JP3048982B2 - レジスト塗布前処理装置 - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、レジスト塗布前処
理装置に関し、特にウエハへのフォトレジスト塗布前の
表面処理を行うレジスト塗布前処理装置に関する。

【０００２】

【従来の技術】従来、ウエハにレジスト（フォトレジス
ト）を塗布する際には、前処理としてウエハ表面にＨＭ
ＤＳ（ヘキサメチルジシラザン）の気化ガスを吹き付
け、塗布されたレジストとウエハとの間に現像液やエッ
チング液が浸入するのを防止している。この前処理に用
いるレジスト前処理装置は、レジスト塗布ユニット装置
の一部として構成され、ウエハはこの前処理装置を経由
してレジスト塗布装置へと搬送されるようになってい
る。

【０００３】この従来のレジスト塗布前処理装置につい
て、図３の断面図を参照して説明する。供給されたウエ
ハ１は、加熱器が内蔵されたウエハステージ２上に設け
られたウエハ支持ピン３で支持され、上蓋５で形成され
た処理室４内に載置される。処理室４は、Ｏリング６を
介して気密に密閉され、排気は真空排気ユニット１４に
て排気配管１１、大元排気配管１３を経由して真空排気
ユニット１４により排気されるようになっている。

【０００４】まず、処理室４内に載置されたウエハ１
は、ウエハステージ２内の加熱器により５０〜８０℃程
度に加熱され、同時に処理室４内は真空排気ユニット１
４によりエアが排気される。この時、ＨＭＤＳ供給バル
ブ１５は閉じている。処理室４内のエアを排気した後に
ＨＭＤＳ供給バルブ１５を開け、ＨＭＤＳ供給ユニット
１６よりＨＭＤＳガスをウエハ１に吹き付ける。

【０００５】さらに従来の前処理装置においては、ウエ
ハ１の受け渡しに必要となるリフトピン７が設けられて
いる（特開平３−２９１９１２号公報）。このリフトピ
ン７は、この種の密閉機構を有する装置においては必要
不可欠のものであり、ウエハの受け渡し方式に関わらず
ウエハステージ２内に組み込まれている。リフトピン７
が組み込まれたエリアであるリフトピン収納部８は、Ｏ
リング９を介した密閉構造となっており、かつリフトピ
ン７が上下動作する摺動部を有している。

【０００６】しかし、この従来の前処理装置は、リフト
ピン７が組み込まれたリフトピン収納部８内を排気する
機構を備えていないため、処理室４内を排気する時に、
リフトピン収納部８内の排気は上昇してウエハ１の裏面
に当たり、さらにウエハ裏面に沿って外周方向に流れ、
ウエハステージ２の外周に設けられた排気ポート１７か
ら排気配管１１へと流れる構造になっていた。

【０００７】

【発明が解決しようとする課題】上述した従来のレジス
ト塗布前処理装置は、ウエハ１を受け渡しする際に、リ
フトピン収納部８内で上下動作するリフトピン７の摺動
部でゴミが発生し、このゴミを含んだ排気が真空引きの
時に上方に巻き上げられ、このゴミを含んだ排気がウエ
ハ裏面方向に流れ、さらに裏面に沿って流れるため、ウ
エハ裏面にゴミが付着するという問題があった。その理
由は、処理室４内の排気がウエハステージ２の外周に設
けられた排気ポート１７のみで行われているためであ
る。

【０００８】本発明の目的は、レジスト塗布前処理装置
において、ウエハ表面処理の前後に行う処理室の真空引
きの際、ウエハステージ内部にあるリフトピン収納部で
発生したゴミを含んだ排気の流れを、ウエハ裏面に届か
ないように制御することができるレジスト塗布前処理装
置を提供することにある。

【０００９】

【課題を解決するための手段】本発明は、ウエハを載置
するウエハステージと、ウエハステージを覆う上蓋によ
り形成される処理室と、ウエハステージに内蔵されウエ
ハの受け渡しを行うために上下動作するリフトピンと、
リフトピンを収納するリフトピン収納部とを有し、ウエ
ハ表面処理の前後に前記処理室の真空排気を行う排気配
管を備えたレジスト塗布前処理装置において、前記リフ
トピン収納部の底部に排気配管を設けたことを特徴とす
るレジスト塗布前処理装置である。

