JP2960268B2 - アクティブマトリックス液晶パネル及びその製造方法と駆動方法並びにアクティブマトリックス液晶ディスプレイ - Google Patents

アクティブマトリックス液晶パネル及びその製造方法と駆動方法並びにアクティブマトリックス液晶ディスプレイ

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JP2960268B2 JP33572192A JP33572192A JP2960268B2 JP 2960268 B2 JP2960268 B2 JP 2960268B2 JP 33572192 A JP33572192 A JP 33572192A JP 33572192 A JP33572192 A JP 33572192A JP 2960268 B2 JP2960268 B2 JP 2960268B2
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米治 田窪
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Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は薄膜トランジスタ(T
FT)を用いたアクティブマトリックス液晶パネル及び
その製造方法と駆動方法並びにアクティブマトリックス
液晶ディスプレイに関する。
【0002】
【従来の技術】TFTを用いたアクティブマトリックス
型表示基板を用いたディスプレーは、単純マトリックス
型表示装置に比べて高い画質が得られるため盛んに研究
されている。
【0003】TFTを用いたアクティブマトリックス型
表示装置は(図4)に示す構成である。透光性基板1に
形成されたソース(又はドレーン)電極母線2及びゲー
ト電極母線3とTFT部4と絵素電極5と対向電極6を
有する対向基板7とから構成されており、これらの基板
1と7の間に液晶が封入される。
【0004】次にアクティブマトリックス型液晶表示パ
ネルの駆動方法について説明する。(図5)にアクティ
ブマトリックス型液晶表示パネルの等価回路を示す。テ
レビ信号はラインA1、A2…Anに加えられる。このラ
インには走査ラインB1、B2…Bmとの交点にあるTF
T Q11、Q12…Q1m、Q21、Q22…Q2m、Qn1、Qn2
…Qnmのソース(あるいはドレイン)が接続されてい
る。さらに走査ラインには図に示すごとくTFTのゲー
ト電極が接続されている。TFTのドレイン(ソース)
電極には液晶セルを通して対向電極Tに通じている。走
査ラインに駆動パルスΦ1、Φ2…Φmが順次ゲート電極
に印加されてTFTがオン状態となりソース電極を通じ
てそれぞれの画素電極にテレビ信号が書き込まれる。こ
の状態は次のフィールドで走査パルスがTFTのゲート
電極に印加されるまで保持される。このようにしてテレ
ビ画像の表示が行われる。
【0005】また液晶パネルには画質の向上を図るた
め、画素と並列に蓄積容量を設ける、あるいは前段のゲ
ートラインと画素間で容量が設けられる。
【0006】また画質の向上を図るために、TFT液晶
パネルの駆動方法としてフリッカレスの必要性から、画
像電極の極性を1ゲート走査期間に反転させるあるいは
隣接するソースバスラインの極性を反転する等が行われ
ている。さらに駆動電圧の低減のために1走査期間、あ
るいは1フィールド間で対向電極の電位Vpを反転させ
ることが行われている。
【0007】次に液晶パネルのTFTアレイ作成プロセ
スを(図6)(断面図)、(図7)(平面図)に基づい
て説明する。 (1)ガラス基板1上にスパッタ法でCr9を100
堆積する(図6(a))。 (2)Crを9よりなるゲート電極の形に残すようにエ
ッチングを施す(図6(b)、(図7(a))。 (3)ガラス基板1上にDCスパッタ法で透明電極IT
O5を1000堆積する(図6(c))。 (4)ITOを絵素電極5の形に残すようにエッチング
を施す(図6(d))、(図7(b))。 (5)次にプラズマCVD法でゲート絶縁膜としてSi
Nx11を4000、半導体層としてa-Si層12
を1000、オーミック層としてn+a−Si13を
500堆積する(図6(e))。 (6)12,13を12aに示すパターンの形に残す
ようにフォトリソ工程にてエッチングを施しチャンネル
領域となるa−Si島領域を形成する(図6(f))、
(図7(c))。 (7)絵素電極とコンタクトを取るための穴14を絶縁
膜に開ける(図6(g))、(図7(d))。 (8)DCスパッタ法でAl15を7000堆積する
(図6(h))。 (9)Alをソース(またはドレーン)電極8、ドレー
ン(またはソース)電極10を選択エッチングして形成
