JP2962265B2 - 電気光学素子の製造方法 - Google Patents
電気光学素子の製造方法Info
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Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、電気光学素子の製
造方法に関し、特に、電気光学効果を利用して被測定物
の電界を検出する信号波形測定装置に用いる電気光学素
子の製造方法に関する。
造方法に関し、特に、電気光学効果を利用して被測定物
の電界を検出する信号波形測定装置に用いる電気光学素
子の製造方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】この種の信号波形測定装置に従来用いら
れている電気光学素子について、図５に示す信号波形測
定装置の構成図を用いて、説明する。図５を参照して、
電気光学物体１を被測定物１２に対して近接させ若しく
は接触させることにより、被測定物１２の信号によって
発生した電界を電気光学物体１内に導き、電気光学物体
１の屈折率を変化させる。光源５１より光１１を電気光
学物体１に入射し、反射膜４で反射させることにより、
光の偏光を変化させる。その偏光が変化した反射光をビ
ームスプリッタ５２で垂直方向に反射させ、検光子５３
で光強度に変換し、光検出器５４で検出することによ
り、信号波形を測定する。
れている電気光学素子について、図５に示す信号波形測
定装置の構成図を用いて、説明する。図５を参照して、
電気光学物体１を被測定物１２に対して近接させ若しく
は接触させることにより、被測定物１２の信号によって
発生した電界を電気光学物体１内に導き、電気光学物体
１の屈折率を変化させる。光源５１より光１１を電気光
学物体１に入射し、反射膜４で反射させることにより、
光の偏光を変化させる。その偏光が変化した反射光をビ
ームスプリッタ５２で垂直方向に反射させ、検光子５３
で光強度に変換し、光検出器５４で検出することによ
り、信号波形を測定する。
【０００３】電気光学素子５５は、電気光学物体１の被
測定物体１２に向く面には反射膜４を備え、その反対側
の面には透明導電膜２を備える構造となっている。反射
膜４は、電気光学物体１に入射された光を入射方向に反
射させる。一方、透明導電膜２は基準電位にされて、被
測定物１２の電界を透明導電膜２の方向に誘導する。
測定物体１２に向く面には反射膜４を備え、その反対側
の面には透明導電膜２を備える構造となっている。反射
膜４は、電気光学物体１に入射された光を入射方向に反
射させる。一方、透明導電膜２は基準電位にされて、被
測定物１２の電界を透明導電膜２の方向に誘導する。
【０００４】ここで、図５に示す従来の電気光学素子５
５は、透明導電膜２を接地電位にするために、金属ワイ
ヤ６を用い、これを透明導電膜２に銀ペーストのような
導電性塗料で或いは接着剤と導電性塗料との組合せなど
（いずれも、図示は省略）で取り付ける構造であった。
叉、電気光学物体１の反射膜４側の面と透明導電膜２側
の面とが、平行な構造であった。
５は、透明導電膜２を接地電位にするために、金属ワイ
ヤ６を用い、これを透明導電膜２に銀ペーストのような
導電性塗料で或いは接着剤と導電性塗料との組合せなど
（いずれも、図示は省略）で取り付ける構造であった。
叉、電気光学物体１の反射膜４側の面と透明導電膜２側
の面とが、平行な構造であった。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】上述した信号波形測定
装置における従来の電気光学素子５５においては、反射
膜４で反射された光の一部が、透明導電膜２と電気光学
物体１との界面で反射されてしまう。そのため、反射膜
４と透明導電膜２の間に多重反射が起き、正確な信号が
測定できないという問題が生じる。
装置における従来の電気光学素子５５においては、反射
膜４で反射された光の一部が、透明導電膜２と電気光学
物体１との界面で反射されてしまう。そのため、反射膜
４と透明導電膜２の間に多重反射が起き、正確な信号が
測定できないという問題が生じる。
【０００６】また、透明導電膜２を基準（接地）電位に
するために、導電接着剤などで透明導電膜２に金属ワイ
ヤ６を接続する構造としていることから、製作が難しく
電気光学素子の小型化が困難である。その結果、小型化
による測定の高感度化が難しい。
するために、導電接着剤などで透明導電膜２に金属ワイ
ヤ６を接続する構造としていることから、製作が難しく
