JP3051151B2 - Ｘ線散乱線の補正方法 - Google Patents
Ｘ線散乱線の補正方法Info
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- A—HUMAN NECESSITIES
- A61—MEDICAL OR VETERINARY SCIENCE; HYGIENE
- A61B—DIAGNOSIS; SURGERY; IDENTIFICATION
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Description
【発明の詳細な説明】 （産業上の利用分野） 本発明はＸ線CTにおけるＸ線の散乱に起因する非線形
の影響を補正するＸ線散乱線の補正方法に関する。
の影響を補正するＸ線散乱線の補正方法に関する。
（従来の技術） Ｘ線CTはＸ線を被検体に照射して透過したＸ線を検出
器で検出し、これを360゜に亘って行って、画像再構成
して断層像を得る装置である。
器で検出し、これを360゜に亘って行って、画像再構成
して断層像を得る装置である。
このＸ線CTにおいて、照射したＸ線が生体を通過する
間に減衰を受けると同時に次に示すような散乱を受け
る。
間に減衰を受けると同時に次に示すような散乱を受け
る。
1.第１の発生のメカニズムは光電効果を原因とする減弱
によるもので、物質の原子番号の大きい程、また入射フ
ォトンのエネルギーの大きい程起り易い。このような相
互作用においては、入力フォトンが消滅し、又は極めて
稀に生体内に軟Ｘ線が発生することがある。
によるもので、物質の原子番号の大きい程、また入射フ
ォトンのエネルギーの大きい程起り易い。このような相
互作用においては、入力フォトンが消滅し、又は極めて
稀に生体内に軟Ｘ線が発生することがある。
2.第２の発生のメカニズムはコヒーレント散乱と呼ばれ
るもので、カルシウム様の鉱物質の存在によって生ず
る。
るもので、カルシウム様の鉱物質の存在によって生ず
る。
3.第３の発生のメカニズムはコンプトン散乱と呼ばれ、
高エネルギーのフォトンの場合に生じ、照射Ｘ線が散乱
される場合、散乱されたＸ線の波長は長くなる。従って
入射Ｘ線との間に干渉は起らない。
高エネルギーのフォトンの場合に生じ、照射Ｘ線が散乱
される場合、散乱されたＸ線の波長は長くなる。従って
入射Ｘ線との間に干渉は起らない。
これらのＸ線の散乱線の影響は投影データに非線形の
影響を及ぼし、特に低カウントの領域で誤差が大きくな
る。この影響でリブアーティファクトと呼ばれる肋骨の
内側が黒くなったり、肝臓の左葉と右葉でCT値がばらつ
いたりすることが生じる。
影響を及ぼし、特に低カウントの領域で誤差が大きくな
る。この影響でリブアーティファクトと呼ばれる肋骨の
内側が黒くなったり、肝臓の左葉と右葉でCT値がばらつ
いたりすることが生じる。
又、CT画像の再構成演算を一層複雑にしてしまう。
（発明が解決しようとする課題） 上記のようなＸ線の散乱の影響の防止を検出器によっ
て行おうとすると、検出器で散乱線を拾わないようにす
るには、検出器の各チャネル間を、Ｘ線吸収係数の高い
電極板で完全に仕切る必要がある。この仕切りによって
散乱線を完全に遮断するのには限度がある。
て行おうとすると、検出器で散乱線を拾わないようにす
るには、検出器の各チャネル間を、Ｘ線吸収係数の高い
電極板で完全に仕切る必要がある。この仕切りによって
散乱線を完全に遮断するのには限度がある。
Xeガス検出器の電極配置とその得失について第６図、
第７図を参照して検討する。第６図は絶縁物１を挾んで
両面に信号電極２を設けた検出器の電極配置を示す図で
ある。信号電極２は絶縁物１の両側に例えばメタライズ
等の方法により設けられている。この検出器では信号電
極２と対向するバイアス電極３との間が単位チャネルと
なる。
第７図を参照して検討する。第６図は絶縁物１を挾んで
両面に信号電極２を設けた検出器の電極配置を示す図で
ある。信号電極２は絶縁物１の両側に例えばメタライズ
等の方法により設けられている。この検出器では信号電
極２と対向するバイアス電極３との間が単位チャネルと
なる。
