JP2969198B2 - 放射線診断の評価を改善するための紫外線フィルム/スクリーンの組合わせ - Google Patents
放射線診断の評価を改善するための紫外線フィルム/スクリーンの組合わせInfo
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Description
【発明の詳細な説明】 発明の分野 本発明は放射線診断(radiology)の分野に関し、一
層特定的には放射線診断において使用する写真フィルム
およびX線増感スクリーンに関する。さらに一層特定的
には本発明は適当なフィルムと組合わされた、もっぱら
紫外線を発光するスクリーンに関し、この場合この組合
わせによって、同じ放射線量において著しく高い放射線
写真の画質を得、あるいは逆に著しく低下した放射線量
において同様の放射線写真の画質を得ることができる。
層特定的には放射線診断において使用する写真フィルム
およびX線増感スクリーンに関する。さらに一層特定的
には本発明は適当なフィルムと組合わされた、もっぱら
紫外線を発光するスクリーンに関し、この場合この組合
わせによって、同じ放射線量において著しく高い放射線
写真の画質を得、あるいは逆に著しく低下した放射線量
において同様の放射線写真の画質を得ることができる。
発明の背景 X線露光により形成される像を写真フィルムが把捉す
る能力を増大するためにX線増感スクリーンを使用する
ことは従来技術において周知である。これらのいわゆる
増感スクリーンの場合、系の感度が著しく増大し、従っ
て適切な像を形成しそしてフィルム上の情報を得るため
に患者に用いなければならない有害なX線の線量が低下
するので、増感スクリーンは現代の医学放射線写真にお
いて実際に高い人気を博している。例えばイットリウム
タンタレートをベースとする改良されたスクリーンが出
現するとともに、この最新のフィルム/スクリーン系の
感度は極度に速くなってきた。しかしながら一つの欠点
は、患者への線量を減少させようとする不断の努力で系
の感度が増大するにつれ、フィルム/スクリーン系上で
得ることのできる画質もまたいわゆる「ノイズ」および
解像度の低下によって劣化するという点である。従って
これに関連してフィルムの像の画質を良好にする系を得
ることが緊急に必要である。
る能力を増大するためにX線増感スクリーンを使用する
ことは従来技術において周知である。これらのいわゆる
増感スクリーンの場合、系の感度が著しく増大し、従っ
て適切な像を形成しそしてフィルム上の情報を得るため
に患者に用いなければならない有害なX線の線量が低下
するので、増感スクリーンは現代の医学放射線写真にお
いて実際に高い人気を博している。例えばイットリウム
タンタレートをベースとする改良されたスクリーンが出
現するとともに、この最新のフィルム/スクリーン系の
感度は極度に速くなってきた。しかしながら一つの欠点
は、患者への線量を減少させようとする不断の努力で系
の感度が増大するにつれ、フィルム/スクリーン系上で
得ることのできる画質もまたいわゆる「ノイズ」および
解像度の低下によって劣化するという点である。従って
これに関連してフィルムの像の画質を良好にする系を得
ることが緊急に必要である。
紫外線(以下「UV」と記す)を放出する蛍光体は周知
であるが、医療従事者がこれをX線蛍光体として商業的
に使用することは一般的になっていない。このUV放出蛍
光体は、X線により励起される時、UV領域にある300〜4
00nmの範囲の光線を一般に放出する。しかしながら、UV
放出蛍光体を従来からのハロゲン化銀フィルムと併用す
るとき、可視光線(波長は400nmより大きい)への露光
に際して生じる最大光学濃度(Dmax)より著しく低いDm
axが生じる。このDmaxの低下はフィルムの応答曲線に著
しいゆがみをもたらし、それがフィルムのコントラスト
性能の低下として表わされる。
であるが、医療従事者がこれをX線蛍光体として商業的
に使用することは一般的になっていない。このUV放出蛍
光体は、X線により励起される時、UV領域にある300〜4
00nmの範囲の光線を一般に放出する。しかしながら、UV
放出蛍光体を従来からのハロゲン化銀フィルムと併用す
るとき、可視光線(波長は400nmより大きい)への露光
に際して生じる最大光学濃度(Dmax)より著しく低いDm
axが生じる。このDmaxの低下はフィルムの応答曲線に著
しいゆがみをもたらし、それがフィルムのコントラスト
性能の低下として表わされる。
加えて、従来技術のほとんどの紫外線放出蛍光体はス
ペクトルの可視領域にある放射線をいくらか有してい
る。もっぱら390nm未満の波長を放出する蛍光体は従来
技術においては用途が見出されていなかった。
ペクトルの可視領域にある放射線をいくらか有してい
る。もっぱら390nm未満の波長を放出する蛍光体は従来
技術においては用途が見出されていなかった。
一般に入手できるフィルム系のほとんどは、ゼラチン
ハロゲン化銀エレメントをベースとし、そしてカーリン
グやその他の好ましくない影響を与えることなくフィル
ム系の被覆重量を増大するために、通常両面が被覆され
る。両面が被覆されたX線フィルムエレメントの場合、
フィルムエレメントの片面ごとに二つの増感スクリーン
を1つずつ使用するのが普通である。このフィルム/ス
クリーン構造体は、露光中のクロスオーバー効果(プリ
ントスルーとして知られる)のため不鮮明さを生じる。
従って、一定の感度(X線線量)で一層良好な画質を得
るか、あるいはプリントスルーを減少させることにより
得られる画質上の利点と引換えに一層低いX線露光線量
をとる必要がある。
ハロゲン化銀エレメントをベースとし、そしてカーリン
グやその他の好ましくない影響を与えることなくフィル
ム系の被覆重量を増大するために、通常両面が被覆され
る。両面が被覆されたX線フィルムエレメントの場合、
フィルムエレメントの片面ごとに二つの増感スクリーン
を1つずつ使用するのが普通である。このフィルム/ス
