JP2972342B2 - ポリマー樹脂含有接着剤ペースト - Google Patents

ポリマー樹脂含有接着剤ペースト

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Description

【発明の詳細な説明】 発明の分野 本発明は、高密度のマイクロ回路電子構成要素を基質
に接着させるに特によく適合した接着剤ペーストに関す
る。
発明の背景 基質上への高密度マイクロ回路構成要素取り付け、例
えばセラミックシート上へのケイ素ダイス取り付けなど
は、長年に渡って電子産業の重要な面であった。一般的
には、ダイス取り付け用ペースト（die attach past
e）を用いこれをダイスと基質の間に付着させることが
知られている。このダイス取り付け用ペーストは典型的
に充填材、接着剤および担体を含有している。この充填
材は仕上げ接着層に所望の導電性、抵抗特性または誘導
特性を与えるように選択される。上記接着剤は該ダイス
と基質の間に強力な接着力を作り出すように選択され
る。上記担体は全成分を流動性のある均一な混合物の状
態に維持し、それによって、該ペーストを該ダイスと基
質の接触面に付けるのが容易になる。これはまた該ダイ
スと基質の間から移行してこのアセンブリの熱処理後に
空隙のない接着ライン（bonding line）を残すに適切
な揮発性を有する。このペーストを付着させそして該ダ
イスと基質を組み立てた後、典型的にはこのアセンブリ
を加熱することで、上記接着剤を融解させそして該担体
を追い出す。冷却後、このダイスはしっかりと該基質に
付着する。
よく知られている、有機担体を用いた銀−ガラスペー
ストの場合、典型的にはそのアセンブリを450℃の如き
高温に加熱する。米国特許第4,933,030号には、高密度
の集積回路を300℃の如き低温で付着させるための銀−
ガラスペーストが開示されている。
更に低い温度でダイス取り付けを可能にする目的で銀
−エポキシ樹脂ペーストが開発された。しかしながら、
エポキシ樹脂のペーストは特定の欠点を有する。上記ペ
ーストが接着性と強度特性を達成するのはそのエポキシ
樹脂が架橋することによる。このような架橋過程は時間
を要し、従って経済的でない。架橋がより速く生じるよ
うに調合物を調整すると、そのペーストをアセンブリに
塗布することができる作業時間が短くなり、それによっ
て工程が複雑になる。エポキシ樹脂は樹脂と硬化剤から
成る２成分系であり、このことから個別の貯蔵装置を必
要とする可能性があり、使用に先立って完全混合する必
要がある。更に、エポキシ樹脂は一般に架橋すると堅く
て強固な状態になり、このことから特に大型ダイスを高
い膨張率を有する基質材料に取り付ける場合、過剰な応
力が作り出され得る。従って、エポキシ樹脂のペースト
を用いて付着させることができるダイスの大きさは制限
され得る。更にその上、エポキシ樹脂を架橋材料として
再加工するのは不可能であり、従って、出現しつつある
マルチチップモジュール（Multi Chip Module）市場
ではあまり使用されないであろう。
熱可塑性ポリマー樹脂接着剤がダイス取り付けの候補
品である。このような接着剤は低温で固体であり、従っ
て各々の取り付け用途で予め成形して適当な形状にする
必要があると言った欠点を有する。更に、固体上の接着
剤はペースト状の接着剤を基とする産業標準の高速生産
ラインに適合しない。加うるに、固体状の接着剤を用い
て満足される接着力をもたらすには圧力をかける必要が
ある。溶媒に溶解させた熱可塑性ポリマー樹脂を基とす
る流体接着剤を得る試みが成された。不幸なことに、こ
のような系も欠点を有し、最も注目すべき欠点は、良好
な接着性と流動性を維持しながら組み込むことができる
銀の量に関する上限が低いこと、そして過剰に長い揮発
除去（devolatilization）時間を用いない限り溶媒蒸発
後に空隙が生じる傾向があると言った欠点である。
発明の要約 本発明はダイス取り付け用ペーストを提供し、これ
は、低温で処理可能であり、強いが、過剰な応力を誘発
することなく大型のケイ素ダイスを高膨張性基質に接着
させるに充分なほどの弾性を示し、空隙のない接着ライ
ンをもたらし、マルチチップ市場で必要とされるならば
再加工可能であり、そしてこの産業で用いられている装
置および工程で主要な修飾を行うことなく塗布可能であ
る。
具体的には、本発明は、 （Ａ）約７−35体積パーセントのポリマー樹脂、 （Ｂ）約20−40体積パーセントの無機充填材、および （Ｃ）約37−67体積パーセントの易除去性（fugitive）
液体、 から本質的に成る接着剤ペーストを提供し、ここで、該
樹脂および該充填材の各々は325号メッシュスクリーン
を通過するに充分なほど小さいサイズの粒子形態で存在
しており、そして該液体および該樹脂の各々がもう一方
の中で示す溶解度は約20％以下である。
また、このペーストを用いてマイクロ回路電子構成要
素を基質に接着させて電子産業で用いるに有用な集積回
路アセンブリを製造する方法も提供する。
発明の詳細な説明 本発明の接着剤ペーストに含める主要３成分の各々は
通常の銀−ガラスペーストに入っている相当する成分が
示す機能を果す、即ちこの有機ポリマー樹脂が接着力を
