JP2003344457A - 電気光学プロ―ブ - Google Patents
電気光学プロ―ブInfo
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- JP2003344457A JP2003344457A JP2002155556A JP2002155556A JP2003344457A JP 2003344457 A JP2003344457 A JP 2003344457A JP 2002155556 A JP2002155556 A JP 2002155556A JP 2002155556 A JP2002155556 A JP 2002155556A JP 2003344457 A JP2003344457 A JP 2003344457A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 測定感度及び測定精度を向上させることがで
きる電気光学プローブを提供する。 【解決手段】 電気光学素子13は、金属ピン11を介
して結合される電界に応じて入射する検出光の偏光状態
を変える。この電気光学素子13は、近傍に金属ピン1
1が配置される面に、金属ピン11と電気光学素子13
との電気的結合を高めるとともに、入射した前記検出光
を反射する金属反射膜15を備える。
きる電気光学プローブを提供する。 【解決手段】 電気光学素子13は、金属ピン11を介
して結合される電界に応じて入射する検出光の偏光状態
を変える。この電気光学素子13は、近傍に金属ピン1
1が配置される面に、金属ピン11と電気光学素子13
との電気的結合を高めるとともに、入射した前記検出光
を反射する金属反射膜15を備える。
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、被測定信号によっ
て生ずる電界を電気光学素子に結合させ、電気光学結結
晶に入射させた検出光の偏光状態の変化により被測定信
号を測定する電気光学プローブに関する。
て生ずる電界を電気光学素子に結合させ、電気光学結結
晶に入射させた検出光の偏光状態の変化により被測定信
号を測定する電気光学プローブに関する。
【0002】
【従来の技術】電気光学プローブは、電気光学素子と、
被測定信号により生ずる電界を電気光学素子に結合させ
る金属ピンと、電気光学素子に検出光としてのレーザ光
を入射させる光源と、電気光学素子を介したレーザ光の
偏光状態を検出する検出回路とを含んで構成される。こ
の電気光学プローブを用いた被測定信号を測定する場合
には、被測定信号の伝送線路(例えば、マイクロストリ
ップライン)に電気光学プローブの金属ピンを当接させ
て被測定信号により生ずる電界を電気光学素子に結合さ
せた状態で、例えば円偏光のレーザ光を電気光学素子に
入射させ、電気光学素子を介したレーザ光の偏光状態を
検出回路で検出する。
被測定信号により生ずる電界を電気光学素子に結合させ
る金属ピンと、電気光学素子に検出光としてのレーザ光
を入射させる光源と、電気光学素子を介したレーザ光の
偏光状態を検出する検出回路とを含んで構成される。こ
の電気光学プローブを用いた被測定信号を測定する場合
には、被測定信号の伝送線路(例えば、マイクロストリ
ップライン)に電気光学プローブの金属ピンを当接させ
て被測定信号により生ずる電界を電気光学素子に結合さ
せた状態で、例えば円偏光のレーザ光を電気光学素子に
入射させ、電気光学素子を介したレーザ光の偏光状態を
検出回路で検出する。
【0003】上記の電気光学プローブにおいて、電気光
学素子に入射させるレーザ光をパルス状にして被測定信
号をサンプリングするサンプリング機能を備えるものが
案出されている。かかるサンプリング機能を備える電気
光学プローブは、被測定信号を極めて高い時間分解能で
測定することが可能となる。このサンプリング機能を備
える電気光学プローブを用いたのが電気光学サンプリン
グオシロスコープである。
学素子に入射させるレーザ光をパルス状にして被測定信
号をサンプリングするサンプリング機能を備えるものが
案出されている。かかるサンプリング機能を備える電気
光学プローブは、被測定信号を極めて高い時間分解能で
測定することが可能となる。このサンプリング機能を備
える電気光学プローブを用いたのが電気光学サンプリン
グオシロスコープである。
【0004】この電気光学サンプリングオシロスコープ
は、電気式プローブを用いた従来のサンプリングオシロ
スコープと比較して、(1)被測定信号を測定する際に
グランド線を必要としないため測定が容易となる、
(2)電気光学プローブの先端にある金属ピンが回路系
(上記の検出回路等)から絶縁されており高入力インピ
ーダンスを実現できるため被測定点の状態を殆ど乱すこ
とがない、(3)光パルスを利用することからGHzオ
ーダーまでの広帯域測定が可能であるといった特徴を有
する。
は、電気式プローブを用いた従来のサンプリングオシロ
スコープと比較して、(1)被測定信号を測定する際に