クリーン構造体は、露光中のクロスオーバー効果(プリ
ントスルーとして知られる)のため不鮮明さを生じる。
従って、一定の感度(X線線量)で一層良好な画質を得
るか、あるいはプリントスルーを減少させることにより
得られる画質上の利点と引換えに一層低いX線露光線量
をとる必要がある。
発明の概要 本発明の目的は、良好な感度、ならびに十分な最大濃
度、優れた画質および低いプリントスルーを含むセンシ
トメトリーを有するフィルム/スクリーン系を製造する
ことである。これらのそしてさらに別な特性として、両
面が被覆されたハロゲン化銀エレメントと接触する一対
のX線増感スクリーンを含む改良された放射線写真によ
り得られ、前記ハロゲン化銀は、ハロゲン化銀粒子を含
み、その少なくとも50%が厚さ0.5ミクロン以下および
平均アスペクト比が2:1以上の平板状ハロゲン化銀粒子
であり、そして上記のX線増感スクリーンが支持体を含
み、これの上に蛍光体が担持されており、この層が結合
剤中に分散された蛍光体を含むが、ただしこの蛍光体は
それにX線があたる時、300〜390nmの間にピーク放射線
を有し、300nm未満または390nm以上の波長においては20
%以上の光を放出しない(換言すると光の80%以上が30
0〜390nmの範囲内に限定される)ものとし、そして上記
結合剤が蛍光体の放出するすべての紫外線のうち10%以
下を吸収する。
度、優れた画質および低いプリントスルーを含むセンシ
トメトリーを有するフィルム/スクリーン系を製造する
ことである。これらのそしてさらに別な特性として、両
面が被覆されたハロゲン化銀エレメントと接触する一対
のX線増感スクリーンを含む改良された放射線写真によ
り得られ、前記ハロゲン化銀は、ハロゲン化銀粒子を含
み、その少なくとも50%が厚さ0.5ミクロン以下および
平均アスペクト比が2:1以上の平板状ハロゲン化銀粒子
であり、そして上記のX線増感スクリーンが支持体を含
み、これの上に蛍光体が担持されており、この層が結合
剤中に分散された蛍光体を含むが、ただしこの蛍光体は
それにX線があたる時、300〜390nmの間にピーク放射線
を有し、300nm未満または390nm以上の波長においては20
%以上の光を放出しない(換言すると光の80%以上が30
0〜390nmの範囲内に限定される)ものとし、そして上記
結合剤が蛍光体の放出するすべての紫外線のうち10%以
下を吸収する。
図面の簡単な説明 図1は本明細に述べる手順に従って製造される典型的
なX線増感スクリーンエレメントを示す。
なX線増感スクリーンエレメントを示す。
発明の詳述 X線に露光される時に紫外線(UV)を放射する周知の
X線蛍光体には多くのものがある。
X線蛍光体には多くのものがある。
これらの蛍光体もまた画質を改善することができる
が、これらのUV放出蛍光体からつくられるX線増感スク
リーンの場合、これと併用される従来のハロゲン化銀エ
レメントで得られるコントラストは極めて悪くまたDmax
が低い。フィルム応答曲線のこのような変化は、像記録
系のダイナミックレンジを増大せずにコントラストを悪
くするので、得られる像の使用可能な度合いが一層低く
なる。これらのUV放出蛍光体の代表的なものは、例えば
賦活されていないかあるいはガドリニウム、ビスマス、
鉛、セリウムまたはこれらの賦活剤の混合物により賦活
されたYTaO4;ガドリニウムによりまたはガドリニウムと
ツリウムにより賦活されたLaOBr;および特にガドリニウ
ムにより賦活されたLa2O2Sである。これらの蛍光体のほ
とんどは例えば300〜390nmの紫外線を主として放出する
が、例えば20%までのそして望ましくは10%より少ない
少量の光線も、300nm未満または390nm超の波長領域でも
放出することができる。本発明の目的のためには、UV放
出蛍光体は300〜390nm、望ましくは310〜360nmの波長領
域の紫外線を放出する。実質的なX線像形成系に適用可
能な本発明の蛍光体の場合、蛍光体の転換効率つまりこ
の蛍光体により吸収されるX線量子によって運ばれるエ
ネルギーが蛍光体により放出される光線の光子に転換さ
れる効率は5%より高くなければならない。
が、これらのUV放出蛍光体からつくられるX線増感スク
リーンの場合、これと併用される従来のハロゲン化銀エ
レメントで得られるコントラストは極めて悪くまたDmax
が低い。フィルム応答曲線のこのような変化は、像記録
系のダイナミックレンジを増大せずにコントラストを悪
くするので、得られる像の使用可能な度合いが一層低く
なる。これらのUV放出蛍光体の代表的なものは、例えば
賦活されていないかあるいはガドリニウム、ビスマス、
鉛、セリウムまたはこれらの賦活剤の混合物により賦活
されたYTaO4;ガドリニウムによりまたはガドリニウムと
ツリウムにより賦活されたLaOBr;および特にガドリニウ
ムにより賦活されたLa2O2Sである。これらの蛍光体のほ
とんどは例えば300〜390nmの紫外線を主として放出する
が、例えば20%までのそして望ましくは10%より少ない
少量の光線も、300nm未満または390nm超の波長領域でも
放出することができる。本発明の目的のためには、UV放
出蛍光体は300〜390nm、望ましくは310〜360nmの波長領
域の紫外線を放出する。実質的なX線像形成系に適用可
能な本発明の蛍光体の場合、蛍光体の転換効率つまりこ
の蛍光体により吸収されるX線量子によって運ばれるエ
ネルギーが蛍光体により放出される光線の光子に転換さ
れる効率は5%より高くなければならない。
これらの蛍光体は先行技術に周知の方法で製造するこ
とができ、そしてこれらは好適な支持体上に被覆される
前に適当な結合剤と混合される。このような方法でひと
たび製造されると、このエレメントは慣用的にはX線増
感スクリーンとして知られ、そして診断用X線像形成に
応用するのに著るしく適している。商業的に入手可能な
X線増感蛍光体は多数あるが本発明の範囲においては機
能しない。これらのX線増感蛍光体には以下のものがあ