与え、この無機充填材が導電性または熱伝導性または両
方を与え、そしてこの液体が、このペーストをダイスと
基質の間に分配するためのビヒクルを与える。このペー
ストは通常のペーストと同じ流動性および流れ特性を示
すことから、これは現存のマイクロ回路アセンブリ工程
装置で使用可能である。この使用する熱可塑性ポリマー
は低い融点を有することから、この場合に熱処理で必要
とされる温度はガラスを基とする接着剤の場合よりもず
っと低い。この有機ポリマー樹脂は微細粒子形態で存在
しておりそして樹脂と溶媒が実質的に互いに不溶なよう
にこの液体を選択していることから、この液体は熱処理
中に揮発して空隙のない接着ラインを残し得る。更に、
この熱可塑性樹脂は繰り返し溶融および固化可能である
ことから、この組成物は再加工可能であり、マルチチッ
プモジュール技術で用いるに適切である。
各成分を個別に考察した後、完成した接着剤およびこ
の接着剤の使用方法を考察する。
表現「から本質的に成る」は、本発明を実施不可能に
する程の量で追加的成分が存在していないことを条件と
してこの組成物にこの指定した主要成分以外に追加的成
分を含めてもよいことをこの表現に意味させることを意
図する。
有機ポリマー樹脂 本発明で用いるに適切なポリマー樹脂は、ａ）おおよ
そ室温からマイクロ回路電子構成要素が用いられる周囲
温度に及ぶ温度で固体であり、そしてｂ）マイクロ回路
電子構成要素が用いられる温度より高い温度に加熱する
と軟化して該構成要素間に接着結合を作り出すに充分な
程の流体になる、如何なる有機ポリマーも包含する。エ
ポキシ樹脂も使用可能である。適当な温度範囲で加熱お
よび冷却すると繰り返し融解および固化し得る熱可塑性
樹脂が好適である。
熱可塑性ポリマーが軟化して流体になる温度は典型的
にビーカー軟化点で特徴づけられる。数多い通常の熱可
塑性ポリマーに関するビーカー軟化点は、本分野の技術
者によく知られている文献から入手可能であるか或はポ
リマーの供給業者が提供する文献から入手可能である。
従って、通常の技術者は、電子構成要素の通常の操作中
に軟化が生じるのを避ける目的でビーカー軟化点が回路
サービス温度よりも充分高いと共に所望の熱処理温度よ
りも充分に低い所に在ることを確認することで容易に、
熱可塑性ポリマーが特定のダイス取り付け用ペーストで
用いるに適切であり得ることを確かめることができる。
使用可能な代表的熱可塑性ポリマー類には、例えばポ
リ（フェニレンスルフィド）類、ポリ（エーテルスルホ
ン）類、ポリアミド類、ポリエステル類、ポカーボネー
ト類、ポリスルホン類、ポリアセタール類、ポリハロゲ
ン化ビニル類、ポリオレフィン類、ハロゲン化ポリオレ
フィン類、アクリル系ポリマー類、ビニルポリマー類お
よび熱可塑性エポキシ樹脂などが含まれる。この熱可塑
性樹脂は、熱硬化し得る樹脂であってもよいが、この樹
脂が熱硬化しない温度および条件でこれを用いる。この
ような樹脂にはフェノール−ホルムアルデヒド縮合体、
尿素またはメラミン−ホルムアルデヒド縮合体、カゼイ
ンおよびゼラチンなどが含まれる。使用可能なさらなる
代表的熱可塑性ポリマー類には、コポリマー類、有機も
しくは無機置換ポリマー類、および２種以上の熱可塑性
ポリマー類から成るブレンド物が含まれる。
代表的ポリアミド類にはポリ（ヘキサメチレンアジパ
ミド）、ポリ（イプシロン−カプロラクタム）、ポリ
（ヘキサメチレンフタルアミドおよびイソフタルアミ
ド）が含まれる。
代表的ポリエステル類にはポリ（エチレンテレフタレ
ート）およびポリ（ブチレンテレフタレート）が含まれ
る。
この樹脂は該熱可塑性ポリマーに加えて添加剤、例え
ば接着促進剤、熱安定剤、抗酸化剤および粘着付与剤な
どを少量含有していてもよい。このような添加剤は、熱
可塑性ポリマーのサービス温度上限を広げるに有効であ
り、そして該熱可塑性ポリマーがダイス、基質および無
機充填材の表面を湿らす度合を高くするに有用である。
このような安定剤、接着促進剤、抗酸化剤および粘着付
与剤は本技術分野でよく知られている。
このポリマー樹脂は２種以上のポリマー類から成るブ
レンド物も包含する。このブレンド物に更に熱硬化性ポ
リマー成分、例えばエポキシ樹脂などを含有させること
も可能であるが、但しこのブレンド物が本質的に熱可塑
性を示すままであること、即ち温度を上下することで繰
り返し融解および凝固し得ることを条件とする。
本発明を成功裏に用いるにとって、このポリマー樹脂
がペースト内で微細な粒子形態（本明細者では以降時と
して「粉末」と呼ぶ）で存在していることが重要であ
る。数種の熱可塑性樹脂はその売り主から粉末として入
手可能である。他のものは典型的にシート、ペレットま
たは顆粒形態で供給されている。所望のサイズ分布特性
を示す粉末として供給されていない熱可塑性ポリマー樹
脂の場合、よく知られている多様な技術、例えばハンマ
ーミリング、ピンミリング、といし車ミリングおよび低
温粉砕などを用いてこれを粉末にしてもよい。
本発明で用いるに適切な熱可塑性ポリマー樹脂粉末の
最大粒子サイズは約50μｍである。この熱可塑材粉末は
325号メッシュのふるい、好適には400号メッシュのふる
いを通過する粉末形態でなければならない。この粉末の
最大粒子サイズが約50μｍより大きいと、接着剤の表面