電気光学素子の小型化が困難である。その結果、小型化
による測定の高感度化が難しい。
【０００７】従って、信号波形測定装置の精度を向上さ
せることのできる電気光学素子が望まれている。
せることのできる電気光学素子が望まれている。
【０００８】本発明は、叉、信号波形測定装置の感度を
向上させることのできる電気光学素子を提供することを
目的とする。
向上させることのできる電気光学素子を提供することを
目的とする。
【０００９】そこで、本発明は、上記のような、信号波
形測定装置の高精度化、高感度化に寄与可能な電気光学
素子を容易に製造する方法を提供することを目的とする
ものである。
形測定装置の高精度化、高感度化に寄与可能な電気光学
素子を容易に製造する方法を提供することを目的とする
ものである。
【００１０】
【課題を解決するための手段】本発明の電気光学素子
は、外部から加わる電界に応じて屈折率が変化する板状
の電気光学物体の一方の面には反射膜を備え、他方の面
には透明導電膜を備える構造の電気光学素子であって、
前記透明導電膜上に、金属膜からなるパッドを備えてい
る。
は、外部から加わる電界に応じて屈折率が変化する板状
の電気光学物体の一方の面には反射膜を備え、他方の面
には透明導電膜を備える構造の電気光学素子であって、
前記透明導電膜上に、金属膜からなるパッドを備えてい
る。
【００１１】叉、前記電気光学物体と前記透明導電膜と
の間に、電気光学物体の側から、酸化膜及び反射防止膜
をこの順に備えている。
の間に、電気光学物体の側から、酸化膜及び反射防止膜
をこの順に備えている。
【００１２】更に、前記電気光学物体の透明導電膜が設
けられた側の面が、前記反射膜が設けられた側の面に対
し傾斜していることを特徴とする。
けられた側の面が、前記反射膜が設けられた側の面に対
し傾斜していることを特徴とする。
【００１３】上記の電気光学素子は、外部から加わる電
界に応じて屈折率が変化する板状の電気光学物体の一方
の面には反射膜を設け、他方の面には透明導電膜を設け
る工程を含む電気光学素子の製造方法において、電気光
学物体の一方の面には反射膜を形成し他方の面には透明
導電膜を形成した後、前記透明導電膜上に金属膜を形成
する工程と、前記金属膜を、リソグラフィを用いたエッ
チングにより、一部をパッド状に残して、選択的に除去
する工程とを備えることを特徴とする製造方法によって
製造される。
界に応じて屈折率が変化する板状の電気光学物体の一方
の面には反射膜を設け、他方の面には透明導電膜を設け
る工程を含む電気光学素子の製造方法において、電気光
学物体の一方の面には反射膜を形成し他方の面には透明
導電膜を形成した後、前記透明導電膜上に金属膜を形成
する工程と、前記金属膜を、リソグラフィを用いたエッ
チングにより、一部をパッド状に残して、選択的に除去
する工程とを備えることを特徴とする製造方法によって
製造される。
【００１４】叉、前記電気光学物体の他方の面上に前記
透明導電膜を形成するに先立って、前記電気光学物体の
他方の面上に酸化膜及び反射防止膜をこの順に形成する
工程を備えることを特徴とする製造方法によって製造さ
れる。
透明導電膜を形成するに先立って、前記電気光学物体の
他方の面上に酸化膜及び反射防止膜をこの順に形成する
工程を備えることを特徴とする製造方法によって製造さ
れる。
【００１５】更には、前記透明導電膜上の金属膜を選択
的に除去するに先立って、前記電気光学物体の一方の面
上の前記反射膜上に、前記金属膜のエッチングに対する
反射膜の保護膜を形成する工程を備えることを特徴とす
る製造方法によって製造される。
的に除去するに先立って、前記電気光学物体の一方の面
上の前記反射膜上に、前記金属膜のエッチングに対する
反射膜の保護膜を形成する工程を備えることを特徴とす
る製造方法によって製造される。
【００１６】本発明では、電気光学素子において、反射
膜と透明導電膜との間に角度を持たせることにより或い
は、透明導電膜と電気光学物体との間に反射防止膜を介
在させることにより、電気光学物体内で光の多重反射を
起こさせない。これにより、多重反射によるノイズを除
去し、信号波形測定の精度を高める。
膜と透明導電膜との間に角度を持たせることにより或い
は、透明導電膜と電気光学物体との間に反射防止膜を介
在させることにより、電気光学物体内で光の多重反射を
起こさせない。これにより、多重反射によるノイズを除
去し、信号波形測定の精度を高める。
【００１７】本発明は、電気光学素子の製造に際し、リ
ソグラフィとエッチング技術とを用い、透明導電膜上に
