JP3044670B2 - 磁気ディスクの製造方法 - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は磁気記録媒体として用い
る磁気ディスク及びその製造方法に関するものである。

【０００２】

【従来技術】近来、磁気ディスクは小型化が進み、更に
線記録密度およびトラック密度の増大による高密度化の
傾向に伴って、微粒子化、高磁力化された磁性体粒子が
使用されることが多くなってきている。

【０００３】バリウムフェライト（以下、Ｂａ−フェラ
イトと記す。）磁性粉はこれらの要求を満たす磁性体粒
子として注目されているが、微粒子化したときに粒子間
の凝集力が強いため、磁性層中への高度の分散性あるい
は磁性層の十分な表面平滑性を得ることは困難である。

【０００４】また、Ｂａ−フェライト磁性粉を結合剤で
分散、結着させた磁性層は導電性が良好ではないため、
表面電気抵抗が高く、帯電しやすい欠点がある。この結
果、帯電した電荷が放出される際にノイズが発生した
り、塵埃が付着してドロップアウトの原因となったりす
る。

【０００５】表面電気抵抗を下げるために、メタル磁性
粉を含有する磁性層中に、導電性粉末（カーボンブラッ
ク、グラファイト、銀粉、ニツケル粉等）や界面活性剤
（天然、ノニオン、アニオン、カチオン、両性）を添加
する技術が、特公昭46−22726 号、同47−24881 号、同
47−26882 号、同48−15440 号、同48−26761 号、米国
特許第2271623 号、同2240472 号、同2288226 号、同26
76122 号、同 2676924 号、同2676975 号、同2691566
号、同 2727860 号、同2730498 号、同2742379 号、同
2739891 号、同3068101 号、同3158484号、同 32012
53 号、同3210191 号、同3294540 号、同 3415649
号、同3441413 号、同3442654 号、同 3475174 号、同
3545974 号等に開示されている。

【０００６】しかしながら、これらの従来技術では、厳
しい条件下で使用される磁気ディスクの特殊性から、磁
性層に導電性粉末を多めに添加すること（磁気テープの
場合よりも多量に添加）により、却ってメタル磁性粉の
充填密度や分散性が低下してしまう。このため、出力が
低下して、ノイズが増大するという欠点があり、耐久性
又は低抵抗化とは両立困難である。しかも、界面活性剤
の添加は、表面電気抵抗を下げる効果が小さく、添加量
を増やすと、磁性層の耐久性が劣化するという欠点があ
る。

【０００７】

【発明の目的】本発明の目的は、Ｂａ−フェライト磁性
粉の充填密度が高く、分散性が良く、高出力であって、
耐久性の高い、しかもドロップアウトの少ない磁気ディ
スクを提供することにある。

【０００８】本発明の他の目的は、耐膜剥離性を向上さ
せ、かつ表面を平滑にして、高出力、低ノイズを実現で
きる磁気ディスクの製造方法を提供することにある。

【０００９】

【発明の構成及びその作用効果】即ち、本発明は、非磁
性支持体上に、平均粒径が１０〜５０ｍμのカーボンブ
ラックを含有する導電性層用塗料を塗布し、この塗布さ
れた導電性層用塗料が未乾燥状態のときに、この平均粒
径が１０〜５０ｍμのカーボンブラックを含有する導電
性層の上に、平均粒径が４００〜９００Å、板状比が２
〜１０のバリウムフェライト磁性粉を含有する磁性層用
塗料を、押し出しコータを用いた重層塗布法により塗布
することを特徴とする磁気ディスクの製造方法に係るも
のである。

【００１０】

【００１１】本発明に使用されるＢａ−フェライト磁性
粉はBaO ・nFe₂O₃（ｎ≧１）の他、特にＦｅの一部が少
なくともＣｏおよびＺｎで置換された平均粒径（六方晶
系フェライトの板面の対角線の長さを粒子個数 100個に
ついて平均した長さ）400 〜900 Å、板状比（六方晶系
フェライトの板面の対角線の長さを板厚で除した値）2.
0 〜10.0、保磁力 350〜2000Ｏｅの強磁性Ｂａ−フェラ
イトからなるものが好ましい。

【００１２】本発明に使用されるＢａ−フェライト磁性
粉は、ＦｅをＣｏで一部置換することにより、保磁力が
適正な値に制御され、更にＺｎで一部置換することによ
り、Ｃｏ置換のみでは得られない高い飽和磁化を実現
し、高い再生出力を有する電磁変換特性に優れた磁気デ
ィスクを得ることができる。また、更にＦｅの一部をＮ
ｂで置換することにより、より高い再生出力を有する電
磁変換特性に優れた磁気ディスクを得ることができる。

