JP3054415B1 - 感光性樹脂組成物およびポジ型パタ―ン形成方法 - Google Patents
感光性樹脂組成物およびポジ型パタ―ン形成方法Info
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Abstract
ーン形成能を有するポリイミド前駆体からなる感光性樹
脂組成物と新規なポジ型パターン形成方法を提供する。 【解決手段】 (A)ポリイミド前躯体、(B)トリエ
チレングリコールジビニルエーテルなどビニルオキシ基
含有化合物、(C)1,8−ナフタリミジルトリフレー
トなど紫外線等活性光線に対して分解して酸を発生する
感光剤および(D)N−メチル−2−ピロリドンなど溶
剤からなることを特徴とするポジ型感光性樹脂組成物で
あり、(A)(B)成分によりアルカリ水溶液に対する
不溶化塗膜を形成し、活性紫外線で露光した後、加熱し
て(C)成分からの発生酸による露光分解部分のみをア
ルカリ水溶液で溶解してポジ型パターンを現像しイミド
化熱処理をするポジ型パターン形成方法である。
Description
の製造において電気、電子絶縁材料として用いられるポ
リイミド系の感光性樹脂組成物に関するものであり、詳
しくは、この感光性樹脂組成物は、ICやLSI等の半
導体素子上に成膜され、微細パターンの加工が必要とさ
れる絶縁保護膜の形成などに適用される。
性、耐薬品性、電気絶縁性、低誘電率等によって、半導
体を含む電気、電子分野への展開がなされており、半導
体デバイスの分野では、IC、LSI、超LSIのチッ
プの層間絶縁膜や表面保護膜として利用されている。し
かし、従来のパターン形成方法では、ポリイミド前駆体
をウェーハ上に塗布・乾燥してポリイミド樹脂化皮膜を
形成した後、フォトレジストを用いてパターン蝕刻加工
を行わなくてはならず、また、その際に有害物質である
ヒドラジン溶液をポリイミドエッチング液として使用し
なくてはならなかった。
入し、ポリイミド自体のパターン形成を可能にする試み
が材料メーカー各社で行われており、幾つかの製品分野
において実用段階にきている。しかし、現在実用化され
ている感光性ポリイミドは、感光基をイオン結合でポリ
イミド前駆体に導入しているものと、エステル結合を介
して導入しているものに大別できるが、前者では、パタ
ーニングプロセスにおいて使用される露光装置に対して
感度が低く(溶解度差が低く)、また工程内で樹脂の溶
解性が低下するためにプロセスマージンが低い。また、
後者では、ポリイミド前駆体の製造に複雑な工程が必要
とされるうえに実用に耐え得る十分な高分子量のものが
得られれない。さらに、これらの樹脂は、ネガ型のパタ
ーン形成方式を採用しており、パターン形成の際には有
機溶剤によって現像しなくてはならず、環境保全の観点
から重大な問題となっている。
リベンゾオキサゾールにジアゾナフトキノン化合物を添
加したものが提案されている。しかし、この樹脂組成物
は耐熱性、耐薬品性においてポリイミド樹脂より性能が
悪く、限られた半導体製品への適用しか出来ない。ま
た、この樹脂組成物は、半導体回路形成時に広く使用さ
れているポジ型レジスト、例えば、ノボラック樹脂にジ
アゾナフトキノンを混合した樹脂組成物と比較すると、
紫外線に対する感度が低く、パターン形成能が悪い。こ
のため、パターン現像時に薄膜が残ったり、パターンの
寸法が大きくなり過ぎるといった不良が発生していた。
これらの問題からパターン形成の際にアルカリ水溶液が
利用でき、かつ、この現像液に対して非膨潤で高解像度
化が可能なポジ型感光性ポリイミド前駆体が強く要求さ
