JP3049793B2 - 流体回転装置 - Google Patents

流体回転装置

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JP3049793B2
JP3049793B2 JP3037223A JP3722391A JP3049793B2 JP 3049793 B2 JP3049793 B2 JP 3049793B2 JP 3037223 A JP3037223 A JP 3037223A JP 3722391 A JP3722391 A JP 3722391A JP 3049793 B2 JP3049793 B2 JP 3049793B2
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    • G05B19/02Programme-control systems electric
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    • F04POSITIVE - DISPLACEMENT MACHINES FOR LIQUIDS; PUMPS FOR LIQUIDS OR ELASTIC FLUIDS
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    • F04C2240/00Components
    • F04C2240/40Electric motor
    • F04C2240/402Plurality of electronically synchronised motors

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】この発明は流体回転装置に関す
る。
【0002】
【従来の技術】従来、同期して駆動すべき複数の駆動軸
それぞれを複数のモータで回転駆動させる多軸駆動装置
が様々な機器に用いられている。
【0003】この多軸駆動装置において、高精度の同期
駆動を実現するために、駆動軸の回転状態を検出するエ
ンコーダと、回転駆動パルス信号を発生するパルス発生
器を備えるとともに、前記回転駆動パルス信号とフィー
ドバック信号としての前記エンコーダの検出パルス信号
を入力するとともにPLL制御部を有するモータ制御回
路を各モータ毎に備え、PLL制御部を通るPLL制御
ループが形成されるようになっている装置がある。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、従来の
多軸駆動装置は、定常状態の場合には高精度で同期駆動
がなされるが、回転立ち上げ時や立ち下げ時の過渡状態
(非定常状態)では同期が乱れ、過渡状態でも高精度の
同期駆動が要求されるような場合には適用が困難であっ
た。
【0005】さて、真空技術は日常生活に密着した分野
から、最先端のハイテク分野まで極めて幅広い領域で使
われており、今日では技術革新に欠くことのできない先
端テクノロジーである。
【0006】特に、半導体産業の発展に伴って、クリー
ンな真空を作りだすオイルフリーのドライポンプが注目
されている。
【0007】このドライポンプはスクリュー式,スクロ
ール式,クロー式等各種あるが、通常、大気圧から10
−2〜10−3torrまでの低真空領域では容積(変
化)式が用いられる。この容積式の真空ポンプは、例え
ば、ハウジング内に収納された複数のロータと、これら
のロータを同期して回転駆動する複数の駆動軸と、前記
ハウジングに形成された液体の吸入孔および吐出孔とを
備え、前記ロータ同士あるいはロータ・ハウジングで形
成される密閉空間の容積変化を利用して流体の吸入排気
を行うポンプである。
【0008】このポンプをオイルフリーとするために、
従来はロータを駆動するモータの軸および複数のロータ
の同期回転を行うためのタイミングギア、軸受が収納さ
れた空間にオイル室を設け、ロータとハウジングで形成
される密閉空間(吸入室)へのオイルの進入を防止する
ため、メカニカルシールを両室の間に設けている。
【0009】しかし、従来のポンプの構造では、オイ
ル,メカニカルシール等の定期交換、メンテナンスはや
はり必要であり、オイルの滲み出し等の環境汚染の完全
な防止は困難であった。
【0010】そこで、発明者らは、前述した多軸同期制
御を利用して、2つのロータを非接触で同期回転させる
ことにより、完全なオイルフリーの構成が図れる流体回
転装置(真空ポンプ)を既に提案している。しかし、先
の提案は、真空ポンプの起動開始時および停止時の同期
制御の具体的方法については何ら言及されていなかっ
た。
【0011】この発明は、上記事情に鑑み、非定常状態
