JP2982543B2 - コンデンサの製造方法 - Google Patents
コンデンサの製造方法Info
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Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は誘電体皮膜を介して対向
している電極の、少なくとも一方の電極に導電性高分子
膜を用いるコンデンサの製造方法に関するものであり、
特に高性能、高信頼特性、高耐圧性に優れたコンデンサ
を提供するものである。
している電極の、少なくとも一方の電極に導電性高分子
膜を用いるコンデンサの製造方法に関するものであり、
特に高性能、高信頼特性、高耐圧性に優れたコンデンサ
を提供するものである。
【0002】
【従来の技術】最近、電気機器のディジタル化にともな
って、そこに使用されるコンデンサも高周波領域におい
てインピーダンスが低く、小型大容量化への要求が高ま
っている。
って、そこに使用されるコンデンサも高周波領域におい
てインピーダンスが低く、小型大容量化への要求が高ま
っている。
【0003】従来、高周波用のコンデンサとしてはプラ
スチックフィルムコンデンサ、マイカコンデンサ、積層
セラミックコンデンサなどが用いられている。
スチックフィルムコンデンサ、マイカコンデンサ、積層
セラミックコンデンサなどが用いられている。
【0004】また、その他にアルミニウム乾式電解コン
デンサやアルミニウムまたはタンタル固体電解コンデン
サなどがある。
デンサやアルミニウムまたはタンタル固体電解コンデン
サなどがある。
【0005】アルミニウム乾式電解コンデンサでは、エ
ッチングを施した陽、陰極アルミニウム箔を紙のセパレ
ータを介して巻取り、液状の電解質を用いている。
ッチングを施した陽、陰極アルミニウム箔を紙のセパレ
ータを介して巻取り、液状の電解質を用いている。
【0006】又、アルミニウムやタンタル固体電解コン
デンサでは、前記アルミニウム電解コンデンサの特性改
良のため、電解質の固体化がなされている。
デンサでは、前記アルミニウム電解コンデンサの特性改
良のため、電解質の固体化がなされている。
【0007】この固体電解質形成には、硝酸マンガン液
に陽極箔を浸漬し、350℃前後の高温炉中にて熱分解
し、二酸化マンガン層を作る。このコンデンサの場合、
電解質が固体のために高温における電解液の揮散、低温
域での凝固から生ずる機能低下などの欠点がなく、液状
電解質と比べて良好な周波数特性、温度特性を示す。
に陽極箔を浸漬し、350℃前後の高温炉中にて熱分解
し、二酸化マンガン層を作る。このコンデンサの場合、
電解質が固体のために高温における電解液の揮散、低温
域での凝固から生ずる機能低下などの欠点がなく、液状
電解質と比べて良好な周波数特性、温度特性を示す。
【0008】そして、アルミ電解コンデンサはタンタル
電解コンデンサと同様、誘電体となる酸化皮膜を非常に
薄くできるために大容量を実現できる。
電解コンデンサと同様、誘電体となる酸化皮膜を非常に
薄くできるために大容量を実現できる。
【0009】又、近年では7,7,8,8−テトラシア
ノキノジメタン(TCNQ)塩等の有機半導体を固体電
解質として用いた固体電解コンデンサ(特開昭58−1
7609号公報)が開発されている。
ノキノジメタン(TCNQ)塩等の有機半導体を固体電
解質として用いた固体電解コンデンサ(特開昭58−1
7609号公報)が開発されている。
【0010】さらに、ピロール、チオフェン、フランな
どの重合性モノマーを電解重合させて導電性高分子と
し、これをコンデンサの電極の少なくとも一方に用いる
方法もあり、電極表面に誘電体となるポリイミド薄膜を
電着法によって形成し、化学重合導電性高分子膜を積層
してさらに電解重合導電性高分子膜を積層してなるコン
デンサを1991年春の電気化学協会第58回大会で開
示された(講演要旨集P.251から252)。
どの重合性モノマーを電解重合させて導電性高分子と
し、これをコンデンサの電極の少なくとも一方に用いる
方法もあり、電極表面に誘電体となるポリイミド薄膜を
電着法によって形成し、化学重合導電性高分子膜を積層
してさらに電解重合導電性高分子膜を積層してなるコン
デンサを1991年春の電気化学協会第58回大会で開
示された(講演要旨集P.251から252)。
【0011】
【発明が解決しようとする課題】このように、種々のコ
ンデンサが使用されているが、フィルムコンデンサおよ
びマイカコンデンサでは、形状が大きくなってしまうた
めに大容量化が難しく、また積層セラミックコンデンサ
は小型大容量の要望から生まれたものであるが、価格が
非常に高くなるということと、温度特性が悪いことなど
の欠点を有している。
ンデンサが使用されているが、フィルムコンデンサおよ
びマイカコンデンサでは、形状が大きくなってしまうた
めに大容量化が難しく、また積層セラミックコンデンサ
は小型大容量の要望から生まれたものであるが、価格が
非常に高くなるということと、温度特性が悪いことなど
の欠点を有している。
【0012】又、アルミ電解コンデンサは酸化皮膜の損
傷が起き易いために酸化皮膜と陰極の間に電解質を施し
随時損傷を修復する必要がある。
傷が起き易いために酸化皮膜と陰極の間に電解質を施し
随時損傷を修復する必要がある。
【0013】このため、電解質に液状のものを使用して
いるものは、電解質の液漏れやイオン伝導性などの理由
から経時的に静電容量の減少や損失の増大をもたらす事
と高周波特性、低温領域での損失が大きい事などの欠点
を有している。
いるものは、電解質の液漏れやイオン伝導性などの理由
から経時的に静電容量の減少や損失の増大をもたらす事
と高周波特性、低温領域での損失が大きい事などの欠点
を有している。
【0014】次に、固体電解質のものについて述べる
と、高温で数回熱分解することによる酸化皮膜の損傷、
及び二酸化マンガンの比抵抗が高いことなどの理由から
高周波域での損失は十分に小さいとは言えない。
と、高温で数回熱分解することによる酸化皮膜の損傷、
及び二酸化マンガンの比抵抗が高いことなどの理由から
高周波域での損失は十分に小さいとは言えない。
【0015】又、TCNQ塩などの有機半導体を用いた
固体電解コンデンサは、二酸化マンガンを用いたものに
比して優れた高周波特性を示すが、有機半導体を塗布す
る際の比抵抗の上昇、陽極箔への接着性が弱いことなど
が原因で、理想的な特性を示すとはいえない。
固体電解コンデンサは、二酸化マンガンを用いたものに
比して優れた高周波特性を示すが、有機半導体を塗布す
る際の比抵抗の上昇、陽極箔への接着性が弱いことなど
が原因で、理想的な特性を示すとはいえない。
【0016】さらに導電性高分子薄膜をコンデンサの電
極として用いると、周波数特性,温度特性、寿命特性な
どが優れている。しかし、イオン伝導性のペ−スト状電
解質に比べ、損傷した誘電体皮膜の修復能力に欠点を有
している。
極として用いると、周波数特性,温度特性、寿命特性な
