JP2999360B2 - 金色装飾部品およびその製造方法 - Google Patents
金色装飾部品およびその製造方法Info
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Description
【０００１】
【発明の技術分野】本発明は、かぶれなどの金属アレル
ギー性の皮膚炎を起こす虞のない金色装飾部品およびそ
の製造方法に関する。
ギー性の皮膚炎を起こす虞のない金色装飾部品およびそ
の製造方法に関する。
【０００２】
【発明の技術的背景】従来、時計バンドなどの時計部
品、指輪、ネックレス、イヤリング等の装飾部品は、そ
の最外層に、湿式あるいは乾式メッキの手法を用いて金
被膜を形成することにより、高級感あるいは優れた耐食
性を付与している。しかしながら、純金の被膜では、軟
らかく摩耗し易いこと、また金色が濃くなり過ぎるため
好まれず、むしろ淡い金色が好まれる傾向にある等の理
由により、純金の被膜に変えて金−ニッケル合金膜、金
−パラジウム合金膜等が装飾部品の最外層に形成される
ようになった。
品、指輪、ネックレス、イヤリング等の装飾部品は、そ
の最外層に、湿式あるいは乾式メッキの手法を用いて金
被膜を形成することにより、高級感あるいは優れた耐食
性を付与している。しかしながら、純金の被膜では、軟
らかく摩耗し易いこと、また金色が濃くなり過ぎるため
好まれず、むしろ淡い金色が好まれる傾向にある等の理
由により、純金の被膜に変えて金−ニッケル合金膜、金
−パラジウム合金膜等が装飾部品の最外層に形成される
ようになった。
【０００３】しかしながら、近年、貴金属製のネックレ
スやイヤリングなどの装飾品で、金属と皮膚の接触でか
ぶれができるアレルギー性の皮膚炎が増加しており、ほ
とんどの金属でその事例が報告されている。中でも、金
−ニッケル合金膜、金−パラジウム合金膜はアレルギー
性の皮膚炎の発生が多く報告されている。
スやイヤリングなどの装飾品で、金属と皮膚の接触でか
ぶれができるアレルギー性の皮膚炎が増加しており、ほ
とんどの金属でその事例が報告されている。中でも、金
−ニッケル合金膜、金−パラジウム合金膜はアレルギー
性の皮膚炎の発生が多く報告されている。
【０００４】また、鉄は、アレルギー性の皮膚炎になる
事例の極めて少ない金属であるが、上記のような装飾部
品の最外層に被膜をイオンプレーティング法で形成する
と、得られる金−鉄合金膜の色調が一定せず、しかも、
黒ずんでしまう等の問題点があった。この原因が何であ
るか鋭意研究した結果、鉄が活性であるために、イオン
プレーティング装置内に存在する酸素、炭素、窒素が被
膜中に多量に取り込まれるためであることが判明した。
事例の極めて少ない金属であるが、上記のような装飾部
品の最外層に被膜をイオンプレーティング法で形成する
と、得られる金−鉄合金膜の色調が一定せず、しかも、
黒ずんでしまう等の問題点があった。この原因が何であ
るか鋭意研究した結果、鉄が活性であるために、イオン
プレーティング装置内に存在する酸素、炭素、窒素が被
膜中に多量に取り込まれるためであることが判明した。
【０００５】したがって、従来より、皮膚と接触しても
かぶれなどのアレルギー性皮膚炎が生じることがなく、
かつ、均一な金色調を有する金色装飾部品の出現が望ま
れている。
かぶれなどのアレルギー性皮膚炎が生じることがなく、
かつ、均一な金色調を有する金色装飾部品の出現が望ま
れている。
【０００６】
【発明の目的】本発明は、上記のような従来技術に伴う
問題点を解決しようとするものであって、皮膚と接触し
てもかぶれなどのアレルギー性皮膚炎が生じることが極
めて少なく、かつ、均一な金色調を有する装飾部品およ
びその製造方法を提供することを目的としている。
問題点を解決しようとするものであって、皮膚と接触し
てもかぶれなどのアレルギー性皮膚炎が生じることが極
めて少なく、かつ、均一な金色調を有する装飾部品およ
びその製造方法を提供することを目的としている。
【０００７】
【発明の概要】本発明に係る第１の金色装飾部品は、基
材と、この基材表面に窒素以外の不活性ガス中で乾式メ
ッキ法により形成された、不可避成分を含有するＴｉ系
被膜と、このＴｉ系被膜上に乾式メッキ法により形成さ
れた最外層被膜とからなり、かつ、最外層被膜が、金６
０〜９９原子％と鉄０．５〜２０原子％と不可避成分
０．５〜２０原子％とを含有してなることを特徴として
いる。
材と、この基材表面に窒素以外の不活性ガス中で乾式メ
ッキ法により形成された、不可避成分を含有するＴｉ系
被膜と、このＴｉ系被膜上に乾式メッキ法により形成さ
れた最外層被膜とからなり、かつ、最外層被膜が、金６
０〜９９原子％と鉄０．５〜２０原子％と不可避成分
０．５〜２０原子％とを含有してなることを特徴として
いる。
【０００８】また、本発明に係る第２の金色装飾部品
は、基材と、この基材表面に乾式メッキ法により形成さ
れたＴｉＮ被膜と、このＴｉＮ被膜上に乾式メッキ法に
より形成された最外層被膜とからなり、かつ、最外層被
膜が、金６０〜９９原子％と鉄０．５〜２０原子％と不
可避成分０．５〜２０原子％とを含有してなることを特
徴としている。
は、基材と、この基材表面に乾式メッキ法により形成さ
れたＴｉＮ被膜と、このＴｉＮ被膜上に乾式メッキ法に
より形成された最外層被膜とからなり、かつ、最外層被
膜が、金６０〜９９原子％と鉄０．５〜２０原子％と不
可避成分０．５〜２０原子％とを含有してなることを特
徴としている。
【０００９】さらに、本発明に係る第３の金色装飾部品
は、基材と、この基材表面に窒素以外の不活性ガス中で
乾式メッキ法により形成された、不可避成分を含有する
Ｔｉ系被膜と、このＴｉ系被膜上に乾式メッキ法により
形成されたＴｉＮ被膜と、このＴｉＮ被膜上に乾式メッ
キ法により形成された最外層被膜とからなり、かつ、最
外層被膜が、金６０〜９９原子％と鉄０．５〜２０原子
％と不可避成分０．５〜２０原子％とを含有してなるこ