第７図は信号電極２とバイアス電極３とが交互に配列
された検出器を示している。散乱線の検出器に対する影
響は検出器のピッチを小さくすれば小さくなるため、第
６図の両面タイプの電極板の構成より信号電極２とバイ
アス電極３とが交互に配列されている第７図のタイプの
方が有利になる。併し、両面タイプの方は交互配列タイ
プに比べて必要な電極板数は半分ですむ上、例えば2mm
程度の間隔で配置すればよく製作は容易であるが、交互
配列のタイプの検出器の製造は困難である。
された検出器を示している。散乱線の検出器に対する影
響は検出器のピッチを小さくすれば小さくなるため、第
６図の両面タイプの電極板の構成より信号電極２とバイ
アス電極３とが交互に配列されている第７図のタイプの
方が有利になる。併し、両面タイプの方は交互配列タイ
プに比べて必要な電極板数は半分ですむ上、例えば2mm
程度の間隔で配置すればよく製作は容易であるが、交互
配列のタイプの検出器の製造は困難である。
又、散乱線の影響を計算で求めてその影響を除くの
は、その構成が均一なファントムを用いる場合でさえ複
雑な計算が必要となり、実際に測定しようとする被検体
について計算で求めようとするのは殆ど不可能と考えら
れる。
は、その構成が均一なファントムを用いる場合でさえ複
雑な計算が必要となり、実際に測定しようとする被検体
について計算で求めようとするのは殆ど不可能と考えら
れる。
本発明は上記の点に鑑みてなされたもので、その目的
は、より簡易な計算法により散乱線の影響を除去するＸ
線散乱線の補正方法を実現することにある。
は、より簡易な計算法により散乱線の影響を除去するＸ
線散乱線の補正方法を実現することにある。
（課題を解決するための手段） 前記の課題を解決する本発明は、空気データと水ファ
ントムデータとをそれぞれオフセット補正手順を経て散
乱定数計算手順により空気データと水ファントムデータ
の散乱定数を求める段階と、Ｘ線強度補正手順により得
たデータと平均化手順により得たデータと、前記空気デ
ータと水ファントムデータの散乱定数を用いて水ファン
トムの散乱データ補正射影データ計算手順により水ファ
ントムの補正射影データを求める段階と、被検体を透過
した生データをオフセット補正手順を経て散乱定数計算
手順により前記生データの散乱定数を求める段階と、前
記空気データのＸ線強度補正データと、生データのＸ線
強度補正手順によりＸ線強度補正されたデータと、散乱
定数及び空気データの散乱定数とを用いて散乱データ補
正射影データ計算手順により生データの補正射影データ
を求める段階と、該生データの補正射影データから前記
水の射影データを減じてCT値の基準を変更して逆投影デ
ータを求める段階とから成るＸ線散乱線の補正方法にお
いて、前記空気データの散乱定数、水の散乱定数及び生
データの散乱定数を次式により求めることを特徴とする
ものである。
ントムデータとをそれぞれオフセット補正手順を経て散
乱定数計算手順により空気データと水ファントムデータ
の散乱定数を求める段階と、Ｘ線強度補正手順により得
たデータと平均化手順により得たデータと、前記空気デ
ータと水ファントムデータの散乱定数を用いて水ファン
トムの散乱データ補正射影データ計算手順により水ファ
ントムの補正射影データを求める段階と、被検体を透過
した生データをオフセット補正手順を経て散乱定数計算
手順により前記生データの散乱定数を求める段階と、前
記空気データのＸ線強度補正データと、生データのＸ線
強度補正手順によりＸ線強度補正されたデータと、散乱
定数及び空気データの散乱定数とを用いて散乱データ補
正射影データ計算手順により生データの補正射影データ
を求める段階と、該生データの補正射影データから前記
水の射影データを減じてCT値の基準を変更して逆投影デ
ータを求める段階とから成るＸ線散乱線の補正方法にお
いて、前記空気データの散乱定数、水の散乱定数及び生
データの散乱定数を次式により求めることを特徴とする
ものである。
Ｃ＝Io（a log Io′＋ｂ） 但し、a,bは異なる水ファントムの測定データから得
た回帰直線により求めた定数。
た回帰直線により求めた定数。
C/Io＝a log Io＋ｂ Io …センタチャネルのＸ線強度補正前のＸ線強度が最