どが優れている。しかし、イオン伝導性のペ−スト状電
解質に比べ、損傷した誘電体皮膜の修復能力に欠点を有
している。
【0017】
【課題を解決するための手段】本発明によるコンデンサ
の製造方法は、請求項1に代表的に記載されるように、
ポリエチレンオキサイドと芳香族スルフォン酸塩と重合
性モノマ−とを少なくとも含有する電解液を用いる電解
重合により得られる導電性高分子を、誘電体皮膜上に形
成し電極として使用するものである。
の製造方法は、請求項1に代表的に記載されるように、
ポリエチレンオキサイドと芳香族スルフォン酸塩と重合
性モノマ−とを少なくとも含有する電解液を用いる電解
重合により得られる導電性高分子を、誘電体皮膜上に形
成し電極として使用するものである。
【0018】または、請求項2に代表的に記載されるよ
うに、架橋型ポリアクリル酸ソ−ダと芳香族スルフォン
酸塩と重合性モノマ−とを少なくとも含有する電解液を
用いる電解重合により得られる導電性高分子を、誘電体
皮膜上に形成し電極として使用するものである。
うに、架橋型ポリアクリル酸ソ−ダと芳香族スルフォン
酸塩と重合性モノマ−とを少なくとも含有する電解液を
用いる電解重合により得られる導電性高分子を、誘電体
皮膜上に形成し電極として使用するものである。
【0019】ここで、請求項3記載のように、芳香族ス
ルフォン酸塩としては、アルキル置換基を有するナフタ
レンスルフォン酸塩が好適である。より具体的には、モ
ノメチルナフタレンスルフォン酸ナトリウム、トリイソ
プロピルナフタレンスルフォン酸ナトリウム、モノイソ
プロピルナフタレンスルフォン酸ナトリウム、ジブチル
ナフタレンスルフォン酸ナトリウム等、が挙げられる。
ルフォン酸塩としては、アルキル置換基を有するナフタ
レンスルフォン酸塩が好適である。より具体的には、モ
ノメチルナフタレンスルフォン酸ナトリウム、トリイソ
プロピルナフタレンスルフォン酸ナトリウム、モノイソ
プロピルナフタレンスルフォン酸ナトリウム、ジブチル
ナフタレンスルフォン酸ナトリウム等、が挙げられる。
【0020】また、芳香族スルフォン酸塩の電解液中の
添加濃度は、請求項3記載のように0.005mol/
l以上0.5mol/l以下、より最適には、請求項4
記載のように、0.01mol/l以上0.1mol/
l以下であることが好ましい。
添加濃度は、請求項3記載のように0.005mol/
l以上0.5mol/l以下、より最適には、請求項4
記載のように、0.01mol/l以上0.1mol/
l以下であることが好ましい。
【0021】また、請求項5記載のように、ポリエチレ
ンオキサイドの電解液中の添加濃度は0.01重量%以
上1.0重量%以下、より最適には、請求項6記載のよ
うに、0.1重量%以上0.5重量%以下であることが
好ましい。また、請求項7記載のように、架橋型ポリア
クリル酸ソ−ダの電解液中の添加濃度は0.01重量%
以上5.0重量%以下、より最適には、請求項8記載の
ように、0.1重量%以上1.0重量%以下であること
が好ましい。
ンオキサイドの電解液中の添加濃度は0.01重量%以
上1.0重量%以下、より最適には、請求項6記載のよ
うに、0.1重量%以上0.5重量%以下であることが
好ましい。また、請求項7記載のように、架橋型ポリア
クリル酸ソ−ダの電解液中の添加濃度は0.01重量%
以上5.0重量%以下、より最適には、請求項8記載の
ように、0.1重量%以上1.0重量%以下であること
が好ましい。
【0022】また、請求項9記載のように、重合性モノ
マ−としては、ピロ−ル、チオフェンまたは、それらの
誘導体(例えば、N−メチルピロ−ル)の少なくとも一
つが挙げられるが、例えば、フラン等でもよい。
マ−としては、ピロ−ル、チオフェンまたは、それらの
誘導体(例えば、N−メチルピロ−ル)の少なくとも一
つが挙げられるが、例えば、フラン等でもよい。
【0023】また、ピロ−ル、チオフェンをそれぞれの
誘導体と混合して用いるなど上記モノマ−も複数種併用
してもよい。
誘導体と混合して用いるなど上記モノマ−も複数種併用
してもよい。
【0024】さらに、導電性高分子層を複合化するため
に、電解液に適当な添加剤を入れてもよい。
に、電解液に適当な添加剤を入れてもよい。
【0025】なお本発明は、上記例示の化合物や処理工
程に限定されるものではないし、例示以外の代替可能な
化合物や処理工程を用いてもよいことはいうまでもな
い。
程に限定されるものではないし、例示以外の代替可能な
化合物や処理工程を用いてもよいことはいうまでもな
い。
【0026】
【作用】上記構成によれば、ポリエチレンオキサイドと
芳香族スルフォン酸塩、あるいは架橋型ポリアクリル酸
ソ−ダと芳香族スルフォン酸塩、のいずれかと重合性モ
ノマ−とを少なくとも含有する電解液を用いる電解重合
により導電性高分子を得、この導電性高分子を誘電体皮
膜上に形成し電極として使用する。
芳香族スルフォン酸塩、あるいは架橋型ポリアクリル酸
ソ−ダと芳香族スルフォン酸塩、のいずれかと重合性モ
ノマ−とを少なくとも含有する電解液を用いる電解重合
により導電性高分子を得、この導電性高分子を誘電体皮
膜上に形成し電極として使用する。
【0027】このようにして作製したコンデンサは、誘
電体皮膜の修復能力に優れ従来の固体電解コンデンサに
はない使用電圧の高いコンデンサとなる。
電体皮膜の修復能力に優れ従来の固体電解コンデンサに
はない使用電圧の高いコンデンサとなる。
【0028】
【実施例】以下、本発明の実施例について、図面を用い
ながら詳細に説明する。
ながら詳細に説明する。
【0029】(実施例1)本発明の第1の実施例とし
て、アルミ電解コンデンサへ適用した構成について詳細
に説明する。
て、アルミ電解コンデンサへ適用した構成について詳細
に説明する。
【0030】図1は、コンデンサ素子の断面図を示し、
図2は、その平面図を示す。又、図3は、導電性高分子
膜の形成の工程を示す。
図2は、その平面図を示す。又、図3は、導電性高分子
膜の形成の工程を示す。
【0031】弁作用金属2の表面に耐熱絶縁テ−プ8を
貼着し、面積の小さい方を陽極リ−ド1の取り付け面に
し、面積の大きい方(3mm×4mm)を、誘電体皮膜
3の形成面として使用した。
貼着し、面積の小さい方を陽極リ−ド1の取り付け面に
し、面積の大きい方(3mm×4mm)を、誘電体皮膜
3の形成面として使用した。
【0032】次に、弁作用金属箔2(アルミニウムエッ
チド箔)を7%アジピン酸アンモニウム水溶液を用い、
約70℃、40分間、印加電圧106Vの条件で陽極酸
化し、誘電体皮膜3を形成した。
チド箔)を7%アジピン酸アンモニウム水溶液を用い、
約70℃、40分間、印加電圧106Vの条件で陽極酸
化し、誘電体皮膜3を形成した。
【0033】次に、硝酸マンガン水溶液を塗布し300
℃、30分の条件で熱分解し、マンガン酸化物膜4から
なる導電層を形成した。
℃、30分の条件で熱分解し、マンガン酸化物膜4から
なる導電層を形成した。
【0034】そして、図3に示すごとくピロ−ル(0.