【００１３】本発明のＢａ−フェライト磁性粉は、更に
Ｆｅの一部がＴｉ、Ｉｎ、Ｍｎ、Ｃｕ、Ｇｅ、Ｓｎ等の
遷移金属で置換されていても差し支えない。

【００１４】なお、本発明に使用する磁性粉を構成する
Ｂａ−フェライトは次の一般式で表されるものが好まし
い。 ＢａＯ・ｎ（（Ｆｅ_1-m Ｍ_m ）₂ Ｏ₃ ）但し、Ｍは、上記したＴｉ，Ｉｎ，Ｍｎ，Ｃｕ，Ｇｅ，
Ｓｎ等の遷移金属原 子からなる置換金属原子である。

【００１５】ここで、ｍ≧０としてよいが、ｎ＞0.36
（但し、Co+Zn=0.08〜0.3 、Co/Zn=0.5 〜10）がよい。
また、ｎ≧１としてよいが、ｎ＝5.4 〜6.0 がよく、Ｍ
は平均価数が３となる２種以上の元素の組み合わせとな
るようにすることが好ましい。

【００１６】本発明において、上記したように、平均粒
径、板状比、保磁力について好ましい範囲を示したの
は、次のような理由によるものである。すなわち、平均
粒径 400Å未満の場合は、磁気ディスクとしたときの再
生出力が低下する傾向があり、逆に 900Åを越えると、
磁気ディスクとしたときの表面平滑性が低下し、ノイズ
レベルが高くなる傾向がある。この平均粒径は 400〜 9
00Åとするのがよいが、更に 450〜 800Åが好ましい。

【００１７】また、板状比が 2.0未満では、磁気ディス
クとしたときに高密度記録に適した垂直配向率を得にく
く、逆に板状比が10.0を越えると磁気ディスクとしたと
きの表面平滑性が低下し、ノイズレベルが高くなり易
い。この板状比は 2.0〜10.0とするのがよいが更に３〜
８が好ましい。

【００１８】更に保磁力が 350Ｏｅ未満の場合には、記
録信号の保持が困難になり、2000Ｏｅ越えると、ヘッド
磁界が飽和現象を起こして記録が困難となる傾向があ
る。この保磁力は350 〜2000Ｏｅとするのがよいが、更
に 400〜1200Ｏｅが好ましい。

【００１９】本発明に用いられる磁性粉を製造する方法
としては、たとえば、目的とするＢａ−フェライト磁性
粉を形成するのに必要な各元素の酸化物、炭酸化物を、
たとえばホウ酸のようなガラス形成物質とともに溶融
し、得られた酸液を急冷してガラスを形成し、次いでこ
のガラスを所定温度で熱処理して目的とするＢａ−フェ
ライトの結晶粉末を析出させ、最後にガラス成分を熱処
理によって除去するガラス結晶化法が適用可能であり、
その他にも、共沈−焼成法、水熱合成法、フラックス
法、アルコキシド法、プラズマジェット法等が適用可能
である。

【００２０】本発明の磁性層及び導電性層に用いられる
バインダには従来常用されるバインダを使用することが
できるが、磁性体粒子、その他のフィラー類の分散の点
から、官能基、あるいは分子内塩を形成する官能基を導
入して変性した樹脂、特に変性塩化ビニル系樹脂、変性
ポリウレタン系樹脂あるいは変性ポリエステル樹脂が好
ましい。

【００２１】前記樹脂類における官能基としては、たと
えば、−ＳＯ₃ Ｍ、−ＯＳＯ₃ Ｍ、 ＯＭ¹ ｜ −ＣＯＯＭ、および −Ｐ＝Ｏ （但し、式中、Ｍは水素原子、リチウム、カリ ｜ ＯＭ² ウム、ナトリウムのいずれかであり、Ｍ¹ およびＭ² は
それぞれ水素原子、リチウム、カリウム、ナトリウムの
いずれかである。また、Ｍ¹ およびＭ² は、互いに異な
っていても良いし、同じであっても良い。）などが挙げ
られる。

【００２２】これらの官能基は、塩化ビニル系樹脂、ポ
リエステル樹脂、ポリウレタン系樹脂などの樹脂と、た
とえば、Cl-CH₂CH₂SO₃M 、Cl-CH₂CH₂OSO₂M、Cl-CH₂CH₂C
OOM ＯＭ¹ ｜ 、Ｃｌ−ＣＨ₂ −Ｐ＝Ｏ （但し、Ｍ、Ｍ¹ およびＭ² はそれぞれ前記と同じ意 ｜ ＯＭ² 味である。）などのように分子中に陰性官能基および塩
素を含有する化合物とを脱塩酸反応により縮合させるこ
とにより、導入することができる。