小になる値、 Io′…管電流一定値における実測データの値、 又、第２の発明は、空気データの散乱定数（CA）、水
ファントムの散乱定数（CW）及び生データの散乱定数
（CS）を次式により求めることを特徴とするものであ
る。
小になる値、 Io′…管電流一定値における実測データの値、 又、第２の発明は、空気データの散乱定数（CA）、水
ファントムの散乱定数（CW）及び生データの散乱定数
（CS）を次式により求めることを特徴とするものであ
る。
但し、a,bは大きさの異なる水ファントムの測定デー
タから得た回帰直線により求めた定数。
タから得た回帰直線により求めた定数。
Proj1…射影データ （作用） 大きさの異なる水ファントムにＸ線を照射して散乱定
数を求める式の２個の係数を求め、この係数を用いて空
気、水及び生体の散乱定数を演算し、散乱データの補正
された射影データを得る。生データの射影データから水
ファントムの射影データを減じてCT値の基準を生データ
の近くに移して誤差を少なくする。
数を求める式の２個の係数を求め、この係数を用いて空
気、水及び生体の散乱定数を演算し、散乱データの補正
された射影データを得る。生データの射影データから水
ファントムの射影データを減じてCT値の基準を生データ
の近くに移して誤差を少なくする。
（実施例） 以下図面を参照して本発明方法の実施例を詳細に説明
する。
する。
第２図は本発明方法を実施するための装置のブロック
図である。図において、11はテーブル12に載置した被検
体13を収容する中空部を備えたガントリで、ガントリ11
には被検体13の周囲を360゜に亘って回転するＸ線発生
源14と検出器15とが被検体13を中心とする対向位置に設
けられている。16は検出器15の両端に位置し、被検体13
を透過しないＸ線を検出して、Ｘ線強度の変動等のデー
タを採取して、被検体13を透過したＸ線データを補正し
てＸ線強度補正を行うためのリファレンスチャネルであ
る。
図である。図において、11はテーブル12に載置した被検
体13を収容する中空部を備えたガントリで、ガントリ11
には被検体13の周囲を360゜に亘って回転するＸ線発生
源14と検出器15とが被検体13を中心とする対向位置に設
けられている。16は検出器15の両端に位置し、被検体13
を透過しないＸ線を検出して、Ｘ線強度の変動等のデー
タを採取して、被検体13を透過したＸ線データを補正し
てＸ線強度補正を行うためのリファレンスチャネルであ
る。
17は検出器15で検出されたＸ線データを収集して増幅
し、積分した後AD変換を行いデータ処理装置18にデータ
を送るデータ収集装置である。データ処理装置18はデー
タ収集装置17からの入力データに対し、リファレンスチ
ャネル16からのデータに基づきＸ線強度補正を行い、更
に、対数変換、ビームハードニング補正（BH補正）等の
各種補正処理を行い、補正されたデータに画像再構成処
理を施す等のデータ処理を行う。19はテーブル12の位置
の制御、ガントリ11の姿勢制御、運動の制御を行うテー
ブル・ガントリ制御装置、20はＸ線発生源14によるＸ線
の発生の制御を行うＸ線発生制御装置、21はオペレータ
とのコミュニケーションを行い、データ処理装置18の動
作を制御し、テーブル・ガントリ制御装置19及びＸ線発
生制御装置20の動作を制御する等断層像撮影に関する統
一的な制御を行う撮影制御装置である。22は画像再構成
されたイメージデータを画像として表示する画像表示装
置である。
し、積分した後AD変換を行いデータ処理装置18にデータ
を送るデータ収集装置である。データ処理装置18はデー
タ収集装置17からの入力データに対し、リファレンスチ
ャネル16からのデータに基づきＸ線強度補正を行い、更
に、対数変換、ビームハードニング補正（BH補正）等の
各種補正処理を行い、補正されたデータに画像再構成処
理を施す等のデータ処理を行う。19はテーブル12の位置
の制御、ガントリ11の姿勢制御、運動の制御を行うテー
ブル・ガントリ制御装置、20はＸ線発生源14によるＸ線
の発生の制御を行うＸ線発生制御装置、21はオペレータ
とのコミュニケーションを行い、データ処理装置18の動