るが、これらに限定されるものではない。
とができ、そしてこれらは好適な支持体上に被覆される
前に適当な結合剤と混合される。このような方法でひと
たび製造されると、このエレメントは慣用的にはX線増
感スクリーンとして知られ、そして診断用X線像形成に
応用するのに著るしく適している。商業的に入手可能な
X線増感蛍光体は多数あるが本発明の範囲においては機
能しない。これらのX線増感蛍光体には以下のものがあ
るが、これらに限定されるものではない。
本発明に記載の蛍光体により包含される種類のスクリ
ーンは慣用的には支持体、増感蛍光体層、およびこれの
ためのトップコートすなわち保護層を含む。スクリーン
構造体には、増白剤(whitener)のような反射層例えば
好適な結合剤中に分散されたTiO2もまた添加されてよ
い。普通、この反射層は蛍光体層と支持体との間におか
れるか、あるいは増白剤が支持体中に直接分散されても
よい。反射層は一般に、使用時に増感スクリーンの光出
力を増大する。保護層は機械的損傷から蛍光体層を保護
するのに重要である。蛍光体からのUV光線の強度を減少
させないために、保護層は一般に紫外線の透明でもなけ
ればならない。大量のUV光線を吸収することで知られた
保護層、例えばポリエチレンテレフタレート膜は、本発
明において特に有用ではない。操作時、増感スクリーン
はこれにあたるX線を吸収し、そしてこれと組合わされ
るハロゲン化銀X線写真フィルムによって容易に把捉さ
れる波長を有するエネルギーを放出する。イットリウ
ム、ガドリニウムまたはルテチウムの各タンタレートを
ベースとする効率的なX線増感蛍光体が知られている。
単斜M′相を有するこれらの特定の蛍光体はX線を把捉
するのに特に有効である。これらのタンタレート蛍光体
のあるものもまたUV光線の有効な放射体であり、本発明
の範囲において特に好ましい。これらはBrixnerの米国
特許第4,225,653号の方法に従って一般に製造される。
この文献に含まれる情報は参照によって本明細書に加入
されている。300nm未満または390nm超の波長において光
線の20%以上を放射できないこれらの蛍光体は、種々な
酸化物を混合しそして高められた温度で適当な融剤中で
焼成することにより一般に製造される。焼成、微粉化お
よび洗浄の後、蛍光体は適当な結合剤と、これに適当な
溶媒の存在下で混合され、そしてこの結合剤が、蛍光体
から放出されるすべてのUV光線の10%以下を吸収でき
る、つまり「透明な」結合剤であるかぎり、支持体上に
被覆される。これらの工程は上記のBrixnerの文献中に
記載されており、すべて先行技術において周知である。
この蛍光体被覆物の上に保護用のトップコートも適用し
てもよく、実際にそれが好ましい。
ーンは慣用的には支持体、増感蛍光体層、およびこれの
ためのトップコートすなわち保護層を含む。スクリーン
構造体には、増白剤(whitener)のような反射層例えば
好適な結合剤中に分散されたTiO2もまた添加されてよ
い。普通、この反射層は蛍光体層と支持体との間におか
れるか、あるいは増白剤が支持体中に直接分散されても
よい。反射層は一般に、使用時に増感スクリーンの光出
力を増大する。保護層は機械的損傷から蛍光体層を保護
するのに重要である。蛍光体からのUV光線の強度を減少
させないために、保護層は一般に紫外線の透明でもなけ
ればならない。大量のUV光線を吸収することで知られた
保護層、例えばポリエチレンテレフタレート膜は、本発
明において特に有用ではない。操作時、増感スクリーン
はこれにあたるX線を吸収し、そしてこれと組合わされ
るハロゲン化銀X線写真フィルムによって容易に把捉さ
れる波長を有するエネルギーを放出する。イットリウ
ム、ガドリニウムまたはルテチウムの各タンタレートを
ベースとする効率的なX線増感蛍光体が知られている。
単斜M′相を有するこれらの特定の蛍光体はX線を把捉
するのに特に有効である。これらのタンタレート蛍光体
のあるものもまたUV光線の有効な放射体であり、本発明
の範囲において特に好ましい。これらはBrixnerの米国
特許第4,225,653号の方法に従って一般に製造される。
この文献に含まれる情報は参照によって本明細書に加入
されている。300nm未満または390nm超の波長において光
線の20%以上を放射できないこれらの蛍光体は、種々な
酸化物を混合しそして高められた温度で適当な融剤中で
焼成することにより一般に製造される。焼成、微粉化お
よび洗浄の後、蛍光体は適当な結合剤と、これに適当な
溶媒の存在下で混合され、そしてこの結合剤が、蛍光体
から放出されるすべてのUV光線の10%以下を吸収でき
る、つまり「透明な」結合剤であるかぎり、支持体上に
被覆される。これらの工程は上記のBrixnerの文献中に
記載されており、すべて先行技術において周知である。
この蛍光体被覆物の上に保護用のトップコートも適用し
てもよく、実際にそれが好ましい。
放射線医学方法においては、上記したX線増感スクリ
ーンとともに感光性ハロゲン化銀フィルムエレメントを
使用することが慣用的である。このエレメントの被覆重
量は通常大きいので、支持体例えば寸法安定性のポリエ
チレンフタレート膜の両面にハロゲン化銀被覆物を適用
するのが常套的である。本発明を実施する際、ハロゲン
化銀は、臭化銀、塩化銀、沃化銀またはこれらの混合物
でありそして粒子の少なくとも50%が、厚さが0.5ミク
ロン以下、また平均アスペクト比が少なくとも2:1であ
る平板状粒子である平板状ハロゲン化銀粒子からなる。
これらのエレメントもまた先行技術において周知であり
またこの種類の粒子の製造方法も既知でありそして先行
技術により教示されている。これらの粒子は、ゼラチン
のような結合剤を用いてエマルジョンに一般に製造さ
れ、そして例えば金および硫黄により増感される。かぶ
り防止剤、湿潤剤および被覆助剤、染料、硬化剤などの
ような他の補助剤もまた必要なら存在してよい。エマル
ジョンは支持体の両面に被覆されそしてエマルジョン層