から粒子が脱離する結果として生じる表面空隙が輪郭に
表れることで、その熱処理したアセンブリの外観が低下
する。粒子サイズが大きくなるにつれてまたその熱処理
した接着ラインの中に空隙が生じる傾向が助長されるこ
とを確認した。特別な理論で範囲を限定することを望む
ものでないが、熱処理中に熱可塑性ポリマー樹脂の大き
な粒子がダイスを基質から離して保持する時に接着ライ
ンに空隙が生じるのではなかろうと考えている。このよ
うな条件下で液体が該ペーストから蒸発すると、その失
われた液体の体積を補うように、その接着ラインに平行
に収縮が起こる。この樹脂の最小粒子サイズは決定的で
なく、粉末化の経済性で制限される。
無機充填材 この無機充填材は接着ラインに所望の熱特性または電
気特性を与える。電子産業でよく知られている数多くの
金属またはセラミックが使用可能である。好適な無機材
料には、例えば銀、金、銅、アルミナ、ベリリア、シリ
カ、炭化ケイ素、炭化タングステン、バリウムチタネー
ト、ステアタイト、窒化ホウ素、窒化アルミニウムおよ
びダイヤモンドなどが含まれる。この無機充填材もまた
微細粒子形態で存在させる必要があり、最大粒子サイズ
は約50μｍであり、325メッシュのふるいに通すべきで
ある。
この充填材は、好適には貴金属であり、特に銀が満足
される充填材であることを見い出した。銀粉末は典型的
にフレークまたは球形粒子形態で供給されている。銀粒
子がフレークとして供給されている場合、フレーク化過
程の結果としてその表面に滑剤、典型的には樹脂酸、例
えばステアリン酸などが付着している可能性がある。こ
のような滑剤は通常250℃またはそれ以下で分解し、通
常、本発明の実行性を低くしない。しかしながら、滑剤
が存在していると、本明細書の以下に説明するように、
液体の選択に影響が生じ得る。本発明で使用可能な銀粒
子は一般に該熱可塑性ポリマー樹脂粉末より小さい。使
用可能な銀には、約0.2から3m2/gの範囲の表面積および
約２から5g/cm3の範囲のタップ密度を有する銀が含まれ
る。
液体 本発明における易除去性液体は、他の材料を便利に分
配しそして該ダイスと基質に付けることを可能にするよ
うにこれらを懸濁させる機能を果す。更に、この液体は
該ペーストから拡散しそして熱処理中に揮発して実質的
に液体が入っていない処理接着剤を与える。
この液体の蒸気圧はこれが該ペーストから室温で迅速
に蒸発しないほど充分に低くなければならない。これ
は、ペーストの「作業寿命」が短くなるのを避けるため
である。更に、この蒸気圧が高すぎると、熱処理中の気
化があまりにも迅速に起こる可能性があり、それによっ
て空隙を過剰に有する接着ラインが生じる可能性があ
る。この蒸気圧は、熱処理中に商業的に実行可能な時間
内に該ペーストから完全に気化するに充分なほど高くな
ければならない。従って、この蒸気圧は少なくとも部分
的に熱処理条件に依存する。それにも拘らず、本発明は
低温ダイス取り付けに特によく適合していることから、
この液体の室温蒸気圧は、好適には約50mmHg以下でなけ
ればならない。
この液体は実質的に空隙のない接着ラインを与えるよ
うな様式で処理中に除去されることが重要である。一般
的には、表面張力が低い非極性の液体が空隙のない接着
ラインを与え、従ってこのような液体が好適である。使
用可能な代表的液体は、約150℃から275℃の沸点を有す
る脂肪族および芳香族の炭化水素、並びにグリコールエ
ーテル類およびそれらの誘導体、例えば酢酸グリコール
エーテル類などである。特に満足されるものは脂肪族炭
化水素である。
銀フレークの表面に通常存在している滑剤残渣と該液
体とが反応を起こす結果として接着ラインに空隙が生じ
ると考えている。従って、この使用する液体は溶媒を除
去した時点で空隙が生じない度合で該ペースト中の無機
充填材および樹脂に適合し得るのが望ましい。
この液体は該熱可塑性ポリマー樹脂にとって実質的に
非溶媒である。即ち、この樹脂と液体の各々はその一方
に有意な溶解性を示さない。しかしながら、若干の溶解
度、即ち樹脂全体の約20パーセント以下、好適には10パ
ーセント以下ならば許容され得る。この樹脂中で該液体
が示す溶解度がより高い場合、液体がその融解する樹脂
から粒子の表面に拡散する時間があまりにも長くなる可
能性がある。この液体中で該樹脂が示す溶解度がより高
い場合、フィルムバリヤーが生じる傾向があり、それに
よって、接着ラインから液体が出る揮発除去速度が過剰
に遅くなる。このような環境下で熱処理を進行させる
と、接着ライン内で液体が蒸発して膨張することで空隙
が生じる。
一般的には、通常のガラス−充填材ダイス取り付け用
ペーストで用いられることが知られている有機液体が本
発明で使用可能であるが、但し上記有機液体が上に示し
た揮発性と溶解性を示すことを条件とする。この液体は
２種またはそれ以上の液状化合物の溶液であってもよ
い。
ダイス取り付け用接着剤および使用 このダイス取り付け用接着剤の特別な利点は、性能に
関しては通常のガラスを基とする接着剤ペーストに類似
しているが比較的低い温度で熱処理を受け得ることであ
る。従って、この主要成分から接着剤を製造しそしてこ
れを塗布して使用する方法では種々の方法を活用しそし
て本分野でよく知られている装置を用いる。実際、この
