JP2954736B2 - 放電加工装置の制御システム - Google Patents
放電加工装置の制御システムInfo
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Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は放電加工装置の制御シス
テムに関し、更に詳しくは放電加工装置の動作時にワイ
ヤ電極と被加工物の間の加工間隙を流れる加工液の圧力
及び流量を制御し、より高圧の加工液を供給することの
出来る放電加工装置の制御システムに関する。
テムに関し、更に詳しくは放電加工装置の動作時にワイ
ヤ電極と被加工物の間の加工間隙を流れる加工液の圧力
及び流量を制御し、より高圧の加工液を供給することの
出来る放電加工装置の制御システムに関する。
【０００２】
【従来の技術】放電加工装置では導電性被加工物を切削
加工するに当たって、制御された電気放電を利用する。
この切削加工は、一つの電極として働くワイヤと、それ
に対する対向電極として作用する被加工物との間で高周
波電気放電を発生させることによって実行されるもので
ある。放電加工に際しては、適当な電圧のパルスが加工
間隙、または加工領域と称するワイヤ電極と被加工物の
間の間隙に印加されると共に、脱イオン水、またはオイ
ルと言った絶縁性の液体が加工間隙に供給される。加工
間隙に印加した電圧が充分高くなり、絶縁性の液体がワ
イヤ電極の一点でイオン化し、絶縁破壊が起こると、ワ
イヤ電極と被加工物の間に瞬間的に激しい導通チャンネ
ルが発生する。この局所的な高エネルギーの集中によっ
て、被加工物からある量の金属が分離され、除去され
る。こうして複雑、かつ正確な切削加工が被加工物をワ
イヤ電極に対し相対的に移動することによって実施され
る。通常、所望の輪郭を切り出すための被加工物の運動
を制御するために、数値制御システムが利用される。数
値制御システムによる放電加工装置の制御の例は、ビュ
ーラの米国特許第４，５３３，８１１に開示されてい
る。
加工するに当たって、制御された電気放電を利用する。
この切削加工は、一つの電極として働くワイヤと、それ
に対する対向電極として作用する被加工物との間で高周
波電気放電を発生させることによって実行されるもので
ある。放電加工に際しては、適当な電圧のパルスが加工
間隙、または加工領域と称するワイヤ電極と被加工物の
間の間隙に印加されると共に、脱イオン水、またはオイ
ルと言った絶縁性の液体が加工間隙に供給される。加工
間隙に印加した電圧が充分高くなり、絶縁性の液体がワ
イヤ電極の一点でイオン化し、絶縁破壊が起こると、ワ
イヤ電極と被加工物の間に瞬間的に激しい導通チャンネ
ルが発生する。この局所的な高エネルギーの集中によっ
て、被加工物からある量の金属が分離され、除去され
る。こうして複雑、かつ正確な切削加工が被加工物をワ
イヤ電極に対し相対的に移動することによって実施され
る。通常、所望の輪郭を切り出すための被加工物の運動
を制御するために、数値制御システムが利用される。数
値制御システムによる放電加工装置の制御の例は、ビュ
ーラの米国特許第４，５３３，８１１に開示されてい
る。
【０００３】放電加工装置が極めて高度な切削加工を可
能にしていることは、諸種の応用面で、その重要性を高
めている。絶縁性の媒体は噴流作用によって加工領域を
通過し、回流される。切削作業が進むにつれて、絶縁流
体中のイオンの量、即ちそのイオン化が進行する。言い
換えると、脱イオン水、即ち噴射流体が放電加工時の生
成物による汚染を受けると、その導伝率が上昇すること
になる。従って、流体を周期的に濾過し、脱イオン化処
理を施して、その導伝率を適切な水準に保たなければな
らない。さもないと、導伝率の増加によって切削代に不
揃いを生じ、要求精度の許容範囲を逸脱することにな
る。
能にしていることは、諸種の応用面で、その重要性を高
めている。絶縁性の媒体は噴流作用によって加工領域を
通過し、回流される。切削作業が進むにつれて、絶縁流
体中のイオンの量、即ちそのイオン化が進行する。言い
換えると、脱イオン水、即ち噴射流体が放電加工時の生
成物による汚染を受けると、その導伝率が上昇すること
になる。従って、流体を周期的に濾過し、脱イオン化処
理を施して、その導伝率を適切な水準に保たなければな
らない。さもないと、導伝率の増加によって切削代に不
揃いを生じ、要求精度の許容範囲を逸脱することにな
る。
【０００４】加工液の噴射動作を継続することによっ
て、加工によって汚染され、イオン化された液体は加工
領域から押し出され、引き続く加工のための脱イオン水
が補充源から補充される。この噴射動作は、電流を搬送
するワイヤ電極の冷却にも用いられ、電流によって発生
する熱によるワイヤ電極の破壊チャンスを低減する。
て、加工によって汚染され、イオン化された液体は加工
領域から押し出され、引き続く加工のための脱イオン水
が補充源から補充される。この噴射動作は、電流を搬送
するワイヤ電極の冷却にも用いられ、電流によって発生
する熱によるワイヤ電極の破壊チャンスを低減する。
【０００５】従来の加工液噴射システムでは、噴射流体
は、一個の多段遠心ポンプによって供給され、上下の噴
射ノズルに分配供給されていた。従来システムにあって
は、これらのポンプの自動制御は、ポンプの動作速度と