を保護するために、この層の各面に硬化されたゼラチン
の薄層が通常塗布される。本発明に有用なエマルジョン
はそれ自体一般に紫外線に敏感である感光性を有するの
で、何らかの種類の増感用染料または減感用染料をエマ
ルジョンに添加することは必要ないと思われる。しかし
ながら、場合により少量の増感用染料を添加するのが有
利であろう。加えて、平板状のエマルジョンの光応答能
を増大させるためにこれに増感用染料を添加することも
慣用的である。本発明において有用な写真エレメント、
つまりAgIBrまたはAgBrClの平板状結晶を含有する写真
エマルジョンがさらに区別されるための特徴は以下のも
のである。すなわち、これらのエマルジョンを、本発明
のスクリーンから発するUV光線に露光する時、このエマ
ルジョンが可能とする最大の光学濃度つまりDmaxは、同
じ系400nmより大きい波長を有する可視光線に露光する
時に得られるDmaxと比べ10%以上減少しない。
ーンとともに感光性ハロゲン化銀フィルムエレメントを
使用することが慣用的である。このエレメントの被覆重
量は通常大きいので、支持体例えば寸法安定性のポリエ
チレンフタレート膜の両面にハロゲン化銀被覆物を適用
するのが常套的である。本発明を実施する際、ハロゲン
化銀は、臭化銀、塩化銀、沃化銀またはこれらの混合物
でありそして粒子の少なくとも50%が、厚さが0.5ミク
ロン以下、また平均アスペクト比が少なくとも2:1であ
る平板状粒子である平板状ハロゲン化銀粒子からなる。
これらのエレメントもまた先行技術において周知であり
またこの種類の粒子の製造方法も既知でありそして先行
技術により教示されている。これらの粒子は、ゼラチン
のような結合剤を用いてエマルジョンに一般に製造さ
れ、そして例えば金および硫黄により増感される。かぶ
り防止剤、湿潤剤および被覆助剤、染料、硬化剤などの
ような他の補助剤もまた必要なら存在してよい。エマル
ジョンは支持体の両面に被覆されそしてエマルジョン層
を保護するために、この層の各面に硬化されたゼラチン
の薄層が通常塗布される。本発明に有用なエマルジョン
はそれ自体一般に紫外線に敏感である感光性を有するの
で、何らかの種類の増感用染料または減感用染料をエマ
ルジョンに添加することは必要ないと思われる。しかし
ながら、場合により少量の増感用染料を添加するのが有
利であろう。加えて、平板状のエマルジョンの光応答能
を増大させるためにこれに増感用染料を添加することも
慣用的である。本発明において有用な写真エレメント、
つまりAgIBrまたはAgBrClの平板状結晶を含有する写真
エマルジョンがさらに区別されるための特徴は以下のも
のである。すなわち、これらのエマルジョンを、本発明
のスクリーンから発するUV光線に露光する時、このエマ
ルジョンが可能とする最大の光学濃度つまりDmaxは、同
じ系400nmより大きい波長を有する可視光線に露光する
時に得られるDmaxと比べ10%以上減少しない。
このことは式: により表わすことができる。
ハロゲン化銀平板状粒子製品は先行技術において周知
であり、慣用の粒子製品例えば半球形粒子に比べてかな
りの利点をユーザーに提供している。平板状粒子製品は
被覆力を低下することなく、ずっと少ない被覆重量で被
覆することが通常可能である。この製品は、より少量の
従来の硬化剤によって硬化することができ、このこと
は、これまでの粒子に比べて全く顕著な利点となってい
る。平板状の塩化物エマルジョンもまた周知でありそし
てMaskaskyにより米国特許第4,400,463号においてまたW
eyによっても米国特許第4,399,205号に記載されてい
る。平板状粒子の製造および使用について述べている他
の参考文献のいくつかは、Dickersonの米国特許第4,14
4,304号;Wilgusらの米国特許第4,434,226号;Kofronらの
米国特許第4,439,520号;およびTufanoとChanの米国特
許第4,804,621号である。
であり、慣用の粒子製品例えば半球形粒子に比べてかな
りの利点をユーザーに提供している。平板状粒子製品は
被覆力を低下することなく、ずっと少ない被覆重量で被
覆することが通常可能である。この製品は、より少量の
従来の硬化剤によって硬化することができ、このこと
は、これまでの粒子に比べて全く顕著な利点となってい
る。平板状の塩化物エマルジョンもまた周知でありそし
てMaskaskyにより米国特許第4,400,463号においてまたW
eyによっても米国特許第4,399,205号に記載されてい
る。平板状粒子の製造および使用について述べている他
の参考文献のいくつかは、Dickersonの米国特許第4,14
4,304号;Wilgusらの米国特許第4,434,226号;Kofronらの
米国特許第4,439,520号;およびTufanoとChanの米国特
許第4,804,621号である。
特に好ましい態様においては、アクリル樹脂混合物中
に前記のごとく製造されるYTaO4蛍光体を溶媒を用いて
分散することにより、一対のX線増感スクリーンが製造
される。
に前記のごとく製造されるYTaO4蛍光体を溶媒を用いて
分散することにより、一対のX線増感スクリーンが製造
される。
この混合物は次いで、少量のアナターゼTiO2増白剤を
その中に分散して含有するポリエチレンテレフタレート
支持体上に被覆される。蛍光体は1平方cmあたり約15〜
120mgの被覆重量にて被覆されてよい。これにスチレン
/アクリロニトリルコポリマーのトップコートが被覆さ
れそして乾燥される。このフィルムエレメントは、当該
技術において通常の技術を有する者にとって周知の慣用
的に製造される両面被覆の、ゼラチンハロゲン化銀エレ
メント、望ましくは、増感用青色染料をその中に少量含
有する平板状エマルジョンである。このエマルジョンは
金および硫黄の添加によりそしてまたかぶり防止剤など
の添加により、感度が最適水準に高められてもいる。湿
潤剤および被覆助剤もまた存在する。被覆重量は(両面
合計で)例えば1平方cmあたり銀80〜150mgであってよ