【００２３】このようにして得られる前記樹脂の中で
も、好ましいのは塩化ビニル系樹脂、ポリウレタン系樹
脂に陰性官能基を導入してなる樹脂である。

【００２４】バインダは塩化ビニル系樹脂、ポリウレタ
ン系樹脂それぞれ単独でもよいが、塩化ビニル系樹脂に
よる高分散性、機械的強度とポリウレタン樹脂による耐
摩耗性とを考慮すると、これらの樹脂は併用した方がよ
い。併用する場合には、好ましくは、塩ビ系樹脂／ポリ
ウレタン系樹脂比が磁性層においては30／70〜90／10、
導電性においては０／100 〜70／30であり、更に好まし
くは磁性層においては30／70〜70／30、導電性層におい
ては20／80〜60／40である。

【００２５】磁性層においては、磁性粉の分散性向上の
ために塩化ビニル系樹脂はある程度以上含有されている
のが好ましく、また導電性層においては磁性層よりは塩
化ビニル系樹脂の量が少なめであっても差支えないが、
要は夫々の層の要求性能によって両樹脂の配合比を決め
ることができる。

【００２６】塩化ビニル系樹脂としては、たとえば塩化
ビニル−酢酸ビニル−ビニルアルコール共重合体、塩化
ビニル−プロピオン酸ビニル−ビニルアルコール共重合
体、塩化ビニル−酢酸ビニル−マレイン酸ビニル−ビニ
ルアルコール共重合体、塩化ビニル−プロピオン酸ビニ
ル−マレイン酸ビニル−ビニルアルコール共重合体など
が挙げられる。

【００２７】本発明においては前記バインダと併用し、
或いはその代わりに、必要に応じて、従来用いられてい
る非変性の塩化ビニル系樹脂、ポリウレタン樹脂あるい
はポリエステル樹脂を使用することができるし、更に繊
維素系樹脂、フェノキシ樹脂あるいは特定の使用方法を
有する熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂、反応型樹脂、電子
線照射硬化型樹脂等を使用してもよい。

【００２８】前記した樹脂は、本発明磁気ディスクの構
成層である磁性層、導電性層の結合剤として種類、量の
最適点を選んで使用することができる。

【００２９】本発明の磁気ディスクの磁性層および導電
性層の耐久性を向上させるために、各層用の塗料に各種
硬化剤、たとえばイソシアネート類を夫々含有させるこ
とができる。

【００３０】硬化剤として用いることのできるイソシア
ネートとしては、たとえば芳香族イソシアネートとし
て、トリレンジイソシアネート（ＴＤＩ）等、およびこ
れらイソシアネートと活性水素化合物との付加体などが
あり、平均分子量としては 100〜3000の範囲のものが好
ましく、 500〜2000が更に好ましい。

【００３１】また脂肪族イソシアネートとしては、ヘキ
サメチレンシイソシアネート（ＨＭＤＩ）等およびこれ
らイソシアネート活性水素化合物との付加体などがあ
り、平均分子量としては100 〜3000の範囲のものが好適
であるが、 500〜2000の範囲のものが更に好ましい。脂
肪酸イソシアネートの中でも非脂環式のイソシアネー
ト、およびこれらの化合物と活性水素化合物との付加体
が好ましい。

【００３２】上記磁性層又は導電性層を形成するのに使
用される塗料には必要に応じて分散剤が添加され、また
必要に応じて潤滑剤、研磨剤等の添加剤を含有させても
よい。

【００３３】本発明に使用可能な分散剤としては、リン
酸エステル、アミン化合物、アルキルサルフェート、脂
肪酸アミド、高級アルコール、ポリエチレンオキサイ
ド、スルホ琥珀酸、スルホ琥珀酸エステル、公知の界面
活性剤等およびこれらの塩があり、また、陰性官能基
（たとえば−ＣＯＯＨ）を有する重合体分散剤の塩を使
用することもできる。また、官能基（ＳＯ₃ Ｈ、ＣＯＯ
Ｈ、ＮＨ₂ ）を有する色素（アゾ系、フタロシアニン
系）の塩を使用することもできる。これら分散剤は１種
類のみで用いても、或いは２種以上を併用してもよい。