圧力、または出力流量との間に特定の関係が無かったた
めに、ある程度任意的であった。さらに、上下ノズルに
対する供給管路に設けたバルブを、作業者が手動で調節
することによって、上下ノズルに要求される流量差を出
していた。
は、一個の多段遠心ポンプによって供給され、上下の噴
射ノズルに分配供給されていた。従来システムにあって
は、これらのポンプの自動制御は、ポンプの動作速度と
圧力、または出力流量との間に特定の関係が無かったた
めに、ある程度任意的であった。さらに、上下ノズルに
対する供給管路に設けたバルブを、作業者が手動で調節
することによって、上下ノズルに要求される流量差を出
していた。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】従って、本発明の目的
は従来システムの欠点を是正し、放電加工装置の上下ノ
ズルの流量を独立に、かつ自動的に制御できるように
し、高圧動作が可能な改良された放電加工装置の制御方
法及び制御システムを提供することにある。
は従来システムの欠点を是正し、放電加工装置の上下ノ
ズルの流量を独立に、かつ自動的に制御できるように
し、高圧動作が可能な改良された放電加工装置の制御方
法及び制御システムを提供することにある。
【０００７】
【課題を解決するための手段】本発明の一つの実施例に
よれば、第１の加工液噴射口及び第２の加工液噴射口、
即ちワイヤガイド構体を備えた放電加工装置の加工液制
御システムは、第１の加工液放出口及び第２の加工液放
出口における加工液の流量を独立に制御する手段を含ん
でいる。この制御手段は第１のノズルにおける所望の流
量特性を示す第１の信号を発生させる手段と、第２のノ
ズルにおける所望の流量特性を示す第２の信号を発生さ
せる手段とを備えている。この制御システムはまた、第
１のモータ及び第２のモータによってそれぞれ駆動され
る第１のポンプ及び第２のポンプを有している。第１の
ポンプ及び第２のポンプは、それぞれ第１の信号及び第
２の信号に応答して制御されモータのスピードに応じた
流量を出力する。モータは受信した信号値とポンプ作動
させるスピードとの間に１対１の関係が成り立つように
制御される。この様にして、数値制御装置からの信号に
基づいて加工液の流量を制御する。第１のポンプ及び第
２のポンプは、ポンプスピードとその流量出力との間に
決まった関係を有するポジティブ容積形ポンプである。
よれば、第１の加工液噴射口及び第２の加工液噴射口、
即ちワイヤガイド構体を備えた放電加工装置の加工液制
御システムは、第１の加工液放出口及び第２の加工液放
出口における加工液の流量を独立に制御する手段を含ん
でいる。この制御手段は第１のノズルにおける所望の流
量特性を示す第１の信号を発生させる手段と、第２のノ
ズルにおける所望の流量特性を示す第２の信号を発生さ
せる手段とを備えている。この制御システムはまた、第
１のモータ及び第２のモータによってそれぞれ駆動され
る第１のポンプ及び第２のポンプを有している。第１の
ポンプ及び第２のポンプは、それぞれ第１の信号及び第
２の信号に応答して制御されモータのスピードに応じた
流量を出力する。モータは受信した信号値とポンプ作動
させるスピードとの間に１対１の関係が成り立つように
制御される。この様にして、数値制御装置からの信号に
基づいて加工液の流量を制御する。第１のポンプ及び第
２のポンプは、ポンプスピードとその流量出力との間に
決まった関係を有するポジティブ容積形ポンプである。
【０００８】第１のノズル及び第２のノズルの流量を独
立に制御することによって、制御システムは完全に自動
化され、作業者の加工液の流量特性を調整するための入
力作業は省力化される。これによって、この制御システ
ムをプログラム制御下で稼働する場合には、人手を借り
ることなく、ノズルからの加工液噴射流量の制御ができ
る。
立に制御することによって、制御システムは完全に自動
化され、作業者の加工液の流量特性を調整するための入
力作業は省力化される。これによって、この制御システ
ムをプログラム制御下で稼働する場合には、人手を借り
ることなく、ノズルからの加工液噴射流量の制御ができ
る。
【０００９】この発明の重要な特徴は、放電加工装置に
よる加工条件に応じて、加工間隙に供給する加工液流量
がポンプを制御することによって達成される点にある。
従って、ポンプの選定が本発明にとって重要なポイント
になる。ポジティブ容積形ポンプは、その出力流量をポ
ンプを駆動するモータのスピードによって直接制御でき
るので、本発明の実施には最も適したものである。
よる加工条件に応じて、加工間隙に供給する加工液流量
がポンプを制御することによって達成される点にある。
従って、ポンプの選定が本発明にとって重要なポイント
になる。ポジティブ容積形ポンプは、その出力流量をポ
ンプを駆動するモータのスピードによって直接制御でき
るので、本発明の実施には最も適したものである。
【００１０】この発明の他の実施例によれば、第１のノ
ズル及び第２のノズルからの加工液流量を放電加工装置
の制御方式に応じて制御することができる。即ち、加工
液流量は圧力制御方式によって制御されるか、流量制御
方式により制御される。流量を計測する装置を含まない
場合には、流量制御方式で、システムをオープンループ
で働かせる。圧力制御方式では、システムをオープンル
ープでも、クローズドループでも働かせることができ