れている。
した従来の欠点を解消し、アルカリ水溶液にて現像が可
能なポジ型パターン形成能を有するポリイミド前駆体を
含むポジ型感光性樹脂組成物とポジ型パターン形成方法
を提供するものである。
を達成しようと鋭意研究を進めた結果、後述組成の新規
なポジ型感光性樹脂組成物と、そのポジ型パターン形成
方法を採用することによって、上記目的を達成できるこ
とを見いだし、本発明を完成したものである。
は、(A)次の一般式で示されるポリイミド前躯体、
環が単結合された4価の有機基、又は複数の芳香族環が
−O−、−CO−、−SO2 −若しくは−CH2−で結
合された4価の有機基であり、R2 は、2価の芳香族
基、複数の芳香族環が単結合された2価の有機基、又は
複数の芳香族環が−O−、−CO−、−SO 2 −若しく
は−CH2 −で結合された2価の有機基であり、nは1
以上の整数である) (B)次の一般式で示されるビニルオキシ基含有化合
物、
基、又は複数の脂肪族基、芳香族基が単結合、−O−、
−CO−、−CH2 −、−SO2 −若しくは−NH−で
結合された2価の有機基であり、n、mはいずれも1〜
3の整数である) (C)紫外線等活性光線に対して分解して酸を発生する
感光剤および(D)溶剤からなることを特徴とする。
上記のポジ型感光性樹脂組成物を基板上にコーティング
し、90〜130℃で乾燥させてアルカリ水溶液に対す
る不溶化塗膜を形成する不溶化塗膜形成工程と、得られ
た不溶化塗膜にポジ型マスクパターンを透して活性紫外
線を露光した後、90〜130℃で加熱して不溶化塗膜
の露光部分のみを分解する露光塗膜分解工程と、露光塗
膜をアルカリ水溶液を使用して露光分解部分のみを溶解
してポジ型パターンに現像するポジ型パターン現像工程
と、現像したポジ型パターンを熱処理してポリイミドの
ポジ型パターンを形成するイミド化熱処理工程とを含む
ことを特徴とする。
R1 骨格となる酸成分としては、例えば、ピロメリット
酸、3,3′,4,4′−ビフェニルテトラカルボン
酸、2,3,3′,4′−ビフェニルテトラカルボン
酸、3,3′,4,4′−ベンゾフェノンテトラカルボ
ン酸、4,4′−オキシジフタル酸、3,3′,4,
4′−ジフェニルスルホンテトラカルボン酸、2,2−
ビス(3,4−ジカルボキシフェニル)ヘキサフルオロ
プロパン、2,3,6,7−ナフタレンテトラカルボン
酸、1,2,5,6−ナフタレンテトラカルボン酸、
1,4,5,8−ナフタレンテトラカルボン酸、1,
2,3,4−シクロブタンテトラカルボン酸、1,2,
3,4−ブタンテトラカルボン酸、1,2,4,5−シ
クロペンタンテトラカルボン酸、1,2,4,5−シク
ロヘキサンテトラカルボン酸、3,3′,4,4′−ビ
シクロヘキシルテトラカルボン酸、2,3,5−トリカ
ルボキシシクロペンチル酢酸、3,4−ジカルボキシ−
1,2,3,4−テトラヒドロナフタレン−1−コハク
酸等とその無水物が挙げられ、これらは単独又は混合し
て使用することができる。
R2 骨格となるジアミン成分としては、例えば、m−フ
ェニレンジアミン、p−フェニレンジアミン、2,4−
ジアミノトルエン、2,5−ジアミノトルエン、2,6
−ジアミノトルエン、3,5−ジアミノトルエン、1−
メトキシ−2,4−ジアミノベンゼン、1,4−ジアミ
ノ−2−メトキシ−5−メチルベンゼン、1,3−ジア
ミノ−4,6−ジメチルベンゼン、3,5−ジアミノ安
息香酸、2,5−ジアミノ安息香酸、1,2−ジアミノ
ナフタレン、1,4−ジアミノナフタレン、1,5−ジ
アミノナフタレン、1,6−ジアミノナフタレン、1,