【００３４】また、潤滑剤としては、シリコーンオイ
ル、グラファイト、カーボンブラックグラファイトポリ
マー、二硫化モリブデン、二硫化タングステン、炭素原
子数12〜16の一塩基性脂肪酸（たとえばミリスチン酸、
ステアリン酸）、脂肪酸エステル（たとえばブチルステ
アレート、オレイルオレート）を使用することができ
る。これらの潤滑剤はバインダ100 重量部に対して0.2
〜20重量部の範囲で添加されるのがよい。

【００３５】研磨剤としては、一般に使用される材料で
あるアルミナ、炭化珪素、酸化クロム、コランダム、人
造コランダム、人造ダイアモンド、ざくろ石、エメリ
（主成分：コランダムと磁鉄鉱）等が使用される。これ
らの研磨剤は平均粒径0.05〜５μｍの大きさのものが使
用されてよく、特に好ましくは0.1 〜２μｍである。こ
れらの研磨剤はバインダ100 重量部に対して１〜20重量
部の範囲で添加されるのがよい。

【００３６】上記塗料に配合される溶媒あるいはこの塗
料の塗布時の希釈溶媒としては、アセトン、メチルエチ
ルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン
等のケトン類；メタノール、エタノール、プロパノー
ル、ブタノール等のアルコール類；酢酸メチル、酢酸エ
チル、酢酸ブチル、乳酸エチル、エチレングリコールセ
ノアセテート等のエステル類；ジエチルエーテル、グリ
コールジメチルエーテル、グリコールモノエチルエーテ
ル、ジオキサン、テトラヒドロフラン等のエーテル類；
ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素；メ
チレンクロライド、エチレンクロライド、四塩化炭素、
クロロホルム、ジクロルベンゼン等のハロゲン化炭化水
素等の１種、又は２種以上の混合物が使用できる。

【００３７】また、非磁性支持体としては、ポリエチレ
ンテレフタレート、ポリレチレン−２，６−ナフタレー
ト等のポリエステル類、ポリプロピレン等のポリオレフ
ィン類、セルローストリアセテート、セルロースダイア
セテート等のセルロース誘導体、ポリアミド、ポリカー
ボネート等のプラスチックが挙げられるが、Ｃｕ、Ａ
ｌ、Ｚｎ等の金属、ガラス、窒化ホウ素、炭化珪素等の
セラミックス等も使用できる。

【００３８】これらの支持体の厚みは30μｍ〜10mm程度
であってよい。

【００３９】上記支持体と磁性層の中間に、即ち磁性層
−導電性層間又は導電性層−支持体間には、接着性を向
上させる中間層を設けてもよい。こうした中間層は本発
明の導電性層からなっていてもよい。

【００４０】上記磁性層には、カーボンブラック等の帯
電防止剤を添加する必要がない。すなわち、本発明によ
れば、磁性層と非磁性支持体との間には、カーボンブラ
ックを含有する導電性層を設けているので、この導電性
層によって磁性層の表面電気抵抗を十分に低下できるか
らである。また、磁性層は帯電防止剤を含有しないこと
で、磁性層中のＢａ−フェライト磁性粉の充填密度や分
散性が向上する利点もある。

【００４１】このような導電性層に用いるカーボンブラ
ックとしては、たとえばコロンビアカーボン日本社のコ
ンダクテックス（Conductex ）975 （比表面積250 m²／
ｇ、粒径24ｍμ）、コンダクテックス900 （比表面積12
5 m²／ｇ、粒径27ｍμ）、コンダクテックス40−220
（粒径20ｍμ）、コンダクテックスＳＣ（粒径20ｍ
μ）、カボット社製のカボット・バルカン（Cabot Vulc
an）ＸＣ−72（比表面積254m²／ｇ、粒径30ｍμ）、バ
ルカンＰ（粒径20ｍμ）、ラーベン1040、420 、ブラッ
クパールズ2000（粒径15ｍμ）、三菱化成（株）の＃44
等の導電性カーボンブラックがある。このカーボンブラ
ックはその吸油量（ＤＢＰ）が90ml／100g以上であると
ストラクチャー構造を取り易く、より高い導電性を示す
点で望ましいが、 100〜 500ml／100gが更に好ましい。

【００４２】この導電性層は、上記のカーボンブラック
を上記したと同様のバインダ樹脂で固着したものであっ
てよく、更に上記した潤滑剤等を添加してよい。この層
のカーボンブラックは平均粒径10〜50ｍμ（さらには20
〜40ｍμ）添加量はバインダ樹脂100 重量部に対して10
〜 300重量部（更には50〜150 重量部）が好ましい。こ
こで平均粒径とは、カーボンブラック粒子1000個当たり
の平均した粒径である。