る。何れにするかは、加工液の実際圧力を計測するトラ
ンスデューサを備えるか否かにによって決める。加工液
流量が低い場合は、流量そのものを制御し、高い場合に
は、加工液圧力を制御する。従って、数値制御装置から
の信号は、低流量のときには所望の流量を、高い流量の
ときには所望の圧力を示す。
ズル及び第２のノズルからの加工液流量を放電加工装置
の制御方式に応じて制御することができる。即ち、加工
液流量は圧力制御方式によって制御されるか、流量制御
方式により制御される。流量を計測する装置を含まない
場合には、流量制御方式で、システムをオープンループ
で働かせる。圧力制御方式では、システムをオープンル
ープでも、クローズドループでも働かせることができ
る。何れにするかは、加工液の実際圧力を計測するトラ
ンスデューサを備えるか否かにによって決める。加工液
流量が低い場合は、流量そのものを制御し、高い場合に
は、加工液圧力を制御する。従って、数値制御装置から
の信号は、低流量のときには所望の流量を、高い流量の
ときには所望の圧力を示す。
【００１１】この異なる制御方式は、放電加工装置を異
なった条件で動作させるときに有用である。例えば、粗
加工の場合には、ある程度加工精度を犠牲にしても、加
工速度を重視する。この場合、ノズルを被加工物に近づ
けて、高圧の加工液を噴射して、加工時に、加工間隙に
発生する生成物をすみやかに除去することが望ましい。
従って、ノズルの口は加工間隙部に面する部分を除いて
は、殆ど完全に被加工物によって覆われることになり、
加工液の流れに対する抵抗は増大し、その反動圧をポン
プ近傍の上流側で検知することができる。従って、この
ような加工条件では、圧力制御方式が有用になる。
なった条件で動作させるときに有用である。例えば、粗
加工の場合には、ある程度加工精度を犠牲にしても、加
工速度を重視する。この場合、ノズルを被加工物に近づ
けて、高圧の加工液を噴射して、加工時に、加工間隙に
発生する生成物をすみやかに除去することが望ましい。
従って、ノズルの口は加工間隙部に面する部分を除いて
は、殆ど完全に被加工物によって覆われることになり、
加工液の流れに対する抵抗は増大し、その反動圧をポン
プ近傍の上流側で検知することができる。従って、この
ような加工条件では、圧力制御方式が有用になる。
【００１２】これに対して、スキム加工即ち、仕上げ加
工の場合、最終製品を正確な寸法に仕上げるためにほん
の僅かな金属層を除去していくので、加工液に対する抵
抗は非常に小さい。しかも、ノズルの口は、その一部だ
けが被加工物によって覆われるので、反動圧も小さくな
る。従って、この場合は、圧力計側値の帰還を必要とし
ない、流量制御方式が有用である。
工の場合、最終製品を正確な寸法に仕上げるためにほん
の僅かな金属層を除去していくので、加工液に対する抵
抗は非常に小さい。しかも、ノズルの口は、その一部だ
けが被加工物によって覆われるので、反動圧も小さくな
る。従って、この場合は、圧力計側値の帰還を必要とし
ない、流量制御方式が有用である。
【００１３】
【作用】上部ノズル及び下部ノズルの噴射口における加
工液の流量特性を加工条件に応じて独立自動的に制御す
ることが可能になる。また、必要加工液流量の多寡に応
じて、流量制御、圧力制御の２種の制御方式によって、
加工液の圧力、流量を制御する。
工液の流量特性を加工条件に応じて独立自動的に制御す
ることが可能になる。また、必要加工液流量の多寡に応
じて、流量制御、圧力制御の２種の制御方式によって、
加工液の圧力、流量を制御する。
【００１４】
【発明の効果】上部ノズル及び下部ノズルの噴射口にお
ける加工液の流量特性を加工条件に応じて独立自動的に
制御することが可能であるから、放電加工の無人化、省
力化を可能にする。また、必要加工液流量の多寡に応じ
て、流量制御、圧力制御の２種の制御方式によって、加
工液の圧力、流量を制御するので、粗加工、仕上げ加工
における加工液の流量制御を容易にし、加工精度を高
め、加工速度を増加することができる。
ける加工液の流量特性を加工条件に応じて独立自動的に
制御することが可能であるから、放電加工の無人化、省
力化を可能にする。また、必要加工液流量の多寡に応じ
て、流量制御、圧力制御の２種の制御方式によって、加
工液の圧力、流量を制御するので、粗加工、仕上げ加工
における加工液の流量制御を容易にし、加工精度を高
め、加工速度を増加することができる。
【００１５】
【実施例】本発明の加工液制御システムは、殆どの放電
加工装置で使用が可能なものである。図１では放電加工
装置全体を符号１０で示してある。放電加工装置１０は
上部プーリ１４と下部プーリ１６の間に、一定の張力を
加えながら架張したワイヤ電極１２を備えている。上部
ワイヤガイド構体１８と、下部ワイヤガイド構体２２は
それぞれ上部ガイドアーム２２と、下部ガイドアーム２
４に取り付けられ、ワイヤ電極１２を操作して被加工物
２６（図２に示す）を加工する。上部ノズル２８と、下
部ノズル３０は上下のワイヤガイド構体１８、２０にそ
れぞれ取り付けられ、加工液３２をワイヤ電極１２に沿
って流す出力口を形成する。図２および図３は上下のワ
イヤガイド構体１８、２０内におけるワイヤ電極１２の
大略の位置を示している。図３は下部ワイヤガイド構体
２０からの加工液の噴射方向を示している。