7−ジアミノナフタレン、1,8−ジアミノナフタレ
ン、2,3−ジアミノナフタレン、2,6−ジアミノナ
フタレン、1,4−ジアミノ−2−メチルナフタレン、
1,5−ジアミノ−2−メチルナフタレン、1,3−ジ
アミノ−2−フェニルナフタレン、2,2−ビス(4−
アミノフェニル)プロパン、1,1−ビス(4−アミノ
フェニル)エタン、4,4′−ジアミノジフェニルメタ
ン、3,3′−ジメチル−4,4′−ジアミノジフェニ
ルメタン、3,3′,5,5′−テトラメチル−4,
4′−ジアミノジフェニルメタン、3,3′−ジメチル
−5,5′−ジエチル−4,4′−ジアミノジフェニル
メタン、3,3′,5,5′−テトラエチル−4,4′
−ジアミノジフェニルメタン、4,4′−メチレンビス
(シクロヘキシルアミン)、4,4′−メチレンビス
(3,3−ジメチル−シクロヘキシルアミン)、2,
4′−ジアミノジフェニルスルフィド、4,4′−ジア
ミノジフェニルスルフィド、3,3′−ジアミノジフェ
ニルスルフォン、4,4′−ジアミノジフェニルスルフ
ォン、4,4′−ジアミノベンズアニリド、3,3′−
ジアミノジフェニルエーテル、3,4′−ジアミノジフ
ェニルエーテル、4,4′−ジアミノジフェニルエーテ
ル、ビス(4−アミノフェニル)ジエチルシラン、ビス
(4−アミノフェニル)ジフェニルシラン、ビス(4−
アミノフェニル)−N−メチルアミン、ビス(4−アミ
ノフェニル)−N−フェニルアミン、3,3′−ジアミ
ノベンゾフェノン、4,4′−ジアミノベンゾフェノ
ン、2,6−ジアミノピリジン、3,5−ジアミノピリ
ジン、4,4′−ジアミノビフェニル、3,3′−ジア
ミノビフェニル、3,3′−ジメチル−4,4′−ジア
ミノビフェニル、3,3′−ジメトキシ−4,4′−ジ
アミノビフェニル、3,3′−ジヒドロキシ−4,4′
−ジアミノビフェニル、o−トルイジンスルフォン、
4,4′−ビス(4−アミノフェノキシ)ビフェニル、
2,2−ビス[4−(4−アミノフェノキシ)フェニ
ル]プロパン、ビス[4−(4−アミノフェノキシ)フ
ェニル]エーテル、ビス[4−(4−アミノフェノキ
シ)フェニル]スルフォン、ビス[4−(3−アミノフ
ェノキシ)フェニル]スルフォン、1,4−ビス(4−
アミノフェノキシ)ベンゼン、1,3−ビス(4−アミ
ノフェノキシ)ベンゼン、9,10−ビス(4−アミノ
フェニル)アントラセン、9,9−ビス(4−アミノフ
ェニル)フルオレン、2,2−ビス(4−アミノフェニ
ル)ヘキサフルオロプロパン、2,2−ビス(3−アミ
ノフェニル)ヘキサフルオロプロパン、1,1−ビス
(4−アミノフェニル)−1−フェニル−2,2,2−
トリフルオロエタン、2,2−ビス(3−アミノ−4−
ヒドロキシフェニル)ヘキサフルオロプロパン、2,2
−ビス(3−アミノ−4−メチルフェニル)ヘキサフル
オロプロパン、2,2−ビス[4−(4−アミノフェノ
キシ)フェニル]ヘキサフルオロプロパン等が挙げら
れ、これらは単独又は2種以上混合して使用することが
できる。
R1 骨格をもつ酸成分とR2 骨格をもつジアミン成分の
重縮合反応の溶媒としては、例えば、N−メチルピロリ
ドン、N,N′−ジメチルアセトアミド、N,N′−ジ
メチルホルムアミド等の非プロトン性極性溶剤や、シク
ロヘキサノン、シクロペンタノン、γ−ブチロラクトン
等が用いられ、これらは単独又は2種以上混合して使用
することができる。
ニルオキシ基含有化合物は、反応基として化合物末端に
ビニルオキシ基(ビニルエーテル基)を有してポリイミ
ド前躯体の−COOH部位と反応するものである。例え