した後、チャンネル上のn+a−Siをエッチング除去
する(図6(i))、(図7(e))。
【0008】
【発明が解決しようとする課題】前述の構造のアクティ
マトリックス型液晶表示装置は今後AV機器、情報端
機器用途に応用されるに従い、表示品位に求められる
性能はますます厳しくなる。この表示品位にかかる課題
の1つとしてゲートライン方向に沿った、クロストーク
現象が挙げられる。
【0009】以下にこの現象を説明する。上述の液晶パ
ネル内部の1画素の等価回路を(図8)に示す。このよ
うにアクティブマトリックス液晶にはさまざまな寄生容
量が存在する。(図8)中に示したソース電極と共通電
極間の容量Cstにより以下の現象が発生する。(図
9)に各部の電極の電位変化を示す。対向電極とソース
バスライン間は液晶層を通して容量結合している。例え
ば液晶パネルの駆動法としてソースバスラインの信号電
圧を1走査期間に極性を反転させた駆動を行った場合、
前記容量を通してソースバスラインの電位変化Vsに応
答して対向基板の電位 T が変動する。変化した対向電
位はその後Vcの電位に向かって減衰する。例えば容量
結合による変化が激しい場合、ゲート電極による書き込
み期間が終了した時点で対向電極の電位がVcに対して
誤差が生じる((図9)△Vc)。
【0010】今、(図10)の様な表示パターンを仮定
する。領域Aにおけるタイミングでは、全ての画像信号
が同じタイミングで変化するため、対向電極の電位は大
きくソース電極により変動される。これに対し領域Bで
は、白の表示部分と黒の表示部分が混在するため、ソー
ス電極による対向電極の変動量が領域Aに比較して少な
くなる。従ってΔVcの値はこの2つの領域で差が生じ
る。
【0011】この対向電極の変動量の違いによって、ノ
ーマリホワイト表示を行った場合領域Bの黒の部分は領
域Aの黒の部分よりも黒くなる。当現象はここに述べた
画像信号を1走査期間で反転させた場合最も顕著に現れ
るが、画像信号電極を1フィールドで反転させる駆動方
法でも生じるものである。なぜならばこの対向電極の電
位変動はソース電極の変調が、ソース電極と対向電極の
容量結合を通して対向電極側に現れる現象であり、1フ
ィールドでソース信号の極性が反転する場合でも、パタ
ーンが変化する場合は対向電極はソース信号の変動によ
る影響を避けることが出来ないからである。
【0012】
【課題を解決するための手段】このクロストーク現象を
低減あるいは無くする手段として共通電極である対向基
板に共通電極の電位変動を補正する変調を与えることを
特徴とする。
【0013】
【作用】この現象は対向電極の電位変動により生じるも
のであるから、予めその電位変動を予想するかあるいは
対向の電位変動をセンシング電極等を用いて取りだし、
この信号に処理を行い、対向電極の変動を補正する信号
を対向電極にフィードバックすることにより上述のクロ
ストーク現象をなくすることができる駆動法を提案する
ものである。
【0014】
【実施例】以下実施例に関して図を用いて説明する。
【0015】本発明の動作原理を示すパネルの構造図を
(図1)に示す。TFTを作成するプロセスは従来例と
同一である。
【0016】ゲート電極を形成する際にたとえば、(図
1)に示すようにゲートと同一の金属で例えばゲートラ
インB1〜Bmの一番上段に電極ラインを形成する。こ
の電極をセンシング電極1と呼ぶ。
【0017】このセンシング電極1は全てのソースライ
ンA1〜Anに容量結合しているためこの電極に現れる
信号はソースラインA1〜Anの変化による対向電極に
対する変動をそのままモニタしている。(図2)に対向
電圧Vcとこのセンシング電極1に現れる波形Vsenを
示す。センシング電極1の波形は対向電極の波形を反映
している。
【0018】このセンシング電極1により取り出した波
形をインバータ2により反転させバッファ3を通して補
正電圧Vc'を作る。このVc'を対向電極に印加すること
により対向電極の電位変動はキャンセルされる。その結
果クロストーク現象は改善された。(図3)にその結果
を示す。(図3)A、Bはそれぞれ画面の半分を白パタ
ーン、黒パターンに固定した場合のポイントAのT−V
カーブである。このT−Vカーブのずれがクロストーク
である。このパネルの対向電極に補正電圧Vc'を印加し
た場合のT−Vカーブは固定パターンが白の場合も黒の
場合もCのカーブとなり、クロストークは発生しなかっ
た。
【0019】なお当実施例ではセンシング電極としてゲ
ート電極作製プロセス時に作る事を例としたが、すべて
のソースバスラインと容量結合している構成であるなら
ばセンシング電極の材料、構成などとくに限定されるも
のではない。また当実施例では逆スタガ型TFTの液晶
パネルを例としたが、特にTFTの構造に限定されるも