作を制御し、テーブル・ガントリ制御装置19及びＸ線発
生制御装置20の動作を制御する等断層像撮影に関する統
一的な制御を行う撮影制御装置である。22は画像再構成
されたイメージデータを画像として表示する画像表示装
置である。
第１図は上記の装置を用いて行う散乱線補正方法の手
順を示すブロック図である。次に上記第２図の装置の動
作と併せて散乱線補正手順を説明する。始めにガントリ
11の被検体13を収容する部分に何も置かない状態にして
空気データ採取を行う。Ｘ線発生源14からＸ線を照射し
ないで検出器15のデータを取り、データ収集装置17を経
てデータ処理装置18でデータを処理する。これはデータ
収集装置17のオフセットデータを取ることに相当し、以
後の測定によるデータのオフセット補正データとする。
次に、Ｘ線発生制御装置20の制御によりＸ線発生源14か
らＸ線を照射させ、リファレンスチャネル16からのデー
タをデータ収集装置17で増幅し、ディジタル信号に変換
後データ処理装置18でＸ線強度補正データとする。Ｘ線
照射により得られた空気データはオフセット補正手順31
において前記オフセットデータによりデータ収集装置17
によるオフセットが補正され、Ｘ線強度補正手順32にお
いてＸ線強度補正を行うことによりＸ線強度が補正され
る。この時の強度補正用データの平均値をref（AIRi）
として計算する。33は平均化手順で、ビュー毎のデータ
を平均してノイズの影響を少なくし、データAIRi′を出
力する。34は空気データが受ける散乱の定数CAを求める
散乱定数計算手順である。散乱定数CAは次式によって求
められる。
順を示すブロック図である。次に上記第２図の装置の動
作と併せて散乱線補正手順を説明する。始めにガントリ
11の被検体13を収容する部分に何も置かない状態にして
空気データ採取を行う。Ｘ線発生源14からＸ線を照射し
ないで検出器15のデータを取り、データ収集装置17を経
てデータ処理装置18でデータを処理する。これはデータ
収集装置17のオフセットデータを取ることに相当し、以
後の測定によるデータのオフセット補正データとする。
次に、Ｘ線発生制御装置20の制御によりＸ線発生源14か
らＸ線を照射させ、リファレンスチャネル16からのデー
タをデータ収集装置17で増幅し、ディジタル信号に変換
後データ処理装置18でＸ線強度補正データとする。Ｘ線
照射により得られた空気データはオフセット補正手順31
において前記オフセットデータによりデータ収集装置17
によるオフセットが補正され、Ｘ線強度補正手順32にお
いてＸ線強度補正を行うことによりＸ線強度が補正され
る。この時の強度補正用データの平均値をref（AIRi）
として計算する。33は平均化手順で、ビュー毎のデータ
を平均してノイズの影響を少なくし、データAIRi′を出
力する。34は空気データが受ける散乱の定数CAを求める
散乱定数計算手順である。散乱定数CAは次式によって求
められる。
CA＝IOA（a log IOA＋ｂ） ……（１） ここで、IOAはセンタチャネルのＸ線強度補正前の空
気データのＸ線強度の最小値。（１回転中における最小
値） a,bは、異なる水ファントムの測定データにより回帰
直線を引いて求めた定数。
気データのＸ線強度の最小値。（１回転中における最小
値） a,bは、異なる水ファントムの測定データにより回帰
直線を引いて求めた定数。
次に、被検体13収容位置に水ファントムを置いてＸ線
を照射してデータを取る。このデータはオフセット補正
手順41において、先に得られたデータ収集装置17のオフ
セットを差し引くことによりオフセット補正される。オ
フセット補正手順41でオフセット補正されたデータはＸ
線強度補正手順42でリファレンスチャネル16からのデー
タによりＸ線強度の変動によるデータの変動が補正され
る。この時の強度補正用データの平均値をデータref（W
TRi）として計算する。Ｘ線強度変動の補正されたデー
タは平均化手順43で平均化されてWTRiが出力される。散
乱定数計算手順44はオフセット補正手順41からの出力I
OWが入力されて次式の計算により散乱定数CWが求められ
る。