【００４３】また、本発明による磁気ディスクにおい
て、上記の磁性層の乾燥膜厚は0.5 〜3.0μｍであるの
がよく、0.6 〜 2.0μｍが更によい。また、上記の導電
性層の乾燥膜厚も 0.1〜 4.0μｍがよく、0.3 〜 2.0μ
ｍが更によい。

【００４４】本発明の磁気ディスクは、たとえば図１に
示すように、非磁性支持体１の両面に、上述のカーボン
ブラックを含有する導電性層２と、上述のＢａ−フェラ
イト磁性粉を含有する磁性層４と、必要があれば更にオ
ーバーコート層（図示せず）とがこの順序にそれぞれ積
層して設けられている。

【００４５】なお、図１の磁気記録媒体は、導電性層２
と支持体１との間に下引き層（図示せず）を設けたもの
であってよく、あるいは下引き層を設けなくてもよい
（以下同様）。また支持体にコロナ放電処理を施しても
よい。

【００４６】次に、本発明に基いて、上記した媒体を製
造する方法の一例を図２で説明する。

【００４７】この製造装置においては、図１の媒体を製
造するに当たり、まず供給ロール32から繰り出されたフ
ィルム状支持体１は、エクストルージョン方式の押し出
しコーター10、11により上記した導電性層２、磁性層４
用の各塗料（図示せず）をウェット・オン・ウェット方
式で重層塗布した 後、無配向化用磁石または垂直配向
用磁石33を通過し、乾燥器34に導入され、ここで上下に
配したノズルから熱風を吹き付けて乾燥する。

【００４８】次に、乾燥された各塗布層付きの支持体１
はカレンダーロール38の組み合わせからなるスーパーカ
レンダー装置37に導かれ、ここでカレンダー処理された
後に、巻き取りロール39に巻き取られる。しかる後、支
持体１の他の面にも、上記したと同様にして導電性層
２、磁性層４を塗布、乾燥し、カレンダー処理を行う
（図示せず）。

【００４９】このようにして得られた磁性フィルムを円
盤状に打ち抜き、カセット内に収容して例えば3.5 イン
チのフロッピーディスクを製造する。

【００５０】上記の方法において、各塗料は、図示しな
いインラインミキサーを通して押し出しコーター10、11
へと供給してもよい。なお、図中、矢印Ｄは非磁性ベー
スフィルムの搬送方向を示す。押し出しコーター10、11
にはそれぞれ、液溜り部13、14が設けられ、各コーター
からの塗料をウェット・オン・ウェット方式で重ねる。
すなわち、導電性層用塗料の塗布直後（未乾燥状態のと
き）に磁性層用塗料を重層塗布する。

【００５１】ウェット・オン・ウェット重層塗布方法
は、導電性層塗布用の押し出しコーターと磁性層塗布用
の押し出しコーターとを並列に使用する方法（図２又は
図３）の他、図４、図５のように２層を同時に塗布する
ために塗料吐出口を一体化した押し出しコーターも使用
することができる。なお、図中の２′は導電性層用塗
料、４′は磁性層用塗料である。

【００５２】この他に、リバースロールと押し出しコー
ター、グラビヤロールと押し出しコーターの併用も可能
である。更にはエアドクターコーター、ブレードコータ
ー、エアナイフコーター、スクィズコート含浸コータ
ー、トランスファロールコーター、キスコーター、キャ
ストコーター、スプレイコーター等を組み合わせること
もできる。

【００５３】上記のウェット・オン・ウェット方式によ
る重層塗布においては、下層の導電性層が湿潤状態で上
層の磁性層を塗布するために、下層の表面（すなわち、
上層との境界面）が滑らかであって上層の表面性が良好
となり、かつ、上下層間の接着性も十分となる。この結
果、特に高密度記録のために高出力、低ノイズの要求さ
れる磁気ディスクとして、要求性能を満たしたものとな
り、かつ、磁気テープ等とは違って高耐久性の性能が要
求されることに対しても、膜剥離をなくし、膜強度が向
上し、耐久性が十分となる。また、ウェット・オン・ウ
ェット重層塗布方式により、ドロップアウトも低減で
き、信頼性も向上する。

【００５４】上記のウェット・オン・ウェット方式の重
層塗布によって形成される上下層間には、明確な境界が
実質的に存在する場合以外に、一定の厚みで両層の成分
が混在してなる境界領域が存在する場合があるが、こう
した境界領域を除いた上または下側の層を上記の磁性
層、導電性層とする。いずれの場合も、本発明の範囲に
含まれる。