とを特徴としている。
は、基材と、この基材表面に窒素以外の不活性ガス中で
乾式メッキ法により形成された、不可避成分を含有する
Ｔｉ系被膜と、このＴｉ系被膜上に乾式メッキ法により
形成されたＴｉＮ被膜と、このＴｉＮ被膜上に乾式メッ
キ法により形成された最外層被膜とからなり、かつ、最
外層被膜が、金６０〜９９原子％と鉄０．５〜２０原子
％と不可避成分０．５〜２０原子％とを含有してなるこ
とを特徴としている。
【００１０】前記乾式メッキ法において、基材を含む、
成膜前の乾式メッキ装置内の初期排気が、５×１０ -5 〜
１．０×１０ -6 Ｔｏｒｒまで行なわれていることが望ま
しい。
成膜前の乾式メッキ装置内の初期排気が、５×１０ -5 〜
１．０×１０ -6 Ｔｏｒｒまで行なわれていることが望ま
しい。
【００１１】最外層被膜に取り込まれる不可避成分の量
を出来るだけ少なくするという観点からは、本発明に係
る第３の金色装飾部品であって、前記Ｔｉ系被膜が、基
材を含む、成膜前の乾式メッキ装置内の初期排気を５×
１０ -5 〜１．０×１０ -6 Ｔｏｒｒまで行ない、該装置内
に置かれた基材表面に窒素以外の不活性ガス中で乾式メ
ッキ法により形成され、かつ、膜厚が０．１〜０．５μ
ｍであることが望ましい。
を出来るだけ少なくするという観点からは、本発明に係
る第３の金色装飾部品であって、前記Ｔｉ系被膜が、基
材を含む、成膜前の乾式メッキ装置内の初期排気を５×
１０ -5 〜１．０×１０ -6 Ｔｏｒｒまで行ない、該装置内
に置かれた基材表面に窒素以外の不活性ガス中で乾式メ
ッキ法により形成され、かつ、膜厚が０．１〜０．５μ
ｍであることが望ましい。
【００１２】本発明に係る金色装飾部品の第１の製造方
法は、基材上に、乾式メッキ装置内で窒素以外の不活性
ガス雰囲気下にチタンを蒸発させて乾式メッキ装置内に
存在する不可避成分を含有するＴｉ系被膜を形成させ、
次いで、この乾式メッキ装置内で、このＴｉ系被膜の上
に、窒素以外の不活性ガス雰囲気下に金６０〜９９原子
％と鉄０．５〜２０原子％と不可避成分０．５〜２０原
子％とを含有してなる最外層被膜を形成することを特徴
としている。
法は、基材上に、乾式メッキ装置内で窒素以外の不活性
ガス雰囲気下にチタンを蒸発させて乾式メッキ装置内に
存在する不可避成分を含有するＴｉ系被膜を形成させ、
次いで、この乾式メッキ装置内で、このＴｉ系被膜の上
に、窒素以外の不活性ガス雰囲気下に金６０〜９９原子
％と鉄０．５〜２０原子％と不可避成分０．５〜２０原
子％とを含有してなる最外層被膜を形成することを特徴
としている。
【００１３】また、本発明に係る金色装飾部品の第２の
製造方法は、基材上に、乾式メッキ装置内で窒素ガス雰
囲気下にチタンを蒸発させてＴｉＮ被膜を形成させ、次
いで、この乾式メッキ装置内で、このＴｉＮ被膜の上
に、窒素以外の不活性ガス雰囲気下に金６０〜９９原子
％と鉄０．５〜２０原子％と不可避成分０．５〜２０原
子％とを含有してなる最外層被膜を形成することを特徴
としている。
製造方法は、基材上に、乾式メッキ装置内で窒素ガス雰
囲気下にチタンを蒸発させてＴｉＮ被膜を形成させ、次
いで、この乾式メッキ装置内で、このＴｉＮ被膜の上
に、窒素以外の不活性ガス雰囲気下に金６０〜９９原子
％と鉄０．５〜２０原子％と不可避成分０．５〜２０原
子％とを含有してなる最外層被膜を形成することを特徴
としている。
【００１４】さらに、本発明に係る金色装飾部品の第３
の製造方法は、基材上に、窒素以外の不活性ガス雰囲気
下にチタンを蒸発させて乾式メッキ装置内に存在する不
可避成分を含有するＴｉ系被膜を形成させ、次いで、こ
の乾式メッキ装置内で、このＴｉ系被膜の上に、窒素ガ
ス雰囲気下にチタンを蒸発させてＴｉＮ被膜を形成さ
せ、次いで、この乾式メッキ装置内で、このＴｉＮ被膜
の上に、窒素以外の不活性ガス雰囲気下に金６０〜９９
原子％と鉄０．５〜２０原子％と不可避成分０．５〜２
０原子％とを含有してなる最外層被膜を形成することを
特徴としている。最外層被膜に取り込まれる不可避成分
の量を出来るだけ少なくするという観点からは、本発明
に係る第３の金色装飾部品の製造方法において、前記Ｔ
ｉ系被膜が、基材を含む、成膜前の乾式メッキ装置内の
初期排気を５×１０ -5 〜１．０×１０ -6 Ｔｏｒｒまで行
ない、該装置内に置かれた基材表面に窒素以外の不活性
ガス中で乾式メッキ法により形成され、かつ、膜厚が
０．１〜０．５μｍであることが望ましい。
の製造方法は、基材上に、窒素以外の不活性ガス雰囲気
下にチタンを蒸発させて乾式メッキ装置内に存在する不
可避成分を含有するＴｉ系被膜を形成させ、次いで、こ
の乾式メッキ装置内で、このＴｉ系被膜の上に、窒素ガ
ス雰囲気下にチタンを蒸発させてＴｉＮ被膜を形成さ
せ、次いで、この乾式メッキ装置内で、このＴｉＮ被膜
の上に、窒素以外の不活性ガス雰囲気下に金６０〜９９
原子％と鉄０．５〜２０原子％と不可避成分０．５〜２
０原子％とを含有してなる最外層被膜を形成することを
特徴としている。最外層被膜に取り込まれる不可避成分
の量を出来るだけ少なくするという観点からは、本発明
に係る第３の金色装飾部品の製造方法において、前記Ｔ
ｉ系被膜が、基材を含む、成膜前の乾式メッキ装置内の
初期排気を５×１０ -5 〜１．０×１０ -6 Ｔｏｒｒまで行
ない、該装置内に置かれた基材表面に窒素以外の不活性
ガス中で乾式メッキ法により形成され、かつ、膜厚が
０．１〜０．５μｍであることが望ましい。
【００１５】本発明では、金色装飾部品の最外層被膜の
直下に上記ＴｉＮ被膜を有していることが好ましく、ま
た、基材上にＴｉ系被膜を有していることが好ましい。
直下に上記ＴｉＮ被膜を有していることが好ましく、ま
た、基材上にＴｉ系被膜を有していることが好ましい。
【００１６】
【発明の具体的説明】以下、本発明に係る金色装飾部品
およびその製造方法について具体的に説明する。
およびその製造方法について具体的に説明する。