25mol/l)、トリイソプロピルナフタレンスルフ
ォン酸ナトリウム(0.1mol/l)、ヘキシル燐酸
エステル(0.01N)、および水からなる電解重合溶
液9に、マンガン酸化膜4まで形成した弁金属箔を浸
し、重合開始用電極7をマンガン酸化物膜4に近接さ
せ、2.5Vの定電圧を30分印加し、マンガン酸化物
4上に対極用の導電性高分子膜5(ポリピロ−ル膜)を
形成した後で、カ−ボンペイント層10、銀ペイント層
11を積層し、図2に示すごとく陽極リ−ド1と陰極リ
−ド6を設けてコンデンサを得た。
25mol/l)、トリイソプロピルナフタレンスルフ
ォン酸ナトリウム(0.1mol/l)、ヘキシル燐酸
エステル(0.01N)、および水からなる電解重合溶
液9に、マンガン酸化膜4まで形成した弁金属箔を浸
し、重合開始用電極7をマンガン酸化物膜4に近接さ
せ、2.5Vの定電圧を30分印加し、マンガン酸化物
4上に対極用の導電性高分子膜5(ポリピロ−ル膜)を
形成した後で、カ−ボンペイント層10、銀ペイント層
11を積層し、図2に示すごとく陽極リ−ド1と陰極リ
−ド6を設けてコンデンサを得た。
【0035】試料数は10個として、得られたコンデン
サの120Hzでの容量と損失係数を測定した。その
後、50V/分の速度で電圧掃引し誘電体皮膜が絶縁破
壊する電圧を測定した。これらの測定値の平均を下記の
(表1)に示す。
サの120Hzでの容量と損失係数を測定した。その
後、50V/分の速度で電圧掃引し誘電体皮膜が絶縁破
壊する電圧を測定した。これらの測定値の平均を下記の
(表1)に示す。
【0036】
【表1】
【0037】また、エポキシ樹脂により外装を施し、1
05℃の高温槽に定電圧35Vを印加した状態で1,0
00時間放置した後の特性を(表2)に示す。
05℃の高温槽に定電圧35Vを印加した状態で1,0
00時間放置した後の特性を(表2)に示す。
【0038】
【表2】
【0039】また、比較例1として、ヘキシル燐酸エス
テルを添加しないこと以外は上記と同条件でコンデンサ
を10個作製し同様の測定を行った。これらの測定値の
平均も上記(表1)、(表2)に示している。
テルを添加しないこと以外は上記と同条件でコンデンサ
を10個作製し同様の測定を行った。これらの測定値の
平均も上記(表1)、(表2)に示している。
【0040】この(表1)から明らかなように、本実施
例によるコンデンサは、誘電体皮膜の絶縁破壊電圧が比
較例1に比べ著しく高く、優れた修復能力が得られた。
例によるコンデンサは、誘電体皮膜の絶縁破壊電圧が比
較例1に比べ著しく高く、優れた修復能力が得られた。
【0041】また(表2)から明らかなように、本実施
例によるコンデンサの熱安定性は比較例1に比べ著しく
高く、優れた信頼性が得られた。
例によるコンデンサの熱安定性は比較例1に比べ著しく
高く、優れた信頼性が得られた。
【0042】以上のように、本実施例によれば、電極に
用いる電解重合導電性高分子膜が、誘電体皮膜の修復性
に優れ、また熱安定性も優れているので、高耐圧、高信
頼性のコンデンサを実現することができた。
用いる電解重合導電性高分子膜が、誘電体皮膜の修復性
に優れ、また熱安定性も優れているので、高耐圧、高信
頼性のコンデンサを実現することができた。
【0043】(実施例2)ヘキシル燐酸エステルの濃度
を0.005Nにしたこと以外は(実施例1)と同様に
してコンデンサを作製した。
を0.005Nにしたこと以外は(実施例1)と同様に
してコンデンサを作製した。
【0044】試料数は10個として、得られたコンデン
サの120Hzでの容量と損失係数を測定した。その
後、50V/分の速度で電圧掃引し誘電体皮膜が絶縁破
壊する電圧を測定した。これらの測定値の平均を前記
(表1)に示している。
サの120Hzでの容量と損失係数を測定した。その
後、50V/分の速度で電圧掃引し誘電体皮膜が絶縁破
壊する電圧を測定した。これらの測定値の平均を前記
(表1)に示している。
【0045】また、比較例2として、ヘキシル燐酸エス
テルの濃度を0.001Nにしたこと以外は上記と同条
件でコンデンサを10個作製し同様の測定を行った。
テルの濃度を0.001Nにしたこと以外は上記と同条
件でコンデンサを10個作製し同様の測定を行った。
【0046】この(表1)から明らかなように、本実施
例によるコンデンサにおいては、誘電体皮膜の絶縁破壊
電圧が比較例2に比べ著しく高く、優れた修復能力が得
られた。
例によるコンデンサにおいては、誘電体皮膜の絶縁破壊
電圧が比較例2に比べ著しく高く、優れた修復能力が得
られた。
【0047】以上のように、本実施例によれば、ヘキシ
ル燐酸エステルの濃度が少なくとも0.005N以上で
あれば、誘電体皮膜の修復性に優れている電解重合導電
性高分子膜が得られ、更に(実施例1)で示すようにヘ
キシル燐酸エステルの濃度が0.01N以上であればそ
の効果は高まり、高耐圧のコンデンサを実現することが
できた。
ル燐酸エステルの濃度が少なくとも0.005N以上で
あれば、誘電体皮膜の修復性に優れている電解重合導電
性高分子膜が得られ、更に(実施例1)で示すようにヘ
キシル燐酸エステルの濃度が0.01N以上であればそ
の効果は高まり、高耐圧のコンデンサを実現することが
できた。
【0048】(実施例3)ヘキシル燐酸エステルの濃度
を0.5Nにしたこと以外は(実施例1)と同様にして
コンデンサを作製した。
を0.5Nにしたこと以外は(実施例1)と同様にして
コンデンサを作製した。
【0049】試料数は10個として、得られたコンデン
サの120Hzでの容量と損失係数を測定し、その後、
50V/分の速度で電圧掃引し誘電体皮膜が絶縁破壊す
る電圧を測定した。
サの120Hzでの容量と損失係数を測定し、その後、
50V/分の速度で電圧掃引し誘電体皮膜が絶縁破壊す
る電圧を測定した。
【0050】これらの測定値の平均を前記(表1)に示
している。また、比較例3として、ヘキシル燐酸エステ
ルの濃度を1.0Nにしたこと以外は上記と同条件でコ
ンデンサを10個作製し同様の測定を行った。
している。また、比較例3として、ヘキシル燐酸エステ
ルの濃度を1.0Nにしたこと以外は上記と同条件でコ
ンデンサを10個作製し同様の測定を行った。
【0051】この(表1)から明らかなように、本実施
例によるコンデンサは、誘電体皮膜の絶縁破壊電圧が比
較例1に比べ著しく高く優れた修復能力が得られ、ま
た、比較例3に比べ絶縁破壊電圧は同等であるが、容
量、損失特性が良好で優れたコンデンサ特性が得られ
た。
例によるコンデンサは、誘電体皮膜の絶縁破壊電圧が比
較例1に比べ著しく高く優れた修復能力が得られ、ま
た、比較例3に比べ絶縁破壊電圧は同等であるが、容
量、損失特性が良好で優れたコンデンサ特性が得られ
た。
【0052】以上のように、本実施例によれば、電極に
用いる電解重合導電性高分子膜が、誘電体皮膜の修復性
に優れているので、高耐圧のコンデンサを実現すること
ができた。
用いる電解重合導電性高分子膜が、誘電体皮膜の修復性
に優れているので、高耐圧のコンデンサを実現すること
ができた。
【0053】(実施例4)ヘキシル燐酸エステルの濃度
を0.1Nにしたこと以外は(実施例1)と同様にして
コンデンサを作製した。
を0.1Nにしたこと以外は(実施例1)と同様にして
コンデンサを作製した。
【0054】試料数は10個として、得られたコンデン
サの120Hzでの容量と損失係数を測定し、その後、
50V/分の速度で電圧掃引し誘電体皮膜が絶縁破壊す
る電圧を測定した。
サの120Hzでの容量と損失係数を測定し、その後、
50V/分の速度で電圧掃引し誘電体皮膜が絶縁破壊す
る電圧を測定した。
【0055】それらの測定値の平均を前記(表1)に示
している。この(表1)から明らかなように、本実施例
によるコンデンサにおいては、誘電体皮膜の容量、損失
などの特性が(実施例3)に比べより良好になる。
している。この(表1)から明らかなように、本実施例
によるコンデンサにおいては、誘電体皮膜の容量、損失
などの特性が(実施例3)に比べより良好になる。
【0056】以上のように、本実施例によれば、電極に
用いる電解重合導電性高分子膜が、誘電体皮膜の修復性
に優れているので、高耐圧のコンデンサを実現すること
ができた。
用いる電解重合導電性高分子膜が、誘電体皮膜の修復性