ダイス取り付け用接着剤は、無機（即ちガラス）を基と
するダイス取り付け用および厚フィルム用ペーストのた
めの、処理温度が低い「ドロップイン（drop−in）」置
き換え品である。
本発明のダイス取り付け用接着剤はポリマー樹脂と無
機充填材と液体の均一な混合物である。ペースト製造技
術で知られている装置を用いてこの主要成分を混合する
ことができる。特定のペースト用途で選択した熱可塑性
ポリマー類は通常のペーストに入っているガラスよりも
有意に低い融解点を有すると理解されるべきである。従
って、この熱可塑性ポリマー類の合体を避ける目的で、
若干少ない処方量で材料を用いるか、冷却するか、或は
これらを組み合わせて、より遅い速度および／またはあ
まり激しくない撹拌で混合装置を運転する必要があり得
る。このような技術はこの熱可塑性ポリマー樹脂が熱処
理を行うに先立って微細粒子形態で存在していることを
確保するに必要であり得る。
これらの材料を混合する順は決定的でない。この主要
成分全部を一緒にブレンドしてもよい。また、主要成分
の２つを組み合わせて予め混合した後、他の成分を添加
してペーストを生じさせることも可能である。例えば、
公知の粉末混合方法、例えばリボンブレンダーまたはダ
ブルコーンタンブルブレンダー（double−cone tumble
blender）などを用いて最初に熱可塑性ポリマー樹脂
と無機充填材の乾燥ブレンド物を製造するのが望ましい
可能性がある。その後、この乾燥混合物に液体を添加し
てペーストを生じさせてもよい。
熱処理を受けさせる前の接着剤組成物に無機充填材を
好適には約24−37体積％含有させる。この組成物に熱可
塑性ポリマー樹脂を好適には11−37体積％、より好適に
は13−29体積％含有させる。
この熱可塑性ポリマー類は典型的に最大サービス温度
を有することが知られており、この温度以上になるとこ
れらは分解しそして高温と暴露時間の組み合わせをより
激しくして行くと益々分解することが知られている。通
常の技術者は、ガラスペーストに通常の熱処理温度サイ
クルを調整してこの熱可塑性ポリマーの分解が起こるの
を避けるべきであることを理解するであろう。
この液体はまた、滴り落ちることも尾を引くこともな
く接着ラインに奇麗に分配される滑らかなペーストを与
えるべきである。通常、技術者に明らかなように、材料
の割合を変化させることでこのペーストの粘度を調整す
ることができる。
本発明のダイス取り付け用接着剤はまた数多くの厚フ
ィルム用ペースト用途、例えばハイブリット回路などの
製造で用いるにも有用であり、このハイブリッド回路の
製造では、導電性、抵抗性および誘電性ペーストをスク
リーン印刷で基質材料の上に印刷した後、熱処理を行っ
てその望まれる印刷回路を基質に接着させる。
本発明はまたマイクロ回路の電子構成要素を基質に取
り付ける方法も提供する。この方法は一般に下記を含
む：本発明の接着剤ペーストを製造した後、このペース
トを基質表面に塗布することで接着ラインを生じさせ、
そしてこのペーストが該電子構成要素と基質の間に位置
するようにこの電子構成要素を該接着ラインの上に置い
た後、このアセンブリを、該熱可塑性樹脂が分解しない
が軟化して液状になるに充分な高温に充分な時間加熱
し、そしてこの液体を該ペーストから揮発除去した後、
この熱処理を受けさせたアセンブリを、該熱可塑性ポリ
マーが固体になる温度より低い温度に冷却し、それによ
って、空隙のない接着ラインで該マイクロ回路電子構成
要素を該基質に接着させる。
実施例 本発明の代表的な特定態様の実施例を用いてここに本
発明を例示するが、ここで、全ての部、割合およびパー
セントは特に明記しない限り体積である。又、本発明の
全ての実施例において、易除去性液体と有機ポリマー樹
脂は、各々がもう一方の中で20％以下に溶解する。本実
施例は例示のみを意図し、本発明の修飾形および相当物
が本分野の技術者に明らかになるであろう。最初にSI単
位で得なかった単位は全部SI単位に変換した。
本実施例で用いた材料を表Ｉに要約する。熱可塑性ポ
リマー樹脂は売り主から粉末形態か、シート形態か或は
ペレット形態で供給を受けた。シートまたはペレットと
して供給を受けたものに関しては、高速回転の研磨ワイ
ヤーホイール（abrasive wire wheel）を用いて粉砕
を行って粉末形態にした。全ての熱可塑性ポリマー樹脂
粉末を325メッシュのスクリーンふるいに通すことで、
最大粒子サイズが50μｍ未満であることを確保した。
最初に、充填材量が約37−44％のブレンド物を作り出
す割合で液体と充填材を組み合わせた。このブレンド物
を３本ロールのミルで加工して上記材料を均一に分散さ
せることで、充填材ペーストを生じさせた。表IIに示す
如き組成を有するブレンド物が生じるに充分な有機ポリ
マー樹脂および追加的液体を上記充填材ペーストと一緒
にした。このブレンド物を３本ロールのミルで加工して
実質的に均一な濃度のダイス取り付け用ペーストを製造
した。
接着強度の測定では、裸セラミックシートの上にダイ
ス取り付け用ペーストを13ミクロリットル付けた。この
ペーストの上に8.6mm x8.6mmのケイ素ダイスを位置させ
た。このアセンブリを炉の中に入れて表IIに示す温度に