形成した金属膜を一部分をパッド状に残して選択的に除
去する。そして、ワイヤボンディング技術を用い、残し
た方のパッド状金属膜に金属細線（ボンディングワイ
ヤ）をボンディング接続する。これにより、小型の電気
光学素子を容易に製造できる。
ソグラフィとエッチング技術とを用い、透明導電膜上に
形成した金属膜を一部分をパッド状に残して選択的に除
去する。そして、ワイヤボンディング技術を用い、残し
た方のパッド状金属膜に金属細線（ボンディングワイ
ヤ）をボンディング接続する。これにより、小型の電気
光学素子を容易に製造できる。
【００１８】本発明によれば、小型でしかも電気光学物
体内での多重反射のない電気光学素子を、容易に製造で
きる。従って、信号波形測定装置の高感度化、高精度化
を容易に達成できる。
体内での多重反射のない電気光学素子を、容易に製造で
きる。従って、信号波形測定装置の高感度化、高精度化
を容易に達成できる。
【００１９】
【発明の実施の形態】次に、本発明の実施の形態につい
て、数例の実施例を用い、図面を参照して詳説する。
て、数例の実施例を用い、図面を参照して詳説する。
【００２０】〔実施例１〕図１は、本発明の第１の実施
例（実施例１）の信号波形測定装置における、電気光学
素子と被測定物１２の近辺の様子を模式的に示す側面図
である。図１を参照して、この図に示す電気光学物体１
は下面に反射膜４を備え、上面には透明導電膜２と金属
パッド３とを備えている。金属パッド３は透明導電膜２
に対してその一部分上に形成された構造となっており、
ボンディングワイヤ５が金属パッド３にボンディング接
続されている。
例（実施例１）の信号波形測定装置における、電気光学
素子と被測定物１２の近辺の様子を模式的に示す側面図
である。図１を参照して、この図に示す電気光学物体１
は下面に反射膜４を備え、上面には透明導電膜２と金属
パッド３とを備えている。金属パッド３は透明導電膜２
に対してその一部分上に形成された構造となっており、
ボンディングワイヤ５が金属パッド３にボンディング接
続されている。
【００２１】図１において、ワイヤ５を接地することに
より透明導電膜２を接地電位にし、被測定物１２から発
生した電界１３を、横方向に漏れることなく透明導電膜
２に誘導する。このいわゆる縦型電場による電界によっ
て、電気光学物体１の屈折率を変化させる。透明導電膜
２の金属パッドに覆われていない部分の表面から光１１
を入射し、その光を反射膜４によって反射させる。この
間、電気光学物体１を通過している過程で偏光が変化し
た光を、透明導電膜２の表面から入射方向へ出射させ
る。
より透明導電膜２を接地電位にし、被測定物１２から発
生した電界１３を、横方向に漏れることなく透明導電膜
２に誘導する。このいわゆる縦型電場による電界によっ
て、電気光学物体１の屈折率を変化させる。透明導電膜
２の金属パッドに覆われていない部分の表面から光１１
を入射し、その光を反射膜４によって反射させる。この
間、電気光学物体１を通過している過程で偏光が変化し
た光を、透明導電膜２の表面から入射方向へ出射させ
る。
【００２２】本発明者は、この実施例１の電気光学素子
を、以下のようにして製造した。図１を参照して、電気
光学物体１として縦方向（紙面上下方向）の電界に対し
て電気光学効果を生じるＧａＡｓ、ＣｄＴｅ或いはＺｅ
Ｔｅなどの結晶板を用いた。その電気光学物体１の下面
には、反射膜４として、ＡｌやＡｇなどの金属膜や誘電
体多層膜を設け、上面には、インジウムの酸化物と錫の
酸化物とから成るＩＴＯ製の透明導電膜２を設け、その
上にＡｕ、Ａｌなどの金属膜を形成し、フォトリソグラ
フィ技術を用い、ボンディングパッドとなる部分３を残
してエッチング除去した。尚、金属パッド３と透明導電
膜２との密着性を向上させるために、好ましくはそれら
の間にＣｕ膜を配すると良い。金属パッド３は、光１１
を透明導電膜２に入射させるように、透明導電膜の上に
全面に被着させた金属膜を、光１１の透明導電膜２上で
のスポット直径の約２倍程度の面積で除去して形成し
た。金属パッド３にワイヤボンディングした金属細線５
には、直径３０μｍ程度のＡｌ線やＡｕ線などを用い
た。
を、以下のようにして製造した。図１を参照して、電気
光学物体１として縦方向（紙面上下方向）の電界に対し
て電気光学効果を生じるＧａＡｓ、ＣｄＴｅ或いはＺｅ
Ｔｅなどの結晶板を用いた。その電気光学物体１の下面
には、反射膜４として、ＡｌやＡｇなどの金属膜や誘電
体多層膜を設け、上面には、インジウムの酸化物と錫の
酸化物とから成るＩＴＯ製の透明導電膜２を設け、その