に優れているので、高耐圧のコンデンサを実現すること
ができた。
【0057】(実施例5)トリイソプロピルナフタレン
スルフォン酸ナトリウムの濃度を0.5mol/lにし
たこと以外は(実施例1)と同様にしてコンデンサを作
製した。
スルフォン酸ナトリウムの濃度を0.5mol/lにし
たこと以外は(実施例1)と同様にしてコンデンサを作
製した。
【0058】試料数は10個として、得られたコンデン
サの120Hzでの容量と損失係数を測定し、その後、
50V/分の速度で電圧掃引し誘電体皮膜が絶縁破壊す
る電圧を測定した。
サの120Hzでの容量と損失係数を測定し、その後、
50V/分の速度で電圧掃引し誘電体皮膜が絶縁破壊す
る電圧を測定した。
【0059】これらの測定値の平均を前記(表1)に示
している。また、比較例4として、トリイソプロピルナ
フタレンスルフォン酸ナトリウムの濃度を1.0mol
/lにしたこと以外は上記と同条件でコンデンサを10
個作製し同様の測定を行った。
している。また、比較例4として、トリイソプロピルナ
フタレンスルフォン酸ナトリウムの濃度を1.0mol
/lにしたこと以外は上記と同条件でコンデンサを10
個作製し同様の測定を行った。
【0060】この(表1)から明らかなように、本実施
例によるコンデンサは、誘電体皮膜の絶縁破壊電圧が比
較例1に比べ著しく高く、優れた修復能力が得られた。
例によるコンデンサは、誘電体皮膜の絶縁破壊電圧が比
較例1に比べ著しく高く、優れた修復能力が得られた。
【0061】また,比較例4に比べ絶縁破壊電圧は同等
であるが、容量、損失特性が良好で優れたコンデンサ特
性が得られた。
であるが、容量、損失特性が良好で優れたコンデンサ特
性が得られた。
【0062】以上のように、本実施例によれば、電極に
用いる電解重合導電性高分子膜が、誘電体皮膜の修復性
に優れているので、高耐圧のコンデンサを実現すること
ができた。
用いる電解重合導電性高分子膜が、誘電体皮膜の修復性
に優れているので、高耐圧のコンデンサを実現すること
ができた。
【0063】(実施例6)トリイソプロピルナフタレン
スルフォン酸ナトリウムの濃度を0.005mol/l
にしたこと以外は(実施例1)と同様にしてコンデンサ
を作製した。
スルフォン酸ナトリウムの濃度を0.005mol/l
にしたこと以外は(実施例1)と同様にしてコンデンサ
を作製した。
【0064】試料数は10個として、得られたコンデン
サの120Hzでの容量と損失係数を測定し、その後、
50V/分の速度で電圧掃引し誘電体皮膜が絶縁破壊す
る電圧を測定した。
サの120Hzでの容量と損失係数を測定し、その後、
50V/分の速度で電圧掃引し誘電体皮膜が絶縁破壊す
る電圧を測定した。
【0065】これらの測定値の平均を前記(表1)に示
している。また、比較例5として、トリイソプロピルナ
フタレンスルフォン酸ナトリウムの濃度を0.001m
ol/lにしたこと以外は上記と同条件でコンデンサを
10個作製し同様の測定を行った。
している。また、比較例5として、トリイソプロピルナ
フタレンスルフォン酸ナトリウムの濃度を0.001m
ol/lにしたこと以外は上記と同条件でコンデンサを
10個作製し同様の測定を行った。
【0066】この(表1)から明らかなように、本実施
例によるコンデンサは、誘電体皮膜の絶縁破壊電圧が比
較例5に比べ高く優れた修復能力が得られ、さらに、容
量、損失についても優れている。
例によるコンデンサは、誘電体皮膜の絶縁破壊電圧が比
較例5に比べ高く優れた修復能力が得られ、さらに、容
量、損失についても優れている。
【0067】以上のように、本実施例によれば、電極に
用いる電解重合導電性高分子膜が、誘電体皮膜の修復性
に優れているので、高耐圧のコンデンサを実現すること
ができた。
用いる電解重合導電性高分子膜が、誘電体皮膜の修復性
に優れているので、高耐圧のコンデンサを実現すること
ができた。
【0068】(実施例7)トリイソプロピルナフタレン
スルフォン酸ナトリウムの濃度を0.01mol/lに
したこと以外は(実施例1)と同様にしてコンデンサを
作製した。
スルフォン酸ナトリウムの濃度を0.01mol/lに
したこと以外は(実施例1)と同様にしてコンデンサを
作製した。
【0069】試料数は10個として、得られたコンデン
サの120Hzでの容量と損失係数を測定し、その後、
50V/分の速度で電圧掃引し誘電体皮膜が絶縁破壊す
る電圧を測定した。
サの120Hzでの容量と損失係数を測定し、その後、
50V/分の速度で電圧掃引し誘電体皮膜が絶縁破壊す
る電圧を測定した。
【0070】これらの測定値の平均を前記(表1)に示
している。この(表1)から明らかなように、本実施例
によるコンデンサにおいては、誘電体皮膜の絶縁破壊電
圧および容量、損失などの特性が(実施例6)に比べよ
り良好になる。
している。この(表1)から明らかなように、本実施例
によるコンデンサにおいては、誘電体皮膜の絶縁破壊電
圧および容量、損失などの特性が(実施例6)に比べよ
り良好になる。
【0071】以上のように、本実施例によれば、電極に
用いる電解重合導電性高分子膜が、誘電体皮膜の修復性
に優れているので、高耐圧のコンデンサを実現すること
ができた。
用いる電解重合導電性高分子膜が、誘電体皮膜の修復性
に優れているので、高耐圧のコンデンサを実現すること
ができた。
【0072】(実施例8)ヘキシル燐酸エステルをブチ
ル燐酸エステルに変更したこと以外は(実施例1)と同
様にしてコンデンサを作製した。
ル燐酸エステルに変更したこと以外は(実施例1)と同
様にしてコンデンサを作製した。
【0073】試料数は10個である。得られたコンデン
サの120Hzでの容量と損失係数を測定し、その後、
50V/分の速度で電圧掃引し誘電体皮膜が絶縁破壊す
る電圧を測定した。
サの120Hzでの容量と損失係数を測定し、その後、
50V/分の速度で電圧掃引し誘電体皮膜が絶縁破壊す
る電圧を測定した。
【0074】それらの測定値の平均値を前記(表1)に
示している。この(表1)から明らかなように、本実施
例によるコンデンサにおいては、誘電体皮膜の絶縁破壊
電圧が、比較例1に比べ著しく高く、(実施例1)と同
様に優れた修復能力が得られた。また容量、損失などの
特性も極めて良好であった。
示している。この(表1)から明らかなように、本実施
例によるコンデンサにおいては、誘電体皮膜の絶縁破壊
電圧が、比較例1に比べ著しく高く、(実施例1)と同
様に優れた修復能力が得られた。また容量、損失などの
特性も極めて良好であった。
【0075】(実施例9)ヘキシル燐酸エステルをオク
チル燐酸エステルに変更したこと以外は(実施例1)と
同様にしてコンデンサを作製した。試料数は10個であ
る。得られたコンデンサの120Hzでの容量と損失係
数を測定した。その後、50V/分の速度で電圧掃引し
誘電体皮膜が絶縁破壊する電圧を測定した。それらの測
定値の平均値を前記(表1)に示している。
チル燐酸エステルに変更したこと以外は(実施例1)と
同様にしてコンデンサを作製した。試料数は10個であ
る。得られたコンデンサの120Hzでの容量と損失係
数を測定した。その後、50V/分の速度で電圧掃引し
誘電体皮膜が絶縁破壊する電圧を測定した。それらの測
定値の平均値を前記(表1)に示している。
【0076】この(表1)から明らかなように、本実施
例によるコンデンサにおいては、誘電体皮膜の絶縁破壊
電圧が比較例1に比べ著しく高く、(実施例1)と同様
に優れた修復能力が得られた。また容量、損失などの特
性も極めて良好であった。
例によるコンデンサにおいては、誘電体皮膜の絶縁破壊
電圧が比較例1に比べ著しく高く、(実施例1)と同様
に優れた修復能力が得られた。また容量、損失などの特
性も極めて良好であった。
【0077】(実施例10)ヘキシル燐酸エステルをポ
リエチレンオキサイド(0.5重量%)に変更したこと
以外は(実施例1)と同様にしてコンデンサを作製し
た。
リエチレンオキサイド(0.5重量%)に変更したこと
以外は(実施例1)と同様にしてコンデンサを作製し
た。
【0078】試料数は10個である。得られたコンデン
サの120Hzでの容量と損失係数を測定した。その
後、50V/分の速度で電圧掃引し誘電体皮膜が絶縁破
壊する電圧を測定した。それらの測定値の平均値を前記
(表1)に示している。