においても高精度の同期駆動が行える多軸駆動装置およ
び回転始動時,終了時,定常運転時のいずれの状態にお
いても、複数のロータを非接触で同期回転させられる流
体回転装置を提供することを課題とする。
【0012】
【課題を解決するための手段】前記課題を解決するた
め、請求項1記載の発明はハウジング内に収容された複
数個のロータと、これらのロータを同期して回転駆動す
る複数の駆動軸と、前記ハウジングに形成された流体の
吸入口および吐出口とを備え、前記ロータ同士あるいは
ロータ・ハウジングで形成される空間の容積変化を利用
して流体の吸入排気を行う流体回転装置において、前記
複数の駆動軸をそれぞれ回転駆動する複数のモータと、
前記駆動軸の回転状態を検出する検出手段と、回転駆動
信号を入力するとともに前記検出手段の検出信号をフィ
ードバック信号として入力するモータ制御回路を各モー
タ毎に備えており、各モータ制御回路は少なくとも複数
軸の角度を制御する回転角位相合せ部を有していて、モ
ータ回転の立ち上げ時あるいは立ち下げ時には前記回転
角位相合わせ部の制御ループが形成され各駆動軸間の位
置合わせが行われる流体回転装置である。
【0013】請求項3記載の流体回転装置は、加えて、
真空装置内の真空度を設定する真空度設定手段を備え、
この真空度になるようモ−タの回転数を変化させる構成
となっている。
【0014】
【作用】請求項1記載の流体回転装置は、例えば、容積
式の真空ポンプに適用することにより、立ち上げ時、立
ち下げ時の過渡状態および定常回転状態でも、ポンプ内
の各摺動部を非接触に保つことができるため、オイル潤
滑の要らないクリーンな真空ポンプを実現できる。ま
た、請求項3記載の流体回転装置は、バタフライ弁を使
わずとも、高精度の圧力コントロールが実現できる。
【0015】
【実施例】以下、本発明の実施例を述べる。
【0016】図1は、実施例の多軸駆動装置の構成をあ
らわすブロック図であり、まず構成を中心とする説明を
行う。
【0017】この多軸駆動装置は、同期して駆動すべき
2つの駆動軸1,2それぞれを回転駆動する2つのモー
タM1,M2を備えるとともに、各モータM1,M2毎
にモータ制御回路3,4を備えている。そして、駆動軸
1,2の回転状態(回転位置や回転速度)を検出するた
めに、各モータM1,M2毎にインクリメンタルエンコ
ーダ5,6およびアブソリュウトエンコーダ7,8を備
え、モータ制御回路3,4の前段に、回転駆動パルス信
号を発生するパルス発生器9を備える。また、これらの
モータ制御回路3,4およびパルス発生器9に対し必要
なコントロール信号を送るCPU制御部10も備えてい
る。
【0018】各モータ制御回路3(4)は、図1にみる
ように、PLL制御回路31(41)、PLL制御回路
32(42)、回転角位相合せ部33(43)、ドライ
バ部(電流増幅器)34(44)およびパルス抜き部3
5(45)を有している。PLL制御回路31(4
1)、PLL制御回路32(42)、回転角位相合せ部
33(43)には、パルス抜き部35(45)を介して
パルス発生器9の回転駆動パルス信号が入力されるとと
もにインクリメンタルエンコーダ5(6)の検出パルス
信号がフィードバック信号として入力される。そして、
PLL制御部31(41)を通るPLL制御ループ、
PLL制御部32(42)を通るPLL制御ループ、
回転角位相合せ部33(43)を通る回転角位相合せ制
御ループが形成可能になっており、CPU制御部10
の出力でスイッチ部36(46)が切り換えられ、PL
L制御ループのみが形成される状態〔接点36a(4
6a)を選択〕、PLL制御ループおよび回転角位相
合せ制御ループが形成される状態〔接点36b(46
b)を選択〕、回転角位相合せ制御ループのみが形成
される状態〔接点36c(46c)を選択〕のいずれか
が選ばれるようになっている。
【0019】PLL制御部は、入力する回転駆動パルス
信号とエンコーダからの検出パルス信号の周波数および
位相が常に一致するようにそれらの位相差を検出しフィ
ードバック制御するように構成されているものである。
一例として、回転駆動パルス信号と検出パルス信号を入
力し、位相比較器で位相差を検出しローパルスフィルタ
を通してから、位相補償を施すという構成が挙げられる
が、周知の手段であるから、詳細な説明は省略する。
【0020】なお、パルス抜き部35(45)はCPU
制御部10の指令に応じてパルス発生器9の回転駆動パ
ルス信号から指令数のパルスを抜く働きをする。
【0021】一方、アブソリュウトエンコーダ7(8)
の出力はカウンタ12(13)で回転位置信号に返換さ
れてCPU制御部10に入力される。
【0022】続いて、動作の説明を行う。 −立ち上がり時− (図4のの期間) まず、駆動軸1,2の回転角位相差を所定の位相差に合