加工装置で使用が可能なものである。図１では放電加工
装置全体を符号１０で示してある。放電加工装置１０は
上部プーリ１４と下部プーリ１６の間に、一定の張力を
加えながら架張したワイヤ電極１２を備えている。上部
ワイヤガイド構体１８と、下部ワイヤガイド構体２２は
それぞれ上部ガイドアーム２２と、下部ガイドアーム２
４に取り付けられ、ワイヤ電極１２を操作して被加工物
２６（図２に示す）を加工する。上部ノズル２８と、下
部ノズル３０は上下のワイヤガイド構体１８、２０にそ
れぞれ取り付けられ、加工液３２をワイヤ電極１２に沿
って流す出力口を形成する。図２および図３は上下のワ
イヤガイド構体１８、２０内におけるワイヤ電極１２の
大略の位置を示している。図３は下部ワイヤガイド構体
２０からの加工液の噴射方向を示している。
【００１６】図２に示すように、粗加工時には、上部ワ
イヤガイド構体１８のノズル２８を被加工物２６の近く
に位置させる。粗加工は被加工物に対する初期加工で、
この場合ワイヤ電極は、殆どその全体が被加工物に囲ま
れる状態で、被加工物を切り進んでいく。
イヤガイド構体１８のノズル２８を被加工物２６の近く
に位置させる。粗加工は被加工物に対する初期加工で、
この場合ワイヤ電極は、殆どその全体が被加工物に囲ま
れる状態で、被加工物を切り進んでいく。
【００１７】スキム加工、即ち、さらい加工或いは仕上
げ加工時には、上部ワイヤガイド構体１８のノズル２８
は、被加工物から僅かに引き上げた所に位置するように
する。スキム加工は、被加工物のエッヂに沿って許容差
内でそれを切り取っていく加工である。この場合、ワイ
ヤ電極の一部のみが被加工物に囲まれる状態で加工が進
行する。
げ加工時には、上部ワイヤガイド構体１８のノズル２８
は、被加工物から僅かに引き上げた所に位置するように
する。スキム加工は、被加工物のエッヂに沿って許容差
内でそれを切り取っていく加工である。この場合、ワイ
ヤ電極の一部のみが被加工物に囲まれる状態で加工が進
行する。
【００１８】ノズル２８、３０は全体として、ワイヤ電
極と平行、かつ同軸の噴流を作り出す。加工液は、図１
に示す噴流ホース３２を介して上部ワイヤガイド１８に
供給され、上部ワイヤガイドのダクト３３を満たす。ダ
クト３３は連続した円錐体部材、並びに導管３７から構
成されるチャンネル３５、３６を含んでいる。加工液
は、導管３７から噴射口３９に向かって、小量のものが
ワイヤ電極沿いに流れる。ワイヤ電極１２に沿ったこう
した加工液の流れによって、ワイヤ電極及びワイヤガイ
ド（図示せず）が冷却される。調整はり弁４１によっ
て、導管３７への加工液流量は規制されるが、上部ノズ
ル２８からの加工液の大部分は、チャンネル３５、３６
を介して流れる。
極と平行、かつ同軸の噴流を作り出す。加工液は、図１
に示す噴流ホース３２を介して上部ワイヤガイド１８に
供給され、上部ワイヤガイドのダクト３３を満たす。ダ
クト３３は連続した円錐体部材、並びに導管３７から構
成されるチャンネル３５、３６を含んでいる。加工液
は、導管３７から噴射口３９に向かって、小量のものが
ワイヤ電極沿いに流れる。ワイヤ電極１２に沿ったこう
した加工液の流れによって、ワイヤ電極及びワイヤガイ
ド（図示せず）が冷却される。調整はり弁４１によっ
て、導管３７への加工液流量は規制されるが、上部ノズ
ル２８からの加工液の大部分は、チャンネル３５、３６
を介して流れる。
【００１９】図示していないギャップボックス（電気要
素収納体）はワイヤ電極に対し、加工用放電発生のため
の電気的接続を行なう。図２に示すように、給電子４３
はワイヤ電極と接触する。噴流ホース３２を通ってノズ
ル２８に向かう加工液の流れは、その詳細を図４及び図
５に示す制御システムによって調整される。
素収納体）はワイヤ電極に対し、加工用放電発生のため
の電気的接続を行なう。図２に示すように、給電子４３
はワイヤ電極と接触する。噴流ホース３２を通ってノズ
ル２８に向かう加工液の流れは、その詳細を図４及び図
５に示す制御システムによって調整される。
【００２０】下部ワイヤガイド構体２０の詳細を図３に
示す。下部ワイヤガイドのダクト４５は加工液によって
満たされる。上部ワイヤガイドと同様に、下部ワイヤガ
イドのダクト４５は連続した円錐体部材、並びに導管４
９から構成されるチャンネル４７、４８を含んでいる。
調整はり弁５１によって、導管４９への加工液流量は規
制される。給電子５２はワイヤ電極１２と接触する。こ
の場合も、加工液はワイヤ電極に対し冷却剤として働
く。
示す。下部ワイヤガイドのダクト４５は加工液によって
満たされる。上部ワイヤガイドと同様に、下部ワイヤガ
イドのダクト４５は連続した円錐体部材、並びに導管４
９から構成されるチャンネル４７、４８を含んでいる。
調整はり弁５１によって、導管４９への加工液流量は規
制される。給電子５２はワイヤ電極１２と接触する。こ
の場合も、加工液はワイヤ電極に対し冷却剤として働
く。
【００２１】上下のワイヤガイド構体１８、２０は放電
加工装置１０全体の一部としてワイヤ電極１２と共に図
１に示されている。上部ガイドアーム２２はｕ−ｖ軸構
体５４によってｕ−ｖ軸方向に移動する。このｕ−ｖ軸
構体は上部ブラケット構体５６の一部を構成している。
加工装置１０全体の一部としてワイヤ電極１２と共に図
１に示されている。上部ガイドアーム２２はｕ−ｖ軸構
体５４によってｕ−ｖ軸方向に移動する。このｕ−ｖ軸