【００１０】

【発明の実施の形態】次に、本発明の実施の形態につい
て、図面を参照して詳細に説明する。図１は本発明の第
１の実施の形態を示すレジスト塗布前処理装置の断面図
である。供給されたウエハ１は、ウエハステージ２上に
設けられたウエハ支持ピン３上に載置される。処理室４
は、上蓋５をウエハステージ２に被せ、両者をＯリング
６でシールして形成され、さらに、下降したリフトピン
７とリフトピン収納部８の底部とがＯリング９でシール
され、密閉状態を作る。ウエハステージ２の外周部には
排気ポーと１７を設けて排気配管１６が接続され、ま
た、リフトピン収納部８の底部には、排気ポート１８を
設けて排気配管１２を接続し、排気配管１２は処理室４
からの排気配管１１に接続され、大元排気配管１３を介
して真空排気ユニット14につながっている。

【００１１】この状態で、処理室４内のエアを排気配管
１１から、またリフトピン収納部８内のエアを排気配管
１２からそれぞれ真空排気し、排気終了後、ＨＭＤＳ供
給バルブ１５を開き、ＨＭＤＳ供給ユニット１６からの
ＨＭＤＳの気化ガスが導入管１０から処理室４へ供給さ
れる。ウエハ１へのＨＭＤＳガスの吹き付けが終了後、
処理室４内は排気配管１１により排気され、リフトピン
収納部８内は排気配管１２により排気される。これらの
真空排気の際、処理室４内の排気の一部はウエハ１の表
面側から裏面側へ回り込み、リフトピン収納部８を経由
して排気配管１２から排気される。排気配管１１と排気
配管１２の排気は、合流して大元排気配管１３へと導か
れる。従って、リフトピン収納部８内の排気の流れは、
常にダウンフローが形成される。

【００１２】次に、本発明の第１の実施の形態の動作に
ついて、図１を参照して詳細に説明する。まず、ウエハ
１は、上蓋５とリフトピン７が上昇した状態で処理室４
内へ搬送される。その後、上蓋５とリフトピン７が下降
し、ウエハ１はウエハ支持ピン３上に載置される。ま
た、処理室４は、上蓋５の下降によりＯリング６でシー
ルされる。さらに、リフトピン７の下降によりリフトピ
ン収納部８はＯリング９でシールされ、処理室４とリフ
トピン収納部８とは、つながった状態で密閉される。

【００１３】この状態でＨＭＤＳガスによるプロセス処
理が開始されるが、本実施の形態に必要な個所の動作の
み説明する。リフトピン７の上下動作の際、Ｏリング９
との間にこすれが生じ、ゴミが発生した状態となってい
る。従来は、排気配管１２が存在しなかったため、この
状態で排気配管１１からのみ真空引きを行うと、ゴミを
含んだエアがリフトピン収納部８からウエハ１の裏面へ
流れ、ウエハ裏面にゴミを付着させていた。しかし、本
実施の形態によれば、処理室４内は排気配管１１から、
またリフトピン収納部８は排気配管１２からそれぞれ真
空引きされるため、処理室４からリフトピン収納部８へ
向かう気流を発生させることができ、リフトピン収納部
８内において、気流は全てダウンフローとなり、ウエハ
１の裏面方向へのエアの流れの発生はない。その結果、
ウエハ裏面へのゴミの付着を低減することができる。

【００１４】次に、本発明の第２の実施の形態につい
て、図２を参照して詳細に説明する。図２は、本発明の
第２の実施の形態を示すレジスト塗布前処理装置の断面
図である。まず、ウエハ１は、ウエハステージ２上に設
けられたウエハ支持ピン３の上に載置される。処理室４
は、上蓋５とウエハステージ２とがＯリング６でシール
され、さらに、下降したリフトピン７とリフトピン収納
部８の底部とがＯリング９でシールされ、処理室４とリ
フトピン収納部８とは、それぞれ密閉状態となってい
る。また、処理室４には排気配管１１が、リフトピン収
納部８には排気配管１２が接続され、排気配管１１，１
２はそれぞれが独立に真空排気ユニット１４を備えてい
る。