【００５５】

【実施例】以下、本発明の実施例を比較例とともに説明
する。成分、割合、操作順序等は、本発明の精神から逸
脱しない範囲において種々変更しうる。なお、下記の実
施例において「部」はすべて重量部である。

【００５６】実施例１ 以下に示す成分をニーダーおよびボールミルによって十
分に混練、分散し、磁性層用の磁性塗料〔Ｉ〕および導
電性層用のカーボンブラック塗料〔II〕を調製した。

【００５７】 磁性塗料〔Ｉ〕： Ｂａ−フェライト磁性粉（平均粒径 500Å、板状比４、 100 部 BET 比表面積32m²／g 、保磁力（Hc）600 Oe） ポリウレタン樹脂（スルホン酸ナトリウム含有） 5 部 （UR-8700:東洋紡（株）製） 塩化ビニル系樹脂（スルホン酸カリウム含有） 8 部 （MR-110: 日本ゼオン（株）製） α−アルミナ（AKP-30: 住友化学（株）製） 7 部 オレイルオレート 5 部 シクロヘキサノン 200 部 トルエン 30 部 メチルエチルケトン 30 部

【００５８】 カーボンブラック塗料〔II〕： カーボンブラック（コンダクテックスSC（C-SC）： 100 部 コロンビアカーボン日本（株）製） ポリウレタン樹脂（スルホン酸Ｎａ含有） 40 部 （UR-8700:東洋紡（株）製） 塩化ビニル−酢酸ビニル−ビニルアルコール共重合体 60 部 （VAGH: 米国Ｕ．Ｃ．Ｃ．社製） シクロヘキサノン 600 部 トルエン 200 部 メチルエチルケトン 200 部

【００５９】次いで、塗布直前にポリイソシアネート化
合物（コロネートＬ：日本ポリウレタン（株）製）５部
を両塗料にそれぞれ添加混合して、厚さ75μｍのポリエ
チレンテレフタレートベースフィルム上にカーボンブラ
ック塗料〔II〕、磁性塗料〔Ｉ〕の順に重層塗布した。

【００６０】このとき、エクストルージョン方式の押し
出しコーター（図４のもの）を使用し、ウェット・オン
・ウェット方式により重層塗布した。また乾燥後にカレ
ンダー処理を行った。乾燥膜厚は導電性層が0.1 μｍ、
磁性層が1.2 μｍであった。しかる後、上記ポリエチレ
ンテレフタレートベースフィルムの逆の面にも、同様に
各塗料〔II〕、〔Ｉ〕をポリイソシアネート化合物の添
加混合後に順次ウェット・オン・ウェット方式で重層塗
布し、乾燥後にカレンダー処理を行った。

【００６１】このようにして得られた磁性フィルムを直
径86mm（3.5 インチ）の円盤状に打ち抜き、カセット内
に収容して磁気ディスクを製造した。

【００６２】実施例２ 重層塗布方法としてエクストルージョン方式の押し出し
コーター（図３のウェット・オン・ウェット方式）を使
用し、導電性層の乾燥膜厚さを0.5 μｍとした以外は実
施例１と同じ方法で、磁気ディスクを製造した。

【００６３】実施例３ 重層塗布方法としてエクストルージョン方式の押し出し
コーター（図３のウェット・オン・ウェット方式）を使
用し、導電性層の乾燥膜厚さを1.0 μｍとした以外は実
施例１と同じ方法で、磁気ディスクを製造した。

【００６４】実施例４ 重層塗布方法としてエクストルージョン方式の押し出し
コーター（図４のウェット・オン・ウェット方式）を使
用し、導電性層の乾燥膜厚さを2.0 μｍとした以外は実
施例１と同じ方法で、磁気ディスクを製造した。

【００６５】実施例５ 重層塗布方法としてエクストルージョン方式の押し出し
コーター（図５のウェット・オン・ウェット方式）を使
用し、導電性層の乾燥膜厚さを0.5 μｍ、磁性層の乾燥
膜厚さを0.7 μｍとした以外は実施例１と同じ方法で、
磁気ディスクを製造した。

【００６６】実施例６ 重層塗布方法としてエクストルージョン方式の押し出し
コーター（図５のウェット・オン・ウェット方式）を使
用し、導電性層の乾燥膜厚さを0.5 μｍ、磁性層の乾燥
膜厚さを1.8 μｍとした以外は実施例１と同じ方法で、
磁気ディスクを製造した。