グランド線を必要としないため測定が容易となる、
(2)電気光学プローブの先端にある金属ピンが回路系
(上記の検出回路等)から絶縁されており高入力インピ
ーダンスを実現できるため被測定点の状態を殆ど乱すこ
とがない、(3)光パルスを利用することからGHzオ
ーダーまでの広帯域測定が可能であるといった特徴を有
する。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】ところで、近年におい
ては電気光学サンプリングオシロスコープの測定感度及
び測定精度の向上が望まれている。上述したように、電
気光学サンプリングオシロスコープに設けられる電気光
学プローブは金属ピンを介して被測定信号により生ずる
電界を電気光学素子に結合させている。このため、測定
感度を向上させるためには電気光学プローブに設けられ
ている電気光学素子に対して極力損失が無く効率よく被
測定信号により生ずる電界を結合させる必要がある。
ては電気光学サンプリングオシロスコープの測定感度及
び測定精度の向上が望まれている。上述したように、電
気光学サンプリングオシロスコープに設けられる電気光
学プローブは金属ピンを介して被測定信号により生ずる
電界を電気光学素子に結合させている。このため、測定
感度を向上させるためには電気光学プローブに設けられ
ている電気光学素子に対して極力損失が無く効率よく被
測定信号により生ずる電界を結合させる必要がある。
【0006】また、上述したように電気光学プローブは
電気光学素子にレーザ光を入射させて電気光学素子を介
したレーザ光の偏光状態を検出しているため、入射させ
たレーザ光を電気光学素子から損失無く効率的に取り出
すことも測定感度を向上させる上では極めて重要にな
る。更に、測定精度の向上のためには電気光学素子内に
おけるレーザ光の多重反射に起因するノイズを低減する
ことも重要になる。
電気光学素子にレーザ光を入射させて電気光学素子を介
したレーザ光の偏光状態を検出しているため、入射させ
たレーザ光を電気光学素子から損失無く効率的に取り出
すことも測定感度を向上させる上では極めて重要にな
る。更に、測定精度の向上のためには電気光学素子内に
おけるレーザ光の多重反射に起因するノイズを低減する
ことも重要になる。
【0007】本発明は上記事情に鑑みてなされたもので
あり、測定感度及び測定精度を向上させることができる
電気光学プローブを提供することを目的とする。
あり、測定感度及び測定精度を向上させることができる
電気光学プローブを提供することを目的とする。
【0008】
【課題を解決するための手段】上記課題を解決するため
に、本発明の電気光学プローブは、検出光を射出する光
(21)源と、結合される電界に応じて入射する前記検
出光の偏光状態を変化させる電気光学素子(13)と、
当該電気光学素子の近傍に配置されて被測定信号により
生ずる電界を前記電気光学素子に結合させる金属ピン
(11)と、前記電気光学素子を介した検出光の偏光状
態を検出する検出手段(29)とを備える電気光学プロ
ーブにおいて、前記電気光学素子は、近傍に前記金属ピ
ンが配置される面に、前記金属ピンと前記電気光学素子
との電気的結合を高めるとともに、入射した前記検出光
を反射する金属反射膜(15)を備えることを特徴とし
ている。この発明によれば、検出光を反射するために電
気光学素子に設けられる反射膜として、金属ピンと電気
光学素子との電気的結合を高める金属反射膜を設けてい
るため、測定感度及び測定精度を向上させることができ
るという効果がある。また、本発明の電気光学プローブ
は、前記検出光の進行方向における前記電気光学素子の
長さが、5mmよりも短い長さに設定されることを特徴
としている。また、本発明の電気光学プローブは、前記
電気光学素子が、前記検出光の入射面側に前記検出光の
損失が少なく、前記電気光学素子の長さを補うための光
透過性部材(14)を備えることを特徴としている。ま
た、本発明の電気光学プローブは、前記電気光学素子及
び前記光透過性部材は、対向する面が前記検出光の進行
方向に対して傾斜して形成されていることを特徴として
いる。また、本発明の電気光学プローブは、前記光透過
性部材が、前記検出光の入射面に反射防止膜(16)を
備えることを特徴としている。
に、本発明の電気光学プローブは、検出光を射出する光
(21)源と、結合される電界に応じて入射する前記検
出光の偏光状態を変化させる電気光学素子(13)と、
当該電気光学素子の近傍に配置されて被測定信号により
生ずる電界を前記電気光学素子に結合させる金属ピン
(11)と、前記電気光学素子を介した検出光の偏光状
態を検出する検出手段(29)とを備える電気光学プロ
ーブにおいて、前記電気光学素子は、近傍に前記金属ピ
ンが配置される面に、前記金属ピンと前記電気光学素子
との電気的結合を高めるとともに、入射した前記検出光
を反射する金属反射膜(15)を備えることを特徴とし
ている。この発明によれば、検出光を反射するために電
気光学素子に設けられる反射膜として、金属ピンと電気
光学素子との電気的結合を高める金属反射膜を設けてい