サの120Hzでの容量と損失係数を測定した。その
後、50V/分の速度で電圧掃引し誘電体皮膜が絶縁破
壊する電圧を測定した。それらの測定値の平均値を前記
(表1)に示している。
【0079】この(表1)から明らかなように、本実施
例によるコンデンサにおいては、誘電体皮膜の絶縁破壊
電圧が比較例1に比べ著しく高く、(実施例1)と同様
に優れた修復能力が得られた。また容量、損失などの特
性も極めて良好であった。
例によるコンデンサにおいては、誘電体皮膜の絶縁破壊
電圧が比較例1に比べ著しく高く、(実施例1)と同様
に優れた修復能力が得られた。また容量、損失などの特
性も極めて良好であった。
【0080】(実施例11)ポリエチレンオキサイドの
濃度を0.1重量%にしたこと以外は(実施例10)と
同様にしてコンデンサを作製した。
濃度を0.1重量%にしたこと以外は(実施例10)と
同様にしてコンデンサを作製した。
【0081】試料数は10個である。得られたコンデン
サは(実施例10)と同様の測定を行った。それらの測
定値の平均値を前記(表1)に示している。
サは(実施例10)と同様の測定を行った。それらの測
定値の平均値を前記(表1)に示している。
【0082】この(表1)から明らかなように、本実施
例によるコンデンサにおいては、誘電体皮膜の絶縁破壊
電圧が比較例1に比べ著しく高く、(実施例10)と同
様に優れた修復能力が得られた。また容量、損失などの
特性も極めて良好であった。
例によるコンデンサにおいては、誘電体皮膜の絶縁破壊
電圧が比較例1に比べ著しく高く、(実施例10)と同
様に優れた修復能力が得られた。また容量、損失などの
特性も極めて良好であった。
【0083】(実施例12)ポリエチレンオキサイドの
濃度を0.01重量%にしたこと以外は(実施例10)
と同様にしてコンデンサを作製した。
濃度を0.01重量%にしたこと以外は(実施例10)
と同様にしてコンデンサを作製した。
【0084】試料数は10個である。得られたコンデン
サは(実施例10)と同様の測定を行った。それらの測
定値の平均値を前記(表1)に示している。
サは(実施例10)と同様の測定を行った。それらの測
定値の平均値を前記(表1)に示している。
【0085】また、比較例6として、ポリエチレンオキ
サイドの濃度を0.005重量%にしたこと以外は上記
と同条件でコンデンサを10個作製し同様の測定を行っ
た。
サイドの濃度を0.005重量%にしたこと以外は上記
と同条件でコンデンサを10個作製し同様の測定を行っ
た。
【0086】この(表1)から明らかなように、本実施
例によるコンデンサにおいては、誘電体皮膜の絶縁破壊
電圧が比較例6に比べ著しく高く、(実施例10)と同
様に優れた修復能力が得られた。また容量、損失などの
特性も極めて良好であった。
例によるコンデンサにおいては、誘電体皮膜の絶縁破壊
電圧が比較例6に比べ著しく高く、(実施例10)と同
様に優れた修復能力が得られた。また容量、損失などの
特性も極めて良好であった。
【0087】以上のように、本実施例によれば、ポリエ
チレンオキサイドの濃度が少なくとも0.01重量%以
上であれば、誘電体皮膜の修復性に優れている電解重合
導電性高分子膜が得られ、更に(実施例11)で示すよ
うにポリエチレンオキサイドの濃度が0.1重量%以上
であれば、その効果は高まり、高耐圧のコンデンサを実
現することができた。
チレンオキサイドの濃度が少なくとも0.01重量%以
上であれば、誘電体皮膜の修復性に優れている電解重合
導電性高分子膜が得られ、更に(実施例11)で示すよ
うにポリエチレンオキサイドの濃度が0.1重量%以上
であれば、その効果は高まり、高耐圧のコンデンサを実
現することができた。
【0088】(実施例13)ポリエチレンオキサイドの
濃度を1.0重量%にしたこと以外は(実施例10)と
同様にしてコンデンサを作製した。
濃度を1.0重量%にしたこと以外は(実施例10)と
同様にしてコンデンサを作製した。
【0089】試料数は10個である。得られたコンデン
サは(実施例10)と同様の測定を行った。それらの測
定値の平均値を前記(表1)に示している。
サは(実施例10)と同様の測定を行った。それらの測
定値の平均値を前記(表1)に示している。
【0090】また、比較例7として、ポリエチレンオキ
サイドの濃度を2.0重量%にしたこと以外は上記と同
条件でコンデンサを10個作製し同様の測定を行った。
サイドの濃度を2.0重量%にしたこと以外は上記と同
条件でコンデンサを10個作製し同様の測定を行った。
【0091】この(表1)から明らかなように、本実施
例によるコンデンサにおいては、誘電体皮膜の絶縁破壊
電圧が比較例1に比べ著しく高く、(実施例10)と同
様に優れた修復能力が得られた。
例によるコンデンサにおいては、誘電体皮膜の絶縁破壊
電圧が比較例1に比べ著しく高く、(実施例10)と同
様に優れた修復能力が得られた。
【0092】また、比較例7に比べ絶縁破壊電圧は同等
であるが、容量、損失特性が良好で優れたコンデンサ特
性が得られた。
であるが、容量、損失特性が良好で優れたコンデンサ特
性が得られた。
【0093】(実施例14)ヘキシル燐酸エステルを架
橋型ポリアクリル酸ソ−ダ(1.0重量%)に変更した
こと以外は(実施例1)と同様にしてコンデンサを作製
した。
橋型ポリアクリル酸ソ−ダ(1.0重量%)に変更した
こと以外は(実施例1)と同様にしてコンデンサを作製
した。
【0094】試料数は10個である。得られたコンデン
サの120Hzでの容量と損失係数を測定した。その
後、50V/分の速度で電圧掃引し誘電体皮膜が絶縁破
壊する電圧を測定した。それらの測定値の平均値を前記
(表1)に示している。
サの120Hzでの容量と損失係数を測定した。その
後、50V/分の速度で電圧掃引し誘電体皮膜が絶縁破
壊する電圧を測定した。それらの測定値の平均値を前記
(表1)に示している。
【0095】この(表1)から明らかなように、本実施
例によるコンデンサにおいては、誘電体皮膜の絶縁破壊
電圧が比較例1に比べ著しく高く、(実施例1)と同様
に優れた修復能力が得られた。また容量、損失などの特
性も極めて良好であった。
例によるコンデンサにおいては、誘電体皮膜の絶縁破壊
電圧が比較例1に比べ著しく高く、(実施例1)と同様
に優れた修復能力が得られた。また容量、損失などの特
性も極めて良好であった。
【0096】(実施例15)架橋型ポリアクリル酸ソ−
ダの濃度を0.1重量%にしたこと以外は(実施例1
4)と同様にしてコンデンサを作製した。
ダの濃度を0.1重量%にしたこと以外は(実施例1
4)と同様にしてコンデンサを作製した。
【0097】試料数は10個である。得られたコンデン
サは(実施例14)と同様の測定を行った。それらの測
定値の平均値を前記(表1)に示している。
サは(実施例14)と同様の測定を行った。それらの測
定値の平均値を前記(表1)に示している。
【0098】この(表1)から明らかなように、本実施
例によるコンデンサにおいては、誘電体皮膜の絶縁破壊
電圧が比較例1に比べ著しく高く、(実施例14)と同
様に優れた修復能力が得られた。また容量、損失などの
特性も極めて良好であった。
例によるコンデンサにおいては、誘電体皮膜の絶縁破壊
電圧が比較例1に比べ著しく高く、(実施例14)と同
様に優れた修復能力が得られた。また容量、損失などの
特性も極めて良好であった。
【0099】(実施例16)架橋型ポリアクリル酸ソ−
ダの濃度を0.01重量%にしたこと以外は(実施例1
4)と同様にしてコンデンサを作製した。
ダの濃度を0.01重量%にしたこと以外は(実施例1
4)と同様にしてコンデンサを作製した。
【0100】試料数は10個である。得られたコンデン
サは(実施例14)と同様の測定を行った。それらの測
定値の平均値を前記(表1)に示している。
サは(実施例14)と同様の測定を行った。それらの測
定値の平均値を前記(表1)に示している。
【0101】また、比較例8として、架橋型ポリアクリ
ル酸ソ−ダの濃度を0.005重量%にしたこと以外は
上記と同条件でコンデンサを10個作製し同様の測定を
行った。
ル酸ソ−ダの濃度を0.005重量%にしたこと以外は
上記と同条件でコンデンサを10個作製し同様の測定を
行った。
【0102】この(表1)から明らかなように、本実施