を照射してデータを取る。このデータはオフセット補正
手順41において、先に得られたデータ収集装置17のオフ
セットを差し引くことによりオフセット補正される。オ
フセット補正手順41でオフセット補正されたデータはＸ
線強度補正手順42でリファレンスチャネル16からのデー
タによりＸ線強度の変動によるデータの変動が補正され
る。この時の強度補正用データの平均値をデータref（W
TRi）として計算する。Ｘ線強度変動の補正されたデー
タは平均化手順43で平均化されてWTRiが出力される。散
乱定数計算手順44はオフセット補正手順41からの出力I
OWが入力されて次式の計算により散乱定数CWが求められ
る。
CW＝IOW（a log IOW＋ｂ） ……（２） ここで、IOWはセンタチャネルのＸ線強度補正前の水
ファントムデータのＸ線強度の最小値 45は散乱データ補正射影データ計算手順で次式の計算
により水ファントムの散乱データの補正された射影デー
タが求められる。
ファントムデータのＸ線強度の最小値 45は散乱データ補正射影データ計算手順で次式の計算
により水ファントムの散乱データの補正された射影デー
タが求められる。
ここで、 PWTRi φ…散乱線データを定数として補正した射影デー
タ PWTRi′…水ファントムデータの散乱補正を行った射影
データで散乱補正により生じる高域の誤差を取り除いた
データ WTRi′…水ファントムの平均化データ（ｉチャネル）の
Ｘ線強度補正済データ AIRi′…空気の平均化データ（ｉチャネル）のＸ線強度
補正済データ Lpf …低域濾波器を掛けて高域を除く演算を意味す
る。
タ PWTRi′…水ファントムデータの散乱補正を行った射影
データで散乱補正により生じる高域の誤差を取り除いた
データ WTRi′…水ファントムの平均化データ（ｉチャネル）の
Ｘ線強度補正済データ AIRi′…空気の平均化データ（ｉチャネル）のＸ線強度
補正済データ Lpf …低域濾波器を掛けて高域を除く演算を意味す
る。
得たデータPWTRi′はBH補正手段46によりデータ処理
装置18においてビームハードニングによる影響を補正さ
れる。
装置18においてビームハードニングによる影響を補正さ
れる。
次に被検体13をガントリ11に収容してＸ線発生源14か
らＸ線を照射させる。検出器15で検出されたデータはデ
ータ収集装置17で収集され、データ処理装置18で各種補
正を施される。この手順は以下に示す通りである。生デ
ータは先に得たオフセットデータによりオフセット補正
手段51でオフセット補正されデータIOSを出力する。こ
のデータは散乱定数計算手順53で次式の計算により散乱
定数CSが求められる。
らＸ線を照射させる。検出器15で検出されたデータはデ
ータ収集装置17で収集され、データ処理装置18で各種補
正を施される。この手順は以下に示す通りである。生デ
ータは先に得たオフセットデータによりオフセット補正
手段51でオフセット補正されデータIOSを出力する。こ
のデータは散乱定数計算手順53で次式の計算により散乱
定数CSが求められる。
CS＝IOS（a log IOS＋ｂ） ……（４） オフセット補正されたデータは、Ｘ線強度補正手順52
でリファレンスチャネル16のデータにより補正されて平
均化データIij′となって出力される。リファレンスチ
ャネル16のデータは平均してref（Iij）として保存す
る。散乱データ補正射影データ計算手順54では散乱定数
CA,空気のref（AIRi）,CS,ref（Iij）及びIij′から次
式の計算により散乱データの補正された射影データ
Pij′が得られる。
でリファレンスチャネル16のデータにより補正されて平
均化データIij′となって出力される。リファレンスチ
ャネル16のデータは平均してref（Iij）として保存す
る。散乱データ補正射影データ計算手順54では散乱定数
CA,空気のref（AIRi）,CS,ref（Iij）及びIij′から次
式の計算により散乱データの補正された射影データ
Pij′が得られる。
ここで、Iijはｉチャネルｊビューのデータ、Pij′は
ｉチャネルｊビューの射影データである。
ｉチャネルｊビューの射影データである。