【００１７】まず、本発明に係る金色装飾部品について
説明する。本発明に係る金色装飾部品は、基材と、この
基材上に乾式メッキ法である真空蒸着法、スパッタ法あ
るいはイオンプレーティング法により形成された最外層
被膜とからなり、かつ、最外層被膜が、金と鉄と不可避
成分とを特定の割合で含有してなる。
説明する。本発明に係る金色装飾部品は、基材と、この
基材上に乾式メッキ法である真空蒸着法、スパッタ法あ
るいはイオンプレーティング法により形成された最外層
被膜とからなり、かつ、最外層被膜が、金と鉄と不可避
成分とを特定の割合で含有してなる。
【００１８】また、本発明に係る金色装飾部品では、上
記の基材と最外層被膜との間にＴｉＮ被膜が存在してい
てもよい。特にＴｉＮ被膜を有する金色装飾部品は、最
外層被膜と基材との密着性に優れている。
記の基材と最外層被膜との間にＴｉＮ被膜が存在してい
てもよい。特にＴｉＮ被膜を有する金色装飾部品は、最
外層被膜と基材との密着性に優れている。
【００１９】さらに、本発明に係る金色装飾部品は、上
記の基材と最外層被膜との間に、あるいは上記の基材と
ＴｉＮ被膜との間に、窒素以外のアルゴン、ヘリウム、
ネオンなどの不活性ガス中で形成された、乾式メッキ装
置内に存在する不可避成分（窒素、酸素、炭素）を含有
するＴｉ系被膜が存在していてもよい。
記の基材と最外層被膜との間に、あるいは上記の基材と
ＴｉＮ被膜との間に、窒素以外のアルゴン、ヘリウム、
ネオンなどの不活性ガス中で形成された、乾式メッキ装
置内に存在する不可避成分（窒素、酸素、炭素）を含有
するＴｉ系被膜が存在していてもよい。
【００２０】本発明で用いられる基材としては、装飾部
品の種類によって異なるが、金属、プラスチック、セラ
ミックなどの材料が挙げられる。本発明に係る金色装飾
部品では、最外層被膜は、金が６０〜９９原子％、好ま
しくは８１．５〜９６．５原子％、さらに好ましくは８
８〜９６．５原子％存在しており、鉄が０．５〜２０原
子％、好ましくは２．５〜７原子％、さらに好ましくは
３〜７原子％存在しており、酸素、炭素、窒素のうち少
なくとも一種類からなる不可避成分が０．５〜２０原子
％、好ましくは０．５〜１２原子％、さらに好ましくは
０．５〜５原子％存在している。
品の種類によって異なるが、金属、プラスチック、セラ
ミックなどの材料が挙げられる。本発明に係る金色装飾
部品では、最外層被膜は、金が６０〜９９原子％、好ま
しくは８１．５〜９６．５原子％、さらに好ましくは８
８〜９６．５原子％存在しており、鉄が０．５〜２０原
子％、好ましくは２．５〜７原子％、さらに好ましくは
３〜７原子％存在しており、酸素、炭素、窒素のうち少
なくとも一種類からなる不可避成分が０．５〜２０原子
％、好ましくは０．５〜１２原子％、さらに好ましくは
０．５〜５原子％存在している。
【００２１】上記最外層被膜中に金と鉄と不可避成分と
を上記のような割合で存在させると、上記不可避成分に
よる被膜の色調への悪影響を防止することができ、金色
の均一な色調を有する金色装飾部品が得られる。特に最
外層被膜の下に上記Ｔｉ系被膜が形成されている金色装
飾部品は、上記Ｔｉ系被膜の形成の際に乾式メッキ装置
内に存在する不可避成分がＴｉ系被膜中に取り込まれて
いるため、最外層被膜に取り込まれる不可避成分の量
が、最外層被膜の下に上記Ｔｉ系被膜が形成されていな
い金色装飾部品と比較して顕著に少なく、最外層被膜の
色調がより均一となる。また、金が８８〜９６．５原子
％、鉄が３〜７原子％、不可避成分が０．５〜５原子％
の割合の最外層被膜を有する金色装飾部品の金色の色調
は、スイス金メッキ色規格で１Ｎ−１４〜２Ｎ−１８の
範囲である。また、金色の色調がスイス金メッキ色規格
で１Ｎ−１４〜２Ｎ−１８の範囲にある金色装飾部品
は、鏡面光沢でＬ*（１０．０〜９０．０）ａ*（６．
０）ｂ*（３．０）〜Ｌ*（１０．０〜９０．０）ａ
*（１．０）ｂ*（１５．０）の範囲の金色調を示してい
る。ここに、Ｌ*は国際照明委員会（ＣＩＥ）のＣＩＥ
１９７６ （Ｌ*ａ*ｂ*）色空間における明度指数であ
り、ａ*、ｂ*はクロマティクネス指数を表わす。上記金
色調のＬ*、ａ*およびｂ*の測定は、ＣＩＥの規格で定
められている０度視野ＸＹＺ系による物体色の測定方法
に従って、鏡面光沢の試験片について、スガ試験機
（株）製色差計ＳＭ−２−ＳＣＨ［積分球方式、測定方
式：反射、測定口径：１２ｍｍ］を用いて行なわれる。
を上記のような割合で存在させると、上記不可避成分に
よる被膜の色調への悪影響を防止することができ、金色
の均一な色調を有する金色装飾部品が得られる。特に最
外層被膜の下に上記Ｔｉ系被膜が形成されている金色装
飾部品は、上記Ｔｉ系被膜の形成の際に乾式メッキ装置
内に存在する不可避成分がＴｉ系被膜中に取り込まれて
いるため、最外層被膜に取り込まれる不可避成分の量
が、最外層被膜の下に上記Ｔｉ系被膜が形成されていな
い金色装飾部品と比較して顕著に少なく、最外層被膜の
色調がより均一となる。また、金が８８〜９６．５原子
％、鉄が３〜７原子％、不可避成分が０．５〜５原子％
の割合の最外層被膜を有する金色装飾部品の金色の色調
は、スイス金メッキ色規格で１Ｎ−１４〜２Ｎ−１８の
範囲である。また、金色の色調がスイス金メッキ色規格
で１Ｎ−１４〜２Ｎ−１８の範囲にある金色装飾部品
は、鏡面光沢でＬ*（１０．０〜９０．０）ａ*（６．
０）ｂ*（３．０）〜Ｌ*（１０．０〜９０．０）ａ
*（１．０）ｂ*（１５．０）の範囲の金色調を示してい
る。ここに、Ｌ*は国際照明委員会（ＣＩＥ）のＣＩＥ
１９７６ （Ｌ*ａ*ｂ*）色空間における明度指数であ
り、ａ*、ｂ*はクロマティクネス指数を表わす。上記金
色調のＬ*、ａ*およびｂ*の測定は、ＣＩＥの規格で定
められている０度視野ＸＹＺ系による物体色の測定方法
に従って、鏡面光沢の試験片について、スガ試験機
（株）製色差計ＳＭ−２−ＳＣＨ［積分球方式、測定方
式：反射、測定口径：１２ｍｍ］を用いて行なわれる。