構体は上部ブラケット構体５６の一部を構成している。
【００２２】ｕ−ｖ軸構体５４は上部ワイヤガイド１８
をｕ，ｖ軸に沿って水平に移動させる。同様にして、下
部ガイドア−ム２４は下部ワイヤガイド２０を支持し、
それをｘ，ｙ軸に沿って水平に移動させる。ワイヤ電極
１２は上部ブラケット構体５６に沿って、はじめ水平
に、そして向きを垂直に変えられて供給される。この上
部ブラケット構体５６や、下部ガイドア−ム２４は、当
然他の部分、要素を含んでいるが、図示されていない。
をｕ，ｖ軸に沿って水平に移動させる。同様にして、下
部ガイドア−ム２４は下部ワイヤガイド２０を支持し、
それをｘ，ｙ軸に沿って水平に移動させる。ワイヤ電極
１２は上部ブラケット構体５６に沿って、はじめ水平
に、そして向きを垂直に変えられて供給される。この上
部ブラケット構体５６や、下部ガイドア−ム２４は、当
然他の部分、要素を含んでいるが、図示されていない。
【００２３】図４はワイヤ電極１２に沿う加工液噴流を
制御するシステムや、加工液の再生システムを構成する
各部間の関係を示す概略図である。加工領域を通過した
加工液３２を回収する貯水槽１００は、清浄水槽１０２
と汚濁水槽１０４からなっている。清浄水槽１０２は、
放電加工に適した導伝率の、汚染されていない脱イオン
水を満たしている。この清浄水は被加工物に対する噴射
用と、モータの冷却用として利用される。加工領域を通
った加工液は貯水槽１００の汚濁水槽１０４に回流さ
れ、そこから、ポンプで濾過回路を介して清浄水槽１０
２に送られる。貯水槽１００は清浄水槽１０２中の清浄
水の低レベルを示す第１の低レベルスイッチ１０８と、
汚濁水槽１０４中の汚濁水の低レベルを示す第２の低レ
ベルスイッチ１１０を備えている。さらに、汚濁水槽に
は汚濁水の高レベルを示す高レベルスイッチ１１４が設
けられている。
制御するシステムや、加工液の再生システムを構成する
各部間の関係を示す概略図である。加工領域を通過した
加工液３２を回収する貯水槽１００は、清浄水槽１０２
と汚濁水槽１０４からなっている。清浄水槽１０２は、
放電加工に適した導伝率の、汚染されていない脱イオン
水を満たしている。この清浄水は被加工物に対する噴射
用と、モータの冷却用として利用される。加工領域を通
った加工液は貯水槽１００の汚濁水槽１０４に回流さ
れ、そこから、ポンプで濾過回路を介して清浄水槽１０
２に送られる。貯水槽１００は清浄水槽１０２中の清浄
水の低レベルを示す第１の低レベルスイッチ１０８と、
汚濁水槽１０４中の汚濁水の低レベルを示す第２の低レ
ベルスイッチ１１０を備えている。さらに、汚濁水槽に
は汚濁水の高レベルを示す高レベルスイッチ１１４が設
けられている。
【００２４】加工液はジェット流の形で加工領域に噴射
される。加工領域を通過した加工液は回収され、図中符
号１０５で示される、導管を通って汚濁水槽１０４に返
送される。加工によって生じた生成物、特にイオン化し
たものによって汚染された加工液は、フィルターポンプ
によって一連のフィルタ１１１を介して、清浄水槽１０
２に返される。もはや加工生成物を含まなくなった清浄
水は導管１２６を介して清浄水槽１０２から取り出され
る。この導管は二方向に分岐され導管１２８、１３０を
形成し、第１噴流ポンプ１３２と、第２噴流ポンプ１３
４に接続され、加工液供給に使用する。これら第１、第
２の噴流ポンプはそれぞれ上部噴射ノズル２８および下
部噴射ノズル３０に加工液を供給し、加工領域をジェッ
ト流で洗い流す。
される。加工領域を通過した加工液は回収され、図中符
号１０５で示される、導管を通って汚濁水槽１０４に返
送される。加工によって生じた生成物、特にイオン化し
たものによって汚染された加工液は、フィルターポンプ
によって一連のフィルタ１１１を介して、清浄水槽１０
２に返される。もはや加工生成物を含まなくなった清浄
水は導管１２６を介して清浄水槽１０２から取り出され
る。この導管は二方向に分岐され導管１２８、１３０を
形成し、第１噴流ポンプ１３２と、第２噴流ポンプ１３
４に接続され、加工液供給に使用する。これら第１、第
２の噴流ポンプはそれぞれ上部噴射ノズル２８および下
部噴射ノズル３０に加工液を供給し、加工領域をジェッ
ト流で洗い流す。
【００２５】冷却水用のポンプ１２２は、清浄水槽１０
２から清浄水を汲み上げ、機械側のモータに導伝率セン
サ１２４を介して送り、モータを冷却する。導伝率セン
サ１２４は、加工液の導伝率を連続的に監視し、導伝
率、即ち加工液のイオン化が許容範囲にあるかどうかを
決定する。導伝率センサからの信号に基づいて脱イオン
化回路１１５が作動する。この脱イオン化回路は回路内
に加工液を還流させる脱イオン水用ポンプ１１８と、加
工液のイオン化を低減させる樹脂塔１２０を含んで構成
されている。導伝率のレベルがある水準を越えると、加
工液は樹脂塔１２０を介して、ポンプ１１８によって汲
み上げられ、その導伝率が降下する。樹脂塔１２０には
合成樹脂が詰められていて、その上を加工液が流れ、そ
の時に陰陽両イオンが分離除去される。導伝率が必要な
水準を下回ると、脱イオン水用ポンプは動作を停止し、
脱イオン化回路１１５には加工液は流れなくなる。この
様にして、貯水槽の清浄水槽中の加工液の導伝率は一定
の加工条件を満たすのに必要な水準に保たれる。モータ
から回流してくる加工液は導管１２７を介して清浄水槽