ば、下記化5,6に示す化合物が挙げられ、これらは単
独又は2種以上混合して使用することができる。その添
加量は、感光性樹脂組成物100重量部に対して1〜1
0重量部が好ましい。添加量が1重量部未満であるとそ
の効果がなく、また10重量部を超えると得られる塗膜
の特性が低下する。
し、酸を発生する感光剤としては、例えば下記化7〜化
13に示される化合物が挙げられる。これらの化合物
は、本発明においてより好ましいものであるが、活性紫
外線の照射によって分解し、効率よく酸を発生するもの
であれば上記構造に限定されるものではない。また、こ
れらは単独又は混合して使用することができ、その添加
量は、感光性樹脂組成物100重量部に対して0.1〜
20重量部が好ましい。0.1重量部未満では紫外線に
対する感度が低く、20重量部を超えると得られる塗膜
の特性が低下するのでこの範囲がよい。
(D)溶剤に溶解した性状で使用されるが、(D)溶剤
としては、例えば、N−メチルピロリドン、N,N′−
ジメチルアセトアミド、N,N′−ジメチルホルムアミ
ド等の非プロトン性極性溶剤や、シクロヘキサノン、シ
クロペンタノン、ジエチレングリコールジエチルエーテ
ル、ジエチレングリコールジブチルエーテル、プロピレ
ングリコールモノメチルエーテルアセテート、乳酸メチ
ル、乳酸エチル、乳酸ブチル、γ−ブチロラクトン等が
挙げられ、これらは単独又は2種以上混合して使用する
ことができる。
組成物によるポジ型パターン形成方法について説明す
る。
ず、この樹脂組成物を対象とするウェーハ上にスピンコ
ーターを用いてコーティングし、次に90〜130℃で
塗膜を乾燥させる。得られた塗膜上にパターンが描画さ
れているマスクを透過させて365nm、436nmと
いった活性紫外線を照射する。次に、90〜130℃で
再度塗膜を加熱し、続けて塗膜をアルカリ水溶液、例え
ば水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸ナトリウ
ム、炭酸カリウム、アンモニア等の無機アルカリ水溶液
やエチルアミン、n−プロピルアミン等の一級アミン、
ジエチルアミン、ジ−n−プロピルアミン等の二級アミ
ン、トリエチルアミン、メチルジメチルアミン等の三級
アミン、ジメチルエタノールアミン、トリエタノールア
ミン等のアルコールアミン、テトラメチルアンモニウム
ヒドロキシド、テトラエチルアンモニウムヒドロキシド
等の四級アミンの水溶液を使用して活性光線照射部のみ
を溶解現像し、純水によってリンス洗浄する。現像方式
としては、スプレー、パドル、浸漬、超音波等の方式が
考えられる。これによって、対象とするウェーハ上には
所望するポジ型パターンを得ることができる。さらに、
この塗膜を例えば150℃で1時間、250℃で1時
間、350℃で1時間の熱処理をすることによってこの
樹脂組成物をイミド化し、膜特性に優れるポリイミド膜
を形成することができる。
明者が鋭意研究を重ねた結果、以下に説明するポジ型パ
ターン形成メカニズムを発見したことにある。本樹脂組
成物は、上記ポジ型パターン形成方法において、基板上
にスピンコートした後の乾燥する不溶化塗膜乾燥工程
で、R1 、R2 骨格を有する化3のポリイミド前躯体の
カルボン酸部位がR3 骨格を有するビニルオキシ基含有
化合物と化学的に反応し、アルカリ水溶液に対して不溶
化する。次いでこの不溶化塗膜に紫外線等の活性光線を
照射することによって活性光線露光部の光酸発生感光剤
が分解し、酸が発生する。更に、次いで加熱する露光塗
膜分解工程で、発生した酸が上記ポリイミド前躯体とビ