い。
その中に分散して含有するポリエチレンテレフタレート
支持体上に被覆される。蛍光体は1平方cmあたり約15〜
120mgの被覆重量にて被覆されてよい。これにスチレン
/アクリロニトリルコポリマーのトップコートが被覆さ
れそして乾燥される。このフィルムエレメントは、当該
技術において通常の技術を有する者にとって周知の慣用
的に製造される両面被覆の、ゼラチンハロゲン化銀エレ
メント、望ましくは、増感用青色染料をその中に少量含
有する平板状エマルジョンである。このエマルジョンは
金および硫黄の添加によりそしてまたかぶり防止剤など
の添加により、感度が最適水準に高められてもいる。湿
潤剤および被覆助剤もまた存在する。被覆重量は(両面
合計で)例えば1平方cmあたり銀80〜150mgであってよ
い。
本発明の実施において、両面被覆のゼラチンハロゲン
化銀エレメントは慣用のカセットにおいて、前述した一
組のX線増感スクリーンの間におかれる。このエレメン
トは次いで、検査すべき対象例えば患者に近接しておか
れる。線源からX線が発生し、対象を通過し、そして増
感スクリーンにより吸収される。X線の吸収の結果放出
されるUV光線は増感スクリーン中に含まれるフィルムエ
レメントを露光する。このようにしてディテールが高
く、ノイズが低くそしてプリントスルーの少ない高品質
の像が得られる。このプリントスルーの減少は特に有利
である。当該技術においてすでにいわれているごとく、
プリントスルーは放射線写真の分野においてかねてから
続いている問題であり、放射線写真により得ることので
きる情報が多くなるので、プリントスルーが一層少ない
エレメントを製造するためにさまざまな努力がなされて
きた。ハロゲン化銀はその性質上、UV光線を強力に吸収
するので、各スクリーンによって放出される光線は、フ
ィルム支持体の片面上のエマルジョンの背後まで、つま
り支持体に接する写真エマルジョンの両面までほとんど
透過しない。この結果、プリントスルー光線としてベー
スを通して伝幡される可能性のある光線の割合は極めて
低い。しかしながら、ほとんどのフィルム支持体、特に
ポリエチレンフタレート支持体はUV光線を吸収するの
で、プリントスルーはさらに一層減少する。このこと
は、フィルムベースの片面上において、写真エマルジョ
ンの下に染料層をおくことによりプリントスルーを減少
させる既知の方法と比べると、染料層が必要でない点そ
してスクリーンによって放出される化学光線のより多く
の割合が、染料によって無駄に吸収されることなく像の
形成に役立つ点で差がある。
化銀エレメントは慣用のカセットにおいて、前述した一
組のX線増感スクリーンの間におかれる。このエレメン
トは次いで、検査すべき対象例えば患者に近接しておか
れる。線源からX線が発生し、対象を通過し、そして増
感スクリーンにより吸収される。X線の吸収の結果放出
されるUV光線は増感スクリーン中に含まれるフィルムエ
レメントを露光する。このようにしてディテールが高
く、ノイズが低くそしてプリントスルーの少ない高品質
の像が得られる。このプリントスルーの減少は特に有利
である。当該技術においてすでにいわれているごとく、
プリントスルーは放射線写真の分野においてかねてから
続いている問題であり、放射線写真により得ることので
きる情報が多くなるので、プリントスルーが一層少ない
エレメントを製造するためにさまざまな努力がなされて
きた。ハロゲン化銀はその性質上、UV光線を強力に吸収
するので、各スクリーンによって放出される光線は、フ
ィルム支持体の片面上のエマルジョンの背後まで、つま
り支持体に接する写真エマルジョンの両面までほとんど
透過しない。この結果、プリントスルー光線としてベー
スを通して伝幡される可能性のある光線の割合は極めて
低い。しかしながら、ほとんどのフィルム支持体、特に
ポリエチレンフタレート支持体はUV光線を吸収するの
で、プリントスルーはさらに一層減少する。このこと
は、フィルムベースの片面上において、写真エマルジョ
ンの下に染料層をおくことによりプリントスルーを減少
させる既知の方法と比べると、染料層が必要でない点そ
してスクリーンによって放出される化学光線のより多く
の割合が、染料によって無駄に吸収されることなく像の
形成に役立つ点で差がある。
以下に本発明を下記の実施例によって説明するが、実
施例1は本発明の最良の態様を示すものと考えられる。
すべての部およびパーセントは特記しない限り重量基準
である。
施例1は本発明の最良の態様を示すものと考えられる。
すべての部およびパーセントは特記しない限り重量基準
である。
実施例 1 以下の手順を用いてX線増感スクリーン構造体を製作
した。
した。
A.結合剤溶液 以下の成分を準備した。 成 分 量(g) n−ブチルアセテート 43.13 n−プロパノール 34.00 Carboset 525(1) 10.00 Carboset 526(2) 10.00 重合体有機シリコーン液 0.07 Zelec 2457E(3) 0.40 Aerosol OR−100(4) 0.40 Pluronic 31R1(5) 2.00 (1) アクリル樹脂;平均分子量260,000;酸価76〜85
(B.F.Goodrich社製)(2) アクリル樹脂;平均分子量200,000;酸価100(B.
F.Goodrich社製)(3) RがC8〜C10アルキル基である一般構造式R2HPO4
を有するモノアルキルホスフェートとジアルキルホスフ
ェートとの混合物である陰イオン静電気防止剤(du Pon
t社製)(4) 米国特許第2,441,341号のナトリウムジオクチル
スルホスクシネート(5) エチレンオキサイド/プロピレンオキサイドブロ
ックコポリマー;平均分子量3,200(BASF Wyandotte社
製) B.X線蛍光体 下記の成分を、アルミナのるつぼに装入する前にペイ
ント振盪機で約2時間完全に混合した。
(B.F.Goodrich社製)(2) アクリル樹脂;平均分子量200,000;酸価100(B.