このデータはPij′はBH補正手順55でビームハードニ
ングによる影響を補正され、減算器56に入力される。減
算器56では（５）式のPij′から（３）式のPWTRi′が減
算されて次式の射影データが得られる。
ングによる影響を補正され、減算器56に入力される。減
算器56では（５）式のPij′から（３）式のPWTRi′が減
算されて次式の射影データが得られる。
（６）式のデータは水ファントムを基準としたデータ
で、水は生体のＸ線吸収率に略近いため、この演算は生
体に近い分布のデータとするために行われる。減算器56
の出力はフィルタ補正逆投影演算手順57において演算さ
れて画像再構成されて、イメージ58となって画像表示装
置22に表示される。尚、上記の（１）式〜（５）式の演
算は総てデータ処理装置18において行われる。
で、水は生体のＸ線吸収率に略近いため、この演算は生
体に近い分布のデータとするために行われる。減算器56
の出力はフィルタ補正逆投影演算手順57において演算さ
れて画像再構成されて、イメージ58となって画像表示装
置22に表示される。尚、上記の（１）式〜（５）式の演
算は総てデータ処理装置18において行われる。
以上述べたような手順で散乱データが補正されるが、
この手順中、本発明で行われる散乱定数の求め方を再掲
すると、 Ｃ＝Io（a log Io′＋ｂ） 且つ Ｃ＝Io/1000 従って、a log Io＋ｂ≧1/1000 の時はＣが求められる。
この手順中、本発明で行われる散乱定数の求め方を再掲
すると、 Ｃ＝Io（a log Io′＋ｂ） 且つ Ｃ＝Io/1000 従って、a log Io＋ｂ≧1/1000 の時はＣが求められる。
a log Io＋ｂ＜1/1000 の時はＣは求められない。
a,bは異なる大きさの水ファントムの測定データから C/Io＝a log Io＋ｂ として縦軸がｙ＝C/Io、横軸がｘ＝log Io として第３図に示すグラフを画いてa,bを求める。
散乱定数の求め方は上記実施例に限定されるものでは
ない。例えば、以下に示すように行うことができる。ス
キャンの第１ビューにおいて射影データProjiを全チャ
ネルに亘って積分することにより次式により求める。
ない。例えば、以下に示すように行うことができる。ス
キャンの第１ビューにおいて射影データProjiを全チャ
ネルに亘って積分することにより次式により求める。
（７）式はＸ線が透過する物体が高吸収物質である場
合と低吸収物質である場合とにより射影データの積分値
が変化すると共に散乱線の検出される量も変化するの
で、（１）式，（２）式，（４）式と同様に散乱定数を
求めることができる。式中のa,bは（１）式，（２）
式，（４）式の場合と同様にして求めた定数である。
合と低吸収物質である場合とにより射影データの積分値
が変化すると共に散乱線の検出される量も変化するの
で、（１）式，（２）式，（４）式と同様に散乱定数を
求めることができる。式中のa,bは（１）式，（２）
式，（４）式の場合と同様にして求めた定数である。
以上説明したように本実施例によれば、次のような効
果がある。散乱線によるカウント数のISが大きくなる
と、散乱線を含まないIPとの和である実際のＸ線測定強
度がＸ線の減弱に対して第４図に示すように非線形にな
っている。図において、61は散乱線を含まない射影デー
タで、略直線である。62は散乱線を含む射影データ｛−
log（IP＋IS）｝で、ISの分だけ下って非線形となって
いる。これを本実施例によれば散乱線を含まない射影デ
ータに近付けることができる。BH補正も同様のことを行
っているが、BH補正は水ファントムのCTナンバの均一性
を良くすることが目的の関数となっているため、散乱線
分による低カウント数で大きく影響される非線形要素は
補正されない。これは、BH補正は射影データの３次の補
正であり、目的関数を散乱線による非線形にとっても、
後でBH補正を行えば、その効果はBH補正にかくれてしま
うことになるからである。
果がある。散乱線によるカウント数のISが大きくなる
と、散乱線を含まないIPとの和である実際のＸ線測定強
度がＸ線の減弱に対して第４図に示すように非線形にな
っている。図において、61は散乱線を含まない射影デー