上にＡｕ、Ａｌなどの金属膜を形成し、フォトリソグラ
フィ技術を用い、ボンディングパッドとなる部分３を残
してエッチング除去した。尚、金属パッド３と透明導電
膜２との密着性を向上させるために、好ましくはそれら
の間にＣｕ膜を配すると良い。金属パッド３は、光１１
を透明導電膜２に入射させるように、透明導電膜の上に
全面に被着させた金属膜を、光１１の透明導電膜２上で
のスポット直径の約２倍程度の面積で除去して形成し
た。金属パッド３にワイヤボンディングした金属細線５
には、直径３０μｍ程度のＡｌ線やＡｕ線などを用い
た。
【００２３】本実施例の電気光学素子は、ワイヤ５を金
属パッド３に直接ワイヤボンディングしているので、導
電性接着材などを用いる必要はなく、製造が容易であ
る。しかも、ワイヤボンディングは、例えばＬＳＩの製
造など他の分野でも利用される接続技術であり、細密化
が非常に進んだ接続技術であるので、本実施例において
も、金属パッドの小面積化は何らの困難もなく可能で、
延いては信号波形測定装置の高感度化が可能である。
属パッド３に直接ワイヤボンディングしているので、導
電性接着材などを用いる必要はなく、製造が容易であ
る。しかも、ワイヤボンディングは、例えばＬＳＩの製
造など他の分野でも利用される接続技術であり、細密化
が非常に進んだ接続技術であるので、本実施例において
も、金属パッドの小面積化は何らの困難もなく可能で、
延いては信号波形測定装置の高感度化が可能である。
【００２４】被測定物１２と透明導電膜２との間の関係
は、被測定物１２と反射膜４との間に構成されるコンデ
ンサ（容量値＝Ｃ1 ）と、反射膜４と透明導電膜２との
間に構成されるコンデンサ（容量値＝Ｃ2 ）の２つの平
行平板コンデンサとして解析できる。いま、被測定物１
２の電圧をＶとすると、電気光学物体１に印加される電
圧ＶEOは、ＶEO＝Ｖ／（１＋Ｃ2 / Ｃ1 ）で表され、電
気光学物体１の屈折率変化量は、この電圧ＶEOに比例す
る。従って、容量値Ｃ2 が小さいほど感度は向上する。
すなわち、素子の小型化によって、高感度の信号波形測
定ができるのである。
は、被測定物１２と反射膜４との間に構成されるコンデ
ンサ（容量値＝Ｃ1 ）と、反射膜４と透明導電膜２との
間に構成されるコンデンサ（容量値＝Ｃ2 ）の２つの平
行平板コンデンサとして解析できる。いま、被測定物１
２の電圧をＶとすると、電気光学物体１に印加される電
圧ＶEOは、ＶEO＝Ｖ／（１＋Ｃ2 / Ｃ1 ）で表され、電
気光学物体１の屈折率変化量は、この電圧ＶEOに比例す
る。従って、容量値Ｃ2 が小さいほど感度は向上する。
すなわち、素子の小型化によって、高感度の信号波形測
定ができるのである。
【００２５】本実施例は、このように、金属パッド３に
ワイヤ５を直接ワイヤボンディング接続することによ
り、容易に製造できる。また、小型化が容易で、その小
型化により、高感度の信号波形測定を可能にする。
ワイヤ５を直接ワイヤボンディング接続することによ
り、容易に製造できる。また、小型化が容易で、その小
型化により、高感度の信号波形測定を可能にする。
【００２６】〔実施例２〕次に、本発明の第２の実施例
（実施例２）について、説明する。図２は、本発明の実
施例２による電気光学素子の側面図である。図２を参照
して、本実施例は、電気光学物体１の上面が下面に対し
て、傾斜角度２１をもった傾斜面となっている点が、実
施例１と異なっている。電気光学物体１は、その下面に
反射膜４を備え、上面には、透明導電膜２と金属パッド
３とを備えている。金属パッド３は透明導電膜２に対し
てその一部分上に形成された構造となっており、ワイヤ
５が金属パッド３にワイヤボンディングされている。
（実施例２）について、説明する。図２は、本発明の実
施例２による電気光学素子の側面図である。図２を参照
して、本実施例は、電気光学物体１の上面が下面に対し
て、傾斜角度２１をもった傾斜面となっている点が、実
施例１と異なっている。電気光学物体１は、その下面に
反射膜４を備え、上面には、透明導電膜２と金属パッド
３とを備えている。金属パッド３は透明導電膜２に対し
てその一部分上に形成された構造となっており、ワイヤ
５が金属パッド３にワイヤボンディングされている。
【００２７】本実施例において、反射膜４で反射された
光１１は、その一部が電気光学物体１と透明導電膜２の
界面で反射される。しかし、透明導電膜２が形成されて
いる面が反射膜４に対して傾斜しているので、上記の透
明導電膜２からの反射光は、反射膜４に対して斜めに入