F.Goodrich社製)(3) RがC8〜C10アルキル基である一般構造式R2HPO4
を有するモノアルキルホスフェートとジアルキルホスフ
ェートとの混合物である陰イオン静電気防止剤(du Pon
t社製)(4) 米国特許第2,441,341号のナトリウムジオクチル
スルホスクシネート(5) エチレンオキサイド/プロピレンオキサイドブロ
ックコポリマー;平均分子量3,200(BASF Wyandotte社
製) B.X線蛍光体 下記の成分を、アルミナのるつぼに装入する前にペイ
ント振盪機で約2時間完全に混合した。
成 分 量(g) Y2O3 101.46 Ta2O5 198.54 Li2SO4 150.00 次に標準的な市販の高温炉内にるつぼを入れ、そして
約8時間約1200℃、次いで約16時間約1250℃で焼成し
た。次に炉を冷却し、そしてるつぼの内容物を秤量し、
融剤を除去するために水で完全に洗浄した。次にこの物
質を、約200gの蛍光体と60gの結合剤溶液とを用いて、
結合剤溶液Aに添加した。次に、この混合物を直径1cm
のコランダム球約85g(約15個)とともにプラスチック
スの容器内に入れ、そして室温下で約60rpmの回転速度
にて約12〜約16時間ボールミル混合した。この工程の
後、ボールミルにかけられた懸濁物を75メッシュのNylo
n 袋を用いて濾過しそして好適な支持体上に被覆し
た。
約8時間約1200℃、次いで約16時間約1250℃で焼成し
た。次に炉を冷却し、そしてるつぼの内容物を秤量し、
融剤を除去するために水で完全に洗浄した。次にこの物
質を、約200gの蛍光体と60gの結合剤溶液とを用いて、
結合剤溶液Aに添加した。次に、この混合物を直径1cm
のコランダム球約85g(約15個)とともにプラスチック
スの容器内に入れ、そして室温下で約60rpmの回転速度
にて約12〜約16時間ボールミル混合した。この工程の
後、ボールミルにかけられた懸濁物を75メッシュのNylo
n 袋を用いて濾過しそして好適な支持体上に被覆し
た。
使用した支持体は少量の増白剤例えばアナターゼTiO2
を分散して少量含有する厚さ0.010インチの寸法安定性
のポリエチレンテレフタレート膜であった。
を分散して少量含有する厚さ0.010インチの寸法安定性
のポリエチレンテレフタレート膜であった。
この増白剤は可視光線に対する或る程度の不透明度例
えば大体1.7を越える光学濃度を支持体に与える。支持
体上におかれる蛍光体分散物の被覆重量は1平均cmあた
り蛍光体約20〜約100mgの範囲である。
えば大体1.7を越える光学濃度を支持体に与える。支持
体上におかれる蛍光体分散物の被覆重量は1平均cmあた
り蛍光体約20〜約100mgの範囲である。
C.オーバーコート層 以下の溶液からオーバーコート層を製造した。
1) 成 分 量(g) アセトン 67.00 メタノール 9.00 n−ブチルアセテート 4.80 Tyrul 100(1) 12.70 Carboset XL−27(2) 9.00 (1) スチレン/アクリロニトリルコポリマー樹脂
(Dow Chemical社製)(2) アクリル樹脂;平均分子量30,000;酸価80の
(B.F.Goodrich社製) 濃稠なゲルが生成するまで以下の成分を混合すること
によりゲル溶液を調製した。
(Dow Chemical社製)(2) アクリル樹脂;平均分子量30,000;酸価80の
(B.F.Goodrich社製) 濃稠なゲルが生成するまで以下の成分を混合すること
によりゲル溶液を調製した。
2) 成 分 量(g) メタノール 14.70 トリアミルアミン 0.20 Carbopol (1) 0.132 (1) アクリル樹脂粘稠剤(B.F.Goodrich社製) この溶液を濾過してそして下記の混合物を調製した。
3) 成 分 量(g) 溶液1 50.00 ゲル溶液 12.19 この混合物を蛍光体被覆物の上、厚さ0.004インチの
間隙を有するドクターナイフを用いて被覆した。得られ
るトップコートを40℃で12〜16時間空気乾燥した。
間隙を有するドクターナイフを用いて被覆した。得られ
るトップコートを40℃で12〜16時間空気乾燥した。
このようにして得た構造体を図1に示す。
この構造体において、1は少量のアナターゼTiO2を分
散して含有するポリエチレンテレフタレート支持体であ
り、2は上記した蛍光体被覆物であり、そして3はこれ
の上に適用されたオーバーコートすなわち保護層であ
る。
散して含有するポリエチレンテレフタレート支持体であ
り、2は上記した蛍光体被覆物であり、そして3はこれ
の上に適用されたオーバーコートすなわち保護層であ
る。
D.フィルムエレメント 慣用の平板状粒子の青色感性のX線エマルジョンを、
当該技術分野において周知なように製造した。このエマ
ルジョンは平板状の沃臭化銀粒子を有した。粒子の沈降
後、平均アスペクト比を測定すると約5:1であり、また
厚さは約0.2μmであった。この性質をもつ平板状粒子
を製造するための方法は、Nottorfの米国特許第4,772,8
86号およびEllisの米国特許第4,801,552号に詳細に記述
されている。これらの内容は参照によって本明細書中に
加えられている。
当該技術分野において周知なように製造した。このエマ
ルジョンは平板状の沃臭化銀粒子を有した。粒子の沈降
後、平均アスペクト比を測定すると約5:1であり、また
厚さは約0.2μmであった。この性質をもつ平板状粒子
を製造するための方法は、Nottorfの米国特許第4,772,8
86号およびEllisの米国特許第4,801,552号に詳細に記述
されている。これらの内容は参照によって本明細書中に
加えられている。
これらの粒子は写真等級のゼラチン(沃臭化銀1モル
あたりゼラチン約117g)中に分散され、そしてメタノー
ル25ml中に溶解された200mgの5−(3−メチル−2−
ベンゾチアゾリニリデン)−3−カルボキシ−メチルロ
ーダニンの懸濁液を添加して、ハロゲン化銀1モルあた
り染料を133mgとした。この時点で、当該技術分野で周
知なごとく金と硫黄の塩によってエマルジョンの感度を
最適にした。次いで4−ヒドロキシ−6−メチル−1,3,
3a,7−テトラアザインデンと1−フェニル−5−メルカ
プトテトラゾールを添加してエマルジョンを安定化し
た。通常の湿潤剤、かぶり防止剤、被覆助剤および硬化
剤を添加し、続いてこのエマルジョンを、まず慣用の樹
脂下塗り剤で次いでこれの上に塗布する硬化されたゼラ
チンの薄い下塗り層で被覆されている寸法安定性の厚さ
7ミリのポリエチレンテレフタレート膜上に被覆した。
これらの下塗り層は支持体の両面上にあった。エマルジ
ョンは約2g/m2で各面上に被覆された。硬化されたゼラ
チンの薄い耐摩耗層を各エマルジョン層上に塗布した。
乾燥の後、このフィルム試料を以下にさらに述べるよう
にX線増感スクリーンの組とともに使用した。
あたりゼラチン約117g)中に分散され、そしてメタノー
ル25ml中に溶解された200mgの5−(3−メチル−2−