【００６７】実施例７ 重層塗布方法として導電性層はリバースロール方式、磁
性層はエクストルージョン方式の押し出しコーターによ
り、ウェット・オン・ウェット方式を採用し、導電性層
の乾燥膜厚さを0.5 μｍとした以外は実施例１と同じ方
法で、磁気ディスクを製造した。

【００６８】実施例８ 重層塗布方法として導電性層はリバースロール方式、磁
性層はエクストルージョン方式の押し出しコーターによ
り、ウェット・オン・ウェット方式を採用し、導電性層
の乾燥膜厚さを1.0 μｍ、磁性層の乾燥厚さを0.7 μｍ
とした以外は実施例１と同じ方法で、磁気ディスクを製
造した。

【００６９】実施例９ 重層塗布方法として導電性層はグラビアロール方式、磁
性層はエクストルージョン方式の押し出しコーターによ
り、ウェット・オン・ウェット方式を採用し、導電性層
の乾燥厚さを0.8 μｍとした以外は実施例１と同じ方法
で磁気ディスクを製造した。

【００７０】実施例10 重層塗布方法として導電性層はグラビアロール方式、磁
性層はエクストルージョン方式の押し出しコーターによ
り、ウェット・オン・ウェット方式を採用し、導電性層
の乾燥膜厚さを0.8 μｍ、磁性層の乾燥膜厚さを0.7 μ
ｍとした以外は実施例１と同じ方法で、磁気ディスクを
製造した。

【００７１】実施例11 平均粒径 400ÅのＢａ−フェライト磁性粉を使用した以
外は実施例１と同じ方法で、磁気ディスクを製造した。

【００７２】実施例12 平均粒径 700ÅのＢａ−フェライト磁性粉を使用した以
外は実施例１と同じ方法で、磁気ディスクを製造した。

【００７３】実施例13 平均粒径 900ÅのＢａ−フェライト磁性粉を使用した以
外は実施例１と全く同じ方法で、磁気ディスクを製造し
た。

【００７４】実施例14 板状比 2.0のＢａ−フェライト磁性粉を使用した以外は
実施例１と同じ方法で、磁気ディスクを製造した。

【００７５】実施例15 板状比 6.0のＢａ−フェライト磁性粉を使用した以外は
実施例１と同じ方法で、磁気ディスクを製造した。

【００７６】実施例16 板状比10.0のＢａ−フェライト磁性粉を使用した以外は
実施例１と同じ方法で、磁気ディスクを製造した。

【００７７】実施例17 保磁力 350ＯｅのＢａ−フェライト磁性粉を使用した以
外は実施例１と同じ方法で、磁気ディスクを製造した。

【００７８】実施例18 保磁力1000ＯｅのＢａ−フェライト磁性粉を使用した以
外は実施例１と同じ方法で、磁気ディスクを製造した。

【００７９】実施例19 保磁力2000ＯｅのＢａ−フェライト磁性粉を使用した以
外は実施例１と同じ方法で、磁気ディスクを製造した。

【００８０】比較例１ 導電性層を形成せず、磁性塗料〔Ｉ〕のみをエクストル
ージョン方式の押し出しコーターにより塗布した以外は
実施例１と同じ方法で磁気ディスクを製造した。

【００８１】比較例２ 導電性層を形成せず、磁性塗料〔Ｉ〕の組成にカーボン
ブラック（Ｃ−ＳＣ：コロンビアカーボン日本（株）
製）７部を加え、この磁性層のみをエクストルージョン
方式の押し出しコーターにより形成した以外は実施例１
と同じ方法で、磁気ディスクを製造した。

【００８２】比較例３ 強磁性粉として、Ｂａ−フェライト磁性粉の替りにＣｏ
含有γ−Ｆｅ₂ Ｏ₃ を使用した以外は実施例１と同じ方
法で、磁気ディスクを製造した。

【００８３】比較例４ 強磁性粉として、Ｂａ−フェライト磁性粉の替りにＦｅ
−Ａｌを使用した以外は実施例１と同じ方法で、磁気デ
ィスクを製造した。

【００８４】比較例５ 重層塗布方法として導電性層（乾燥膜厚0.5 μｍ）、磁
性層（乾燥膜厚1.2 μｍ）ともエクストルージョン方式
の押し出しコーターにより、ウェット・オン・ドライ方
式（カーボンブラック塗料の塗布、乾燥後に磁性塗料を
塗布）を採用した以外は実施例１と同じ方法で、磁気デ
ィスクを製造した。