到達するまで平均で１分当たり10℃の速度で加熱した。
このサンプルをその温度でまたこの表に示す時間維持し
た。その後、このサンプルを炉から取り出して室温に冷
却した。エポキシ接着剤を用いて上記ダイスをアルミニ
ウム製スタッドに固定し、そしてSebastian IIIスタッ
ドプラー（stud puller）を用いて引き剥がした。この
スタッドプラーから接着強度を直接読み取った。この接
着ラインに作り出される空隙の測定では、上記ダイスを
顕微鏡用の透明なガラススライドに置き換えそして該セ
ラミックシートの上にペーストを70ミクロリットル付け
る以外は上記手順を繰り返した。この空隙実験で用いた
ガラススライドの大きさは18mmx18mmであった。目で見
た検査で空隙の特徴づけを行った。
本実施例の結果もまた表IIに要約する。使用可能な種
々の充填材が示す密度に適応させるように体積パーセン
トで表IIに示す。接着強度が約4.5kgから約6.8kg（10−
15ポンド）を越えた場合に良好であると見なした。実施
例１および２は、本発明のダイス取り付け用ペーストを
用いると空隙のない強力な接着を生じさせることがで
き、290℃で要する熱処理時間は短くそして350℃の方が
若干長いことを示している。比較実施例ＡおよびＢで
は、安息香酸メチルに予め溶解させた20％のポリスルホ
ンで実施例１および２の熱可塑性ポリマー樹脂を希釈し
た。空隙が多量に生成し、その生成量は溶液中の樹脂パ
ーセントを低くするにつれて低下したが、まだ許容され
る量でなく、中間的な量であった。実施例３−５におい
て、ポリスルホンの量をより少なくすると空隙のない接
着ラインがもたらされ、これらの場合もまた、樹脂の量
を低くするに伴って接着強度の低下を示した。実施例６
において、ポリスルホンを20％にすると、溶液中の全樹
脂量が低くなることから、満足される接着ラインがもた
らされた。
比較実施例Ｃではエポキシがポリマー樹脂として示す
性能を実証する。エポキシは熱硬化性ポリマーであり、
その結果としてこれの接着強度はあまりにも低すぎる。
接着強度はエポキシ量を増すにつれて改良される。しか
しながら、このペースト中のエポキシを30％以上にして
も強度は限界ぎりきりである。
実施例９−11は、本発明が限界ぎりぎりの強度を有す
る接着ラインを生じ得るのは熱処理が200℃より低い時
であることを示している。
実施例12−19は、空隙のない強い接着を150−250℃の
範囲の処理温度で製造するに本発明が有効であることを
示している。温度を低くするにつれて処理時間が長くな
る。また、熱可塑性ポリマー樹脂の含有量を低くするに
つれて接着強度が低下する。実施例18の固有抵抗は57x1
0-6オーム・cmであると測定され、これは、ガラスを基
とするペーストの固有抵抗より高いが、典型的なエポキ
シを基とするペーストの固有抵抗よりずっと低い。
比較実施例Ｄは、液体と樹脂との間の溶解性が過剰で
あると接着ラインに多量の空隙が生じることを示してい
る。比較実施例ＥおよびＦにも多量の空隙が見られ、こ
れは、溶媒と銀フレークの界面活性剤とが適合性を示さ
ないことによるものであると考えられる。
表Ｉ 熱可塑性ポリマー樹脂 TP1 UDEL P3703（Amoco）ポリスルホン TP2 UDEL P1800（Amoco）ポリスルホン TP3 Ultrason Ｅ（BASF）ポリ（エーテルスルホン） TP4 Fortron（Hoechst）ポリ（フェニレンスルフィド ） TP5 MR11（Phillips）ポリ（フェニレンスルフィド） TP6 V1（Phillips）ポリ（フェニレンスルフィド） TP7 GR01（Phillips）ポリ（フェニレンスルフィド） TP8 Siltem（General Electric）ポリ（エーテルイ ミドシロキサン） TP9 5183（Bostik）ポリエステル TP10 5157（Bostik）ポリエステル TP11 LP3000−Ｇ（Farboil）ポリエステル TP12 Farboset 9146（Farboil）エポキシ 液体 L1 EXXAL ＃９（Exxon）イソノニルアルコール L2 NMP（Aldrich）メチルピロリドン L3 安息香酸メチル L4 Terpincol 318（Hercules）テルペンアルコール L5 673（Exxon）芳香族を除去した（dearomatized） 脂肪族 L6 686（Exxon）芳香族を除去した脂肪族 L7 Suresol 157（Koch）芳香族ジイソプロピルベン ゼン L8 DBE（DuPont）脂肪族二塩基性エステル 無機充填材 F1 15ED ＃001（Metz）銀フレーク F2 15ED ＃173（Metz）銀フレーク F3 3000−１（Metz）銀粉末 F4 EA295（Chemet）銀フレーク
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 ＦＩ Ｃ０９Ｊ 181/04 Ｃ０９Ｊ 181/04 181/06 181/06 Ｈ０１Ｌ 21/52 Ｈ０１Ｌ 21/52 Ｅ (56)参考文献 特開 平１−251625（ＪＰ，Ａ) 特開 昭59−107528（ＪＰ，Ａ) 特開 平４−227782（ＪＰ，Ａ) 特表 平４−502343（ＪＰ，Ａ) (58)調査した分野(Int.Cl.6，ＤＢ名) C09J 201/00 H01L 21/52