タで、略直線である。62は散乱線を含む射影データ｛−
log（IP＋IS）｝で、ISの分だけ下って非線形となって
いる。これを本実施例によれば散乱線を含まない射影デ
ータに近付けることができる。BH補正も同様のことを行
っているが、BH補正は水ファントムのCTナンバの均一性
を良くすることが目的の関数となっているため、散乱線
分による低カウント数で大きく影響される非線形要素は
補正されない。これは、BH補正は射影データの３次の補
正であり、目的関数を散乱線による非線形にとっても、
後でBH補正を行えば、その効果はBH補正にかくれてしま
うことになるからである。
第５図は、高吸収物質のピン62に挾まれた水ファント
ム63に図の上方からＸ線を照射した場合の図で、64は表
示画面上に現れる暗いアーティファクトである。このア
ーティファクト64は実施例の方法を実施すると薄くな
る。
ム63に図の上方からＸ線を照射した場合の図で、64は表
示画面上に現れる暗いアーティファクトである。このア
ーティファクト64は実施例の方法を実施すると薄くな
る。
又、被検体で行った実際のイメージで肋骨の裏側に見
える低密度のアーティファクトや、肝臓の左右の不均一
性も、第５図のピン62によるアーティファクトの集積結
果と同様な現象と見做すことができ、実施例の補正を行
うことによりアーティファクトが減少する。
える低密度のアーティファクトや、肝臓の左右の不均一
性も、第５図のピン62によるアーティファクトの集積結
果と同様な現象と見做すことができ、実施例の補正を行
うことによりアーティファクトが減少する。
（発明の効果） 以上詳細に説明したように本発明によれば、散乱線の
影響を除去する計算法において、散乱定数を容易に決定
することができるようになって、散乱線の影響除去が容
易に行えるようになり、実用上の効果は大きい。
影響を除去する計算法において、散乱定数を容易に決定
することができるようになって、散乱線の影響除去が容
易に行えるようになり、実用上の効果は大きい。
第１図は本発明の一実施例の方法を用いた散乱線の影響
を除去するための計算の流れを示す図、 第２図は実施例の方法を実施する装置のブロック図、 第３図は水ファントムを用いて引いた回帰直線の図、 第４図は散乱線を含まない射影データと、含む射影デー
タの透過長による射影データの変化の比較図、 第５図は水ファントムの両側にピンを置いた場合に生ず
るアーティファクトの説明図、 第６図は信号電極を絶縁体の両面に設けたXeガス検出器
の模式図、 第７図はバイアス電極板と信号電極板とを交互に配置し
たXeガス検出器の模式図である。 31,41,51……オフセット補正手順 32,42,52……Ｘ線強度補正手順 33,43……平均化手順 34,44,53……散乱定数計算手順 45,54……散乱データ補正射影データ計算手順 46,55……BH補正手順、56……減算器
を除去するための計算の流れを示す図、 第２図は実施例の方法を実施する装置のブロック図、 第３図は水ファントムを用いて引いた回帰直線の図、 第４図は散乱線を含まない射影データと、含む射影デー
タの透過長による射影データの変化の比較図、 第５図は水ファントムの両側にピンを置いた場合に生ず
るアーティファクトの説明図、 第６図は信号電極を絶縁体の両面に設けたXeガス検出器
の模式図、 第７図はバイアス電極板と信号電極板とを交互に配置し
たXeガス検出器の模式図である。 31,41,51……オフセット補正手順 32,42,52……Ｘ線強度補正手順 33,43……平均化手順 34,44,53……散乱定数計算手順 45,54……散乱データ補正射影データ計算手順 46,55……BH補正手順、56……減算器
Claims (2)
- 【請求項１】空気データと水ファントムデータとをそれ
ぞれオフセット補正手順（31,41）を経て散乱定数計算
手順（34,44）により空気データと水ファントムデータ
の散乱定数（CA,CW）を求める段階と、Ｘ線強度補正手
順（32,42）により得たデータと平均化手順（33,43）に
より得たデータと、前記空気データと水ファントムデー
タの散乱定数（CA,CW）を用いて水ファントムの散乱デ
