JP3024011B2 - ミクロトーム用ナイフ親水化処理方法及び装置 - Google Patents
ミクロトーム用ナイフ親水化処理方法及び装置Info
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- JP3024011B2 JP3024011B2 JP3158329A JP15832991A JP3024011B2 JP 3024011 B2 JP3024011 B2 JP 3024011B2 JP 3158329 A JP3158329 A JP 3158329A JP 15832991 A JP15832991 A JP 15832991A JP 3024011 B2 JP3024011 B2 JP 3024011B2
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- microtome
- hydrophilizing
- discharge
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Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は親水性を良くしたミクロ
トーム用ナイフの親水化処理方法及び装置に関する。
トーム用ナイフの親水化処理方法及び装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】電子顕微鏡用試料の作成に使用されるミ
クロトーム用ナイフは、図４に示すように、本体２の上
部に水を満たす水溜めボート４が形成され、端部には刃
先３が設けられた構造になっている。このようなミクロ
トームで超薄切片を作製する場合には、図５に示すよう
に伸長棒６の先端に取付けられた試料７を、図示しない
機構により機械送りするか、または熱膨張式によって前
進させることにより、送られた分だけナイフ３によって
切り取られる。切り取られた切片８は、ナイフ１の水溜
めボート４に入っている水５の表面に浮き、この切片を
グリッドに載せて電子顕微鏡用の試料とする。
クロトーム用ナイフは、図４に示すように、本体２の上
部に水を満たす水溜めボート４が形成され、端部には刃
先３が設けられた構造になっている。このようなミクロ
トームで超薄切片を作製する場合には、図５に示すよう
に伸長棒６の先端に取付けられた試料７を、図示しない
機構により機械送りするか、または熱膨張式によって前
進させることにより、送られた分だけナイフ３によって
切り取られる。切り取られた切片８は、ナイフ１の水溜
めボート４に入っている水５の表面に浮き、この切片を
グリッドに載せて電子顕微鏡用の試料とする。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】ところで、超薄切片を
作製するために用いるミクロトーム用ナイフは、ガラス
製とダイヤモンド製とが一般的である。ダイヤモンドナ
イフは高価であるものの耐久性、硬い材料が切削できる
などガラス製にない優れた特徴を持っているため多く使
用される傾向にある。このようなダイヤモンドナイフは
使い捨てではなく、１本のナイフが何年も使われ、使用
につれて疎水性になり易い性質がある。ナイフが疎水性
になると、適切な水位にボートに水を満たしても刃先で
は水をはじいてしまい、図６（ａ）に示すように、水は
刃先まで届かない。この状態で試料を切削すると、切片
は刃先にクシャクシャになってくっついてしまい、切片
としては使用できなくなってしまう。また、図６（ｂ）
に示すように表面張力で盛り上がった水の先端が刃先に
達するような水位の設定をして切削すると、試料面に水
が付着して切削できない。したがって、ナイフに対する
水面は図６（ｃ）に示すように刃先部分で水面が盛り上
がらないようにして水の先端が刃先に達するようにする
必要があり、そのためには刃は親水性を持たせなければ
ならない。このように、刃に親水性を持たせるために、
従来、親水化剤をボート中の水に加え、親水化処理す
る。
作製するために用いるミクロトーム用ナイフは、ガラス
製とダイヤモンド製とが一般的である。ダイヤモンドナ
イフは高価であるものの耐久性、硬い材料が切削できる
などガラス製にない優れた特徴を持っているため多く使
用される傾向にある。このようなダイヤモンドナイフは
使い捨てではなく、１本のナイフが何年も使われ、使用
につれて疎水性になり易い性質がある。ナイフが疎水性
になると、適切な水位にボートに水を満たしても刃先で
は水をはじいてしまい、図６（ａ）に示すように、水は
刃先まで届かない。この状態で試料を切削すると、切片
は刃先にクシャクシャになってくっついてしまい、切片
としては使用できなくなってしまう。また、図６（ｂ）
に示すように表面張力で盛り上がった水の先端が刃先に
達するような水位の設定をして切削すると、試料面に水
が付着して切削できない。したがって、ナイフに対する
水面は図６（ｃ）に示すように刃先部分で水面が盛り上
がらないようにして水の先端が刃先に達するようにする
必要があり、そのためには刃は親水性を持たせなければ
ならない。このように、刃に親水性を持たせるために、
従来、親水化剤をボート中の水に加え、親水化処理す
る。
【０００４】使用前に１晩ナイフを水中に漬けてお
く。
く。
【０００５】中性洗剤で洗浄する。
【０００６】等が行われている。しかし、の方法では
親水化剤を入れる量が難しく、適量の水をボートに入れ
てもナイフの裏や試料面に水が引き込まれてしまい易
く、水を数回取り替えると効果がなくなってしまい、
の方法では時間がかかって使いたいときにすぐに使え
ず、乾燥させると効果がなくなってしまい、またの方
法は効果が顕著ではなく、再現性が悪いという問題があ
った。
親水化剤を入れる量が難しく、適量の水をボートに入れ
てもナイフの裏や試料面に水が引き込まれてしまい易
く、水を数回取り替えると効果がなくなってしまい、
の方法では時間がかかって使いたいときにすぐに使え
ず、乾燥させると効果がなくなってしまい、またの方
法は効果が顕著ではなく、再現性が悪いという問題があ
った。
【０００７】本発明は上記課題を解決するためのもの
で、親水化剤を使用せずに短時間で容易に親水化処理
し、しかも長時間親水効果を持続することができ、ナイ
フの裏や試料面に水が引き込まれてしまうことがないナ
イフ親水化処理方法及び装置を提供することを目的とす
る。
で、親水化剤を使用せずに短時間で容易に親水化処理
し、しかも長時間親水効果を持続することができ、ナイ
フの裏や試料面に水が引き込まれてしまうことがないナ
イフ親水化処理方法及び装置を提供することを目的とす
る。
【０００８】
【課題を解決するための手段】本発明は、真空容器内の
放電電極上に炭素またはアルミニウムをターゲット材と
して配置するとともに、ミクロトーム用ナイフを配置
し、前記放電電極間に電圧を印加してグロー放電を生じ
させ、ミクロトーム用ナイフを親水化するミクロトーム
用ナイフ親水化処理方法、及び電源より所定の電圧が印
加され、少なくとも一方にターゲットが置かれた放電電
極が配置されるとともに、少なくともミクロトーム用ナ
イフの刃先が内部に位置するように構成された真空容器
と、真空容器を排気する排気手段と、真空度を測定する
測定手段と、電源、排気手段、測定手段を制御するとと
もに、タイマー設定可能な制御装置とを備え、前記制御
装置の制御により所定時間放電電極間でグロー放電を生
じさせるようにしたことを特徴とするミクロトーム用ナ
イフ親水化処理装置を特徴とする。
放電電極上に炭素またはアルミニウムをターゲット材と
して配置するとともに、ミクロトーム用ナイフを配置
し、前記放電電極間に電圧を印加してグロー放電を生じ
させ、ミクロトーム用ナイフを親水化するミクロトーム
用ナイフ親水化処理方法、及び電源より所定の電圧が印
加され、少なくとも一方にターゲットが置かれた放電電
極が配置されるとともに、少なくともミクロトーム用ナ
イフの刃先が内部に位置するように構成された真空容器
と、真空容器を排気する排気手段と、真空度を測定する
測定手段と、電源、排気手段、測定手段を制御するとと
もに、タイマー設定可能な制御装置とを備え、前記制御
装置の制御により所定時間放電電極間でグロー放電を生
じさせるようにしたことを特徴とするミクロトーム用ナ
イフ親水化処理装置を特徴とする。
【０００９】
【作用】本発明は、炭素またはアルミニウムターゲット
を入れた真空容器内で、ターゲット電圧２５０〜３００
Ｖ、イオン電流３〜５ｍＡ、放電時間５〜２０秒、真空
度ほぼ１０ＰＡの条件でグロー放電を起こさせて親水化
する。このような処理により、短時間で容易に親水化処
理し、長時間親水効果を持続させることができる。
を入れた真空容器内で、ターゲット電圧２５０〜３００
Ｖ、イオン電流３〜５ｍＡ、放電時間５〜２０秒、真空
度ほぼ１０ＰＡの条件でグロー放電を起こさせて親水化
する。このような処理により、短時間で容易に親水化処
理し、長時間親水効果を持続させることができる。
【００１０】
【実施例】図１は本発明の親水化処理方法を説明するた
めの図である。
めの図である。
【００１１】真空容器１０内には、ダイヤモンドナイフ
１と、炭素製ターゲットとして水平型電極１１が入れら
れ、排気管１２より図示しないロータリーポンプ（Ｒ
Ｐ）により真空排気され、真空容器内の真空を１０パス
カル（ＰＡ）程度にし、電源１３より３〜５ｍＡ、電圧
２５０〜３００Ｖの条件を保持し、５〜２０秒グロー放
電を起こさせる。このグロー放電によりナイフ１の刃先
を極めて短時間に親水化処理できる。親水効果が失われ
たときには、同様にグロー放電を起こさせることにより
何度でも再生することが可能である。
１と、炭素製ターゲットとして水平型電極１１が入れら
れ、排気管１２より図示しないロータリーポンプ（Ｒ
Ｐ）により真空排気され、真空容器内の真空を１０パス
カル（ＰＡ）程度にし、電源１３より３〜５ｍＡ、電圧
２５０〜３００Ｖの条件を保持し、５〜２０秒グロー放
電を起こさせる。このグロー放電によりナイフ１の刃先
を極めて短時間に親水化処理できる。親水効果が失われ
たときには、同様にグロー放電を起こさせることにより
何度でも再生することが可能である。
【００１２】なお、ダイヤモンドナイフの代わりにサフ
ァイヤ、セラミック、ガラス等の材質でも可能であり、
またターゲットの材質としてはアルミニウムを用いるこ
とも可能である。
ァイヤ、セラミック、ガラス等の材質でも可能であり、
またターゲットの材質としてはアルミニウムを用いるこ
とも可能である。
【００１３】図２はグロー放電による親水化処理装置を
ウルトラミクロトームに装着した例を示している。図
中、２０は真空容器、２１，２２は電極、２３はカーボ
ン板、２４はピラニ測定管、２５はリーク弁、２６は排
気管、２７はナイフ、２８は真空パッキン（Ｏリン
グ）、２９はツマミ、３０はミクロトームナイフ台、３
１は支持棒、３２はロータリポンプ（ＲＰ）、３３は制
御装置、３４は電源、３５は測定装置である。
ウルトラミクロトームに装着した例を示している。図
中、２０は真空容器、２１，２２は電極、２３はカーボ
ン板、２４はピラニ測定管、２５はリーク弁、２６は排
気管、２７はナイフ、２８は真空パッキン（Ｏリン
グ）、２９はツマミ、３０はミクロトームナイフ台、３
１は支持棒、３２はロータリポンプ（ＲＰ）、３３は制
御装置、３４は電源、３５は測定装置である。
【００１４】図において、ナイフ２７はミクロトームナ
イフ台３０上に置かれ、ナイフの刃先が真空容器２０内
に位置し、ミクロトームナイフ台３０のつまみ２９を操
作することにより刃の角度を変えられるようになってい
る。真空容器２０は支持棒３１に支持され、内部に負電
極２１，正電極２２が設けられ、負電極上にはターゲッ
トであるカーボン板２３が取付けられ、電源３４より３
００Ｖが印加されるようになっている。また排気管２６
を通してＲＰ３２により排気されるようになっており、
真空度はピラニ測定管２４を通して測定装置３５で測定
され、これらＲＰ３２、電源３４、測定装置３５はパー
ソナルコンピュータ等からなる制御装置３３で制御され
るようになっている。
イフ台３０上に置かれ、ナイフの刃先が真空容器２０内
に位置し、ミクロトームナイフ台３０のつまみ２９を操
作することにより刃の角度を変えられるようになってい
る。真空容器２０は支持棒３１に支持され、内部に負電
極２１，正電極２２が設けられ、負電極上にはターゲッ
トであるカーボン板２３が取付けられ、電源３４より３
００Ｖが印加されるようになっている。また排気管２６
を通してＲＰ３２により排気されるようになっており、
真空度はピラニ測定管２４を通して測定装置３５で測定
され、これらＲＰ３２、電源３４、測定装置３５はパー
ソナルコンピュータ等からなる制御装置３３で制御され
るようになっている。
【００１５】制御装置３３の制御により、ＲＰ３２始動
後、真空度がほぼ１０ＰＡに到達すると、３００Ｖ電源
３４がＯＮして電極２１、２２間の放電でグロー放電が
始まり、同時に制御装置内蔵のタイマーが作動し、例え
ば１０秒間放電すると電源３４がＯＦＦされる。放電時
間は制御装置のタイマーで設定され、適宜、最適の時間
を設定できる。
後、真空度がほぼ１０ＰＡに到達すると、３００Ｖ電源
３４がＯＮして電極２１、２２間の放電でグロー放電が
始まり、同時に制御装置内蔵のタイマーが作動し、例え
ば１０秒間放電すると電源３４がＯＦＦされる。放電時
間は制御装置のタイマーで設定され、適宜、最適の時間
を設定できる。
【００１６】このように、制御装置３３の作動により所
定時間だけグロー放電が生じて自動的に親水化処理を行
うことができるので、超薄切片の作製が極めて容易に、
かつ能率的に行うことができる。
定時間だけグロー放電が生じて自動的に親水化処理を行
うことができるので、超薄切片の作製が極めて容易に、
かつ能率的に行うことができる。
【００１７】また、図３に示すように、ナイフをミクロ
トームナイフ台に取付けない単体の親水化処理装置とし
てもよく、この場合はナイフ４３を、直接真空容器４０
内に入れて正電極上に置き、カーボン板が置かれた負電
極との間に高圧を印加してグロー放電を起こさせるよう
にする。
トームナイフ台に取付けない単体の親水化処理装置とし
てもよく、この場合はナイフ４３を、直接真空容器４０
内に入れて正電極上に置き、カーボン板が置かれた負電
極との間に高圧を印加してグロー放電を起こさせるよう
にする。
【００１８】
【発明の効果】以上のように本発明によれば、親水化剤
等を使用せずに短時間で容易に親水化処理し、しかも長
時間親水効果を持続することができ、ナイフの裏や試料
面に水が引き込まれてしまうことがない。また、全自動
の操作で容易に親水化ができ、超薄切片の作製を能率的
に行うことが可能となる。
等を使用せずに短時間で容易に親水化処理し、しかも長
時間親水効果を持続することができ、ナイフの裏や試料
面に水が引き込まれてしまうことがない。また、全自動
の操作で容易に親水化ができ、超薄切片の作製を能率的
に行うことが可能となる。
【図１】 本発明の親水化処理を説明する図である。
【図２】 本発明の親水化処理装置の一実施例を説明す
る図である。
る図である。
【図３】 本発明の親水化処理装置の他の実施例を説明
する図である。
する図である。
【図４】 ミクロトーム用ナイフを説明する図である。
【図５】 ミクロトーム用ナイフで試料切片を切り出す
説明図である。
説明図である。
【図６】 刃先の親水性を説明するための図である。
フロントページの続き (58)調査した分野(Int.Cl.7，ＤＢ名) G01N 1/06
Claims (2)
- 【請求項１】 真空容器内の放電電極上に炭素またはア
ルミニウムをターゲット材として配置するとともに、ミ
クロトーム用ナイフを配置し、前記放電電極間に電圧を
印加してグロー放電を生じさせ、ミクロトーム用ナイフ
を親水化することを特徴とするミクロトーム用ナイフ親
水化処理方法。 - 【請求項２】 電源より所定の電圧が印加され、少なく
とも一方にターゲットが置かれた放電電極が配置される
とともに、少なくともミクロトーム用ナイフの刃先が内
部に位置するように構成された真空容器と、真空容器を
排気する排気手段と、真空度を測定する測定手段と、電
源、排気手段、測定手段を制御するとともに、タイマー
設定可能な制御装置とを備え、前記制御装置の制御によ
り所定時間放電電極間でグロー放電を生じさせるように
したことを特徴とするミクロトーム用ナイフ親水化処理
装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3158329A JP3024011B2 (ja) | 1991-06-28 | 1991-06-28 | ミクロトーム用ナイフ親水化処理方法及び装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3158329A JP3024011B2 (ja) | 1991-06-28 | 1991-06-28 | ミクロトーム用ナイフ親水化処理方法及び装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH055682A JPH055682A (ja) | 1993-01-14 |
| JP3024011B2 true JP3024011B2 (ja) | 2000-03-21 |
Family
ID=15669265
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP3158329A Expired - Fee Related JP3024011B2 (ja) | 1991-06-28 | 1991-06-28 | ミクロトーム用ナイフ親水化処理方法及び装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3024011B2 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR101853720B1 (ko) | 2017-05-31 | 2018-05-02 | 한국기초과학지원연구원 | 연속 절단을 위한 울트라마이크로톰용 다이아몬드 나이프의 제조 방법 |
Families Citing this family (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2005098702A (ja) * | 1999-10-07 | 2005-04-14 | Seitai Kagaku Kenkyusho:Kk | 生物組織試料作製方法および器具 |
| JP6995088B2 (ja) | 2019-07-01 | 2022-01-14 | 日本電子株式会社 | 試料支持体および試料支持体の製造方法 |
| JP7160869B2 (ja) | 2020-07-20 | 2022-10-25 | 日本電子株式会社 | 試料支持具、支持機器、および試料作製方法 |
-
1991
- 1991-06-28 JP JP3158329A patent/JP3024011B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR101853720B1 (ko) | 2017-05-31 | 2018-05-02 | 한국기초과학지원연구원 | 연속 절단을 위한 울트라마이크로톰용 다이아몬드 나이프의 제조 방법 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH055682A (ja) | 1993-01-14 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 19991221 |
|
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