射することになる。従って、反射膜４と透明導電膜２と
の間で多重反射は起こらない。
光１１は、その一部が電気光学物体１と透明導電膜２の
界面で反射される。しかし、透明導電膜２が形成されて
いる面が反射膜４に対して傾斜しているので、上記の透
明導電膜２からの反射光は、反射膜４に対して斜めに入
射することになる。従って、反射膜４と透明導電膜２と
の間で多重反射は起こらない。
【００２８】本発明者は、この実施例の電気光学素子
を、次のようにして、製造した。図２を参照して、電気
光学物体１として、ＧａＡｓ、ＣｄＴｅやＺｅＴｅなど
のような、縦方向（紙面上下方向）の電界に対して電気
光学効果を生じる結晶板を用いた。その電気光学物体１
の下面には、反射膜４として、ＡｌやＡｇなどの金属や
誘電体多層膜を設けた。上面は下面に対して、光１１の
直径や集光レンズなどによるが、５度程度の傾斜角度２
１を持たせた傾斜面とした。そして、その傾斜を持った
上面に、インジウムの酸化物と錫の酸化物から成るＩＴ
Ｏ製の透明導電膜２を形成し、さらにその上にＡｕ、Ａ
ｌなどの金属膜を形成したのち、ボンディングパッドと
なる部分３を残して、フォトリソグラフィ技術により、
エッチング除去した。尚、金属パッド３と透明導電膜２
との密着性を向上させるために、好ましくはそれらの間
にＣｕ膜を配すると良い。金属パッド３は、光１１が透
明導電膜２に入射されるように、全面状に被着させた金
属膜を、光１１の透明導電膜２上でのスポット直径の約
２倍程度の面積をエッチング除去して、残した部分であ
る。
を、次のようにして、製造した。図２を参照して、電気
光学物体１として、ＧａＡｓ、ＣｄＴｅやＺｅＴｅなど
のような、縦方向（紙面上下方向）の電界に対して電気
光学効果を生じる結晶板を用いた。その電気光学物体１
の下面には、反射膜４として、ＡｌやＡｇなどの金属や
誘電体多層膜を設けた。上面は下面に対して、光１１の
直径や集光レンズなどによるが、５度程度の傾斜角度２
１を持たせた傾斜面とした。そして、その傾斜を持った
上面に、インジウムの酸化物と錫の酸化物から成るＩＴ
Ｏ製の透明導電膜２を形成し、さらにその上にＡｕ、Ａ
ｌなどの金属膜を形成したのち、ボンディングパッドと
なる部分３を残して、フォトリソグラフィ技術により、
エッチング除去した。尚、金属パッド３と透明導電膜２
との密着性を向上させるために、好ましくはそれらの間
にＣｕ膜を配すると良い。金属パッド３は、光１１が透
明導電膜２に入射されるように、全面状に被着させた金
属膜を、光１１の透明導電膜２上でのスポット直径の約
２倍程度の面積をエッチング除去して、残した部分であ
る。
【００２９】図２において、反射膜４で反射された光１
１は、その一部が電気光学物体１と透明導電膜２との界
面で反射される。ところが、透明導電膜２が形成されて
いる面が反射膜４に対して５度程度傾斜していることか
ら、その透明導電膜２からの反射光は反射膜４に対し
て、１０度程度の角度で斜めに入射することになる。従
って、反射膜４と透明導電膜２との間で多重反射は、生
じない。
１は、その一部が電気光学物体１と透明導電膜２との界
面で反射される。ところが、透明導電膜２が形成されて
いる面が反射膜４に対して５度程度傾斜していることか
ら、その透明導電膜２からの反射光は反射膜４に対し
て、１０度程度の角度で斜めに入射することになる。従
って、反射膜４と透明導電膜２との間で多重反射は、生
じない。
【００３０】〔実施例３〕次に、本発明の第３の実施例
（実施例３）について、説明する。図３は、本実施例に
よる電気光学素子の側面図である。図３を参照して、本
実施例は、電気光学物体１の上面に、下層から順に、酸
化膜３１と反射防止膜３２とを備えており、その上に透
明導電膜２と金属パッド３とが形成されている点が、実
施例１と異なっている。金属パッド３は透明導電膜２に
対して、その一部分上に形成された構造となっており、
ワイヤ５が金属パッド３に、ワイヤボンディングされて
いる。電気光学素子１の下面には、反射膜が形成されて
いる。
（実施例３）について、説明する。図３は、本実施例に
よる電気光学素子の側面図である。図３を参照して、本
実施例は、電気光学物体１の上面に、下層から順に、酸
化膜３１と反射防止膜３２とを備えており、その上に透
明導電膜２と金属パッド３とが形成されている点が、実
施例１と異なっている。金属パッド３は透明導電膜２に
対して、その一部分上に形成された構造となっており、
ワイヤ５が金属パッド３に、ワイヤボンディングされて
いる。電気光学素子１の下面には、反射膜が形成されて