わせる。
【0023】モータ制御回路3,4では回転角位相合せ
制御ループのみが形成される状態〔接点36c(46
c)を選択〕が選ばれる。CPU制御部10は、パルス
発生器9から低周波で回転駆動パルス信号を発生させる
一方、アブソリュウトエンコーダ7,8で検出された回
転位置信号に基づいて、駆動軸1,2の回転角位相差が
所定の位相差となるように、パルス抜き部35(45)
をコントロールしてパルス発生器9からパルスを必要数
だけモータ制御回路3,4に送り、位相差合せを行う。
【0024】(図4のの期間) 続いて、駆動軸1,2の回転角位相差を所定の位相差に
保った状態で回転数を定常状態まで上昇させる。
【0025】モータ制御回路3,4ではPLL制御ルー
プおよび回転角位相合せ制御ループが並列形成され
る状態〔接点36b(46b)を選択〕が選ばれる。パ
ルス発生器9の回転駆動パルス信号の周波数を徐々に上
げてゆく。PLL制御ループは応答性は余り高くな
く、PLL制御ループだけでは両駆動軸1,2の初期
設定回転角位相差をたもてない。回転角位相合せ制御ル
ープは、回転角位相合せ部33(43)が、例えば、
偏差カウンタを有していてインクリメンタルエンコーダ
5(6)の出力を監視し、回転角位相差のずれを瞬時に
補正し周波数上昇に正確に追随してゆく働きをする。つ
まり、この回転角位相合せ制御ループは、いわゆるf/
V変換方式の速度制御を行うループである。このように
して、PLL制御ループおよび回転角位相合せ制御ル
ープの両方で過渡状態においても高精度の同期駆動を
実現するのである。 −定常運転− (図4のの期間) 駆動軸1,2が定常回転数に達すると、モータ制御回路
3,4ではPLL制御ループのみが形成される状態
〔接点36c(46c)を選択〕が選ばれる。定常状態
では、回転駆動パルス信号の周波数は殆ど変化しないの
で回転角位相合せ制御ループを外しても、回転角位相
差は所定の位相差に保持される。また、定常運転におい
て逆に若干の位相差を強制的に修正することにより最適
制御を行う場合がある。この場合には、パルス抜き部3
5(45)でパルス抜きを行い、両駆動軸1,2の回転
角度位相差を修正するが、回転角位相合せ制御ループ
が効いていると修正しても元の所定の位相差に戻ってし
まい、修正が出来ないことになる。
【0026】−立ち下がり時− (図4のの期間) 運転を停止する場合には、駆動軸1,2の回転角位相差
を所定の位相差に保った状態で回転停止に至らせる。
【0027】モータ制御回路3,4ではPLL制御ルー
プおよび回転角位相合せ制御ループが並列形成され
る状態〔接点36b(46b)を選択〕が選ばれる。パ
ルス発生器9の回転駆動パルス信号の周波数を徐々に落
としてゆく。PLL制御ループは微小変動には強いが
大きな変動には応答性が余り高くなく、PLL制御ルー
プだけでは両駆動軸1,2の回転角位相差を所定の位
相差にたもてない。回転角位相合せ制御ループは、回転
角位相合せ部33(43)が、例えば、偏差カウンタを
有していてインクリメンタルエンコーダ5(6)の出力
を監視し、回転角位相差のずれを瞬時に補正し周波数下
降に正確に追随してゆく働きをするのである。このよう
にして、PLL制御ループおよび回転角位相合せ制御
ループの両方で立ち下がり時においても高精度の同期
駆動を実現する。
【0028】なお、CPU制御部10は、いずれの状態
においても、アブソリュウトエンコーダ7,8で検出さ
れた回転角度位相信号を監視し、回転角位相差にずれが
あれば、パルス抜き部35(45)をコントロールする
などして回転駆動パルス信号を修正しずれを防ぐ。
【0029】また、上記実施例では各モータ制御回路
3,4はPLL制御部31,32(41,42)を各々
2個ずつ有していたが、各モータ制御回路3,4はPL
L制御部32(42)が1個だけであって、PLL制御
部42の出力をじかに接点46aに接続するようにして
もよい。
【0030】次に、請求項3,5記載の流体回転装置の
実施例を述べる。
【0031】 図2,3は、この発明にかかる流体回転装
置の一実施例としての容積式真空ポンプを示す図であっ
て、図2は断面図であり、図3はハウジングのみを破断
してあらわす正面図である。
【0032】この真空ポンプは、ハウジング101内
に、第1回転軸(駆動軸)102を鉛直方向に収納した
第1軸受室111と、第2回転軸(駆動軸)103を鉛
直方向に収納した第2軸受室112を備えている。両回
転軸102,103の上端部で筒形ロータ104,10
5が外側から篏合されている。各ロータ104,105
の外周面には互いに噛み合うようにしてスクリュー14
2,152が形成されている。これら両スクリュー14
2,152の噛み合う部分は、容積式真空ポンプ構造部