のではないことも自明である。
【0020】
【発明の効果】上述の構成を取ることによって、重大な
表示品質課題であるクロストーク現象を従来のプロセス
を変更すること無く解決することが可能であり表示品位
の高い液晶パネルを得る事ができその技術的意義が大き
い。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の実施例1の構造を説明する平面図
【図2】対向電極の電位波形とセンシング電極の電位波
形図
【図3】本発明の実施例に従って駆動した場合のクロス
トークに対する効果を示すグラフ
【図4】液晶表示装置の透視図
【図5】TFT液晶パネルの等価回路図
【図6】逆スタガー型TFTを用いた従来のプロセスを
説明する断面図
【図7】逆スタガー型TFTを用いた従来のプロセスを
説明する平面図
【図8】アクティブマトリクス液晶パネルの1画素の等
価回路図
【図9】各電極の電位変化を示す波形図
【図10】クロストーク現象を示す模式図
フロントページの続き (72)発明者 田窪 米治 大阪府門真市大字門真1006番地 松下電 器産業株式会社内 (72)発明者 木村 睦 大阪府門真市大字門真1006番地 松下電 器産業株式会社内 (56)参考文献 特開 平2−81092(JP,A) 特開 平4−191821(JP,A) 特開 平2−110429(JP,A) 特開 平2−157826(JP,A) 特開 平5−289054(JP,A) 特開 平6−180564(JP,A) (58)調査した分野(Int.Cl.6,DB名) G02F 1/133 550 G02F 1/136 500

Claims (5)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 マトリックス状に画素電極が形成された
    第一の基板と、前記画素電極に対向して設けられる共通
    電極が形成され、前記第一の基板に対向して設けられた
    第二の基板と、マトリックス状に形成された前記画素電
    極間に交差して形成されたソースライン及びゲートライ
    ンと、前記ソースライン及び前記ゲートラインの交差部
    に形成され各画素電極と接続される薄膜トランジスタと
    を備えたアクティブマトリックス液晶パネルの駆動方法
    であって、 前記アクティブマトリックス液晶表示パネルは前記ソー
    スラインと絶縁膜を介して交差し容量結合したセンシン
    グ電極を有しており、 前記センシング電極に生じる電位変動に応じ、かつ、前
    記電位変動を極性反転した電圧を前記共通電極に印加
    ることを特徴とするアクティブマトリックス液晶パネル
    の駆動方法。
  2. 【請求項2】 マトリックス状に画素電極が形成された
    第一の基板と、前記画素電極に対向して設けられる共通
    電極が形成され、前記第一の基板に対向して設けられた
    第二の基板と、マトリックス状に形成された前記画素電
    極間に交差して形成されたソースライン及びゲートライ
    ンと、前記ソースライン及び前記ゲートラインの交差部
    に形成され各画素電極と接続される薄膜トランジスタと
    を備えたアクティブマトリックス液晶パネルであって、 前記ソースラインと絶縁膜を介して交差し容量結合した
    センシング電極と、 前記センシング電極に生じる電位変動に応じ、かつ、前
    記電位変動を極性反転した電圧を前記共通電極に印加す
    るインバータとを有することを特徴とする アクティブマ
    トリックス液晶パネル。
  3. 【請求項3】 請求項2記載のアクティブマトリックス
    液晶パネルであって、 前記センシング電極は全てのソー
    スラインと絶縁膜を介して交差し容量結合していること
    を特徴とするアクティブマトリックス液晶パネル
  4. 【請求項4】 請求項2又は3記載のアクティブマトリ
    ックス液晶パネルを製造する製造方法であって、 前記センシング電極はゲートラインを作成する工程で形
    成されることを特徴とするアクティブマトリックス液晶
    パネルの製造方法
  5. 【請求項5】 請求項2又は3記載のアクティブマトリ
    ックス液晶パネルを用いたことを特徴とするアクティブ
    マトリックス液晶ディスプレイ。
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JP3444540B2 (ja) * 2000-10-17 2003-09-08 松下電器産業株式会社 アクティブマトリックス型液晶表示装置
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