【００８５】比較例６ 重層塗布方法として導電性層（乾燥膜厚0.8 μｍ）、磁
性層（乾燥膜厚0.7 μｍ）ともグラビヤロールによる、
ウェット・オン・ドライ方式を採用した以外は実施例１
と同じ方法で、磁気ディスクを製造した。

【００８６】以上、製造した磁気ディスクの性能の測定
方法を以下に記載する。結果は図６、図７の表にまとめ
て示した。

【００８７】 （１）出力 500 ＫHzの信号で記録し、再生出力を測定する。 ドライブ：東芝（株）製 ＰＤ−２１１ 測定した再生出力を比較例２で製造した磁気ディスク 1
00％とした時の相対値として示す。ＲＦが大きいほど、
良好な磁気ディスクである。

【００８８】 （２）耐久性 記録再生装置に装填して、磁気ヘッドを挾圧20 g／cm²
で摺接し、ディスク回転速度300rpmで回転させながら、
再生出力が初期出力の70％になるまでの走行時間を耐久
性時間として、温度、湿度を変えて評価した。

【００８９】 （３）表面電気比抵抗 40mm幅の電極を10mm離して、その間に測定試料を置き、
電圧100Ｖで、表面電気抵抗を測定した。値が大きいほ
ど、表面電気比抵抗が大きいことを示す。

【００９０】図６、図７の結果から、本発明に基いて磁
気ディスクを構成し、かつ製造することによって、高出
力、高耐久性で表面比抵抗の小さい磁気ディスクを提供
できることが明白である。

【００９１】

【発明の作用効果】本発明は上述したように、磁性層と
非磁性支持体との間には、カーボンブラックを含有する
導電性層を設けているので、磁性層の表面電気抵抗を十
分に低下してノイズやドロップアウトの発生を減らし、
かつ、磁性層は良好な磁気特性を示すＢａ−フェライト
磁性粉の充填密度や分散性が向上して高密度記録に優
れ、高出力、低ノイズが得られ、磁気ディスクとしての
要求性能を十分に満たしたものとなる。

【００９２】また、導電性層用塗料の未乾燥のときに磁
性層用塗料を塗布するウェット・オン・ウェット方式を
用いて製造しているので、導電性層の表面（すなわち、
磁性層との境界面）が滑らかとなって、Ｂａ−フェライ
ト磁性粉を用いても磁性層の表面性が良好となり、か
つ、両層間の接着性も十分となり、この結果、高出力、
低ノイズ化を実現でき、 膜剥離をなくし、耐久性が向
上した磁気ディスク を製造できる。

【図面の簡単な説明】

【図１】磁気ディスクの一例の断面図である。

【図２】磁気ディスクの製造装置の概略図である。

【図３】ウェント・オン・ウェット重層塗布方法の例を
示す断面図である。

【図４】ウェット・オン・ウェット重層塗布方法の他の
例を示す断面図である。

【図５】ウェット・オン・ウェット重層塗布方法の更に
他の例を示す断面図である。

【図６】本実施例の各種磁気ディスクの性能をまとめて
示す表である。

【図７】比較例の各種磁気ディスクの性能をまとめて示
す表である。

【符号の説明】

１………非磁性支持体 ２………導電性層 ２′………導電性層用塗料 ４………磁性層 ４′………磁性層用塗料 10、11………押し出しコーター

フロントページの続き (56)参考文献 特開 平２−254621（ＪＰ，Ａ) 特開 昭62−92132（ＪＰ，Ａ) 特開 昭62−214524（ＪＰ，Ａ) 特開 昭62−219331（ＪＰ，Ａ) 特開 平１−213822（ＪＰ，Ａ) 特開 平１−122024（ＪＰ，Ａ) 特開 昭62−287420（ＪＰ，Ａ) 特開 平４−195721（ＪＰ，Ａ) 特開 平４−195719（ＪＰ，Ａ) (58)調査した分野(Int.Cl.⁷，ＤＢ名) G11B 5/842

Claims (1)

(57)【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 非磁性支持体上に、平均粒径が１０〜５
   ０ｍμのカーボンブラックを含有する導電性層用塗料を
   塗布し、この塗布された導電性層用塗料が未乾燥状態の
   ときに、この平均粒径が１０〜５０ｍμのカーボンブラ
   ックを含有する導電性層の上に、平均粒径が４００〜９
   ００Å、板状比が２〜１０のバリウムフェライト磁性粉
   を含有する磁性層用塗料を、押し出しコータを用いた重
   層塗布法により塗布することを特徴とする磁気ディスク
   の製造方法。