の管
路を遮断すべく設置させた自動開閉弁Ｂと、前記自動開
閉弁Ｂをバイパスすべく設置させた手動流量調整弁と、
前記パージ配管内のパージガスの流量をコントロールす
べく前記ウェハー吸着部と前記自動開閉弁Ｂとの間に設
置させたマスフローコントローラーＢとを有することを
特徴とするウェハー吸着装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP15913190A JP3057717B2 (ja) | 1990-06-18 | 1990-06-18 | ウェハー吸着装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP15913190A JP3057717B2 (ja) | 1990-06-18 | 1990-06-18 | ウェハー吸着装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0453152A JPH0453152A (ja) | 1992-02-20 |
| JP3057717B2 true JP3057717B2 (ja) | 2000-07-04 |
Family
ID=15686926
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP15913190A Expired - Lifetime JP3057717B2 (ja) | 1990-06-18 | 1990-06-18 | ウェハー吸着装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3057717B2 (ja) |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0727154U (ja) * | 1993-10-19 | 1995-05-19 | 東京航空計器株式会社 | ウェ−ハ真空吸着保持機構の空圧解除回路 |
| JP6622140B2 (ja) * | 2016-04-18 | 2019-12-18 | 株式会社ディスコ | チャックテーブル機構及び搬送方法 |
-
1990
- 1990-06-18 JP JP15913190A patent/JP3057717B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0453152A (ja) | 1992-02-20 |
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