に戻される。
２から清浄水を汲み上げ、機械側のモータに導伝率セン
サ１２４を介して送り、モータを冷却する。導伝率セン
サ１２４は、加工液の導伝率を連続的に監視し、導伝
率、即ち加工液のイオン化が許容範囲にあるかどうかを
決定する。導伝率センサからの信号に基づいて脱イオン
化回路１１５が作動する。この脱イオン化回路は回路内
に加工液を還流させる脱イオン水用ポンプ１１８と、加
工液のイオン化を低減させる樹脂塔１２０を含んで構成
されている。導伝率のレベルがある水準を越えると、加
工液は樹脂塔１２０を介して、ポンプ１１８によって汲
み上げられ、その導伝率が降下する。樹脂塔１２０には
合成樹脂が詰められていて、その上を加工液が流れ、そ
の時に陰陽両イオンが分離除去される。導伝率が必要な
水準を下回ると、脱イオン水用ポンプは動作を停止し、
脱イオン化回路１１５には加工液は流れなくなる。この
様にして、貯水槽の清浄水槽中の加工液の導伝率は一定
の加工条件を満たすのに必要な水準に保たれる。モータ
から回流してくる加工液は導管１２７を介して清浄水槽
に戻される。
【００２６】清浄水槽１０２から導管１２６を介して出
てくる加工液は、導管１２８、１３０を通って、それぞ
れ第１、第２の噴流ポンプ１３２、１３４に入る。これ
らのポンプ１３２、１３４は加工液を上下のノズルにそ
れぞれ供給し、その制御は誘電制御盤１３６を介して行
なわれる。この制御盤は入力線１３８、１３９を介して
信号を受け、それに基づいて第１、第２のポンプ１３
２、１３４の出力を調整する。
てくる加工液は、導管１２８、１３０を通って、それぞ
れ第１、第２の噴流ポンプ１３２、１３４に入る。これ
らのポンプ１３２、１３４は加工液を上下のノズルにそ
れぞれ供給し、その制御は誘電制御盤１３６を介して行
なわれる。この制御盤は入力線１３８、１３９を介して
信号を受け、それに基づいて第１、第２のポンプ１３
２、１３４の出力を調整する。
【００２７】入力線上の信号１３８、１３９は、放電加
工装置が手動モードか、プログラムモードによって操作
されているかに従って、作業者の制御盤或いは数値制御
装置１３５から送られる。手動の場合、作業者が、多く
はその経験から種々の異なる加工条件に必要な加工液の
流量を決定している。しかし、一度手動操作によって好
ましい加工条件が決められると、それはプログラム化さ
れ、好ましい加工条件としての上下のノズル２８、３０
への加工液流量特性が自動的に決定される。
工装置が手動モードか、プログラムモードによって操作
されているかに従って、作業者の制御盤或いは数値制御
装置１３５から送られる。手動の場合、作業者が、多く
はその経験から種々の異なる加工条件に必要な加工液の
流量を決定している。しかし、一度手動操作によって好
ましい加工条件が決められると、それはプログラム化さ
れ、好ましい加工条件としての上下のノズル２８、３０
への加工液流量特性が自動的に決定される。
【００２８】必要な割合で加工時に発生する生成物残骸
を確実に取り除くために、加工液は一対のワイヤガイド
構体１８、２０によって、被加工物の上下から加工間隙
に向かって供給される。上下のノズル２８、３０からの
加工液流量は、ノズル３０からのものは重力の影響を相
殺するようにしたり、また両ノズルからの流量特性を変
えることが望ましいような加工モードにおいては別々に
調整される。例えば、スキム加工や、エントリ加工にお
いては、被加工物の対流量抵抗は最小になるので、一方
のノズル、通常、上部ノズルからの加工液だけで充分で
ある。この場合下部ノズル３０から最小流量の加工液を
与えてもよい。単一のポンプを使用して両ノズルに同一
の流量割合で加工液を供給する場合、即ち従来の加工液
制御システムの場合であるが、両ノズルの効率損失は同
じになり、その調整には供給導管に設けられた弁を手動
によって調整しなければならない。このことは、放電加
工装置がプログラム稼働しているときでさえ事情は同じ
になる。
を確実に取り除くために、加工液は一対のワイヤガイド
構体１８、２０によって、被加工物の上下から加工間隙
に向かって供給される。上下のノズル２８、３０からの
加工液流量は、ノズル３０からのものは重力の影響を相
殺するようにしたり、また両ノズルからの流量特性を変
えることが望ましいような加工モードにおいては別々に
調整される。例えば、スキム加工や、エントリ加工にお
いては、被加工物の対流量抵抗は最小になるので、一方
のノズル、通常、上部ノズルからの加工液だけで充分で
ある。この場合下部ノズル３０から最小流量の加工液を
与えてもよい。単一のポンプを使用して両ノズルに同一
の流量割合で加工液を供給する場合、即ち従来の加工液
制御システムの場合であるが、両ノズルの効率損失は同
じになり、その調整には供給導管に設けられた弁を手動
によって調整しなければならない。このことは、放電加
工装置がプログラム稼働しているときでさえ事情は同じ
になる。
【００２９】本発明の制御システムの場合には、図５の
ブロック図に示すように、数値制御装置１３５から信号
線１３８、１３９を介して送られる信号に基づいて、作
動する誘電制御盤１３６によって、個々のノズルの制御
が可能になる。誘電制御盤１３６は信号線１３７を通じ
て第１の信号を第１の直流モータ制御盤１４０に送り、
これによって第１の噴流用ポンプ１３２を制御する。ま