分Aとなっている。すなわち、両スクリュー142,1
52の噛み合い部分の凹部(溝)と凸部およびハウジン
グの間に形成された密閉空間が、両回転軸102,10
回転に伴い周期的に容積変化を起こし、この容積変
化により吸入・排気作用を発揮するようになっているの
である。
【0033】ロータ104,105の各下端外周面に
は、図2に示すようなスクリュー同士の接触防止用ギア
144,154が設けられている。接触防止用ギア14
4,154には多少の金属間接触にも耐えられるよう
に、体膜潤滑膜が形成されている。これら両接触防止用
ギア144,154の互いの噛み合い部分の隙間(バッ
クラッシュ)δは、両ロータ104,105の各外周
面に形成されたスクリューの互いの噛み合い部分の隙間
(バックラッシュ)δよりも小さくなるように設計さ
れている。そのため、両接触防止用ギア144,154
は、両回転軸102,103の同期回転が円滑に行われ
ているときは互いが接触することはないが、万一、この
同期がずれたときは、スクリュー142,152同士の
接触に先立って互いに接触することにより、両スクリュ
ー142,152の接触衝突を防止する働きをする。こ
のとき、バックラッシュδ,δが微小であると、実
用的なレベルでの部材の加工制度が得られないという点
が懸念される。しかし、ポンプの一工程中の流体の漏れ
総量は、ポンプの一工程に要する時間に比例するので、
回転軸102,103が高速回転であれば、両スクリュ
ー142,152間のバックラッシュδを少々大きく
しても十分に真空ポンプの性能(到達真空度など)を維
持できる。そのため、回転軸を高速で回転させるように
すれば、通常の加工精度で、スクリュー142,152
間の衝突防止に必要な寸法のバックラッシュδ,δ
を十分に確保できる。
【0034】ハウジング101の容積真空ポンプ構造部
分Aが配置されている部分の上流側には吸気口114が
設けられ、下流側には排気口115が設けられている。
【0035】第1回転軸102と第2回転軸103は、
それぞれの筒形ロータ104,105の内部空間14
5,155内に設けられた非接触の下記静圧軸受で支持
されている。すなわち、オリフィス116から、両軸1
02,103に形成されている。
【0036】 円盤状部分121,131の上下面に圧搾
気体を供給することにより、スラスト軸受が構成され、
他方、オリフィス117から、両軸102,103の外
周面に圧搾気体を供給することにより、ラジアル軸受が
構成されている。ここで、圧搾気体として半導体工場等
で常備されているクリーンな窒素ガスを用いれば、モー
タの収納された内部空間145,155内の圧力を大気
圧よりも高くすることができる。そのため、腐食性があ
り堆積物を生じやすい反応性ガスの内部空間145,1
55内への進入を防止することができる。
【0037】軸受は、前記静圧軸受によるのみでなく、
磁気軸受によっても良く、この場合も、静圧軸受同様に
非接触であるために高速回転が容易で、完全オイルフリ
ーな構成となる。軸受部に玉軸受を用い、かつその潤滑
のために潤滑油を用いる場合には、窒素ガスを利用した
ガスバージ機構により流体作動室への潤滑油の侵入を防
ぐことができる。
【0038】第1回転軸102も第2回転軸103も、
それぞれの下部に独立して設けられたACサーボモータ
106,107により数万rpmの高速で回転する。
【0039】続いて、真空ポンプとしての動作を説明す
る。
【0040】 まず、真空ポンプを駆動する場合、図5に
みるように、スクリュー142,152の凹凸の中心が
互いに一致するように、両回転軸101,102の回転
角位相差を所定の位相差に合わせる。なお、接触防止ギ
ア144,154がある場合、これを利用して、回転角
位相差を所定の位相差に合わせることもできる。
【0041】続いて、回転軸102,103の回転角位
相差を所定の位相差に保った状態で回転数を定常状態ま
で上昇させる。ギア144,154同士(スクリュウ同
士も)が接触することなく、パルス発生器9の回転駆動
パルス信号で指令された回転数に正確に従い円滑に定常
状態まで上昇する。多軸駆動装置が前述の立ち上がり時
の動作をするのである。
【0042】定常運転では、PLL制御ループにより
高精度で同期駆動を続ける。
【0043】 真空ポンプを停止させる場合は、回転軸1
02,103の回転角位相差を所定の位相差に保った状
態で回転停止状態まで移行させる。ギア144,154
同士(スクリュウ同士も)が接触することなく、パルス
発生器9の回転駆動パルス信号で指令された回転数に正
確に従い円滑に停止状態に至る。多軸駆動装置が前述の
立ち下がり時の動作をするのである。
【0044】このように、この真空ポンプでは、定常状
態だけでなく過渡状態でも高精度で回転軸101,10