ータ補正射影データ計算手順（45）により水ファントム
の補正射影データを求める段階と、被検体を透過した生
データをオフセット補正手順（51）を経て散乱定数計算
手順（53）により前記生データの散乱定数（CS）を求め
る段階と、前記空気データのＸ線強度補正データと、生
データのＸ線強度補正手順（52）によりＸ線強度補正さ
れたデータと、散乱定数（CS）及び空気データの散乱定
数（CA）とを用いて散乱データ補正射影データ計算手順
（54）により生データの補正射影データを求める段階
と、該生データの補正射影データから前記水の射影デー
タを減じてCT値の基準を変更して逆投影データを求める
段階とから成るＸ線散乱線の補正方法において、 前記空気データの散乱定数（CA）、水の散乱定数（CW）
及び生データの散乱定数（CS）を次式により求めること
を特徴とするＸ線散乱線の補正方法。 Ｃ＝Io（a log Io′＋ｂ） 但し、a,bは異なる水ファントムの測定データから得た
回帰直線により求めた定数。 C/Io＝a log Io＋ｂ Io …センタチャネルのＸ線強度補正前のＸ線強度が最
小になる値、 Io′…管電流一定値における実測データの値、 - 【請求項２】空気データの散乱定数（CA）、水ファント
ムの散乱定数（CW）及び生データの散乱定数（CS）を次
式により求めることを特徴とするＸ線散乱線の補正方
法。 但し、a,bは大きさの異なる水ファントムの測定データ
から得た回帰直線により求めた定数。 Proj1…射影データ
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2296206A JP3051151B2 (ja) | 1990-11-01 | 1990-11-01 | Ｘ線散乱線の補正方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2296206A JP3051151B2 (ja) | 1990-11-01 | 1990-11-01 | Ｘ線散乱線の補正方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH04170942A JPH04170942A (ja) | 1992-06-18 |
| JP3051151B2 true JP3051151B2 (ja) | 2000-06-12 |
Family
ID=17830548
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2296206A Expired - Fee Related JP3051151B2 (ja) | 1990-11-01 | 1990-11-01 | Ｘ線散乱線の補正方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3051151B2 (ja) |
Families Citing this family (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP3408848B2 (ja) * | 1993-11-02 | 2003-05-19 | 株式会社日立メディコ | 散乱ｘ線補正法及びｘ線ｃｔ装置並びに多チャンネルｘ線検出器 |
| JP5384521B2 (ja) * | 2008-11-27 | 2014-01-08 | 株式会社日立メディコ | 放射線撮像装置 |
| JP5421056B2 (ja) * | 2009-10-15 | 2014-02-19 | 日立アロカメディカル株式会社 | 踵ホルダー |
-
1990
- 1990-11-01 JP JP2296206A patent/JP3051151B2/ja not_active Expired - Fee Related
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|---|---|
| JPH04170942A (ja) | 1992-06-18 |
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