例によるコンデンサにおいては、誘電体皮膜の絶縁破壊
電圧が比較例8に比べ著しく高く、(実施例14)と同
様に優れた修復能力が得られた。また容量、損失などの
特性も極めて良好であった。
例によるコンデンサにおいては、誘電体皮膜の絶縁破壊
電圧が比較例8に比べ著しく高く、(実施例14)と同
様に優れた修復能力が得られた。また容量、損失などの
特性も極めて良好であった。
【0103】以上のように、本実施例によれば、架橋型
ポリアクリル酸ソ−ダの濃度が少なくとも0.01重量
%以上であれば、誘電体皮膜の修復性に優れている電解
重合導電性高分子膜が得られ、更に(実施例15)で示
すように架橋型ポリアクリル酸ソ−ダの濃度が0.1重
量%以上であればその効果は高まり、高耐圧のコンデン
サを実現することができた。
ポリアクリル酸ソ−ダの濃度が少なくとも0.01重量
%以上であれば、誘電体皮膜の修復性に優れている電解
重合導電性高分子膜が得られ、更に(実施例15)で示
すように架橋型ポリアクリル酸ソ−ダの濃度が0.1重
量%以上であればその効果は高まり、高耐圧のコンデン
サを実現することができた。
【0104】(実施例17)架橋型ポリアクリル酸ソ−
ダの濃度を5.0重量%にしたこと以外は(実施例1
4)と同様にしてコンデンサを作製した。
ダの濃度を5.0重量%にしたこと以外は(実施例1
4)と同様にしてコンデンサを作製した。
【0105】試料数は10個である。得られたコンデン
サは(実施例14)と同様の測定を行った。それらの測
定値の平均値を前記(表1)に示している。
サは(実施例14)と同様の測定を行った。それらの測
定値の平均値を前記(表1)に示している。
【0106】また、比較例9として、架橋型ポリアクリ
ル酸ソ−ダの濃度を10.0重量%にしたこと以外は上
記と同条件でコンデンサを10個作製し同様の測定を行
った。
ル酸ソ−ダの濃度を10.0重量%にしたこと以外は上
記と同条件でコンデンサを10個作製し同様の測定を行
った。
【0107】この(表1)から明らかなように、本実施
例によるコンデンサにおいては、誘電体皮膜の絶縁破壊
電圧が比較例1に比べ著しく高く、(実施例14)と同
様に優れた修復能力が得られた。また比較例9に比べ絶
縁破壊電圧は同等であるが、容量、損失特性が良好で優
れたコンデンサ特性が得られた。(実施例18)ニトロ
フェノ−ル(0.01mol/l)を、更に加えたこと
以外は(実施例1)と同様にしてコンデンサを作製し
た。
例によるコンデンサにおいては、誘電体皮膜の絶縁破壊
電圧が比較例1に比べ著しく高く、(実施例14)と同
様に優れた修復能力が得られた。また比較例9に比べ絶
縁破壊電圧は同等であるが、容量、損失特性が良好で優
れたコンデンサ特性が得られた。(実施例18)ニトロ
フェノ−ル(0.01mol/l)を、更に加えたこと
以外は(実施例1)と同様にしてコンデンサを作製し
た。
【0108】試料数は10個である。得られたコンデン
サは(実施例1)と同様の測定を行った。それらの測定
値の平均値を前記(表1)、(表2)に示している。
サは(実施例1)と同様の測定を行った。それらの測定
値の平均値を前記(表1)、(表2)に示している。
【0109】この(表1)から明らかなように、本実施
例によるコンデンサにおいては、誘電体皮膜の絶縁破壊
電圧が比較例1に比べ著しく高く、(実施例1)と同様
に優れた修復能力が得られた。さらに、容量、損失など
の特性も極めて良好であった。
例によるコンデンサにおいては、誘電体皮膜の絶縁破壊
電圧が比較例1に比べ著しく高く、(実施例1)と同様
に優れた修復能力が得られた。さらに、容量、損失など
の特性も極めて良好であった。
【0110】また(表2)から明らかなように、本実施
例によるコンデンサにおいては、長時間の高温放置を行
っても特性の劣化が小さく、優れた熱安定性が得られ
た。
例によるコンデンサにおいては、長時間の高温放置を行
っても特性の劣化が小さく、優れた熱安定性が得られ
た。
【0111】以上のように、本実施例によれば、電極に
用いる電解重合導電性高分子膜が、誘電体皮膜の修復性
に優れ、また熱安定性も優れているので、高耐圧、高信
頼性のコンデンサを実現することができた。
用いる電解重合導電性高分子膜が、誘電体皮膜の修復性
に優れ、また熱安定性も優れているので、高耐圧、高信
頼性のコンデンサを実現することができた。
【0112】(実施例19)ニトロフェノ−ルの濃度を
0.15mol/lにしたこと以外は(実施例18)と
同様にしてコンデンサを作製した。
0.15mol/lにしたこと以外は(実施例18)と
同様にしてコンデンサを作製した。
【0113】試料数は10個である。得られたコンデン
サは(実施例18)と同様の測定を行った。それらの測
定値の平均値を前記(表1)、(表2)に示している。
サは(実施例18)と同様の測定を行った。それらの測
定値の平均値を前記(表1)、(表2)に示している。
【0114】この(表1)から明らかなように、本実施
例によるコンデンサにおいては、誘電体皮膜の絶縁破壊
電圧が比較例1に比べ著しく高く、(実施例18)と同
様に優れた修復能力が得られた。そして、容量、損失な
どの特性も極めて良好であった。
例によるコンデンサにおいては、誘電体皮膜の絶縁破壊
電圧が比較例1に比べ著しく高く、(実施例18)と同
様に優れた修復能力が得られた。そして、容量、損失な
どの特性も極めて良好であった。
【0115】また(表2)から明らかなように、本実施
例によるコンデンサにおいては、長時間の高温放置を行
っても特性の劣化が小さく、優れた熱安定性が得られ
た。
例によるコンデンサにおいては、長時間の高温放置を行
っても特性の劣化が小さく、優れた熱安定性が得られ
た。
【0116】以上のように、本実施例によれば、電極に
用いる電解重合導電性高分子膜が、誘電体皮膜の修復性
に優れ、また熱安定性も優れているので、高耐圧、高信
頼性のコンデンサを実現することができた。
用いる電解重合導電性高分子膜が、誘電体皮膜の修復性
に優れ、また熱安定性も優れているので、高耐圧、高信
頼性のコンデンサを実現することができた。
【0117】(実施例20)ニトロフェノ−ルの濃度を
0.005mol/lにしたこと以外は(実施例18)
と同様にしてコンデンサを作製した。
0.005mol/lにしたこと以外は(実施例18)
と同様にしてコンデンサを作製した。
【0118】試料数は10個である。得られたコンデン
サは(実施例18)と同様の測定を行った。それらの測
定値の平均値を前記(表1)、(表2)に示している。
サは(実施例18)と同様の測定を行った。それらの測
定値の平均値を前記(表1)、(表2)に示している。
【0119】また、比較例10として、ニトロフェノ−
ルの濃度を0.001mol/lにしたこと以外は上記
と同条件でコンデンサを10個作製し同様の測定を行っ
た。
ルの濃度を0.001mol/lにしたこと以外は上記
と同条件でコンデンサを10個作製し同様の測定を行っ
た。
【0120】この(表1)から明らかなように、本実施
例によるコンデンサにおいては、誘電体皮膜の絶縁破壊
電圧が比較例1に比べ著しく高く、(実施例18)と同
様に優れた修復能力が得られた。そして、容量、損失な
どの特性も極めて良好であった。
例によるコンデンサにおいては、誘電体皮膜の絶縁破壊
電圧が比較例1に比べ著しく高く、(実施例18)と同
様に優れた修復能力が得られた。そして、容量、損失な
どの特性も極めて良好であった。
【0121】また(表2)から明らかなように、本実施
例によるコンデンサにおいては、比較例10のコンデン
サに比べ長時間の高温放置を行っても特性の劣化が小さ
く、優れた熱安定性が得られた。
例によるコンデンサにおいては、比較例10のコンデン
サに比べ長時間の高温放置を行っても特性の劣化が小さ
く、優れた熱安定性が得られた。
【0122】以上のように、本実施例によれば、ニトロ
フェノ−ルの濃度が少なくとも0.005mol/l以
上であれば、熱安定性に優れている電解重合導電性高分
子膜が得られ、更に(実施例18)で示すようにニトロ
フェノ−ルの濃度が0.01mol/l以上であればそ
の効果は高まり、高耐圧のコンデンサを実現することが
できた。
フェノ−ルの濃度が少なくとも0.005mol/l以
上であれば、熱安定性に優れている電解重合導電性高分
子膜が得られ、更に(実施例18)で示すようにニトロ