Claims (12)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項１】（Ａ）７−35体積パーセントの有機ポリマ
    ー樹脂、 （Ｂ）20−40体積パーセントの無機充填材、および （Ｃ）37−67体積パーセントの易除去性液体、 から本質的に成る接着剤ペーストであって、該樹脂およ
    び該充填材の各々が325号メッシュスクリーンを通過す
    るに充分なほど小さいサイズの粒子形態で存在してお
    り、そして該液体および該樹脂の各々がもう一方に実質
    的に不溶である接着剤ペースト。
  2. 【請求項２】該有機ポリマー樹脂が熱可塑材である請求
    の範囲第１項の接着剤ペースト。
  3. 【請求項３】該熱可塑材がポリスルホン類、ポリ（フェ
    ニレンスルフィド）類、ポリ（エーテルスルホン）類お
    よびポリエステル類から成る群から選択される請求の範
    囲第２項の接着剤ペースト。
  4. 【請求項４】該易除去性液体が150℃から275℃の沸点を
    有する脂肪族および芳香族炭化水素およびグリコールエ
    ーテル類から選択される請求の範囲第１項の接着剤ペー
    スト。
  5. 【請求項５】該無機充填材が少なくとも15ワット/m・゜
    Kの熱伝導率を有する請求の範囲第１項の接着剤ペース
    ト。
  6. 【請求項６】該充填材が1x10-5オーム・cm未満の電気抵
    抗を有する請求の範囲第５項の接着剤ペースト。
  7. 【請求項７】該無機充填材が貴金属である請求の範囲第
    １項の接着剤ペースト。
  8. 【請求項８】該無機充填材が銀から本質的に成る請求の
    範囲第７項の接着剤ペースト。
  9. 【請求項９】該液体および熱可塑性ポリマー樹脂の両方
    が実質的にもう一方に不溶である請求の範囲第１項の接
    着剤ペースト。
  10. 【請求項１０】該無機充填材が0.2から3.0m2/gの表面積
    を有する請求の範囲第８項の接着剤ペースト。
  11. 【請求項１１】該無機充填材が２−5g/ccのタップ密度
    を有する請求の範囲第８項の接着剤ペースト。
  12. 【請求項１２】基質上に電子構成要素を組み立てる方法
    であって、 ｉ）（Ａ）７−35体積パーセントの有機ポリマー樹脂、 （Ｂ）20−40体積パーセントの無機充填材、および （Ｃ）37−67体積パーセントの易除去性液体、 から本質的に成る接着剤ペーストであって該樹脂および
    該充填材の各々が325号メッシュスクリーンを通過する
    に充分なほど小さいサイズの粒子形態で存在しておりそ
    して該液体および該樹脂の各々がもう一方に実質的に不
    溶である接着剤ペーストを基質の上に付着させ、 ii）該接着剤ペーストに接触させて該基質の上に電子構
    成要素を位置させ、 iii）その結果として生じるアセンブリを、該ポリマー
    樹脂が軟化して流体になる温度より高くそして該熱可塑
    性ポリマー樹脂が分解し始める温度より低い温度に加熱
    し、そして iv）このアセンブリを冷却し、それによって、該熱可塑
    性ポリマー樹脂を固化させて該電子構成要素を該基質に
    接着させる、 段階を含む方法。
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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6140402A (en) * 1993-07-30 2000-10-31 Diemat, Inc. Polymeric adhesive paste
US6111005A (en) * 1993-07-30 2000-08-29 Diemat, Inc. Polymeric adhesive paste
US5391604A (en) * 1993-07-30 1995-02-21 Diemat, Inc. Adhesive paste containing polymeric resin
TW301843B (en) 1994-11-15 1997-04-01 Ibm Electrically conductive paste and composite and their use as an electrically conductive connector
US5959340A (en) * 1995-09-05 1999-09-28 Drs Technologies, Inc. Thermoplastic mounting of a semiconductor die to a substrate having a mismatched coefficient of thermal expansion
EP0805616A1 (en) * 1996-05-03 1997-11-05 International Business Machines Corporation Electrically conductive compositions