ニルオキシ基含有化合物の化学結合を分解させ、再度R
1 、R2 骨格を有するポリイミド前躯体のポリマーに戻
り、カルボン酸を再生する。このポリマーのカルボン酸
は、アルカリ水溶液に対して高い溶解性をもっており、
この結果、紫外線等の活性光線を照射した部分のみがア
ルカリ水溶液に高い溶解性を示し、未照射部は不溶化し
ているため一切溶けない。この高いコントラストのため
に、本発明における感光性樹脂組成物は、高解像度で寸
法制御性の良いポジ型パターンを形成することが可能と
なった。
トキノン化合物を含有する樹脂組成物では、活性光線へ
の低感度が課題とされてきた。主原因は、ジアゾナフト
キノン化合物に由来している。つまり、ジアゾナフトキ
ノン化合物は大量の添加によって活性光線の透過率を落
とすため、感度が低下する。本発明の感光性樹脂組成物
では、ジアゾナフトキノン化合物を使用しないでポジ型
パターンを形成するため、良好な活性光線透過率を有す
るばかりでなく、光酸発生感光剤より生成する酸を繰り
返し使用することができるため、低い活性光線量におい
ても十分なパターン形成能を発揮できる。この反応機構
は、増幅的に化学反応を起こすことが可能であるため、
本発明において高感度な感光性樹脂組成物を提供するこ
とが可能となった。
具体的に説明する。
アミノジフェニルエーテル1.0molを2.4LのN
−メチル−2−ピロリドンに加えて攪拌し溶解させる。
続けて1.0molのヘキサフルオロイソプロピリデン
−2,2′−ビスフタル酸無水物を加えて攪拌し、その
状態で5時間縮合反応する。得られたスラリー状の混合
物を大量のメタノール中に投入して洗浄し、得られた固
形樹脂を真空乾燥機によって12時間乾燥する。乾燥し
た固形樹脂20gとトリエチレングリコールジビニルエ
ーテル10gと1,8−ナフタリミジルトリフレート
2.0gを80gのN−メチル−2−ピロリドンに溶解
させ、得られたスラリー状物を1μm濾過してサンプル
1とした。
6インチシリコンウェーハ上にコートし、ベーク板上に
て120℃で3分間加熱乾燥することによって膜厚10
μmの塗膜を得た。この塗膜を365nmのみを透過さ
せるフィルターを使用した紫外線露光機によって50m
j/cm2 のエネルギーでテストパターンを照射し、続
けて120℃で1分間加熱した。次に2.38%のTM
AH(テトラメチルアンモニウムハイドライド)水溶液
にて10秒間のパドル現像を行い、続けて純水にて洗浄
した。この操作によって塗膜の紫外線照射部のみを溶解
させたポジ型レリーフパターンを得ることができた。得
られたパターンを光学顕微鏡によって観察したところ、
3.0μmまでのパターンがシャープに形成されている
ことが確認できた。また、この時、現像での膜厚変化は
0.3μmと殆ど変化がなく、不溶化していることが観
察された。
50℃で1時間、350℃で1時間の加熱処理を行い、
塗膜のイミド化を完結させた。このイミドパターンは、
上記加熱処理においてみ崩れることなく、シャープなプ
ロファイルを保っていた。
アミノジフェニルエーテル1.0molを2.4LのN
−メチル−2−ピロリドンに加えて攪拌し溶解させる。
続けて1.0molのヘキサフルオロイソプロピリデン
−2,2′−ビスフタル酸無水物を加えて攪拌し、その
状態で5時間縮合反応する。得られたスラリー状の混合
物を大量のメタノール中に投入して洗浄し、得られた固
形樹脂を真空乾燥機によって12時間乾燥する。乾燥し
た固形樹脂20gと1,4−ビス−(2−(4−(2−
(ビニロキシ)エトキシ)フェニル)プロピル)ベンゼ
ン10gと1,8−ナフタリミジルトリフレート2.0