【００２２】なお、上記金、鉄、不可避成分が上記割合
から外れる最外層被膜を有する金色装飾部品でも、１Ｎ
−１４〜２Ｎ−１８の範囲に入る金色の色調を有するこ
とがある。
から外れる最外層被膜を有する金色装飾部品でも、１Ｎ
−１４〜２Ｎ−１８の範囲に入る金色の色調を有するこ
とがある。
【００２３】最外層被膜が金と鉄と不可避成分とから形
成されている本発明に係る金色装飾部品は、皮膚と接触
しても上記のようなアレルギー性皮膚炎が生じることが
極めて少ない。
成されている本発明に係る金色装飾部品は、皮膚と接触
しても上記のようなアレルギー性皮膚炎が生じることが
極めて少ない。
【００２４】本発明に係る金色装飾部品の最外層被膜
は、厚みが通常０．０５〜０．５μｍ、好ましくは０．
１〜０．３μｍである。また、ＴｉＮ被膜の膜厚は、
０．１〜１０μｍ、好ましくは０．１〜２μｍであり、
不可避成分を多く含有するＴｉ系被膜の膜厚は、０．１
〜０．５μｍ、好ましくは０．２〜０．３μｍ程度であ
ることが望ましい。
は、厚みが通常０．０５〜０．５μｍ、好ましくは０．
１〜０．３μｍである。また、ＴｉＮ被膜の膜厚は、
０．１〜１０μｍ、好ましくは０．１〜２μｍであり、
不可避成分を多く含有するＴｉ系被膜の膜厚は、０．１
〜０．５μｍ、好ましくは０．２〜０．３μｍ程度であ
ることが望ましい。
【００２５】本発明に係る金色装飾部品の最外層被膜の
表面状態は、特に限定されず、鏡面光沢であっても、ま
た梨地であってもよい。次に、本発明に係る金色装飾部
品の製造方法について説明する。
表面状態は、特に限定されず、鏡面光沢であっても、ま
た梨地であってもよい。次に、本発明に係る金色装飾部
品の製造方法について説明する。
【００２６】まず、基材と最外層被膜とからなる上記の
ような金色装飾部品は、たとえば基材上に、乾式メッキ
装置内で窒素以外のアルゴン、ヘリウム、ネオンなどの
不活性ガス雰囲気下に金６０〜９９原子％と鉄０．５〜
２０原子％と不可避成分０．５〜２０原子％とを含有し
てなる最外層被膜を形成することにより得られる。
ような金色装飾部品は、たとえば基材上に、乾式メッキ
装置内で窒素以外のアルゴン、ヘリウム、ネオンなどの
不活性ガス雰囲気下に金６０〜９９原子％と鉄０．５〜
２０原子％と不可避成分０．５〜２０原子％とを含有し
てなる最外層被膜を形成することにより得られる。
【００２７】また、基材と、Ｔｉ系被膜と、最外層被膜
とからなる上記のような金色装飾部品は、基材上に、乾
式メッキ装置内で窒素以外のアルゴン、ヘリウム、ネオ
ンなどの不活性ガス雰囲気下にチタンを蒸発させて乾式
メッキ装置内に存在する不可避成分を含有するＴｉ系被
膜を形成させ、次いで、この乾式メッキ装置内で、この
Ｔｉ系被膜の上に、窒素以外の不活性ガス雰囲気下に金
６０〜９９原子％と鉄０．５〜２０原子％と不可避成分
０．５〜２０原子％とを含有してなる最外層被膜を形成
することにより得られる。
とからなる上記のような金色装飾部品は、基材上に、乾
式メッキ装置内で窒素以外のアルゴン、ヘリウム、ネオ
ンなどの不活性ガス雰囲気下にチタンを蒸発させて乾式
メッキ装置内に存在する不可避成分を含有するＴｉ系被
膜を形成させ、次いで、この乾式メッキ装置内で、この
Ｔｉ系被膜の上に、窒素以外の不活性ガス雰囲気下に金
６０〜９９原子％と鉄０．５〜２０原子％と不可避成分
０．５〜２０原子％とを含有してなる最外層被膜を形成
することにより得られる。
【００２８】また、基材と、ＴｉＮ被膜と、最外層被膜
とからなる上記のような金色装飾部品は、基材上に、乾
式メッキ装置内で窒素ガス雰囲気下にチタンを蒸発させ
てＴｉＮ被膜を形成させ、次いで、この乾式メッキ装置
内で、このＴｉＮ被膜の上に、窒素以外の不活性ガス雰
囲気下に金６０〜９９原子％と鉄０．５〜２０原子％と
不可避成分０．５〜２０原子％とを含有してなる最外層
被膜を形成することにより得られる。
とからなる上記のような金色装飾部品は、基材上に、乾
式メッキ装置内で窒素ガス雰囲気下にチタンを蒸発させ
てＴｉＮ被膜を形成させ、次いで、この乾式メッキ装置
内で、このＴｉＮ被膜の上に、窒素以外の不活性ガス雰
囲気下に金６０〜９９原子％と鉄０．５〜２０原子％と
不可避成分０．５〜２０原子％とを含有してなる最外層
被膜を形成することにより得られる。
【００２９】また基材と、Ｔｉ系被膜と、ＴｉＮ被膜
と、最外層被膜とからなる上記のような金色装飾部品
は、基材上に、窒素以外の不活性ガス雰囲気下にチタン
を蒸発させて乾式メッキ装置内に存在する不可避成分を
含有するＴｉ系被膜を形成させ、次いで、この乾式メッ
キ装置内で、このＴｉ系被膜の上に窒素ガス雰囲気下に
チタンを蒸発させてＴｉＮ被膜を形成させ、次いで、こ
の乾式メッキ装置内で、このＴｉＮ被膜の上に、窒素以
外の不活性ガス雰囲気下に金６０〜９９原子％と鉄０．
５〜２０原子％と不可避成分０．５〜２０原子％とを含
有してなる最外層被膜を形成することにより得られる。
と、最外層被膜とからなる上記のような金色装飾部品
は、基材上に、窒素以外の不活性ガス雰囲気下にチタン
を蒸発させて乾式メッキ装置内に存在する不可避成分を
含有するＴｉ系被膜を形成させ、次いで、この乾式メッ
キ装置内で、このＴｉ系被膜の上に窒素ガス雰囲気下に
チタンを蒸発させてＴｉＮ被膜を形成させ、次いで、こ
の乾式メッキ装置内で、このＴｉＮ被膜の上に、窒素以
外の不活性ガス雰囲気下に金６０〜９９原子％と鉄０．
５〜２０原子％と不可避成分０．５〜２０原子％とを含
有してなる最外層被膜を形成することにより得られる。
【００３０】本発明においては、上記の最外層被膜は、
スパッタ法、真空蒸着法またはイオンプレーティング法
によって形成することができるが、特にイオンプレーテ
ィング法によって形成することが好ましい。
スパッタ法、真空蒸着法またはイオンプレーティング法
によって形成することができるが、特にイオンプレーテ
ィング法によって形成することが好ましい。
【００３１】以下、本発明に係る金色装飾部品における
各々の被膜、特にイオンプレーティング法による最外層
被膜の形成についてより具体的に説明する。腕時計用バ
ンドなどの基材は、予め有機溶剤等で洗浄しておくこと
が好ましい。また、イオンプレーティング装置内を５×
１０-5〜１．０×１０-6Ｔｏｒｒ、好ましくは１．０×
１０-5〜１．０×１０-6Ｔｏｒｒまで排気した後、雰囲
気ガスを８×１０-4〜５×１０-3Ｔｏｒｒ、好ましくは
１．０×１０-3〜３．０×１０-3Ｔｏｒｒまで導入す
る。
各々の被膜、特にイオンプレーティング法による最外層
被膜の形成についてより具体的に説明する。腕時計用バ
ンドなどの基材は、予め有機溶剤等で洗浄しておくこと
が好ましい。また、イオンプレーティング装置内を５×
１０-5〜１．０×１０-6Ｔｏｒｒ、好ましくは１．０×
１０-5〜１．０×１０-6Ｔｏｒｒまで排気した後、雰囲
気ガスを８×１０-4〜５×１０-3Ｔｏｒｒ、好ましくは
１．０×１０-3〜３．０×１０-3Ｔｏｒｒまで導入す
る。
【００３２】均一な金色調を有する最外層被膜を得るに
は、成膜前の装置内部の圧力は低い方がよく、１×１０
-5Ｔｏｒｒ以下、好ましくは１×１０-6Ｔｏｒｒ以下に
排気することが望ましい。すなわち、装置内部の圧力が
低くなるにしたがって、装置内部の不可避成分の存在す
る量が減少し、金色調が均一化するからである。
は、成膜前の装置内部の圧力は低い方がよく、１×１０
-5Ｔｏｒｒ以下、好ましくは１×１０-6Ｔｏｒｒ以下に
排気することが望ましい。すなわち、装置内部の圧力が
低くなるにしたがって、装置内部の不可避成分の存在す
る量が減少し、金色調が均一化するからである。
【００３３】本発明では、上記ＴｉＮ被膜を形成させる
ことが金−鉄合金膜の最外層被膜と基材との密着性の面
から好ましいが、ＴｉＮ被膜の代わりに、ＺｒＮ、Ｈｆ
Ｎ等の金色系の窒化物被膜を形成してもよい。
ことが金−鉄合金膜の最外層被膜と基材との密着性の面
から好ましいが、ＴｉＮ被膜の代わりに、ＺｒＮ、Ｈｆ
Ｎ等の金色系の窒化物被膜を形成してもよい。
【００３４】本発明では、金−鉄混合物を蒸発源として
用いてもよく、また、蒸発源を２つ設け、一方の蒸発源
として金を用い、他方の蒸発源として鉄を用い、金と鉄
を別々に蒸発させてもよい。
用いてもよく、また、蒸発源を２つ設け、一方の蒸発源
として金を用い、他方の蒸発源として鉄を用い、金と鉄
を別々に蒸発させてもよい。
【００３５】本発明で蒸発源として金−鉄混合物を用い
る場合には、得られる最外層被膜の組成が金６０〜９９
原子％、鉄０．５〜２０原子％となるように金と鉄とを
用いるが、具体的には、金７５〜９０原子％、鉄１０〜
２５原子％である金−鉄混合物（あるいは金−鉄合金）
を用いることが好ましい。
る場合には、得られる最外層被膜の組成が金６０〜９９
原子％、鉄０．５〜２０原子％となるように金と鉄とを
用いるが、具体的には、金７５〜９０原子％、鉄１０〜
２５原子％である金−鉄混合物（あるいは金−鉄合金）
を用いることが好ましい。
【００３６】このように、蒸発源における金と鉄との割
合をコントロールすることによって、得られる金色装飾
部品の最外層被膜の色調を容易にコントロールすること
ができる。
合をコントロールすることによって、得られる金色装飾
部品の最外層被膜の色調を容易にコントロールすること
ができる。
【００３７】
【発明の効果】本発明に係る金色装飾部品は、最外層被
膜が、金と鉄と不可避成分とを含有してなるので、皮膚
と接触してもかぶれなどのアレルギー性皮膚炎が生じる
ことが極めて少なく、かつ、均一な金色調を有する。特
に、最外層の金−鉄合金膜の下にＴｉ系被膜を有する金
色装飾部品は、均一な金色調とすることができる。ま
た、ＴｉＮ被膜を有する金色装飾部品は、最外層被膜と
基材との密着性に優れている。また、乾式メッキ法の中
でも、特にイオンプレーティング法で形成された最外層
被膜を有する金色装飾部品は、耐摩耗性に優れている。
膜が、金と鉄と不可避成分とを含有してなるので、皮膚
と接触してもかぶれなどのアレルギー性皮膚炎が生じる
ことが極めて少なく、かつ、均一な金色調を有する。特
に、最外層の金−鉄合金膜の下にＴｉ系被膜を有する金
色装飾部品は、均一な金色調とすることができる。ま
た、ＴｉＮ被膜を有する金色装飾部品は、最外層被膜と
基材との密着性に優れている。また、乾式メッキ法の中
でも、特にイオンプレーティング法で形成された最外層
被膜を有する金色装飾部品は、耐摩耗性に優れている。
【００３８】本発明に係る金色装飾部品の製造方法によ
れば、上記のような効果を有する金色装飾部品が得られ
る。以下、本発明を実施例により説明するが、本発明
は、これら実施例に限定されるものではない。
れば、上記のような効果を有する金色装飾部品が得られ
る。以下、本発明を実施例により説明するが、本発明
は、これら実施例に限定されるものではない。
【００３９】
【実施例１】まずステンレススチールにより加工した腕
時計用ケースを有機溶剤で洗浄し、この腕時計用ケース
をイオンプレーティング装置に配置した。
時計用ケースを有機溶剤で洗浄し、この腕時計用ケース
をイオンプレーティング装置に配置した。
【００４０】次いで、装置内を１．０×１０-5Ｔｏｒｒ
まで排気した後、アルゴンガスを３×１０-3Ｔｏｒｒま
で導入した。次に、装置内部に備えられた熱電子フィラ
メントとプラズマ電極を駆動させてアルゴンのプラズマ
を形成させた。同時に基材である腕時計用ケースに−５
０Ｖの電位を印加して、１０分間ボンバードクリーニン
グを行なった。
まで排気した後、アルゴンガスを３×１０-3Ｔｏｒｒま
で導入した。次に、装置内部に備えられた熱電子フィラ
メントとプラズマ電極を駆動させてアルゴンのプラズマ
を形成させた。同時に基材である腕時計用ケースに−５
０Ｖの電位を印加して、１０分間ボンバードクリーニン
グを行なった。
【００４１】次いで、アルゴンガスの導入を止め、装置
内に窒素ガスを２．０×１０-3Ｔｏｒｒまで導入した。
次いで、装置内部に備えられたプラズマ銃でプラズマを
発生させた後、チタンを１０分間蒸発させてＴｉＮ被膜
を０．５μｍの膜厚に形成させた。
内に窒素ガスを２．０×１０-3Ｔｏｒｒまで導入した。
次いで、装置内部に備えられたプラズマ銃でプラズマを
発生させた後、チタンを１０分間蒸発させてＴｉＮ被膜
を０．５μｍの膜厚に形成させた。
【００４２】次いで、チタンの蒸発と窒素ガスの導入を
止め、装置内を１．０×１０-5Ｔｏｒｒまで排気した。
次いで、装置内にアルゴンガスを１．０×１０-3Ｔｏｒ
ｒまで導入してプラズマを発生させた後、金７５原子％
と鉄２５原子％とからなる金−鉄混合物を蒸発させ、金
−鉄合金膜の厚みが０．３μｍになったところで金−鉄
混合物の蒸発を止めた。
止め、装置内を１．０×１０-5Ｔｏｒｒまで排気した。
次いで、装置内にアルゴンガスを１．０×１０-3Ｔｏｒ
ｒまで導入してプラズマを発生させた後、金７５原子％
と鉄２５原子％とからなる金−鉄混合物を蒸発させ、金
−鉄合金膜の厚みが０．３μｍになったところで金−鉄
混合物の蒸発を止めた。
【００４３】得られた腕時計用ケースは、均一な金色調
を有していた。この金色調は、スイス金メッキ色規格で
１Ｎ−１４であった。また、得られた色調は、Ｌ*２０
ａ*１．０ｂ*１５．０であった。
を有していた。この金色調は、スイス金メッキ色規格で
１Ｎ−１４であった。また、得られた色調は、Ｌ*２０
ａ*１．０ｂ*１５．０であった。
【００４４】得られた腕時計用ケースの最外層被膜は、
Ｘ線光電子分光法による分析の結果、金８５原子％、鉄
８原子％、窒素１原子％、酸素３原子％、および炭素３
原子％からなっていた。
Ｘ線光電子分光法による分析の結果、金８５原子％、鉄
８原子％、窒素１原子％、酸素３原子％、および炭素３
原子％からなっていた。
【００４５】この腕時計用ケースを他の時計部品ととも
に組み立てて腕時計とし、この腕時計を９０日間にわた
って合計１０８０時間携帯しても、アレルギー性皮膚炎
は全く生じなかった。
に組み立てて腕時計とし、この腕時計を９０日間にわた
って合計１０８０時間携帯しても、アレルギー性皮膚炎
は全く生じなかった。
【００４６】
【実施例２】まずステンレススチールにより加工して表
面に鏡面加工を施して得られた腕時計用ケースを有機溶
剤で洗浄し、この腕時計用ケースをイオンプレーティン
グ装置に配置した。
面に鏡面加工を施して得られた腕時計用ケースを有機溶
剤で洗浄し、この腕時計用ケースをイオンプレーティン
グ装置に配置した。
【００４７】次いで、装置内を１．０×１０-5Ｔｏｒｒ
まで排気した後、アルゴンガスを３×１０-3Ｔｏｒｒま
で導入した。次に、装置内部に備えられた熱電子フィラ
メントとプラズマ電極を駆動させてアルゴンのプラズマ
を形成させた。同時に基材である腕時計用ケースに−５
０Ｖの電位を印加して、１０分間ボンバードクリーニン
グを行なった。
まで排気した後、アルゴンガスを３×１０-3Ｔｏｒｒま
で導入した。次に、装置内部に備えられた熱電子フィラ
メントとプラズマ電極を駆動させてアルゴンのプラズマ
を形成させた。同時に基材である腕時計用ケースに−５
０Ｖの電位を印加して、１０分間ボンバードクリーニン
グを行なった。
【００４８】次いで、装置内部に備えられたプラズマ銃
でプラズマを発生させた後、チタンを５分間蒸発させて
腕時計用ケース表面にＴｉ系被膜を０．２５μｍの膜厚
に形成し、装置内を１．０×１０-5Ｔｏｒｒまで排気し
た。このＴｉ系被膜には、微量の窒素、酸素、炭素が含
まれていた。
でプラズマを発生させた後、チタンを５分間蒸発させて
腕時計用ケース表面にＴｉ系被膜を０．２５μｍの膜厚
に形成し、装置内を１．０×１０-5Ｔｏｒｒまで排気し
た。このＴｉ系被膜には、微量の窒素、酸素、炭素が含
まれていた。
【００４９】次いで、窒素ガスを２．０×１０-3Ｔｏｒ
ｒまで装置内に導入して装置内部に備えられたプラズマ
銃でプラズマを発生させた後、チタンを１０分間蒸発さ
せて上記Ｔｉ系被膜の表面にＴｉＮ被膜を０．５μｍの
膜厚に形成させた。
ｒまで装置内に導入して装置内部に備えられたプラズマ
銃でプラズマを発生させた後、チタンを１０分間蒸発さ
せて上記Ｔｉ系被膜の表面にＴｉＮ被膜を０．５μｍの
膜厚に形成させた。
【００５０】次いで、チタンの蒸発と窒素ガスの導入を
止め、装置内を１．０×１０-5Ｔｏｒｒまで排気した。
次いで、装置内にアルゴンガスを１．０×１０-3Ｔｏｒ
ｒまで導入してプラズマを発生させた後、金７５原子％
と鉄２５原子％とからなる金−鉄混合物を蒸発させ、金
−鉄合金膜の厚みが０．３μｍになったところで金−鉄
混合物の蒸発を止めた。
止め、装置内を１．０×１０-5Ｔｏｒｒまで排気した。
次いで、装置内にアルゴンガスを１．０×１０-3Ｔｏｒ
ｒまで導入してプラズマを発生させた後、金７５原子％
と鉄２５原子％とからなる金−鉄混合物を蒸発させ、金
−鉄合金膜の厚みが０．３μｍになったところで金−鉄
混合物の蒸発を止めた。
【００５１】得られた腕時計用ケースは、均一な金色調
を有していた。この金色調は、スイス金メッキ色規格で
１Ｎ−１４であった。また、得られた色調は、Ｌ*８０
ａ*１．０ｂ*１５．０であった。
を有していた。この金色調は、スイス金メッキ色規格で
１Ｎ−１４であった。また、得られた色調は、Ｌ*８０
ａ*１．０ｂ*１５．０であった。
【００５２】得られた腕時計用ケースの最外層被膜は、
Ｘ線光電子分光法による分析の結果、金８７原子％、鉄
８．５原子％、窒素０．５原子％、酸素１．５原子％、
および炭素２．５原子％からなっていた。
Ｘ線光電子分光法による分析の結果、金８７原子％、鉄
８．５原子％、窒素０．５原子％、酸素１．５原子％、
および炭素２．５原子％からなっていた。
【００５３】この腕時計用ケースを他の時計部品ととも
に組み立てて腕時計とし、この腕時計を９０日間にわた
って合計１０８０時間携帯しても、アレルギー性皮膚炎
は全く生じなかった。
に組み立てて腕時計とし、この腕時計を９０日間にわた
って合計１０８０時間携帯しても、アレルギー性皮膚炎
は全く生じなかった。
【００５４】
【実施例３】まずステンレススチールにより加工して表
面に鏡面加工を施して得られた腕時計用ケースを有機溶
剤で洗浄し、この腕時計用ケースをイオンプレーティン
グ装置に配置した。
面に鏡面加工を施して得られた腕時計用ケースを有機溶
剤で洗浄し、この腕時計用ケースをイオンプレーティン
グ装置に配置した。
【００５５】次いで、装置内を１．０×１０-5Ｔｏｒｒ
まで排気した後、アルゴンガスを１．０×１０-3Ｔｏｒ
ｒまで導入した。次に、装置内部に備えられた熱電子フ
ィラメントとプラズマ電極を駆動させてアルゴンのプラ
ズマを形成させた。同時に基材である腕時計用ケースに
−５０Ｖの電位を印加して、１０分間ボンバードクリー
ニングを行なった。
まで排気した後、アルゴンガスを１．０×１０-3Ｔｏｒ
ｒまで導入した。次に、装置内部に備えられた熱電子フ
ィラメントとプラズマ電極を駆動させてアルゴンのプラ
ズマを形成させた。同時に基材である腕時計用ケースに
−５０Ｖの電位を印加して、１０分間ボンバードクリー
ニングを行なった。
【００５６】次いで、装置内部に備えられたプラズマ銃
でプラズマを発生させた後、チタンを５分間蒸発させて
腕時計用ケース表面にＴｉ系被膜を０．２５μｍの膜厚
に形成し、装置内を１．０×１０-5Ｔｏｒｒまで排気し
た。このＴｉ系被膜には、微量の窒素、酸素、炭素が含
まれていた。
でプラズマを発生させた後、チタンを５分間蒸発させて
腕時計用ケース表面にＴｉ系被膜を０．２５μｍの膜厚
に形成し、装置内を１．０×１０-5Ｔｏｒｒまで排気し
た。このＴｉ系被膜には、微量の窒素、酸素、炭素が含
まれていた。
【００５７】次いで、装置内にアルゴンガスを１．０×
１０-3Ｔｏｒｒまで導入してプラズマを発生させた後、
金９０原子％と鉄１０原子％とからなる金−鉄混合物を
蒸発させ、金−鉄合金膜の厚みが０．３μｍになったと
ころで金−鉄混合物の蒸発を止めた。
１０-3Ｔｏｒｒまで導入してプラズマを発生させた後、
金９０原子％と鉄１０原子％とからなる金−鉄混合物を
蒸発させ、金−鉄合金膜の厚みが０．３μｍになったと
ころで金−鉄混合物の蒸発を止めた。
【００５８】上記のようにして得られた腕時計用ケース
は、均一な金色調を有していた。この金色調は、スイス
金メッキ色規格で２Ｎ−１８であった。また、得られた
色調は、Ｌ*６０ａ*６．０ｂ*３．０であった。
は、均一な金色調を有していた。この金色調は、スイス
金メッキ色規格で２Ｎ−１８であった。また、得られた
色調は、Ｌ*６０ａ*６．０ｂ*３．０であった。
【００５９】得られた腕時計用ケースの最外層被膜は、
Ｘ線光電子分光法による分析の結果、金９１原子％、鉄
３．５原子％、窒素０．５原子％、酸素２原子％、およ
び炭素３原子％からなっていた。
Ｘ線光電子分光法による分析の結果、金９１原子％、鉄
３．５原子％、窒素０．５原子％、酸素２原子％、およ
び炭素３原子％からなっていた。
【００６０】この腕時計用ケースを他の時計部品ととも
に組み立てて腕時計とし、この腕時計を９０日間にわた
って合計１０８０時間携帯しても、アレルギー性皮膚炎
は全く生じなかった。
に組み立てて腕時計とし、この腕時計を９０日間にわた
って合計１０８０時間携帯しても、アレルギー性皮膚炎
は全く生じなかった。
【００６１】
【実施例４】まずステンレススチールにより加工して表
面に鏡面加工を施して得られた腕時計用ケースを有機溶
剤で洗浄し、この腕時計用ケースをイオンプレーティン
グ装置に配置した。
面に鏡面加工を施して得られた腕時計用ケースを有機溶
剤で洗浄し、この腕時計用ケースをイオンプレーティン
グ装置に配置した。
【００６２】次いで、装置内を１．０×１０-6Ｔｏｒｒ
まで排気した後、アルゴンガスを１．０×１０-3Ｔｏｒ
ｒまで導入した。次に、装置内部に備えられた熱電子フ
ィラメントとプラズマ電極を駆動させてアルゴンのプラ
ズマを形成させた。同時に基材である腕時計用ケースに
−５０Ｖの電位を印加して、１０分間ボンバードクリー
ニングを行なった。
まで排気した後、アルゴンガスを１．０×１０-3Ｔｏｒ
ｒまで導入した。次に、装置内部に備えられた熱電子フ
ィラメントとプラズマ電極を駆動させてアルゴンのプラ
ズマを形成させた。同時に基材である腕時計用ケースに
−５０Ｖの電位を印加して、１０分間ボンバードクリー
ニングを行なった。
【００６３】次いで、装置内部に備えられたプラズマ銃
でプラズマを発生させた後、チタンを５分間蒸発させて
腕時計用ケース表面にＴｉ系被膜を０．２５μｍの膜厚
に形成し、装置内を１．０×１０-5Ｔｏｒｒまで排気し
た。このＴｉ系被膜には、微量の窒素、酸素、炭素が含
まれていた。
でプラズマを発生させた後、チタンを５分間蒸発させて
腕時計用ケース表面にＴｉ系被膜を０．２５μｍの膜厚
に形成し、装置内を１．０×１０-5Ｔｏｒｒまで排気し
た。このＴｉ系被膜には、微量の窒素、酸素、炭素が含
まれていた。
【００６４】次いで、装置内にアルゴンガスを１．０×
１０-3Ｔｏｒｒまで導入してプラズマを発生させた後、
金９０原子％と鉄１０原子％とからなる金−鉄混合物を
蒸発させ、金−鉄合金膜の厚みが０．３μｍになったと
ころで金−鉄混合物の蒸発を止めた。
１０-3Ｔｏｒｒまで導入してプラズマを発生させた後、
金９０原子％と鉄１０原子％とからなる金−鉄混合物を
蒸発させ、金−鉄合金膜の厚みが０．３μｍになったと
ころで金−鉄混合物の蒸発を止めた。
【００６５】上記のようにして得られた腕時計用ケース
は、均一な金色調を有していた。この金色調は、スイス
金メッキ色規格で２Ｎ−１８であった。また、得られた
色調は、Ｌ*７０ａ*６．０ｂ*３．０であった。
は、均一な金色調を有していた。この金色調は、スイス
金メッキ色規格で２Ｎ−１８であった。また、得られた