US6127203A (en) * 1996-08-30 2000-10-03 Drs Technologies, Inc. Thermoplastic mounting of a semiconductor die to a substrate having a mismatched coefficient of thermal expansion
US5847038A (en) * 1996-09-03 1998-12-08 Xerox Corporation Polymer processes
CN1105160C (zh) * 1997-01-06 2003-04-09 量子材料公司 减少可固化粘结剂中空隙的形成
US6265471B1 (en) 1997-03-03 2001-07-24 Diemat, Inc. High thermally conductive polymeric adhesive
JPH1145965A (ja) 1997-07-28 1999-02-16 Kyocera Corp 伝熱性化合物およびこれを用いた半導体装置
US6022616A (en) * 1998-01-23 2000-02-08 National Starch And Chemical Investment Holding Corporation Adhesive composition with small particle size for microelectronic devices
US6165613A (en) * 1999-03-09 2000-12-26 National Starch And Chemical Investment Holding Corporation Adhesive paste for semiconductors
US6426552B1 (en) * 2000-05-19 2002-07-30 Micron Technology, Inc. Methods employing hybrid adhesive materials to secure components of semiconductor device assemblies and packages to one another and assemblies and packages including components secured to one another with such hybrid adhesive materials
JP2001351929A (ja) * 2000-06-09 2001-12-21 Hitachi Ltd 半導体装置およびその製造方法
US7074481B2 (en) * 2001-09-17 2006-07-11 Dow Corning Corporation Adhesives for semiconductor applications efficient processes for producing such devices and the devices per se produced by the efficient processes
US6784555B2 (en) * 2001-09-17 2004-08-31 Dow Corning Corporation Die attach adhesives for semiconductor applications utilizing a polymeric base material with inorganic insulator particles of various sizes
TWI251018B (en) * 2002-04-10 2006-03-11 Fujikura Ltd Electroconductive composition, electroconductive coating and method of producing the electroconductive coating
US20050049350A1 (en) * 2003-08-25 2005-03-03 Sandeep Tonapi Thin bond-line silicone adhesive composition and method for preparing the same
JP3988735B2 (ja) * 2004-03-15 2007-10-10 日立金属株式会社 半導体装置及びその製造方法
TWI329323B (en) * 2006-04-21 2010-08-21 Kwo Kung Ming Method of fabricating conductive paste for conductive substrate or conductive film
US20070256783A1 (en) * 2006-05-08 2007-11-08 Dietz Raymond L Thermally enhanced adhesive paste
US8344523B2 (en) 2006-05-08 2013-01-01 Diemat, Inc. Conductive composition
US8159825B1 (en) 2006-08-25 2012-04-17 Hypres Inc. Method for fabrication of electrical contacts to superconducting circuits