gを80gのN−メチル−2−ピロリドンに溶解させ、
得られたスラリー状物を1μm濾過してサンプル2とし
た。
6インチシリコンウェーハ上にコートし、ベーク板上に
て120℃で3分間加熱乾燥することによって膜厚10
μmの塗膜を得た。この塗膜を365nmのみを透過さ
せるフィルターを使用した紫外線露光機によって50m
j/cm2 のエネルギーでテストパターンを照射し、続
けて120℃で1分間加熱した。次に2.38%のTM
AH(テトラメチルアンモニウムハイドライド)水溶液
にて10秒間のパドル現像を行い、続けて純水にて洗浄
した。この操作によって塗膜の紫外線照射部のみを溶解
させたポジ型レリーフパターンを得ることができた。得
られたパターンを光学顕微鏡によって観察したところ、
3.0μmまでのパターンがシャープに形成されている
ことが確認できた。また、この時、現像での膜厚変化は
0.1μmと殆ど変化がなく、不溶化していることが観
察された。
50℃で1時間、350℃で1時間の加熱処理を行い、
塗膜のイミド化を完結させた。このイミドパターンは、
シリコンウェーハ上に強固に密着しており、パターンに
樹脂クラックや剥離は観察されなかった。
アミノジフェニルエーテル1.0molを2.4LのN
−メチル−2−ピロリドンに加えて攪拌し溶解させる。
続けて1.0molのヘキサフルオロイソプロピリデン
−2,2′−ビスフタル酸無水物を加えて攪拌し、その
状態で5時間縮合反応する。得られたスラリー状の混合
物を大量のメタノール中に投入して洗浄し、得られた固
形樹脂を真空乾燥機によって12時間乾燥する。乾燥し
た固形樹脂20gと1,4−ビス−(2−(4−(2−
(ビニロキシ)エトキシ)フェニル)プロピル)ベンゼ
ン10gとジフェニルヨードニウム−9,10−ジメト
キシ−アントラセン−2−スルホネート2.0gを80
gのN−メチル−2−ピロリドンに溶解させ、得られた
スラリー状物を1μm濾過してサンプル3とした。
6インチシリコンウェーハ上にコートし、ベーク板上に
て120℃で3分間加熱乾燥することによって膜厚10
μmの塗膜を得た。この塗膜を365nmのみを透過さ
せるフィルターを使用した紫外線露光機によって20m
j/cm2 のエネルギーでテストパターンを照射し、続
けて120℃で1分間加熱した。次に2.38%のTM
AH(テトラメチルアンモニウムハイドライド)水溶液
にて10秒間のパドル現像を行い、続けて純水にて洗浄
した。この操作によって塗膜の紫外線照射部のみを溶解
させたポジ型レリーフパターンを得ることができた。得
られたパターンを光学顕微鏡によって観察したところ、
3.0μmまでのパターンがシャープに形成されている
ことが確認できた。また、この時、現像での膜厚変化は
0.1μmと殆ど変化がなく、不溶化していることが観
察された。
50℃で1時間、350℃で1時間の加熱処理を行い、
塗膜のイミド化を完結させた。このイミドパターンは、
シリコンウェーハ上に強固に密着しており、パターンに
樹脂クラックや剥離は観察されなかった。
アミノジフェニルエーテル1.0molを2.4LのN
−メチル−2−ピロリドンに加えて攪拌し溶解させる。
続けて1.0molのヘキサフルオロイソプロピリデン
−2,2′−ビスフタル酸無水物を加えて攪拌し、その
状態で5時間縮合反応する。得られたスラリー状の混合
物を大量のメタノール中に投入して洗浄し、得られた固
形樹脂を真空乾燥機によって12時間乾燥する。乾燥し
た固形樹脂20gとベンゾフェノン型の2置換体ジアゾ
ナフトキノン化合物3gを80gのN−メチル−2−ピ