ベンゾチアゾリニリデン)−3−カルボキシ−メチルロ
ーダニンの懸濁液を添加して、ハロゲン化銀1モルあた
り染料を133mgとした。この時点で、当該技術分野で周
知なごとく金と硫黄の塩によってエマルジョンの感度を
最適にした。次いで4−ヒドロキシ−6−メチル−1,3,
3a,7−テトラアザインデンと1−フェニル−5−メルカ
プトテトラゾールを添加してエマルジョンを安定化し
た。通常の湿潤剤、かぶり防止剤、被覆助剤および硬化
剤を添加し、続いてこのエマルジョンを、まず慣用の樹
脂下塗り剤で次いでこれの上に塗布する硬化されたゼラ
チンの薄い下塗り層で被覆されている寸法安定性の厚さ
7ミリのポリエチレンテレフタレート膜上に被覆した。
これらの下塗り層は支持体の両面上にあった。エマルジ
ョンは約2g/m2で各面上に被覆された。硬化されたゼラ
チンの薄い耐摩耗層を各エマルジョン層上に塗布した。
乾燥の後、このフィルム試料を以下にさらに述べるよう
にX線増感スクリーンの組とともに使用した。
E.フィルム/スクリーンの露光およびその結果 X線フィルムエレメントを露光するためにスクリーン
の組を使用した。本実施例においては、YTaO4:Tmから製
造された蛍光体からなるコントロールを、上記の記述に
従って製造される本発明の一組のスクリーンとともに使
用した。これらのスクリーンを、両面が被覆されたX線
フィルムエレメントとともに真空袋中にいれそしてタン
グステン陽極のある60KVPのX線源に曝露した。露光の
後、フィルムを標準的なX線現像液処方物中で現像し、
定着させ、水洗しそして乾燥して以下の結果を得た。
の組を使用した。本実施例においては、YTaO4:Tmから製
造された蛍光体からなるコントロールを、上記の記述に
従って製造される本発明の一組のスクリーンとともに使
用した。これらのスクリーンを、両面が被覆されたX線
フィルムエレメントとともに真空袋中にいれそしてタン
グステン陽極のある60KVPのX線源に曝露した。露光の
後、フィルムを標準的なX線現像液処方物中で現像し、
定着させ、水洗しそして乾燥して以下の結果を得た。
以上のごとく、ほとんど同じ感度において本発明のエ
レメントの鮮明度は約50%増大した。さらに、蛍光体の
被覆重量が一層少なくても一層良い結果を得ることがで
きた。鮮明度のこの増大は、コントロールと比較すると
プリントスルーが著るしく低下するからである。
レメントの鮮明度は約50%増大した。さらに、蛍光体の
被覆重量が一層少なくても一層良い結果を得ることがで
きた。鮮明度のこの増大は、コントロールと比較すると
プリントスルーが著るしく低下するからである。
実施例 2〜4 これらの実施例においては、本発明の範囲に入る追加
的ないくつかのX線増感蛍光体を試験した。実施例1に
記載されたのと同様の方法でスクリーンを製造しそして
各組のスクリーンを実施例1において述べたフィルムと
一緒に使用した。露光およびその後の処理もまた同例に
記載の通りであった。以下の結果を得た。
的ないくつかのX線増感蛍光体を試験した。実施例1に
記載されたのと同様の方法でスクリーンを製造しそして
各組のスクリーンを実施例1において述べたフィルムと
一緒に使用した。露光およびその後の処理もまた同例に
記載の通りであった。以下の結果を得た。
実施例 5 蛍光体の商業的な製造 本試験においては、66.2重量%の酸化タンタルと33.8
重量%の酸化イットリウムとを含む混合物を、アリカリ
土類ハロゲン化物融剤の存在下で高温箱型炉内で24時間
まで焼成した。1200〜1300℃で約24時間焼成の後、この
材料を取り出しそして砕き、蛍光体を水洗して融剤と、
関連する不純物とを除去した。この蛍光体の試料を実施
例1に記載のようにそして図1に例示したようにX線ス
クリーンにした。結果を表3および表4に示す。本実験
における蛍光体層は約93.7%の蛍光体、約5.6%の結合
剤および約0.5%の可塑化剤(Pluronic 31R1)を含有し
た。いくつかのスクリーンを製作しそして、感度を所望
の範囲内に制御するためにスクリーンのいくつかに少量
のUV吸収剤(Sanduvor ALB)を添加した。次に、これら
のスクリーンとともにX線フィルムの試料(実施例1参
照)を使用してこれらの系の効率を試験して以下の結果
を得た。
重量%の酸化イットリウムとを含む混合物を、アリカリ
土類ハロゲン化物融剤の存在下で高温箱型炉内で24時間
まで焼成した。1200〜1300℃で約24時間焼成の後、この
材料を取り出しそして砕き、蛍光体を水洗して融剤と、
関連する不純物とを除去した。この蛍光体の試料を実施
例1に記載のようにそして図1に例示したようにX線ス
クリーンにした。結果を表3および表4に示す。本実験
における蛍光体層は約93.7%の蛍光体、約5.6%の結合
剤および約0.5%の可塑化剤(Pluronic 31R1)を含有し
た。いくつかのスクリーンを製作しそして、感度を所望
の範囲内に制御するためにスクリーンのいくつかに少量
のUV吸収剤(Sanduvor ALB)を添加した。次に、これら
のスクリーンとともにX線フィルムの試料(実施例1参
照)を使用してこれらの系の効率を試験して以下の結果
を得た。
フロントページの続き (56)参考文献 特開 昭52−35626(JP,A) 特開 平3−72339(JP,A) (58)調査した分野(Int.Cl.6,DB名) G03C 5/17
Claims (6)
- 【請求項1】両面が被覆されたハロゲン化銀エレメント
と接触する一対のX線増感スクリーンを含む放射線写真
系であって、 前記ハロゲン化銀は、ハロゲン化銀粒子を含みその少な
くとも50%が厚さ0.5ミクロン以下および平均アスペク
ト比が2:1以上の平板状ハロゲン化銀粒子であり、そし
て 前記X線増感スクリーンがその上に蛍光体層を担持する
支持体を含み、そして 前記蛍光体層は結合剤中に分散された蛍光体を含み、前
記蛍光体はX線を吸収する時に、300〜390nmの間に発光
のピークを有し、300nm未満または390nm超の波長領域で
その光の20%を越えて発光しないことを条件とし、そし
て前記結合剤は蛍光体から放出される紫外線のうち10%
以下を吸収し、 そして前記の両面被覆ハロゲン化銀エレメントは、可視
光線に露光するときに前記ハロゲン化銀エレメント上に
得ることのできる最高濃度として定義されるDmax(可視
光線)、紫外光線に露光するときに前記ハロゲン化銀エ
レメント上に得ることのできる最高濃度として定義され
るDmax(紫外線)および下記式: の関係を有する、放射線写真系。 - 【請求項2】蛍光体が310〜360nmの間に発光のピークを
有し、そして結合剤が蛍光体から放出される紫外線のう
ち10%以下を吸収する、請求項1記載の系。 - 【請求項3】ハロゲン化銀エマルジョンが、粒子平均厚
さ0.21〜0.30ミクロンおよび4.0:1〜5.5:1のアスペクト
比を有する平板状ハロゲン化銀/ゼラチンエマルジョン