US7422707B2 (en) * 2007-01-10 2008-09-09 National Starch And Chemical Investment Holding Corporation Highly conductive composition for wafer coating
US8795837B2 (en) * 2007-08-20 2014-08-05 Diemat, Inc. Adhesives with thermal conductivity enhanced by mixed silver fillers
EP2250227A4 (en) * 2008-02-25 2013-08-21 Henkel Ag & Co Kgaa OUT OF THEIR PUNCHING CHIP FIXING PASTE
US7906373B1 (en) * 2008-03-26 2011-03-15 Pawel Czubarow Thermally enhanced electrically insulative adhesive paste
DE102008036837A1 (de) * 2008-08-07 2010-02-18 Epcos Ag Sensorvorrichtung und Verfahren zur Herstellung
JP6706100B2 (ja) * 2016-03-10 2020-06-03 ナミックス株式会社 熱伝導性接着剤、ディスペンス用接着剤、スクリーン印刷用接着剤、および半導体装置
CN109072041B (zh) * 2017-03-31 2021-01-22 田中贵金属工业株式会社 导电性粘接剂组合物

Family Cites Families (12)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5349267A (en) * 1976-10-15 1978-05-04 Nippon Kokuen Kogyo Kk Method of mounting electric parts such as resistor to printed circuit substrate
AU534530B2 (en) * 1979-02-02 1984-02-02 Takeda Chemical Industries Ltd. 5-aza-(3.2.0)-heptane derivatives
US4518524A (en) * 1983-06-27 1985-05-21 Acheson Industries, Inc. Silver coating composition for use in electronic applications and the like
US4533685A (en) * 1983-07-26 1985-08-06 Hudgin Donald E Polymer-metal blend
GB8730196D0 (en) * 1987-12-24 1988-02-03 Johnson Matthey Plc Silver-filled glass
JPH025304A (ja) * 1988-06-21 1990-01-10 Nitto Denko Corp 導電性ペースト組成物
US5043214A (en) * 1988-08-15 1991-08-27 Allied-Signal Inc. Flame resistant article made of phenolic triazine and related method
US4933030A (en) * 1989-06-21 1990-06-12 Dietz Raymond L Low temperature glass composition, paste and method of use
US5043102A (en) * 1989-11-29 1991-08-27 Advanced Products, Inc. Conductive adhesive useful for bonding a semiconductor die to a conductive support base
US5061549A (en) * 1990-03-20 1991-10-29 Shores A Andrew Substrate attach adhesive film, application method and devices incorporating the same
US5155066A (en) * 1990-10-24 1992-10-13 Johnson Matthey Inc. Rapid-curing adhesive formulation for semiconductor devices
US5391604A (en) * 1993-07-30 1995-02-21 Diemat, Inc. Adhesive paste containing polymeric resin

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