フェノ−ルの濃度が0.01mol/l以上であればそ
の効果は高まり、高耐圧のコンデンサを実現することが
できた。
【0123】(実施例21)ニトロフェノ−ルの濃度を
1.0mol/lにしたこと以外は(実施例18)と同
様にしてコンデンサを作製した。
1.0mol/lにしたこと以外は(実施例18)と同
様にしてコンデンサを作製した。
【0124】試料数は10個である。得られたコンデン
サは(実施例18)と同様の測定を行った。それらの測
定値の平均値を前記(表1)、(表2)に示している。
サは(実施例18)と同様の測定を行った。それらの測
定値の平均値を前記(表1)、(表2)に示している。
【0125】また、比較例11として、ニトロフェノ−
ルの濃度を5.0mol/lにしたこと以外は上記と同
条件でコンデンサを10個作製し同様の測定を行った。
ルの濃度を5.0mol/lにしたこと以外は上記と同
条件でコンデンサを10個作製し同様の測定を行った。
【0126】この(表1)から明らかなように、本実施
例によるコンデンサにおいては、誘電体皮膜の絶縁破壊
電圧が比較例1に比べ著しく高く、(実施例18)と同
様に優れた修復能力が得られた。また比較例11に比べ
絶縁破壊電圧は同等であるが、容量、損失特性が良好で
優れたコンデンサ特性が得られた。
例によるコンデンサにおいては、誘電体皮膜の絶縁破壊
電圧が比較例1に比べ著しく高く、(実施例18)と同
様に優れた修復能力が得られた。また比較例11に比べ
絶縁破壊電圧は同等であるが、容量、損失特性が良好で
優れたコンデンサ特性が得られた。
【0127】また(表2)から明らかなように、本実施
例によるコンデンサにおいては、長時間の高温放置を行
っても特性の劣化が小さく、優れた熱安定性が得られ
た。
例によるコンデンサにおいては、長時間の高温放置を行
っても特性の劣化が小さく、優れた熱安定性が得られ
た。
【0128】(実施例22)ピロ−ルおよび水に代え
て、チオフェンおよびアセトニトリルを用いた以外は
(実施例1)と同様にしてコンデンサを作製した。
て、チオフェンおよびアセトニトリルを用いた以外は
(実施例1)と同様にしてコンデンサを作製した。
【0129】試料数は10個である。得られたコンデン
サの120Hzでの容量と損失係数を測定した。その
後、50V/分の速度で電圧掃引し誘電体皮膜が絶縁破
壊する電圧を測定した。それらの測定値の平均値を前記
(表1)に示している。
サの120Hzでの容量と損失係数を測定した。その
後、50V/分の速度で電圧掃引し誘電体皮膜が絶縁破
壊する電圧を測定した。それらの測定値の平均値を前記
(表1)に示している。
【0130】また比較例12として、ヘキシル燐酸エス
テルを添加しないこと以外は上記と同条件でコンデンサ
を10個作製し同様の測定を行った。
テルを添加しないこと以外は上記と同条件でコンデンサ
を10個作製し同様の測定を行った。
【0131】この(表1)から明らかなように、本実施
例によるコンデンサは、誘電体皮膜の絶縁破壊電圧が比
較例12に比べ著しく高く、(実施例1)と同様に優れ
た修復能力が得られた。また容量、損失などの特性も極
めて良好であった。
例によるコンデンサは、誘電体皮膜の絶縁破壊電圧が比
較例12に比べ著しく高く、(実施例1)と同様に優れ
た修復能力が得られた。また容量、損失などの特性も極
めて良好であった。
【0132】(実施例23)トリイソプロピルナフタレ
ンスルフォン酸ナトリウムに代えて、ジブチルナフタレ
ンスルフォン酸ナトリウムを電解重合液に添加する以外
は(実施例1)と同様にしてコンデンサを作製した。
ンスルフォン酸ナトリウムに代えて、ジブチルナフタレ
ンスルフォン酸ナトリウムを電解重合液に添加する以外
は(実施例1)と同様にしてコンデンサを作製した。
【0133】試料数は10個である。得られたコンデン
サの120Hzでの容量と損失係数を測定した。その
後、50V/分の速度で電圧掃引し誘電体皮膜が絶縁破
壊する電圧を測定した。それらの測定値の平均値を前記
(表1)に示している。
サの120Hzでの容量と損失係数を測定した。その
後、50V/分の速度で電圧掃引し誘電体皮膜が絶縁破
壊する電圧を測定した。それらの測定値の平均値を前記
(表1)に示している。
【0134】また、比較例13として、ヘキシル燐酸エ
ステルを添加しないこと以外は上記と同条件でコンデン
サを10個作製し同様の測定を行った。
ステルを添加しないこと以外は上記と同条件でコンデン
サを10個作製し同様の測定を行った。
【0135】この(表1)から明らかなように、本実施
例によるコンデンサは、誘電体皮膜の絶縁破壊電圧が比
較例13に比べ著しく高く、(実施例1)と同様に優れ
た修復能力が得られた。また容量、損失などの特性も極
めて良好であった。
例によるコンデンサは、誘電体皮膜の絶縁破壊電圧が比
較例13に比べ著しく高く、(実施例1)と同様に優れ
た修復能力が得られた。また容量、損失などの特性も極
めて良好であった。
【0136】なお、上記実施例では芳香族スルフォン酸
塩として、トリイソプロピルナフタレンスルフォン酸
塩、ジブチルナフタレンスルフォン酸塩を使用した場合
についてのみ述べたが、他のアルキル置換基を有するモ
ノメチルナフタレンスルフォン酸塩、モノイソプロピル
ナフタレンスルフォン酸塩、ジブチルナフタレンスルフ
ォン酸塩等の芳香族スルフォン酸塩や、他の置換基を有
するものでも使用可能である。
塩として、トリイソプロピルナフタレンスルフォン酸
塩、ジブチルナフタレンスルフォン酸塩を使用した場合
についてのみ述べたが、他のアルキル置換基を有するモ
ノメチルナフタレンスルフォン酸塩、モノイソプロピル
ナフタレンスルフォン酸塩、ジブチルナフタレンスルフ
ォン酸塩等の芳香族スルフォン酸塩や、他の置換基を有
するものでも使用可能である。
【0137】なお、上記実施例ではアルキル燐酸エステ
ルのアルキル基としてブチル基、ヘキシル基、オクチル
基を使用した場合についてのみ述べたが、その他のプロ
ピル基からドデシル基を有するアルキル燐酸エステルで
も使用可能である。
ルのアルキル基としてブチル基、ヘキシル基、オクチル
基を使用した場合についてのみ述べたが、その他のプロ
ピル基からドデシル基を有するアルキル燐酸エステルで
も使用可能である。
【0138】なお、上記実施例ではフェノ−ル誘導体と
してパラニトロフェノ−ルを使用した場合についてのみ
述べたが、フェノ−ルまたは置換基を有する芳香族ヒド
ロキシ化合物であれば他のフェノ−ル誘導体でも使用可
能である。
してパラニトロフェノ−ルを使用した場合についてのみ
述べたが、フェノ−ルまたは置換基を有する芳香族ヒド
ロキシ化合物であれば他のフェノ−ル誘導体でも使用可
能である。
【0139】この置換基としては、電子吸引性が大きい
ものであれば使用可能で、シアノフェノ−ル、ヒドロキ
シアセトフェノン、ヒドロキシベンズアルデヒド、ヒド
ロキシベンズアミド、ヒドロキシ安息香酸等でもよい。
ものであれば使用可能で、シアノフェノ−ル、ヒドロキ
シアセトフェノン、ヒドロキシベンズアルデヒド、ヒド
ロキシベンズアミド、ヒドロキシ安息香酸等でもよい。
【0140】なお、上記実施例では重合性モノマ−とし
てピロ−ルのほかにチオフェンを使用した場合について
のみ述べたが、それらの誘導体(N−メチルピロ−ル
等)やフラン等の他の重合性モノマ−、またはそれらの
複数種の併用したものをも使用することができる。
てピロ−ルのほかにチオフェンを使用した場合について
のみ述べたが、それらの誘導体(N−メチルピロ−ル
等)やフラン等の他の重合性モノマ−、またはそれらの
複数種の併用したものをも使用することができる。
【0141】さらに、導電性高分子を複合化する際に電
解液に適当な添加剤を混ぜてもよい。
解液に適当な添加剤を混ぜてもよい。
【0142】なお、上記実施例では硝酸マンガンを用い
てマンガン酸化物を形成した場合についてのみ述べた
が、硝酸マンガンに限らずマンガン酸化物を形成できる
ものであれば他の物質でも使用可能である。
てマンガン酸化物を形成した場合についてのみ述べた
が、硝酸マンガンに限らずマンガン酸化物を形成できる
ものであれば他の物質でも使用可能である。
【0143】なお、上記実施例では陽極として弁金属の
アルミニウムを使用した固体電解コンデンサについての