いる。
【００３１】本発明者は、この実施例の電気光学素子
を、図４に示す製造工程の流れ図に従って製造した。先
ず、両面が光学研磨された電気光学物体１の片面に酸化
膜形成４１、反射防止膜形成４２、透明導電膜形成４３
および金属膜形成４４を行い、もう一方の面に反射膜形
成４５を行う。電気光学物体１としては、縦方向（紙面
上下方向）の電界に対して電気光学効果を生じるＧａＡ
ｓ、ＣｄＴｅやＺｅＴｅなどの結晶板をを用い、その下
面に設ける反射膜４としては、ＡｌやＡｇなどの金属や
誘電体多層膜を用いた。すなわち、酸化膜形成工程４１
では、上記の電気光学物体１の一方の面上にＳｉＯ2
を、蒸着あるいは気相成長により成膜した。反射防止膜
形成４２では、Ａｌ2 Ｏ3 を蒸着あるいはスパッタによ
り成膜した。透明導電膜形成工程４３では、ＩＴＯを蒸
着あるいはスパッタにより成膜した。金属膜形成４４工
程では、Ａｕを蒸着あるいはスパッタにより成膜した。
叉、電気光学物体１のもう一方の面に対する反射膜形成
工程４５では、Ａｌを蒸着あるいはスパッタにより成膜
した。
を、図４に示す製造工程の流れ図に従って製造した。先
ず、両面が光学研磨された電気光学物体１の片面に酸化
膜形成４１、反射防止膜形成４２、透明導電膜形成４３
および金属膜形成４４を行い、もう一方の面に反射膜形
成４５を行う。電気光学物体１としては、縦方向（紙面
上下方向）の電界に対して電気光学効果を生じるＧａＡ
ｓ、ＣｄＴｅやＺｅＴｅなどの結晶板をを用い、その下
面に設ける反射膜４としては、ＡｌやＡｇなどの金属や
誘電体多層膜を用いた。すなわち、酸化膜形成工程４１
では、上記の電気光学物体１の一方の面上にＳｉＯ2
を、蒸着あるいは気相成長により成膜した。反射防止膜
形成４２では、Ａｌ2 Ｏ3 を蒸着あるいはスパッタによ
り成膜した。透明導電膜形成工程４３では、ＩＴＯを蒸
着あるいはスパッタにより成膜した。金属膜形成４４工
程では、Ａｕを蒸着あるいはスパッタにより成膜した。
叉、電気光学物体１のもう一方の面に対する反射膜形成
工程４５では、Ａｌを蒸着あるいはスパッタにより成膜
した。
【００３２】次に、金属膜パターニング工程４６で、フ
ォトリソグラフィを用いたエッチングにより、金属パッ
ド３のパターンを形成する。この工程では、半導体デバ
イスの製造プロセスで一般的に用いられているリソグラ
フィ技術およびエッチング技術を利用して、Ａｕなどの
金属膜を一部選択的に除去して、金属パッド３のパター
ンを残す。本実施例では、エッチング除去する金属膜
（パッド３以外の部分）の面積を、光１１が透明導電膜
２に入射するように、光１１の透明導電膜２上でのスポ
ット直径の約２倍程度の面積とした。尚、エッチングに
よりＡｌなどの反射膜がダメージを受けないように、フ
ォトレジストを反射膜上にも塗布、ベークして反射膜を
保護することが好ましい。また、金属パッド３と透明導
電膜２との間の密着性を向上させるために、好ましくは
それらの間にＣｕ膜を介在させるとよい。
ォトリソグラフィを用いたエッチングにより、金属パッ
ド３のパターンを形成する。この工程では、半導体デバ
イスの製造プロセスで一般的に用いられているリソグラ
フィ技術およびエッチング技術を利用して、Ａｕなどの
金属膜を一部選択的に除去して、金属パッド３のパター
ンを残す。本実施例では、エッチング除去する金属膜
（パッド３以外の部分）の面積を、光１１が透明導電膜
２に入射するように、光１１の透明導電膜２上でのスポ
ット直径の約２倍程度の面積とした。尚、エッチングに
よりＡｌなどの反射膜がダメージを受けないように、フ
ォトレジストを反射膜上にも塗布、ベークして反射膜を
保護することが好ましい。また、金属パッド３と透明導
電膜２との間の密着性を向上させるために、好ましくは
それらの間にＣｕ膜を介在させるとよい。
【００３３】その後、素子毎に切断、分離４７して、実
装４８した後、ボンディング技術によりワイヤ接続４９
を行う。すなわち、切断・分離工程４７で、半導体デバ
イスの製造におけるダイシング技術を利用して３００μ
ｍ×３００μｍのサイズに切断した後、実装工程４８
で、信号波形測定装置内に実装した。続くワイヤ接続工
程４９では、金属パッド３に、直径３０μｍのＡｌ細線
やＡｕ細線などからなるボンディングワイヤをボンディ
ングした。このボンディングには、同じく半導体デバイ
スの製造に用いられる超音波ボンディングなどのワイヤ
ボンディング技術を利用した。
装４８した後、ボンディング技術によりワイヤ接続４９
を行う。すなわち、切断・分離工程４７で、半導体デバ