た、信号線１４１を通じて第２の信号を第２の直流モー
タ制御盤１４２に送り、これによって第２の噴流用ポン
プ１３４を制御する。作業者用の制御盤、或いは数値制
御装置１３５は、信号線１３８、１３９に信号を送り、
効率的に放電加工装置を作動させるため必要な上下ノズ
ルの流量を決める。
ブロック図に示すように、数値制御装置１３５から信号
線１３８、１３９を介して送られる信号に基づいて、作
動する誘電制御盤１３６によって、個々のノズルの制御
が可能になる。誘電制御盤１３６は信号線１３７を通じ
て第１の信号を第１の直流モータ制御盤１４０に送り、
これによって第１の噴流用ポンプ１３２を制御する。ま
た、信号線１４１を通じて第２の信号を第２の直流モー
タ制御盤１４２に送り、これによって第２の噴流用ポン
プ１３４を制御する。作業者用の制御盤、或いは数値制
御装置１３５は、信号線１３８、１３９に信号を送り、
効率的に放電加工装置を作動させるため必要な上下ノズ
ルの流量を決める。
【００３０】誘電制御盤１３６は信号線１３８、１３９
を介して送られる信号にしたがって、各直流モータ制御
盤１４０、１４２に対する１６ビットの入力信号を生成
する。そして、各直流モータ制御盤１４０、１４２は、
０乃至１０ボルトの範囲にあるアナログ電圧を、それが
制御する噴流ポンプに出力する。ポンプのモータは０乃
至１８００ｒｐｍの回転数で運転されるが、６０ｒｐｍ
以上の回転数で、入力電圧に対して線形動作となる。容
積形ポンプの出力流量は、モータの回転率に対して線形
関係にある。それ故、容積形ポンプの流量は誘電制御盤
からの信号にしたがって決定される。直流モータ制御盤
に代えて、交流モータ制御盤と、インバータを使用する
ことも出来る。
を介して送られる信号にしたがって、各直流モータ制御
盤１４０、１４２に対する１６ビットの入力信号を生成
する。そして、各直流モータ制御盤１４０、１４２は、
０乃至１０ボルトの範囲にあるアナログ電圧を、それが
制御する噴流ポンプに出力する。ポンプのモータは０乃
至１８００ｒｐｍの回転数で運転されるが、６０ｒｐｍ
以上の回転数で、入力電圧に対して線形動作となる。容
積形ポンプの出力流量は、モータの回転率に対して線形
関係にある。それ故、容積形ポンプの流量は誘電制御盤
からの信号にしたがって決定される。直流モータ制御盤
に代えて、交流モータ制御盤と、インバータを使用する
ことも出来る。
【００３１】ポンプ１３２、１３４は市販のポジティブ
容積形ポンプで、例えばワーナ社から発売されており、
リップル率約５％で作動が可能である。この種のポンプ
はワイヤ電極１２の長さ方向に沿って、その周囲に安定
した流れを作り出すことが出来る。その他のポンプで
も、適当なリップル特性をもち、回転率と出力流量の間
に決まった関係を有するものであれば使用することが出
来る。
容積形ポンプで、例えばワーナ社から発売されており、
リップル率約５％で作動が可能である。この種のポンプ
はワイヤ電極１２の長さ方向に沿って、その周囲に安定
した流れを作り出すことが出来る。その他のポンプで
も、適当なリップル特性をもち、回転率と出力流量の間
に決まった関係を有するものであれば使用することが出
来る。
【００３２】ポジティブ容積形ポンプを使用することの
利点は、安定な出力流量が得られることの他に、従来の
遠心ポンプに比較して、高圧運転に耐えられる点にあ
る。放電加工の切削速度をあげるためには、加工に伴い
発生する生成物をいち早く除去する必要があり、このた
めに高い圧力が必要になる。したがって、ポジティブ容
積形ポンプの使用によって、従来のポンプに比べ、遥か
に早いスピードの加工が可能になる。本発明のシステム
の場合、好ましい動作圧力は３００ｐｓｉであるが、１
０００ｐｓｉまで可能である。容積形ポンプによる構成
によって加工率を更に向上させることができる。
利点は、安定な出力流量が得られることの他に、従来の
遠心ポンプに比較して、高圧運転に耐えられる点にあ
る。放電加工の切削速度をあげるためには、加工に伴い
発生する生成物をいち早く除去する必要があり、このた
めに高い圧力が必要になる。したがって、ポジティブ容
積形ポンプの使用によって、従来のポンプに比べ、遥か
に早いスピードの加工が可能になる。本発明のシステム
の場合、好ましい動作圧力は３００ｐｓｉであるが、１
０００ｐｓｉまで可能である。容積形ポンプによる構成
によって加工率を更に向上させることができる。
【００３３】本発明の第２の特徴は、制御システムが２
種の方式で動作できる点にある。即ち、一つは圧力制御
方式であり、他の一つは流量制御方式である。流量制御
方式は低流量の場合、例えば毎分流量が０ないし３／４
ガロンの範囲にあるときに、利用し、圧力制御方式は流
量がこれ以上になったときに利用する。従って、流量制
御方式は、被加工物による抵抗が小さく、低流量で済
む、トリミング加工とか、エントリ加工の場合に利用す
るのが良く、その他の殆どの場合は、圧力制御方式を利
用する。この動作の他の特徴は、信号線１３８、１３９
からの信号は流量が閾値以下のときは流量を表し、閾値
以上のときは圧力を表す点にある。勿論、閾値を必要に
応じて、前記のものから変更することはさしつかえな
い。数値制御装置１３５は、流量制御方式、圧力制御方
式の選択をするスイッチ手段を備えている。
種の方式で動作できる点にある。即ち、一つは圧力制御