ロリドンに溶解させ、得られたスラリー状物を1μm濾
過してサンプル4とした。このサンプル4をスピンコー
ターを用いて6インチシリコンウェーハ上にコートし、
ベーク板上にて120℃で3分間加熱乾燥することによ
って膜厚10μmの塗膜を得た。この塗膜を365nm
のみを透過させるフィルターを使用した紫外線露光機に
よって400mj/cm2 のエネルギーでテストパター
ンを照射し、続けて120℃で1分間加熱した。次に
2.38%のTMAH(テトラメチルアンモニウムハイ
ドライド)水溶液にて1分間のパドル現像を行った。こ
の操作によって塗膜の紫外線照射部のみを溶解させたポ
ジ型レリーフパターンを得ることができた。得られたパ
ターンを光学顕微鏡によって観察したところ、15.0
μmまでのパターンが形成されていることが確認でき
た。しかし、このパターンは膨潤していてシャープな形
状ではなかった。
50℃で1時間、350℃で1時間の加熱処理を行い、
塗膜のイミド化を完結させた。このイミドパターンは、
シリコンウェーハ上に強固に密着しており、パターンに
樹脂クラックや剥離は観察されなかった。
つ感光性ポリイミド前駆体であり、パターン形成に関し
てはアルカリ性水溶液を使用することが可能である。更
に本発明の感光性樹脂組成物は、紫外線に対して化学増
幅的に反応するため、高いコントラストを有し、高感度
でかつ、寸法制御性のよい極めてシャープなポジ型パタ
ーンを得ることができる。また、最終的に得られるポリ
イミド塗膜は、耐熱性や耐薬品性に優れているため、通
常使用されている半導体デバイス保護膜と同等に使用す
ることが可能となった。これらは全く新規な発想に基づ
ずくものであり、他に類のない非常に優れた発明である
ことが容易に理解できる。
Claims (2)
- 【請求項1】 (A)次の一般式で示されるポリイミド
前躯体、 【化1】 (但し、式中、R1 は、4価の芳香族基、複数の芳香族
環が単結合された4価の有機基、又は複数の芳香族環が
−O−、−CO−、−SO2 −若しくは−CH2−で結
合された4価の有機基であり、R2 は、2価の芳香族
基、複数の芳香族環が単結合された2価の有機基、又は
複数の芳香族環が−O−、−CO−、−SO 2 −若しく
は−CH2 −で結合された2価の有機基であり、nは1
以上の整数である) (B)次の一般式で示されるビニルオキシ基含有化合
物、 【化2】 (但し、式中、R3 は2価又は3価の脂肪族基、芳香族
基、又は複数の脂肪族基、芳香族基が単結合、−O−、
−CO−、−CH2 −、−SO2 −若しくは−NH−で
結合された2価の有機基であり、n、mはいずれも1〜
3の整数である) (C)紫外線等活性光線に対して分解して酸を発生する
感光剤および (D)溶剤からなることを特徴とするポジ型感光性樹脂
組成物。 - 【請求項2】 請求項1記載のポジ型感光性樹脂組成物
を基板上にコーティングし、90〜130℃で乾燥させ
てアルカリ水溶液に対する不溶化塗膜を形成する不溶化
塗膜形成工程と、得られた不溶化塗膜にポジ型マスクパ
ターンを透して活性紫外線を露光した後、90〜130
℃で加熱して不溶化塗膜の露光部分のみを分解する露光
塗膜分解工程と、露光塗膜をアルカリ水溶液を使用して
露光分解部分のみを溶解してポジ型パターンに現像する
ポジ型パターン現像工程と、現像したポジ型パターンを
熱処理してポリイミドのポジ型パターンを形成するイミ
ド化熱処理工程とを含むポジ型パターン形成方法。
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