色調は、Ｌ*７０ａ*６．０ｂ*３．０であった。
【００６６】得られた腕時計用ケースの最外層被膜は、
Ｘ線光電子分光法による分析の結果、金９２原子％、鉄
４原子％、窒素０．５原子％、酸素１．５原子％、およ
び炭素２原子％からなっていた。
Ｘ線光電子分光法による分析の結果、金９２原子％、鉄
４原子％、窒素０．５原子％、酸素１．５原子％、およ
び炭素２原子％からなっていた。
【００６７】この腕時計用ケースを他の時計部品ととも
に組み立てて腕時計とし、この腕時計を９０日間にわた
って合計１０８０時間携帯しても、アレルギー性皮膚炎
は全く生じなかった。
に組み立てて腕時計とし、この腕時計を９０日間にわた
って合計１０８０時間携帯しても、アレルギー性皮膚炎
は全く生じなかった。
フロントページの続き (56)参考文献 特開 昭58−144443（ＪＰ，Ａ) 特開 昭59−190340（ＪＰ，Ａ) 特開 平１−132728（ＪＰ，Ａ) (58)調査した分野(Int.Cl.7，ＤＢ名) C23C 30/00
Claims (15)
- 【請求項１】 基材と、この基材表面に窒素以外の不活
性ガス中で乾式メッキ法により形成された、不可避成分
を含有するＴｉ系被膜と、このＴｉ系被膜上に乾式メッ
キ法により形成された最外層被膜とからなり、かつ、 最外層被膜が、金６０〜９９原子％と鉄０．５〜２０原
子％と不可避成分０．５〜２０原子％とを含有してなる
ことを特徴とする金色装飾部品。 - 【請求項２】 基材と、この基材表面に乾式メッキ法に
より形成されたＴｉＮ被膜と、このＴｉＮ被膜上に乾式
メッキ法により形成された最外層被膜とからなり、か
つ、 最外層被膜が、金６０〜９９原子％と鉄０．５〜２０原
子％と不可避成分０．５〜２０原子％とを含有してなる
ことを特徴とする金色装飾部品。 - 【請求項３】 基材と、この基材表面に窒素以外の不活
性ガス中で乾式メッキ法により形成された、不可避成分
を含有するＴｉ系被膜と、このＴｉ系被膜上に乾式メッ
キ法により形成されたＴｉＮ被膜と、このＴｉＮ被膜上
に乾式メッキ法により形成された最外層被膜とからな
り、かつ、 最外層被膜が、金６０〜９９原子％と鉄０．５〜２０原
子％と不可避成分０．５〜２０原子％とを含有してなる
ことを特徴とする金色装飾部品。 - 【請求項４】 前記最外層被膜が、イオンプレーティン
グ法によって形成されてなることを特徴とする請求項１
〜３のいずれかに記載の金色装飾部品。 - 【請求項５】 前記Ｔｉ系被膜の膜厚が０．１〜０．５
μｍであることを特徴とする請求項１または３に記載の
金色装飾部品。 - 【請求項６】 前記ＴｉＮ被膜の膜厚が０．１〜１０μ
ｍであることを特徴とする請求項２または３に記載の金
色装飾部品。 - 【請求項７】 前記乾式メッキ法において、基材を含
む、成膜前の乾式メッキ装置内の初期排気が、５×１０
-5〜１．０×１０-6Ｔｏｒｒまで行なわれていることを
特徴とする請求項１〜３のいずれかに記載の金色装飾部
品。 - 【請求項８】 前記Ｔｉ系被膜が、基材を含む、成膜前
の乾式メッキ装置内の初期排気を５×１０-5〜１．０×
１０-6Ｔｏｒｒまで行ない、該装置内に置かれた基材表
面に窒素以外の不活性ガス中で乾式メッキ法により形成
され、かつ、膜厚が０．１〜０．５μｍであることを特
徴とする請求項３に記載の金色装飾部品。 - 【請求項９】 基材上に、乾式メッキ装置内で窒素以外
の不活性ガス雰囲気下にチタンを蒸発させて乾式メッキ
装置内に存在する不可避成分を含有するＴｉ系被膜を形
成させ、 次いで、この乾式メッキ装置内で、このＴｉ系被膜の上
に、窒素以外の不活性ガス雰囲気下に金６０〜９９原子
％と鉄０．５〜２０原子％と不可避成分０．５〜２０原
子％とを含有してなる最外層被膜を形成することを特徴
とする金色装飾部品の製造方法。 - 【請求項１０】 基材上に、乾式メッキ装置内で窒素ガ
ス雰囲気下にチタンを蒸発させてＴｉＮ被膜を形成さ
せ、 次いで、この乾式メッキ装置内で、このＴｉＮ被膜の上
に、窒素以外の不活性ガス雰囲気下に金６０〜９９原子
％と鉄０．５〜２０原子％と不可避成分０．５〜２０原
子％とを含有してなる最外層被膜を形成することを特徴
とする金色装飾部品の製造方法。 - 【請求項１１】 基材上に、窒素以外の不活性ガス雰囲
気下にチタンを蒸発させて乾式メッキ装置内に存在する
不可避成分を含有するＴｉ系被膜を形成させ、 次いで、この乾式メッキ装置内で、このＴｉ系被膜の上
に、窒素ガス雰囲気下にチタンを蒸発させてＴｉＮ被膜
を形成させ、 次いで、この乾式メッキ装置内で、このＴｉＮ被膜の上
に、窒素以外の不活性ガス雰囲気下に金６０〜９９原子
％と鉄０．５〜２０原子％と不可避成分０．５〜２０原
子％とを含有してなる最外層被膜を形成することを特徴
とする金色装飾部品の製造方法。 - 【請求項１２】 前記Ｔｉ系被膜の膜厚が０．１〜０．
５μｍであることを特徴とする請求項９または１１に記
載の金色装飾部品の製造方法。 - 【請求項１３】 前記ＴｉＮ被膜の膜厚が０．１〜１０
μｍであることを特徴とする請求項１０または１１に記
載の金色装飾部品の製造方法。 - 【請求項１４】 前記乾式メッキ法において、基材を含
む、成膜前の乾式メッキ装置内の初期排気を、５×１０
-5〜１．０×１０-6Ｔｏｒｒまで行なうことを特徴とす
る請求項９〜１１のいずれかに記載の金色装飾部品の製
造方法。 - 【請求項１５】 前記Ｔｉ系被膜が、基材を含む、成膜
前の乾式メッキ装置内の初期排気を５×１０-5〜１．０
×１０-6Ｔｏｒｒまで行ない、該装置内に置かれた基材
表面に窒素以外の不活性ガス中で乾式メッキ法により形
成され、かつ、膜厚が０．１〜０．５μｍであることを
特徴とする請求項１１に記載の金色装飾部品の製造方
法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
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