【００１５】この状態で、まずエアを真空排気した後、
気化したＨＭＤＳガスを導入管１０より供給する。処理
後、処理室４内は排気配管１１より排気され、リフトピ
ン収納部８は排気配管１１とは別系統の排気配管１２よ
り排気される。排気配管１１と排気配管１２とを別系統
とすることにより、処理室４とリフトピン収納部８との
圧力を別々に制御することが可能となり、真空引きの際
の排気の流れを、処理室４側からリフトピン収納部８側
へ向ける制御が可能となる。特に、排気配管１２側を排
気配管１１側よりわずか減圧状態にしておけば効果的で
ある。

【００１６】以上述べたように、本発明によれば、処理
室内を真空引きする際、ウエハステージ外周に設けられ
た排気配管とリフトピン収納部に設けられた排気配管と
の両方から排気される。このため、処理室内からウエハ
裏面側を通ってリフトピン収納部内への排気流が発生
し、リフトピン収納部内はダウンフローとなり、ウエハ
裏面方向への排気流は発生しない。よって、ウエハ裏面
へのゴミの付着を低減することができる。

【００１７】

【発明の効果】本発明の効果は、真空引きの際、ウエハ
裏面方向への排気の流れを無くすことができるというこ
とである。これにより、ウエハ裏面へのゴミの付着を低
減できる。その理由は、ウエハ裏面側にあるリフトピン
収納部に排気配管を設け、ウエハ裏面側とウエハ表面側
との圧力差が生じないようにするか、または、裏面側を
表面側よりわずか減圧状態にしたためである。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の第１の実施の形態を示す断面図であ
る。

【図２】本発明の第２の実施の形態を示す断面図であ
る。

【図３】従来のレジスト塗布前処理装置を示す断面図で
ある。

【符号の説明】

１ ウエハ ２ ウエハステージ ３ ウエハ支持ピン ４ 処理室 ５ 上蓋 ６ Ｏリング ７ リフトピン ８ リフトピン収納部 ９ Ｏリング １０ 導入管 １１ 排気配管 １２ 排気配管 １３ 大元排気配管 １４ 真空排気ユニット １５ ＨＭＤＳ供給バルブ １６ ＨＭＤＳ供給ユニット １７ 排気ポート １８ 排気ポート

フロントページの続き (58)調査した分野(Int.Cl.⁷，ＤＢ名) H01L 21/027

Claims (5)

(57)【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 ウエハを載置するウエハステージと、ウ
   エハステージを覆う上蓋により形成される処理室と、ウ
   エハステージに内蔵されウエハの受け渡しを行うために
   上下動作するリフトピンと、リフトピンを収納するリフ
   トピン収納部とを有し、ウエハ表面処理の前後に前記処
   理室の真空排気を行う排気配管を備えたレジスト塗布前
   処理装置において、前記リフトピン収納部の底部に排気
   配管を設けたことを特徴とするレジスト塗布前処理装
   置。
2. 【請求項２】 前記リフトピン収納部の底部に設けた排
   気配管を、前記処理室からの排気配管に接続したことを
   特徴とする請求項１記載のレジスト塗布前処理装置。
3. 【請求項３】 前記リフトピン収納部の底部に設けた排
   気配管と、前記処理室の排気配管とは、それぞれが独立
   に真空排気ユニットを備えたことを特徴とする請求項１
   記載のレジスト塗布前処理装置。
4. 【請求項４】 前記処理室からの排気の流れの一部が、
   ウエハ外周部から裏面側を経て前記リフトピン収納部へ
   流れることを特徴とする請求項１記載のレジスト塗布前
   処理装置。
5. 【請求項５】 前記リフトピン収納部内の排気の流れ
   が、ダウンフローを形成していることを特徴とする請求
   項１記載のレジスト塗布前処理装置。