イスの製造におけるダイシング技術を利用して３００μ
ｍ×３００μｍのサイズに切断した後、実装工程４８
で、信号波形測定装置内に実装した。続くワイヤ接続工
程４９では、金属パッド３に、直径３０μｍのＡｌ細線
やＡｕ細線などからなるボンディングワイヤをボンディ
ングした。このボンディングには、同じく半導体デバイ
スの製造に用いられる超音波ボンディングなどのワイヤ
ボンディング技術を利用した。
【００３４】このようにして製造した本実施例の電気光
学素子においては、反射膜４で反射された光１１は、そ
の一部が透明導電膜２から反射膜４方向に反射するのを
反射防止膜３２によって妨げられ、多重反射を起こさな
い。本実施例も実施例２と同様に、実施例１における製
造の容易性、小型化の向上という効果に加えて、反射膜
４と透明導電膜２との間の光の多重反射に起因するノイ
ズの除去とそれに基づく波形測定精度の向上という効果
をもたらす。
学素子においては、反射膜４で反射された光１１は、そ
の一部が透明導電膜２から反射膜４方向に反射するのを
反射防止膜３２によって妨げられ、多重反射を起こさな
い。本実施例も実施例２と同様に、実施例１における製
造の容易性、小型化の向上という効果に加えて、反射膜
４と透明導電膜２との間の光の多重反射に起因するノイ
ズの除去とそれに基づく波形測定精度の向上という効果
をもたらす。
【００３５】
【発明の効果】本発明の第１の効果は、透明導電膜上に
金属パッドを設け、ワイヤボンディング技術により直接
ワイヤを接続できるようにすることにより、小型の電気
光学素子を容易に製造できるようにしたことである。本
発明によれば、ワイヤを接続するときに導電接着剤など
を用いる必要がなく、導電接着剤を硬化させる間に発生
するワイヤの位置ずれなどに対処する必要がないからで
ある。
金属パッドを設け、ワイヤボンディング技術により直接
ワイヤを接続できるようにすることにより、小型の電気
光学素子を容易に製造できるようにしたことである。本
発明によれば、ワイヤを接続するときに導電接着剤など
を用いる必要がなく、導電接着剤を硬化させる間に発生
するワイヤの位置ずれなどに対処する必要がないからで
ある。
【００３６】これにより、本発明によれば、透明導電膜
に対するワイヤ接続用部分の面積を小さくし延いては、
電気光学素子の面積を小さくして素子の容量を小さくす
ることができ、電気光学物体により多く被測定物からの
電界を誘起して、信号波形測定の感度を高めることがで
きる。
に対するワイヤ接続用部分の面積を小さくし延いては、
電気光学素子の面積を小さくして素子の容量を小さくす
ることができ、電気光学物体により多く被測定物からの
電界を誘起して、信号波形測定の感度を高めることがで
きる。
【００３７】本発明の第２の効果は、反射膜と透明導電
膜との間で光の多重反射が生じないようにすることがで
き、その結果、高精度の信号波形測定が可能になること
である。本発明によれば、反射膜と透明導電膜との間の
光の多重反射によるノイズの影響が除去できるからであ
る。
膜との間で光の多重反射が生じないようにすることがで
き、その結果、高精度の信号波形測定が可能になること
である。本発明によれば、反射膜と透明導電膜との間の
光の多重反射によるノイズの影響が除去できるからであ
る。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の実施例１による信号波形測定装置にお
ける電気光学素子の側面図である。
ける電気光学素子の側面図である。
【図２】本発明の実施例２による信号波形測定装置にお
ける電気光学素子の側面図である。
ける電気光学素子の側面図である。
【図３】本発明の実施例３による信号波形測定装置にお
ける電気光学素子の側面図である。
ける電気光学素子の側面図である。
【図４】本発明の実施例３による電気光学素子の製造工
程を、工程順に示す流れ図である。
程を、工程順に示す流れ図である。
【図５】信号波形測定装置の構成及びこれに用いられる
従来の電気光学素子の構造を示す側面図である。
従来の電気光学素子の構造を示す側面図である。
１ 電気光学物体 ２ 透明導電膜 ３ 金属パッド ４ 反射膜 ５ ワイヤ １１ 光 １２ 被測定物 １３ 電界 ２１ 傾斜角度 ３１ 酸化膜 ３２ 反射防止膜 ４１ 酸化膜形成工程 ４２ 反射防止膜形成工程 ４３ 透明導電膜形成工程 ４４ 金属膜形成工程 ４５ 反射膜形成工程 ４６ 金属膜パターニング工程 ４７ 切断・分離工程 ４８ 実装工程 ４９ ワイヤ接続工程 ５１ 光源 ５２ ビームスプリッタ ５３ 検光子 ５４ 光検出器 ５５ 電気光学素子