るため、測定感度及び測定精度を向上させることができ
るという効果がある。また、本発明の電気光学プローブ
は、前記検出光の進行方向における前記電気光学素子の
長さが、5mmよりも短い長さに設定されることを特徴
としている。また、本発明の電気光学プローブは、前記
電気光学素子が、前記検出光の入射面側に前記検出光の
損失が少なく、前記電気光学素子の長さを補うための光
透過性部材(14)を備えることを特徴としている。ま
た、本発明の電気光学プローブは、前記電気光学素子及
び前記光透過性部材は、対向する面が前記検出光の進行
方向に対して傾斜して形成されていることを特徴として
いる。また、本発明の電気光学プローブは、前記光透過
性部材が、前記検出光の入射面に反射防止膜(16)を
備えることを特徴としている。
【0009】
【発明の実施の形態】以下、図面を参照して本発明の一
実施形態による電気光学プローブについて詳細に説明す
る。図1は、本発明の一実施形態による電気光学プロー
ブの構成を示す図である。図1に示すように、本発明の
一実施形態による電気光学プローブ装置は、大別すると
プローブヘッド10と絶縁体で構成されたプローブ本体
20とから構成される。尚、本実施形態においては、電
気光学サンプリングオシロスコープ設けられる電気光学
プローブを例に挙げて説明する。
実施形態による電気光学プローブについて詳細に説明す
る。図1は、本発明の一実施形態による電気光学プロー
ブの構成を示す図である。図1に示すように、本発明の
一実施形態による電気光学プローブ装置は、大別すると
プローブヘッド10と絶縁体で構成されたプローブ本体
20とから構成される。尚、本実施形態においては、電
気光学サンプリングオシロスコープ設けられる電気光学
プローブを例に挙げて説明する。
【0010】プローブヘッド10は、金属ピン11と電
気光学素子部材12とを含んで構成される。金属ピン1
1は、その長さが3mm程度に設定されており、被測定
信号の測定時において、その先端部が被測定信号の伝送
線路(例えば、マイクロストリップライン)に当接さ
れ、被測定信号により生ずる電界を電気光学素子部材1
2に結合させる。金属ピン11は、プローブヘット10
の中心に嵌め込まれている。電気光学素子部材12は、
結合される電界に応じて入射する検出光(レーザ光)の
偏光状態を変化させるためのものであり、金属ピン12
に接している。
気光学素子部材12とを含んで構成される。金属ピン1
1は、その長さが3mm程度に設定されており、被測定
信号の測定時において、その先端部が被測定信号の伝送
線路(例えば、マイクロストリップライン)に当接さ
れ、被測定信号により生ずる電界を電気光学素子部材1
2に結合させる。金属ピン11は、プローブヘット10
の中心に嵌め込まれている。電気光学素子部材12は、
結合される電界に応じて入射する検出光(レーザ光)の
偏光状態を変化させるためのものであり、金属ピン12
に接している。
【0011】ここで、金属ピン11及び電気光学素子部
材12について詳細に説明する。図2は、金属ピン11
及び電気光学素子部材12の構成を詳細に示す図であ
る。尚、図2において、図1に示した部材と同一の部材
には同一の符号を付してある。図2に示すように、電気
光学素子部材12は、電気光学素子13と光透過性部材
14とを含んで構成され、四角柱又は円柱形状の部材で
ある。
材12について詳細に説明する。図2は、金属ピン11
及び電気光学素子部材12の構成を詳細に示す図であ
る。尚、図2において、図1に示した部材と同一の部材
には同一の符号を付してある。図2に示すように、電気
光学素子部材12は、電気光学素子13と光透過性部材
14とを含んで構成され、四角柱又は円柱形状の部材で
ある。
【0012】電気光学素子13は、例えばCaTe、B
iSiO2、LiNO3等の電気光学結晶から構成され、
結合される電界に応じて副屈折率が変化し、入射する検
出光(レーザ光)の偏光状態を変化させる。この電気光
学素子13は、その一端面(金属ピン11が近傍に配置
される面又は金属ピン11が接する面)に、金属ピン1
1と電気光学素子12との電気的結合を高めるととも
に、入射した検出光を反射する金属反射膜15が設けら
れている。
iSiO2、LiNO3等の電気光学結晶から構成され、
結合される電界に応じて副屈折率が変化し、入射する検
出光(レーザ光)の偏光状態を変化させる。この電気光
学素子13は、その一端面(金属ピン11が近傍に配置
される面又は金属ピン11が接する面)に、金属ピン1
1と電気光学素子12との電気的結合を高めるととも
に、入射した検出光を反射する金属反射膜15が設けら
れている。
【0013】この金属反射膜15は、例えばアルミニウ
ムを蒸着して形成され、その膜厚は100nm程度であ
る。電気光学素子13に入射した検出光を反射させるた
めには、誘電体多層膜によっても実現することができ
る。しかしながら、反射率を高めるためには誘電体多層
膜の膜厚は数μm程度必要となり、金属ピン11と電気