2(実施例ではスクリュー)を同期駆動できる。
【0045】すなわち、本発明を適用したこの真空ポン
プは、タイミングギアで同期をとらないためにタイミン
グギア部へのオイル潤滑が不要であり、またオイルシー
ルも省略できる。その結果、油汚染のないクリーンな真
空を得ることができる。機械的な摺動部がないため回転
軸101,102のより高速駆動が可能でポンプ能力の
向上が図れ、しかも、低騒音でポンプの長寿命化が図れ
るという利点がある。
【0046】 もし、さらに回転軸を静圧ガス・ベアリン
グで支持すれば、回転軸の一層の高速化が図れ、ポンプ
も小型化できる。
【0047】請求項3のように、排気空間内の真空度を
設定する真空度設定手段(図示省略)と排気空間内の真
空度を検出する真空度検出手段(図示省略)を備え、設
定真空度と検出真空度の差に応じて回転数指令パルス信
号が変化するように構成し、排気空間内の検出真空度に
応じてロータ104,105の回転数を変えるようにし
ても、正確な回転数制御がなされるため、低真空から高
真空まで広い真空度範囲にわたり正確な排気制御が行え
ることとなる。その結果、バタフライ弁を用いないで、
高精度の排気能力の制御と、例えば、真空チャンバー内
の圧力制御が容易となるのである。
【0048】通常、図5にみるように、スクリュー14
2,152の凹凸の中心が互いに一致するように、両駆
動軸1,2の回転角位相差を所定の位相差に合わせる
が、定常状態等においては、排気効率の上の点で、中心
を僅かに(例えば、0.01°程度の回転角)前後いず
れかにずらせる方がよい場合がある。この時は、パルス
抜き部35(45)で必要なパルス数を回転駆動パルス
信号から抜けばよい。前後どちらでもずらせられるよう
に、両モータ制御回路3,4のいずれにもパルス抜き部
を設けてある。0.01°程度の微調整を得るには、エ
ンコーダは360°(1周)に光透過スリットが1万程
度あるものを使い、出力パルスの信号処理により4倍で
ある4万の分解能のパルスを得ればよい。これで、36
0°/4000≒0.01°となり実現できる。
【0049】
【発明の効果】請求項1記載の流体回転装置は、立ち上
げ時、立ち下げ時の過渡状態および定常回転時の状態で
も、同期回転のための機械的摺動部がなく、そのため、
装置のクリーン化,高速化,長寿命化等の点で非常に有
利である。
【0050】請求項3記載の流体回転装置は、加えて、
バタフライ弁等の流量制御機器をポンプに設けずとも、
高精度の排気制御および圧力コントロールを実現でき
る。
【図面の簡単な説明】
【図1】多軸駆動装置の実施例をあらわすブロック図
【図2】流体回転装置の実施例である容積式真空ポンプ
をあらわす断面図
【図3】流体回転装置の実施例である容積式真空ポンプ
をハウジングのみを破断してあらわす正面図
【図4】図1の多軸駆動装置の運転時間経過と駆動軸の
回転数の関係をあらわすグラフ
【図5】図2の真空ポンプにおけるスクリューの一部を
あらわす説明図
【符号の説明】
1 駆動軸 2 駆動軸 M1 モータ M2 モータ
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名) H02P 5/52 F04C 25/02

Claims (3)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 ハウジング内に収容された複数個のロー
    タと、これらのロータを同期して回転駆動する複数の駆
    動軸と、前記ハウジングに形成された流体の吸入口およ
    び吐出口とを備え、前記ロータ同士あるいはロータ・ハ
    ウジングで形成される空間の容積変化を利用して流体の
    吸入排気を行う流体回転装置において、前記複数の駆動
    軸をそれぞれ回転駆動する複数のモータと、前記駆動軸
    の回転状態を検出する検出手段と、回転駆動信号を入力
    するとともに前記検出手段の検出信号をフィードバック
    信号として入力するモータ制御回路を各モータ毎に備え
    ており、各モータ制御回路は少なくとも複数軸の角度を
    制御する回転角位相合せ部を有していて、モータ回転の
    立ち上げ時あるいは立ち下げ時には前記回転角位相合わ
    せ部の制御ループが形成され各駆動軸間の位置合わせが
    行われる流体回転装置
  2. 【請求項2】 モ−タ制御回路がPLL制御部を有して
    いる請求項1記載の流体回転装置。
  3. 【請求項3】 真空装置内の真空度を設定する真空度設
    定手段と、この真空度になるようにモ−タの回転数を変
    化させる請求項1記載の流体回転装置。
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