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (58)調査した分野(Int.Cl.6，ＤＢ名) G01R 15/00 - 29/14 G02F 1/015 - 1/055 505 H01L 21/60 301
Claims (3)
- 【請求項１】 外部から加わる電界に応じて屈折率が変
化する板状の電気光学物体の一方の面には反射膜を設
け、他方の面には透明導電膜を設ける工程と、前記電気
光学物体の他方の面上に設けた前記透明導電膜上に金属
膜を形成する工程と、 前記電気光学物体の一方の面上に設けた前記反射膜上
に、前記金属膜のエッチングに対する反射膜の保護膜を
形成する工程と、 前記電気光学物体の他方の面側の金属膜を、リソグラフ
ィを用いたエッチングにより、一部をパッド状に残し
て、選択的に除去する工程とを備えることを特徴とする
電気光学素子の製造方法 。 - 【請求項２】 外部から加わる電界に応じて屈折率が変
化する板状の電気光学物体の一方の面には反射膜を設
け、他方の面には酸化膜、反射防止膜及び透明導電膜を
この順に設ける工程と、 前記電気光学物体の他方の面側に設けた前記透明導電膜
上に金属膜を形成する工程と、 前記電気光学物体の一方の面上に設けた前記反射膜上
に、前記金属膜のエッチングに対する反射膜の保護膜を
形成する工程と、 前記電気光学物体の他方の面側の金属膜を、リソグラフ
ィを用いたエッチングにより、一部をパッド状に残し
て、選択的に除去する工程とを備えることを特徴とする
電気光学素子の製造方法 。 - 【請求項３】 請求項１又は請求項２に記載の電気光学
素子の製造方法において、 前記パッド状に残した金属膜に、金属細線をワイヤボン
ディングにより接続する工程を備えることを特徴とする
電気光学素子の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9053069A JP2962265B2 (ja) | 1997-03-07 | 1997-03-07 | 電気光学素子の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9053069A JP2962265B2 (ja) | 1997-03-07 | 1997-03-07 | 電気光学素子の製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH10253932A JPH10253932A (ja) | 1998-09-25 |
| JP2962265B2 true JP2962265B2 (ja) | 1999-10-12 |
Family
ID=12932541
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP9053069A Expired - Fee Related JP2962265B2 (ja) | 1997-03-07 | 1997-03-07 | 電気光学素子の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2962265B2 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2006032952A (ja) * | 2004-07-12 | 2006-02-02 | Shogen Koden Kofun Yugenkoshi | 透明性導電層を含む全方向性リフレクタを有する発光ダイオード |
-
1997
- 1997-03-07 JP JP9053069A patent/JP2962265B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2006032952A (ja) * | 2004-07-12 | 2006-02-02 | Shogen Koden Kofun Yugenkoshi | 透明性導電層を含む全方向性リフレクタを有する発光ダイオード |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH10253932A (ja) | 1998-09-25 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 19990706 |
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