光学素子12との間に隙間が生じてしまい、金属ピン1
1と電気光学素子12との電気的結合が弱まる結果とし
て検出感度が低下してしまう。本実施形態では、金属ピ
ン11と電気光学素子12との電気的結合を高め、且つ
検出光の反射率を高反射率に維持するために、金属反射
膜15を設けている。
ムを蒸着して形成され、その膜厚は100nm程度であ
る。電気光学素子13に入射した検出光を反射させるた
めには、誘電体多層膜によっても実現することができ
る。しかしながら、反射率を高めるためには誘電体多層
膜の膜厚は数μm程度必要となり、金属ピン11と電気
光学素子12との間に隙間が生じてしまい、金属ピン1
1と電気光学素子12との電気的結合が弱まる結果とし
て検出感度が低下してしまう。本実施形態では、金属ピ
ン11と電気光学素子12との電気的結合を高め、且つ
検出光の反射率を高反射率に維持するために、金属反射
膜15を設けている。
【0014】尚、金属反射膜15と電気光学素子13と
の接合強度が弱い場合には、金属反射膜15を形成する
面に100nm程度の薄い膜厚を有するSiO2等の下
地層を形成し、この下地層上に金属反射膜15を形成し
ても良い。また、上記金属ピン11は銀ペーストにより
金属反射膜15に接着される。ここで、金属ピン11と
金属反射膜15との接着力が弱い場合には、金属反射膜
15上に100nm程度の薄い膜厚を有するSiO2等
の下地層を形成してから金属ピン11を接着するように
しても良い。
の接合強度が弱い場合には、金属反射膜15を形成する
面に100nm程度の薄い膜厚を有するSiO2等の下
地層を形成し、この下地層上に金属反射膜15を形成し
ても良い。また、上記金属ピン11は銀ペーストにより
金属反射膜15に接着される。ここで、金属ピン11と
金属反射膜15との接着力が弱い場合には、金属反射膜
15上に100nm程度の薄い膜厚を有するSiO2等
の下地層を形成してから金属ピン11を接着するように
しても良い。
【0015】図2において、符号D1を付して示した検
出光の進行方向における電気光学素子13の長さは、5
mmよりも短い長さ、好ましくは1mm程度に設定され
る。これは被測定信号により生ずる電界を結合させるた
めには、電気光学素子13の長さが5mmよりも短い長
さ(1mm程度)であれば十分であることがシミュレー
ションの結果から得られたためである。
出光の進行方向における電気光学素子13の長さは、5
mmよりも短い長さ、好ましくは1mm程度に設定され
る。これは被測定信号により生ずる電界を結合させるた
めには、電気光学素子13の長さが5mmよりも短い長
さ(1mm程度)であれば十分であることがシミュレー
ションの結果から得られたためである。
【0016】ここで、電気光学素子13内における電界
の様子について説明する。図3は、電気光学素子13内
の電界の様子を概略的に示す図である。図3において、
Wは表面にマイクロストリップラインSLが形成され、
裏面に接地電極GLが形成された基板である。マイクロ
ストリップラインSL中を進行する被測定信号を測定す
る場合には、図3に示すように金属ピン11の先端をマ
イクロストリップラインSLに当接させる。
の様子について説明する。図3は、電気光学素子13内
の電界の様子を概略的に示す図である。図3において、
Wは表面にマイクロストリップラインSLが形成され、
裏面に接地電極GLが形成された基板である。マイクロ
ストリップラインSL中を進行する被測定信号を測定す
る場合には、図3に示すように金属ピン11の先端をマ
イクロストリップラインSLに当接させる。
【0017】かかる状態において、マイクロストリップ
ラインSL中を進行する被測定信号により生ずる電界
(電気力線)は金属反射膜15から放射されるが、放射
された電気力線は図3に示すように、殆どが基板Wの面
方向へ広がる。そして、基板Wを介して接地電極GLに
至る経路を辿る。このため、電気光学素子13の長さを
長くしても電界の電気的結合は高くならない。
ラインSL中を進行する被測定信号により生ずる電界
(電気力線)は金属反射膜15から放射されるが、放射
された電気力線は図3に示すように、殆どが基板Wの面
方向へ広がる。そして、基板Wを介して接地電極GLに
至る経路を辿る。このため、電気光学素子13の長さを
長くしても電界の電気的結合は高くならない。
【0018】検出光の進行方向D1における電気光学素
子13の長さが長くなると検出光の吸収が大きくなっ
て、却って検出感度を低下させる原因となる。電気光学
素子13の長さが5mmに設定されている場合に、検出
光が電気光学素子13を往復すると、例えば2dB程度
の損失が生ずる。本実施形態では、高い測定感度を得る
ために被測定信号により生ずる電界との十分な電気的結
合が得られ、かつ吸収の影響を抑えるために、検出光の
進行方向D1における電気光学素子13の長さは、5m
mよりも短い長さ、好ましくは1mm程度に設定され
る。
子13の長さが長くなると検出光の吸収が大きくなっ
て、却って検出感度を低下させる原因となる。電気光学