み述べたが、本発明の主旨から明らかなように、電極と
して使用できる電気伝導度を有すれば他の物質も使用可
能である。
アルミニウムを使用した固体電解コンデンサについての
み述べたが、本発明の主旨から明らかなように、電極と
して使用できる電気伝導度を有すれば他の物質も使用可
能である。
【0144】なお、上記実施例では誘電体としてアルミ
ニウム酸化物を使用した場合についてのみ述べたが、従
来の技術でふれた電着ポリイミドなどコンデンサの誘電
体として使用できる他の物質を使用しても本発明の効果
は何等妨げられるものではない。
ニウム酸化物を使用した場合についてのみ述べたが、従
来の技術でふれた電着ポリイミドなどコンデンサの誘電
体として使用できる他の物質を使用しても本発明の効果
は何等妨げられるものではない。
【0145】なお、上記実施例では極性を持ったコンデ
ンサについてのみ述べたが、本発明の主旨から明らかな
ように、無極性のコンデンサでも同様の効果がある。
ンサについてのみ述べたが、本発明の主旨から明らかな
ように、無極性のコンデンサでも同様の効果がある。
【0146】なお、上記実施例では一つの電極に導電性
高分子を用いた場合についてのみ述べたが、さらに別の
電極に導電性高分子を用いることも可能であり、本発明
は導電性高分子を用いる電極の数によって何等制限を受
けるものではない。
高分子を用いた場合についてのみ述べたが、さらに別の
電極に導電性高分子を用いることも可能であり、本発明
は導電性高分子を用いる電極の数によって何等制限を受
けるものではない。
【0147】
【発明の効果】以上のように本発明は、ポリエチレンオ
キサイドと芳香族スルフォン酸塩、あるいは架橋型ポリ
アクリル酸ソ−ダと芳香族スルフォン酸塩、のいずれか
と重合性モノマ−とを少なくとも含有する電解液を用い
る電解重合により得られる導電性高分子を、誘電体皮
膜、マンガン酸化物層を順次形成させた電極上に積層し
対極とするので、誘電体皮膜の修復能力が優れた高耐圧
コンデンサを効率よく作製できるものである。
キサイドと芳香族スルフォン酸塩、あるいは架橋型ポリ
アクリル酸ソ−ダと芳香族スルフォン酸塩、のいずれか
と重合性モノマ−とを少なくとも含有する電解液を用い
る電解重合により得られる導電性高分子を、誘電体皮
膜、マンガン酸化物層を順次形成させた電極上に積層し
対極とするので、誘電体皮膜の修復能力が優れた高耐圧
コンデンサを効率よく作製できるものである。
【図1】本発明のコンデンサの断面図
【図2】本発明のコンデンサの平面図
【図3】本発明の電解重合導電性高分子膜を形成する図
1 陽極リード 2 弁作用金属 3 誘電体皮膜 4 マンガン酸化物膜 5 電解重合導電性高分子膜 6 陰極リード 7 重合開始用電極 8 耐熱絶縁テープ 9 電解重合溶液 10 カーボンペイント膜 11 銀ペイント膜
フロントページの続き (72)発明者 吉田 浩一 神奈川県川崎市多摩区東三田3丁目10番 1号 松下技研株式会社内 (56)参考文献 特開 平5−21284(JP,A) 特開 平5−21281(JP,A) 特開 平4−315412(JP,A) (58)調査した分野(Int.Cl.6,DB名) H01G 9/02 - 9/038
Claims (9)
- 【請求項1】 ポリエチレンオキサイドと芳香族スルフ
ォン酸塩と重合性モノマ−とを少なくとも含有する電解
液を用いる電解重合により得られる導電性高分子を、誘
電体皮膜上に形成し電極として使用することを特徴とす
るコンデンサの製造方法。 - 【請求項2】 架橋型ポリアクリル酸ソ−ダと芳香族ス
ルフォン酸塩と重合性モノマ−とを少なくとも含有する
電解液を用いる電解重合により得られる導電性高分子
を、誘電体皮膜上に形成し電極として使用することを特
徴とするコンデンサの製造方法。 - 【請求項3】 芳香族スルフォン酸塩がアルキル置換基
を有するナフタレンスルフォン酸塩であり、電解液中の
添加濃度は0.005mol/l以上0.5mol/l
以下であることを特徴とする請求項1または2記載のコ
ンデンサの製造方法。 - 【請求項4】 芳香族スルフォン酸塩の電解液中の最適
添加濃度が0.01mol/l以上0.1mol/l以
下であることを特徴とする請求項3記載のコンデンサの
製造方法。 - 【請求項5】 ポリエチレンオキサイドの電解液中の添
加濃度は0.01重量%以上1.0重量%以下であるこ
とを特徴とする請求項1記載のコンデンサの製造方法。 - 【請求項6】 ポリエチレンオキサイドの電解液中の最
適添加濃度が0.1重量%以上0.5重量%以下である
ことを特徴とする請求項5記載のコンデンサの製造方
法。 - 【請求項7】 架橋型ポリアクリル酸ソ−ダの電解液中
の添加濃度は0.01重量%以上5.0重量%以下であ
ることを特徴とする請求項2記載のコンデンサの製造方
法 - 【請求項8】 架橋型ポリアクリル酸ソ−ダの電解液中
の最適添加濃度が0.1重量%以上1.0重量%以下で
あることを特徴とする請求項7記載のコンデンサの製造
方法 - 【請求項9】 重合性モノマ−がピロール、チオフェン
あるいはそれらの誘導 体の少なくとも一つから選ばれる
ものである請求項1から8のいずれかに記載のコンデン
サの製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP5051899A JP2982543B2 (ja) | 1993-03-12 | 1993-03-12 | コンデンサの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP5051899A JP2982543B2 (ja) | 1993-03-12 | 1993-03-12 | コンデンサの製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH06267798A JPH06267798A (ja) | 1994-09-22 |
JP2982543B2 true JP2982543B2 (ja) | 1999-11-22 |
Family
ID=12899730
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP5051899A Expired - Fee Related JP2982543B2 (ja) | 1993-03-12 | 1993-03-12 | コンデンサの製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2982543B2 (ja) |
Families Citing this family (1)
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---|---|---|---|---|
JP4655339B2 (ja) * | 2000-07-07 | 2011-03-23 | 株式会社村田製作所 | 固体電解コンデンサ素子及びその製造方法 |
Family Cites Families (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0727842B2 (ja) * | 1991-04-15 | 1995-03-29 | 松下電器産業株式会社 | 固体電解コンデンサ |
JP2762779B2 (ja) * | 1991-07-10 | 1998-06-04 | 松下電器産業株式会社 | コンデンサ及びその製造方法 |
JP2730330B2 (ja) * | 1991-07-10 | 1998-03-25 | 松下電器産業株式会社 | コンデンサ及びその製造方法 |
-
1993
- 1993-03-12 JP JP5051899A patent/JP2982543B2/ja not_active Expired - Fee Related
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JPH06267798A (ja) | 1994-09-22 |
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---|---|---|---|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |