JP3000693B2 - 2つの磁性材料をもつ磁気ヘッド及びその製造方法 - Google Patents
2つの磁性材料をもつ磁気ヘッド及びその製造方法Info
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Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明の目的は2つの磁性材料を
もつ磁気ヘッドの製造方法と、この方法によってつくら
れるヘッドを提供することである。
もつ磁気ヘッドの製造方法と、この方法によってつくら
れるヘッドを提供することである。
【0002】本発明は2つの型の磁気ヘッド、即ちディ
スク用のフライングヘッドやテープ用の接触型ヘッドに
適用できる。
スク用のフライングヘッドやテープ用の接触型ヘッドに
適用できる。
【0003】
【従来の技術】フランス国特許出願第2,604,021号に関
する書類では、薄膜平面構造の磁気ヘッドの製造方法に
ついて記載している。この方法によって作られたヘッド
の断面図を図1に示す。このヘッドは電極14上に電気
分解により形成された第一の磁気フィルム16で充填さ
れた第一の凹部を含む基板10と、不導体フィルム18
に埋め込まれた巻線20と、2つの磁気ブロック23、
24と、2つの磁束コンセントレータ30、31を形成
する第二の磁気フィルムと、中心の不導体アイレット3
2と、二酸化けい素フィルムのような不導体フィルム3
4とを有し、電気分解的に形成されヘッドのギャップを
構成する非磁性体スペーサ42によって2つの部分46
と48とに分けられた別の磁気フィルムによって充填さ
れた別の凹部と区分される。
する書類では、薄膜平面構造の磁気ヘッドの製造方法に
ついて記載している。この方法によって作られたヘッド
の断面図を図1に示す。このヘッドは電極14上に電気
分解により形成された第一の磁気フィルム16で充填さ
れた第一の凹部を含む基板10と、不導体フィルム18
に埋め込まれた巻線20と、2つの磁気ブロック23、
24と、2つの磁束コンセントレータ30、31を形成
する第二の磁気フィルムと、中心の不導体アイレット3
2と、二酸化けい素フィルムのような不導体フィルム3
4とを有し、電気分解的に形成されヘッドのギャップを
構成する非磁性体スペーサ42によって2つの部分46
と48とに分けられた別の磁気フィルムによって充填さ
れた別の凹部と区分される。
【0004】同様のヘッドは磁束コンセントレータ30
と31を抑圧することによって、また上方のフィルム4
6と48がブロック23、24に接して支えることを確
実にすることによってもつくられる。
と31を抑圧することによって、また上方のフィルム4
6と48がブロック23、24に接して支えることを確
実にすることによってもつくられる。
【0005】この書類の残りの部分には、スペーサ42
の両側に配置された磁気部分が、“磁心”という語によ
って示されており、下方電極部分は磁気フィルム16に
相当する。
の両側に配置された磁気部分が、“磁心”という語によ
って示されており、下方電極部分は磁気フィルム16に
相当する。
【0006】従来の技術においては、磁心はこのように
電気分解による堆積によって得られる。この技術に適す
る磁性材料は鉄−ニッケル合金、即ち80/20で配合
された軟かい物質である。
電気分解による堆積によって得られる。この技術に適す
る磁性材料は鉄−ニッケル合金、即ち80/20で配合
された軟かい物質である。
【0007】しかし、この技術はある点では満足できる
ものであるが、多くの欠点がある。実際、電気分解によ
り堆積され得る磁性材料の選択は比較的限られており、
鉄−ニッケル合金は、つまるところ、適合するまれな物
質の一つである。ところが、この物質は必要とされる全
ての特性を提供せず、特に比較的、硬度の弱いもの(ビ
ッカース硬度約100)である。この欠点は事実上、こ
の技術がそれ故に発生する急速な摩損のために接触型ヘ
ッドを製造することができないということを示す。更
に、伝統的に使われ電解され得る磁性材料は、最適の磁
性的特性(飽和磁化、導磁率等)を示さない。
ものであるが、多くの欠点がある。実際、電気分解によ
り堆積され得る磁性材料の選択は比較的限られており、
鉄−ニッケル合金は、つまるところ、適合するまれな物
質の一つである。ところが、この物質は必要とされる全
ての特性を提供せず、特に比較的、硬度の弱いもの(ビ
ッカース硬度約100)である。この欠点は事実上、こ
の技術がそれ故に発生する急速な摩損のために接触型ヘ
ッドを製造することができないということを示す。更
に、伝統的に使われ電解され得る磁性材料は、最適の磁
性的特性(飽和磁化、導磁率等)を示さない。
【0008】もちろん、より適切な硬度や磁性的特性を
提供する磁性材料は他にもあるが、これらの物質は電気
分解による堆積には適さず、例えば陰極蒸着を施す必要
がある。しかしながら、この場合にはギャップの両側
に、同質で、とりわけ厚みのある磁気フィルムを得るこ
とが非常に難しく、これは、電解技術を要するものであ
る。
提供する磁性材料は他にもあるが、これらの物質は電気
分解による堆積には適さず、例えば陰極蒸着を施す必要
がある。しかしながら、この場合にはギャップの両側
に、同質で、とりわけ厚みのある磁気フィルムを得るこ
とが非常に難しく、これは、電解技術を要するものであ
る。
【0009】
【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、これ
らの欠点を克服することである。この目的の為に、電気
分解による堆積に適し、かなりの同質性を、特にギャッ
プの近くで提供する軟らかい磁性材料の利点と、他の手
段、特に陰極蒸着によって堆積された他の物質の利点と
を結合する方法を利用するものであり、これによって、
最適な磁気的又は機械的特性を得ることが可能になる。
らの欠点を克服することである。この目的の為に、電気
分解による堆積に適し、かなりの同質性を、特にギャッ
プの近くで提供する軟らかい磁性材料の利点と、他の手
段、特に陰極蒸着によって堆積された他の物質の利点と
を結合する方法を利用するものであり、これによって、
最適な磁気的又は機械的特性を得ることが可能になる。
【0010】特に本発明の目的は薄膜磁気ヘッドの製造
方法を提供することであり、それは不導体フィルムに刻
まれた凹部の電気分解による堆積が凹部全体を充填せ
ず、磁気的又は機械的特性が第一の磁性材料よりも優れ
ている第二の磁性材料を堆積することによってこの凹部
が充填されることを特徴とする前記の手段と、電気分解
ではないこの第二の堆積とを含む。
方法を提供することであり、それは不導体フィルムに刻
まれた凹部の電気分解による堆積が凹部全体を充填せ
ず、磁気的又は機械的特性が第一の磁性材料よりも優れ
ている第二の磁性材料を堆積することによってこの凹部
が充填されることを特徴とする前記の手段と、電気分解
ではないこの第二の堆積とを含む。
【0011】ディスクに保存することを目的とするフラ
イングヘッドに相当する第一の実施例によると、磁心を
得るために: −上記磁性材料は凹部の底部に電気分解により堆積され
る。 −得られた組立体の表面は非磁性体スペーサが表面に露
出するまで研磨される。
イングヘッドに相当する第一の実施例によると、磁心を
得るために: −上記磁性材料は凹部の底部に電気分解により堆積され
る。 −得られた組立体の表面は非磁性体スペーサが表面に露
出するまで研磨される。
【0012】テープに保存することを目的とする接触型
ヘッドに相当する第二の実施例によると、凹部の中の磁
心を得るために: −上記磁性材料は非磁性体スペーサの両側に堆積され
る。 −組立体の表面は非磁性体スペーサが表面に表われるま
で研磨される。
ヘッドに相当する第二の実施例によると、凹部の中の磁
心を得るために: −上記磁性材料は非磁性体スペーサの両側に堆積され
る。 −組立体の表面は非磁性体スペーサが表面に表われるま
で研磨される。
【0013】これら2つの実施例において、第二の磁性
材料は陰極蒸着によって堆積されるのが好ましい。
材料は陰極蒸着によって堆積されるのが好ましい。
【0014】もう一つの本発明の目的は上記方法により
得られた磁気ヘッドを提供することである。このヘッド
は非磁性体スペーサの両側の不導体フィルムに刻まれた
凹部に配置された磁心を含み、この磁極部分は凹部の中
で電気分解によって堆積されるが、上記凹部を完全には
充填しない第一の磁性材料から成る第一の部分と、第一
の磁性材料よりも優れた磁気的又は機械的特性をもつ第
二の磁性材料から成る第二の部分とを含むものであり、
この第二の部分は凹部の残りを充填する。
得られた磁気ヘッドを提供することである。このヘッド
は非磁性体スペーサの両側の不導体フィルムに刻まれた
凹部に配置された磁心を含み、この磁極部分は凹部の中
で電気分解によって堆積されるが、上記凹部を完全には
充填しない第一の磁性材料から成る第一の部分と、第一
の磁性材料よりも優れた磁気的又は機械的特性をもつ第
二の磁性材料から成る第二の部分とを含むものであり、
この第二の部分は凹部の残りを充填する。
【0015】フライングヘッドに相当する第一の実施例
において、第一の磁性材料は凹部の底の部分を占める。
において、第一の磁性材料は凹部の底の部分を占める。
【0016】テープへの保存を目的とする接触型ヘッド
に相当する第二の実施例において、第一の磁性材料はス
ペーサの両側に配置され、第二の磁性材料は凹部の残り
の部分を占める。
に相当する第二の実施例において、第一の磁性材料はス
ペーサの両側に配置され、第二の磁性材料は凹部の残り
の部分を占める。
【0017】第一の磁性材料は非磁性体スペーサの両側
に約1〜数ミクロンの幅を占めるのが好ましい。
に約1〜数ミクロンの幅を占めるのが好ましい。
【0018】また、第二の磁性材料は鉄−ニッケル合金
であるのが好ましい。
であるのが好ましい。
【0019】更に、第二の物質は下記合金群から選択す
るのが好ましい: ニッケル/モリブデン/鉄、 鉄/アルミニウム、 鉄/シリコン/アルミニウム、 コバルト/鉄/シリコン/ボロン、 コバルト/ジルコニウム/ニオビウム、 コバルト/ジルコニウム。
るのが好ましい: ニッケル/モリブデン/鉄、 鉄/アルミニウム、 鉄/シリコン/アルミニウム、 コバルト/鉄/シリコン/ボロン、 コバルト/ジルコニウム/ニオビウム、 コバルト/ジルコニウム。
【0020】
【第一の実施例】断面図2aは、前述のフランス国特許
出願第2,604,021号に記載された製造方法の中間工程で
あり、特にその図5の断面図1に示される工程である。
この工程では、このヘッドは上方部分に非磁性体スペー
サ42と共に非電導層34に刻まれた凹部を含み、凹部
の底部には、次の電気分解による堆積の工程時に電極と
して使われるように、金属フィルム43が堆積されてい
る。
出願第2,604,021号に記載された製造方法の中間工程で
あり、特にその図5の断面図1に示される工程である。
この工程では、このヘッドは上方部分に非磁性体スペー
サ42と共に非電導層34に刻まれた凹部を含み、凹部
の底部には、次の電気分解による堆積の工程時に電極と
して使われるように、金属フィルム43が堆積されてい
る。
【0021】断面図2bは、電気分解による第一の磁性
材料の形成が、磁気フィルム52、54が凹部を充填す
る前に中断されることを示す。例えば5ミクロンの深さ
の凹部では、磁気フィルム52、54は4ミクロンの厚
さで形成され、1ミクロンの空きスペースが残ることに
なる。
材料の形成が、磁気フィルム52、54が凹部を充填す
る前に中断されることを示す。例えば5ミクロンの深さ
の凹部では、磁気フィルム52、54は4ミクロンの厚
さで形成され、1ミクロンの空きスペースが残ることに
なる。
【0022】第二の磁性材料のフィルム56は、電気分
解以外の方法、特に、陰極蒸着によって組立体の上に堆
積される。
解以外の方法、特に、陰極蒸着によって組立体の上に堆
積される。
【0023】最後に、ヘッドの上方の面は非磁性体スペ
ーサ42(断面図2d)と先端が表面に露出し、凹部の
上方部にフィルム62、64を残すまで研磨される。こ
のようなヘッドの磁気特性は、第二の磁性材料であるフ
ィルム62、64の特性であり、堆積された物質の品質
をそこなうことなく、電気分解によって堆積されたフィ
ルム52、54の磁気特性よりも優れている。以上のと
おり、本発明による磁心つまり上部ポールピースは第一
の磁性材料と第二の磁性材料により構成される。
ーサ42(断面図2d)と先端が表面に露出し、凹部の
上方部にフィルム62、64を残すまで研磨される。こ
のようなヘッドの磁気特性は、第二の磁性材料であるフ
ィルム62、64の特性であり、堆積された物質の品質
をそこなうことなく、電気分解によって堆積されたフィ
ルム52、54の磁気特性よりも優れている。以上のと
おり、本発明による磁心つまり上部ポールピースは第一
の磁性材料と第二の磁性材料により構成される。
【0024】
【第二の実施例】図3a〜図3dは本発明の第二の実施
例であり接触型ヘッドに相当する。
例であり接触型ヘッドに相当する。
【0025】最初の構造(断面図3a)は、次の電気分
解による堆積に必要な電極を形成するための導体フィル
ム66が、凹部36の底部全体を占めるのではなく非磁
性体スペーサ42の下部の狭い部分を占めるという点以
外は、断面図2aの構造と同様である。この電極の幅は
2ミクロンである。スペーサの両側に、2つの磁気片7
2、74(断面図3b)を形成するように、第一の磁性
材料が電気分解により形成される。これらの磁気片はお
よそスペーサと同程度の高さだが、凹部のわずかな部分
を占めるに過ぎない。
解による堆積に必要な電極を形成するための導体フィル
ム66が、凹部36の底部全体を占めるのではなく非磁
性体スペーサ42の下部の狭い部分を占めるという点以
外は、断面図2aの構造と同様である。この電極の幅は
2ミクロンである。スペーサの両側に、2つの磁気片7
2、74(断面図3b)を形成するように、第一の磁性
材料が電気分解により形成される。これらの磁気片はお
よそスペーサと同程度の高さだが、凹部のわずかな部分
を占めるに過ぎない。
【0026】第二の磁性材料76(断面図3c)は陰極
蒸着のような非電気分解手段により組立体に堆積され
る。
蒸着のような非電気分解手段により組立体に堆積され
る。
【0027】最後にヘッドの上方部分(断面図3d)
が、スペーサ42の先端が表面に露出するまで4分の1
サークル80を作るように研磨される。第二の磁性材料
は、2つの部分82、84をもつ。ビッカース硬度数百
のこれらの部分は、より軟らかい物質からできた72、
74の部分を保護し、ギャップゾーンのヘッドの磨損を
制限する。
が、スペーサ42の先端が表面に露出するまで4分の1
サークル80を作るように研磨される。第二の磁性材料
は、2つの部分82、84をもつ。ビッカース硬度数百
のこれらの部分は、より軟らかい物質からできた72、
74の部分を保護し、ギャップゾーンのヘッドの磨損を
制限する。
【0028】
【発明の効果】以上説明した通り、本発明によると、磁
気ヘッドの磁心に2つの磁性材料を用い、その2つの磁
性材料のそれぞれの利点を生かすことによって、電気分
解による堆積に適し、かなりの同質性を、特にギャップ
の近くで提供する軟らかい磁性材料の利点と、他の手
段、特に陰極蒸着によって堆積された他の物質の利点と
を結合する方法を利用するものであり、これによって、
最適な磁気的又は機械的特性を得ることが可能になる。
気ヘッドの磁心に2つの磁性材料を用い、その2つの磁
性材料のそれぞれの利点を生かすことによって、電気分
解による堆積に適し、かなりの同質性を、特にギャップ
の近くで提供する軟らかい磁性材料の利点と、他の手
段、特に陰極蒸着によって堆積された他の物質の利点と
を結合する方法を利用するものであり、これによって、
最適な磁気的又は機械的特性を得ることが可能になる。
【図1】従来の技術による磁気ヘッドの断面図を示す図
である。
である。
【図2】第一の実施例における本発明の製造方法の各工
程を示す図である。
程を示す図である。
【図3】第二の実施例における本発明の製造方法の各工
程を示す図である。
程を示す図である。
10 基板 14 電極 16 第一の磁気フィルム 18 不導体フィルム 20 巻線 23,24 磁気ブロック 30,31 磁束コンセントレータ 32 不導体アイレット 34 不導体フィルム 42 非磁性体スペーサ 43 金属フィルム 46,48 磁気フィルム 36 凹部 52,54 磁気フィルム 56 磁性材料フィルム 62,64 第二のフィルム 66 導体フィルム 72,74 第一の磁性材料 76 第二の磁性材料 80 4分の1サークル 82,84 第二の磁性材料
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名) G11B 5/31
Claims (10)
- 【請求項1】 不導体フィルムに刻んだ凹部にもうけら
れ、非磁性体スペーサにより分離された磁性材料の膜を
前記凹部の中に形成した上部ポールピースをふくむ薄膜
磁気ヘッドの製造方法において、 電気分解による第一の磁性材料の堆積が凹部全体を充填
せず、上記凹部が第一の磁性材料よりも硬い、第二の磁
性材料によって充填され、第二の堆積が電気分解による
堆積でないことを特徴とする薄膜磁気ヘッドの製造方
法。 - 【請求項2】 前記上部ポールピースを実現するため
に、 上記第一の磁性材料は凹部の高さまで底部の一部に電気
分解により堆積され、上記第2の磁性材料がその上に堆
積され、 得られた組立体の表面が非磁性体スペーサが表面に露出
するまで研磨される請求項1記載の方法。 - 【請求項3】 前記上部ポールピースを実現するため
に、 上記第一の磁性材料が電気分解により非磁性体スペーサ
の両側に堆積され、 上記第二の磁性材料が得られた組立体に堆積され、 該組立体の表面が非磁性体スペーサが表面に露出するま
で研磨される請求項1記載の方法。 - 【請求項4】 第二の磁性材料が陰極蒸着によって堆積
される請求項1から3のいずれか1項に記載の方法。 - 【請求項5】 請求項1記載の方法により得られた磁気
ヘッドであり、非磁性体スペーサの両側の不導体フィル
ムに刻まれた凹部に堆積された磁心を含み、そこには磁
心が凹部の中で電気分解によって得られるが凹部を完全
には満たさない第一の磁性材料から成る第一の部分と、
第一の磁性材料よりも硬く凹部の残りの部分を満たす第
二の磁性材料から成る第二の部分とを含む磁気ヘッド。 - 【請求項6】 第一の磁性材料が凹部の底部を占め、第
二の磁性材料が凹部の上部を占める、請求項5記載の磁
気ヘッド。 - 【請求項7】 第一の磁性材料がスペーサの両側に配置
され、第二の磁性材料が凹部の残りを占める請求項5記
載の磁気ヘッド。 - 【請求項8】 第一の磁性材料が非磁性体スペーサの両
側に約1〜数ミクロンの幅を占める、請求項7記載の磁
気ヘッド。 - 【請求項9】 第一の磁性材料が鉄/ニッケル合金であ
る、請求項1〜5のいずれか1項に記載の磁気ヘッド。 - 【請求項10】 第二の磁性材料が以下の合金群から選
択されたものである、請求項5〜8のいずれか1項に記
載の磁気ヘッド。 ニッケル/モリブデン/鉄、 鉄/アルミニウム、 鉄/シリコン/アルミニウム、 コバルト/鉄/シリコン/ボロン、 コバルト/ジルコニウム/ニオビウム、 コバルト/ジルコニウム。
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FR9002114 | 1990-02-21 |
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US6069015A (en) * | 1996-05-20 | 2000-05-30 | Aiwa Research And Development, Inc. | Method of fabricating thin film magnetic head including durable wear layer and non-magnetic gap structure |
JPH117608A (ja) * | 1997-04-25 | 1999-01-12 | Fujitsu Ltd | 磁気ヘッド及びその製造方法 |
KR100264802B1 (ko) * | 1998-02-24 | 2000-09-01 | 윤종용 | 플래너구조 박막자기헤드의 갭 형성방법 |
US6496328B1 (en) | 1999-12-30 | 2002-12-17 | Advanced Research Corporation | Low inductance, ferrite sub-gap substrate structure for surface film magnetic recording heads |
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WO2009121073A1 (en) | 2008-03-28 | 2009-10-01 | Advanced Research Corporation | Thin film planar arbitrary gap pattern magnetic head |
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-
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1991
- 1991-02-08 US US07/652,985 patent/US5224260A/en not_active Expired - Fee Related
- 1991-02-19 DE DE69113649T patent/DE69113649T2/de not_active Expired - Fee Related
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DE69113649D1 (de) | 1995-11-16 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 19991012 |