素子13の長さが5mmに設定されている場合に、検出
光が電気光学素子13を往復すると、例えば2dB程度
の損失が生ずる。本実施形態では、高い測定感度を得る
ために被測定信号により生ずる電界との十分な電気的結
合が得られ、かつ吸収の影響を抑えるために、検出光の
進行方向D1における電気光学素子13の長さは、5m
mよりも短い長さ、好ましくは1mm程度に設定され
る。
【0019】また、例えば電気光学プローブの製造時に
おいては、電気光学素子13そのものを取り扱う必要が
あるが、電気光学素子13の取り扱いには5mm程度以
上の長さを必要とする。上述したように電気光学素子1
3の長さを5mmより短い長さ(1mm程度)に設定す
ると、電気光学素子13の取り扱いに不具合が生ずる。
かかる不具合を防止するために、検出光の入射面側に電
気光学素子13の長さを補う光透過性部材14が設けら
れる。
おいては、電気光学素子13そのものを取り扱う必要が
あるが、電気光学素子13の取り扱いには5mm程度以
上の長さを必要とする。上述したように電気光学素子1
3の長さを5mmより短い長さ(1mm程度)に設定す
ると、電気光学素子13の取り扱いに不具合が生ずる。
かかる不具合を防止するために、検出光の入射面側に電
気光学素子13の長さを補う光透過性部材14が設けら
れる。
【0020】この光透過性部材14は、例えばガラス等
の吸収等による検出光の損失が少ない材質が用いられ
る。光透過性部材14は電気光学素子13の検出光の入
射面側に光学接着剤を用いて接着される。光透過性部材
14の長さは、電気光学素子13の長さとの和が5mm
程度以上になるように設定される。例えば、電気光学素
子13の長さが1mmであれば、光透過性部材14の長
さは4mm程度以上に設定される。
の吸収等による検出光の損失が少ない材質が用いられ
る。光透過性部材14は電気光学素子13の検出光の入
射面側に光学接着剤を用いて接着される。光透過性部材
14の長さは、電気光学素子13の長さとの和が5mm
程度以上になるように設定される。例えば、電気光学素
子13の長さが1mmであれば、光透過性部材14の長
さは4mm程度以上に設定される。
【0021】ここで、電気光学素子13と前記光透過性
部材14との対向する面13a,14aが検出光の進行
方向D1に対して傾斜して形成されている。これは、光
透過性部材14と電気光学素子13との境界面(面13
a,14a)における検出光の反射光がノイズになって
測定精度を悪化させるのを防止するためである。更に、
同様の理由で、光透過性部材14における検出光の入射
面(面14b)には、検出光に対する反射防止膜16が
形成されている。
部材14との対向する面13a,14aが検出光の進行
方向D1に対して傾斜して形成されている。これは、光
透過性部材14と電気光学素子13との境界面(面13
a,14a)における検出光の反射光がノイズになって
測定精度を悪化させるのを防止するためである。更に、
同様の理由で、光透過性部材14における検出光の入射
面(面14b)には、検出光に対する反射防止膜16が
形成されている。
【0022】図1に戻り、プローブ本体20は、光源2
1、コリメートレンズ22、偏光ビームスプリッタ2
3、ファラデー素子24、偏光ビームスプリッタ25、
1/4波長板26、コリメートレンズ27、コリメート
レンズ28、及びフォトダイオード29を含んで構成さ
れる。尚、上記の偏光ビームスプリッタ23、ファラデ
ー素子24、偏光ビームスプリッタ25、及び1/4波
長板26は、アイソレータ30を構成する。
1、コリメートレンズ22、偏光ビームスプリッタ2
3、ファラデー素子24、偏光ビームスプリッタ25、
1/4波長板26、コリメートレンズ27、コリメート
レンズ28、及びフォトダイオード29を含んで構成さ
れる。尚、上記の偏光ビームスプリッタ23、ファラデ
ー素子24、偏光ビームスプリッタ25、及び1/4波
長板26は、アイソレータ30を構成する。
【0023】光源21は、レーザダイオードから実現さ
れ、例えば円偏向の検出光(レーザ光)を射出する。コ
リメートレンズ22は光源21から射出された検出光を
平行光に変換する。偏光ビームスプリッタ23は、入射
する光(電気光学素子部材12を介した光)を、その偏
光状態に応じて反射又は透過させるものである。この偏
光ビームスプリッタ23は、キューブ形のビームスプリ
ッタを2個組み合わせた形をしたビームスプリッタであ
り、分離した光(反射光)を更に90度偏向させること
ができるものである。
れ、例えば円偏向の検出光(レーザ光)を射出する。コ
リメートレンズ22は光源21から射出された検出光を
平行光に変換する。偏光ビームスプリッタ23は、入射
する光(電気光学素子部材12を介した光)を、その偏
光状態に応じて反射又は透過させるものである。この偏
光ビームスプリッタ23は、キューブ形のビームスプリ
ッタを2個組み合わせた形をしたビームスプリッタであ
り、分離した光(反射光)を更に90度偏向させること
ができるものである。
【0024】ファラデー素子24は、入射する光の偏光
面を45度回転する。偏光ビームスプリッタ25は、上
記の偏光ビームスプリッタ23と同様のものである。1
/4波長板26は、2つ設けられたフォトダイオード2
9各々に入射する検出光の強度比を調整するものであ
る。コリメートレンズ27は、1/4波長板26からの
検出光を集光して電気光学素子部材12に入射させ、電
気光学素子部材12からの検出光を平行光に変換するも
のである。コリメートレンズ28は、偏光ビームスプリ
ッタ23からの光を集光する。
面を45度回転する。偏光ビームスプリッタ25は、上
記の偏光ビームスプリッタ23と同様のものである。1
/4波長板26は、2つ設けられたフォトダイオード2
9各々に入射する検出光の強度比を調整するものであ
る。コリメートレンズ27は、1/4波長板26からの
検出光を集光して電気光学素子部材12に入射させ、電
気光学素子部材12からの検出光を平行光に変換するも
のである。コリメートレンズ28は、偏光ビームスプリ
ッタ23からの光を集光する。
【0025】フォトダイオード29は、コリメートレン
ズ28で集光された光を光電変換して電気信号に変換す
る。ここで、コリメートレンズ28及びフォトダイオー
ド29は、各々2個設けられている。これは、電気光学
素子部材12からの光の偏光状態(P偏光、S偏光)毎
の光強度を得るためである。ここで、光源21、偏光ビ
ームスプリッタ23,25、及びフォトダイオード29
の位置関係について説明する。
ズ28で集光された光を光電変換して電気信号に変換す
る。ここで、コリメートレンズ28及びフォトダイオー
ド29は、各々2個設けられている。これは、電気光学
素子部材12からの光の偏光状態(P偏光、S偏光)毎
の光強度を得るためである。ここで、光源21、偏光ビ
ームスプリッタ23,25、及びフォトダイオード29
の位置関係について説明する。
【0026】図4は、光源21、偏光ビームスプリッタ
23,25、及びフォトダイオード29の位置関係を示
す図である。この図は、図1に示した電気光学プローブ
を光源21から電気光学素子部材12の方向に向かって
見た図である。図4に示すように、偏光ビームスプリッ
タ23,25は、光源21の光軸を中心として45度回
転された状態で配置されている。従って、2つのフォト
ダイオード29もこれに合わせて光源21の光軸周りに
45度回転させた位置に配置されている。これによっ
て、偏光ビームスプリッタ23によって分離された検出
光と偏光ビームスプリッタ25によって分離された検出
光とを異なるフォトダイオード29へ導くことができ
る。各フォトダイオード29の検出結果は不図示の電気
光学サンプリングオシロスコープに出力される。
23,25、及びフォトダイオード29の位置関係を示
す図である。この図は、図1に示した電気光学プローブ
を光源21から電気光学素子部材12の方向に向かって
見た図である。図4に示すように、偏光ビームスプリッ
タ23,25は、光源21の光軸を中心として45度回
転された状態で配置されている。従って、2つのフォト
ダイオード29もこれに合わせて光源21の光軸周りに
45度回転させた位置に配置されている。これによっ
て、偏光ビームスプリッタ23によって分離された検出
光と偏光ビームスプリッタ25によって分離された検出
光とを異なるフォトダイオード29へ導くことができ
る。各フォトダイオード29の検出結果は不図示の電気
光学サンプリングオシロスコープに出力される。
【0027】上記構成において、光源21から検出光が
射出されると、検出光はコリメートレンズ22によって
平行光に変換されて、偏光ビームスプリッタ23、ファ
ラデー素子24、及び偏光ビームスプリッタ25を通過
した後、1/4波長板27を介してコリメートレンズ2
7によって集光されて電気光学素子部材12に入射す
る。
射出されると、検出光はコリメートレンズ22によって
平行光に変換されて、偏光ビームスプリッタ23、ファ
ラデー素子24、及び偏光ビームスプリッタ25を通過
した後、1/4波長板27を介してコリメートレンズ2
7によって集光されて電気光学素子部材12に入射す
る。
【0028】検出光が電気光学素子部材12に入射する
と、光透過性部材14を透過した後、電気光学素子13
に入射し、電気光学部材13の金属ピン11側に形成さ
れた金属反射膜15で反射される。金属反射膜15で反
射された検出光は電気光学素子13及び光透過性部材1
4を順に透過した後、コリメートレンズ27によって再
び平行光に変換され、1/4波長板27を介して偏光ビ
ームスプリッタ25へ入射する。
と、光透過性部材14を透過した後、電気光学素子13
に入射し、電気光学部材13の金属ピン11側に形成さ
れた金属反射膜15で反射される。金属反射膜15で反
射された検出光は電気光学素子13及び光透過性部材1
4を順に透過した後、コリメートレンズ27によって再
び平行光に変換され、1/4波長板27を介して偏光ビ
ームスプリッタ25へ入射する。
【0029】偏光ビームスプリッタ25に入射した検出
光の一部は、偏光ビームスプリッタ25により反射され
て、一方のコリメートレンズ28を介して一方のフォト
ダイオード12へ入射する。また、偏光ビームスプリッ
タ25を透過した検出光は、偏光ビームスプリッタ23
で反射されて、他方のコリメートレンズ28を介して他
方のフォトダイオード29へ入射する。
光の一部は、偏光ビームスプリッタ25により反射され
て、一方のコリメートレンズ28を介して一方のフォト
ダイオード12へ入射する。また、偏光ビームスプリッ
タ25を透過した検出光は、偏光ビームスプリッタ23
で反射されて、他方のコリメートレンズ28を介して他
方のフォトダイオード29へ入射する。
【0030】被測定信号を測定する場合には、金属ピン
11を測定点に接触させる。この被測定点に印加される
被測定信号の電圧値に応じた電界(電気力線)が金属反
射膜15から電気光学素子13に放射され、この電界の
大きさに応じてポッケルス効果による複屈折率の変化量
が変わる。これにより、光源21から射出された検出光
が電気光学素子13に入射して、その検出光が電気光学
素子13を伝搬するときに光の偏光状態が変化する。そ
して、この偏光状態が変化した検出光は、金属反射膜1
5によって反射され、2つのフォトダイオード29にそ
れぞれ入射して電気信号に変換される。
11を測定点に接触させる。この被測定点に印加される
被測定信号の電圧値に応じた電界(電気力線)が金属反
射膜15から電気光学素子13に放射され、この電界の
大きさに応じてポッケルス効果による複屈折率の変化量
が変わる。これにより、光源21から射出された検出光
が電気光学素子13に入射して、その検出光が電気光学
素子13を伝搬するときに光の偏光状態が変化する。そ
して、この偏光状態が変化した検出光は、金属反射膜1
5によって反射され、2つのフォトダイオード29にそ
れぞれ入射して電気信号に変換される。
【0031】測定点における被測定信号の電圧値の変化
に伴って、電気光学素子13内における検出光の偏光状
態は変化するが、この偏光状態の変化は、2つのフォト
ダイオード29から出力される電気信号の大きさの変化
として現れる。よって、2つのフォトダイオード29か
ら出力される電気信号の大きさの変化(又は、2つのフ
ォトダイオード29から出力される電気信号の差分)を
検出することによって、被測定信号を測定することがで
きる。
に伴って、電気光学素子13内における検出光の偏光状
態は変化するが、この偏光状態の変化は、2つのフォト
ダイオード29から出力される電気信号の大きさの変化
として現れる。よって、2つのフォトダイオード29か
ら出力される電気信号の大きさの変化(又は、2つのフ
ォトダイオード29から出力される電気信号の差分)を
検出することによって、被測定信号を測定することがで
きる。
【0032】尚、上記実施形態においては、電気光学サ
ンプリングオシロスコープに設けられる電気光学プロー
ブについて説明したが、光源21から連続光を発するよ
うにすれば、リアルタイムオシロスコープ、サンプリン
グオシロスコープ、スペアナ等の従来からある汎用測定
器による信号測定も可能となる。この場合においては、
フォトダイオード29から出力される信号をリアルタイ
ムオシロスコープ、サンプリングオシロスコープ、スペ
クトラムアナライザ等に出力すれば良い。
ンプリングオシロスコープに設けられる電気光学プロー
ブについて説明したが、光源21から連続光を発するよ
うにすれば、リアルタイムオシロスコープ、サンプリン
グオシロスコープ、スペアナ等の従来からある汎用測定
器による信号測定も可能となる。この場合においては、
フォトダイオード29から出力される信号をリアルタイ
ムオシロスコープ、サンプリングオシロスコープ、スペ
クトラムアナライザ等に出力すれば良い。
【0033】また、上記実施形態においては、偏光ビー
ムスプリッタ25で反射された検出光と偏光ビームスプ
リッタ23で反射された検出光との双方を検出している
が、何れか一方のみを用いて検出光の偏光状態を検出す
るようにしても良い。
ムスプリッタ25で反射された検出光と偏光ビームスプ
リッタ23で反射された検出光との双方を検出している
が、何れか一方のみを用いて検出光の偏光状態を検出す
るようにしても良い。
【0034】
【発明の効果】以上説明したように、本発明によれば、
検出光を反射するために電気光学素子に設けられる反射
膜として、金属ピンと電気光学素子との電気的結合を高
める金属反射膜を設けているため、測定感度及び測定精
度を向上させることができる。
検出光を反射するために電気光学素子に設けられる反射
膜として、金属ピンと電気光学素子との電気的結合を高
める金属反射膜を設けているため、測定感度及び測定精
度を向上させることができる。
【図1】 本発明の一実施形態による電気光学プローブ
の構成を示す図である。
の構成を示す図である。
【図2】 金属ピン11及び電気光学素子部材12の構
成を詳細に示す図である。
成を詳細に示す図である。
【図3】 電気光学素子13内の電界の様子を概略的に
示す図である。
示す図である。
【図4】 光源21、偏光ビームスプリッタ23,2
5、及びフォトダイオード29の位置関係を示す図であ
る。
5、及びフォトダイオード29の位置関係を示す図であ
る。
11 金属ピン
13 電気光学素子
14 光透過性部材
15 金属反射膜
16 反射防止膜
21 光源
29 フォトダイオード(検出手段)
Claims (5)
- 【請求項1】 検出光を射出する光源と、結合される電
界に応じて入射する前記検出光の偏光状態を変化させる
電気光学素子と、当該電気光学素子の近傍に配置されて
被測定信号により生ずる電界を前記電気光学素子に結合
させる金属ピンと、前記電気光学素子を介した検出光の
偏光状態を検出する検出手段とを備える電気光学プロー
ブにおいて、 前記電気光学素子は、近傍に前記金属ピンが配置される
面に、前記金属ピンと前記電気光学素子との電気的結合
を高めるとともに、入射した前記検出光を反射する金属
反射膜を備えることを特徴とする電気光学プローブ。 - 【請求項2】 前記検出光の進行方向における前記電気
光学素子の長さは、5mmよりも短い長さに設定される
ことを特徴とする請求項1記載の電気光学プローブ。 - 【請求項3】 前記電気光学素子は、前記検出光の入射
面側に前記検出光の損失が少なく、前記電気光学素子の
長さを補うための光透過性部材を備えることを特徴とす
る請求項2記載の電気光学プローブ。 - 【請求項4】 前記電気光学素子及び前記光透過性部材
は、対向する面が前記検出光の進行方向に対して傾斜し
て形成されていることを特徴とする請求項3記載の電気
光学プローブ。 - 【請求項5】 前記光透過性部材は、前記検出光の入射
面に反射防止膜を備えることを特徴とする請求項4記載
の電気光学プローブ。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2002155556A JP2003344457A (ja) | 2002-05-29 | 2002-05-29 | 電気光学プロ―ブ |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2002155556A JP2003344457A (ja) | 2002-05-29 | 2002-05-29 | 電気光学プロ―ブ |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2003344457A true JP2003344457A (ja) | 2003-12-03 |
Family
ID=29772054
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2002155556A Withdrawn JP2003344457A (ja) | 2002-05-29 | 2002-05-29 | 電気光学プロ―ブ |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2003344457A (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2014046170A1 (ja) * | 2012-09-24 | 2014-03-27 | 日本碍子株式会社 | テラヘルツ波検出素子とその作製方法、接合体、および観察装置 |
JPWO2014046171A1 (ja) * | 2012-09-24 | 2016-08-18 | 日本碍子株式会社 | テラヘルツ波検出素子とその作製方法、接合体、および観察装置 |
-
2002
- 2002-05-29 JP JP2002155556A patent/JP2003344457A/ja not_active Withdrawn
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2014046170A1 (ja) * | 2012-09-24 | 2014-03-27 | 日本碍子株式会社 | テラヘルツ波検出素子とその作製方法、接合体、および観察装置 |
JPWO2014046171A1 (ja) * | 2012-09-24 | 2016-08-18 | 日本碍子株式会社 | テラヘルツ波検出素子とその作製方法、接合体、および観察装置 |
JPWO2014046170A1 (ja) * | 2012-09-24 | 2016-08-18 | 日本碍子株式会社 | テラヘルツ波検出素子とその作製方法、接合体、および観察装置 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A300 | Application deemed to be withdrawn because no request for examination was validly filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A300 Effective date: 20050802 |