である、請求項1記載の系。 - 【請求項4】蛍光体がイットリウムタンタレート、ガド
リニウムで賦活されたイットリウムタンタレートおよび
ガドリニウムで賦活されたランタンオキシブロマイドか
ら選択される、請求項1記載の系。 - 【請求項5】蛍光体がYTaO4であり、そして結合剤が平
均分子量が100,000〜300,000のアクリル樹脂混合物であ
る、請求項1記載の系。 - 【請求項6】平板状ハロゲン化銀粒子が臭化銀、塩化
銀、ヨウ化銀またはこれらの混合物よりなる群から選択
される、請求項1記載の系。
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US72515491A | 1991-07-03 | 1991-07-03 | |
US725,154 | 1991-07-03 | ||
PCT/US1992/005442 WO1993001521A1 (en) | 1991-07-03 | 1992-07-02 | Ultraviolet film/screen combinations for improved radiological evaluations |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH06509182A JPH06509182A (ja) | 1994-10-13 |
JP2969198B2 true JP2969198B2 (ja) | 1999-11-02 |
Family
ID=24913372
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP5502266A Expired - Lifetime JP2969198B2 (ja) | 1991-07-03 | 1992-07-02 | 放射線診断の評価を改善するための紫外線フィルム/スクリーンの組合わせ |
Country Status (5)
Country | Link |
---|---|
EP (1) | EP0592616B1 (ja) |
JP (1) | JP2969198B2 (ja) |
AU (1) | AU2270492A (ja) |
DE (1) | DE69223145T2 (ja) |
WO (1) | WO1993001521A1 (ja) |
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5221846A (en) * | 1991-11-27 | 1993-06-22 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Radiographic system with improved image quality |
US5338822A (en) * | 1992-10-02 | 1994-08-16 | Cargill, Incorporated | Melt-stable lactide polymer composition and process for manufacture thereof |
EP2772340A1 (de) * | 2013-02-28 | 2014-09-03 | GWP Gesellschaft Für Werkstoffprüfung MbH | Verstärkter Kunststoff und Verfahren zu dessen Herstellung |
JP7302258B2 (ja) * | 2018-04-27 | 2023-07-04 | 東レ株式会社 | シンチレータパネル |
Family Cites Families (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4959174A (en) * | 1985-05-18 | 1990-09-25 | Nichia Kagaku Kogyo K.K. | Phosphor which emits light by the excitation of X-ray |
US4711827A (en) * | 1986-02-24 | 1987-12-08 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | X-ray intensifying screen with improved topcoat |
US4801522A (en) * | 1986-10-10 | 1989-01-31 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Process for preparing a photographic emulsion containing tabular grains exhibiting high speed |
US4804621A (en) * | 1987-04-27 | 1989-02-14 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Process for the preparation of tabular silver chloride emulsions using a grain growth modifier |
-
1992
- 1992-07-02 DE DE69223145T patent/DE69223145T2/de not_active Expired - Fee Related
- 1992-07-02 EP EP93900045A patent/EP0592616B1/en not_active Expired - Lifetime
- 1992-07-02 JP JP5502266A patent/JP2969198B2/ja not_active Expired - Lifetime
- 1992-07-02 AU AU22704/92A patent/AU2270492A/en not_active Abandoned
- 1992-07-02 WO PCT/US1992/005442 patent/WO1993001521A1/en active IP Right Grant
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH06509182A (ja) | 1994-10-13 |
WO1993001521A1 (en) | 1993-01-21 |
DE69223145D1 (de) | 1997-12-18 |
EP0592616A1 (en) | 1994-04-20 |
EP0592616B1 (en) | 1997-11-12 |
DE69223145T2 (de) | 1998-04-30 |
AU2270492A (en) | 1993-02-11 |
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