方式であり、他の一つは流量制御方式である。流量制御
方式は低流量の場合、例えば毎分流量が０ないし３／４
ガロンの範囲にあるときに、利用し、圧力制御方式は流
量がこれ以上になったときに利用する。従って、流量制
御方式は、被加工物による抵抗が小さく、低流量で済
む、トリミング加工とか、エントリ加工の場合に利用す
るのが良く、その他の殆どの場合は、圧力制御方式を利
用する。この動作の他の特徴は、信号線１３８、１３９
からの信号は流量が閾値以下のときは流量を表し、閾値
以上のときは圧力を表す点にある。勿論、閾値を必要に
応じて、前記のものから変更することはさしつかえな
い。数値制御装置１３５は、流量制御方式、圧力制御方
式の選択をするスイッチ手段を備えている。
【００３４】この実施例による流量制御方式は、噴流ポ
ンプへの入力信号とその結果の出力の間の関係に基づい
て、オープンループで作動する。
ンプへの入力信号とその結果の出力の間の関係に基づい
て、オープンループで作動する。
【００３５】図示の、実施例では、圧力制御方式はクロ
ーズドループである。誘電制御盤１３６は、第１、第２
の圧力トランスデューサ１４４、１４６から信号を受け
ると共に、数値制御装置１３５または作業者用の制御盤
から信号線１３８、１３９を通して信号を受ける。圧力
トランスデューサ１４４、１４６による読みは、誘電制
御１３６に伝えられる。誘電制御盤１３６は、圧力トラ
ンスデューサから第１、第２ポンプの実際の出力圧を示
す信号を受けるとともに、信号線１３８、１３９を介し
て、所望のポンプ出力圧を示す信号を受け、加工液の所
望圧力と、実際の圧力との差に従って、第１、第２の噴
流ポンプ１３２、１３４を制御するための出力信号を直
流モータ制御盤１４０、１４２に対して送信する。圧力
トランスデューサの設置は任意であるが、ポンプとノズ
ルのほぼ中間に配置し、機械側のノイズから逃れるため
の遮蔽を施すことが望ましい。ポンプスピードとその出
力圧の関係が信頼の置けるものならば、圧力トランスデ
ューサを含むハードウエアを除くことも可能である。
ーズドループである。誘電制御盤１３６は、第１、第２
の圧力トランスデューサ１４４、１４６から信号を受け
ると共に、数値制御装置１３５または作業者用の制御盤
から信号線１３８、１３９を通して信号を受ける。圧力
トランスデューサ１４４、１４６による読みは、誘電制
御１３６に伝えられる。誘電制御盤１３６は、圧力トラ
ンスデューサから第１、第２ポンプの実際の出力圧を示
す信号を受けるとともに、信号線１３８、１３９を介し
て、所望のポンプ出力圧を示す信号を受け、加工液の所
望圧力と、実際の圧力との差に従って、第１、第２の噴
流ポンプ１３２、１３４を制御するための出力信号を直
流モータ制御盤１４０、１４２に対して送信する。圧力
トランスデューサの設置は任意であるが、ポンプとノズ
ルのほぼ中間に配置し、機械側のノイズから逃れるため
の遮蔽を施すことが望ましい。ポンプスピードとその出
力圧の関係が信頼の置けるものならば、圧力トランスデ
ューサを含むハードウエアを除くことも可能である。
【００３６】この発明の制御システムによれば、一対の
ノズルから放電加工装置のワイヤ電極に沿って流す加工
液を自動的に独立に制御することが可能になる。加工液
の圧力、流量は放電加工装置の制御装置からの信号で制
御することができる。即ち、加工液を放電加工装置の動
作条件に基づいて、流量によって、或いは圧力によって
制御することが可能になる。放電加工装置がプログラム
によって制御されているときには、放電加工装置は輪郭
制御システムからの信号によって全体的に制御される。
ノズルから放電加工装置のワイヤ電極に沿って流す加工
液を自動的に独立に制御することが可能になる。加工液
の圧力、流量は放電加工装置の制御装置からの信号で制
御することができる。即ち、加工液を放電加工装置の動
作条件に基づいて、流量によって、或いは圧力によって
制御することが可能になる。放電加工装置がプログラム
によって制御されているときには、放電加工装置は輪郭
制御システムからの信号によって全体的に制御される。
【００３７】以上、一つの実施例について述べたが、本
発明がこれのみに限定されるものでないことは明らかで
ある。本発明が関係する技術分野の当業者であれば、本
発明の原理を取り入れ、上述の開示を基に本発明に修
正、変形を施すことは可能である。
発明がこれのみに限定されるものでないことは明らかで
ある。本発明が関係する技術分野の当業者であれば、本
発明の原理を取り入れ、上述の開示を基に本発明に修
正、変形を施すことは可能である。
【図１】本発明の制御システムを適用する放電加工装置
の一部概略図であり、上部および下部のワイヤガイド構
体を含めて示す図。
の一部概略図であり、上部および下部のワイヤガイド構
体を含めて示す図。
【図２】ワイヤ電極と被加工物の位置関係を含めて、上
部ワイヤガイド構体の断面を示す図。
部ワイヤガイド構体の断面を示す図。
【図３】ワイヤ電極と加工液の流れ方向を含めて、下部
ワイヤガイド構体の断面を示す図。
ワイヤガイド構体の断面を示す図。
【図４】図１に示す装置を制御するシステムの概賂図で
あって、加工液の脱イオン化装置、再生システムを含め
て示す図。
あって、加工液の脱イオン化装置、再生システムを含め
て示す図。
【図５】本発明の制御システムを示すブロック図。
１０ 放電加工装置 １２ ワイヤ電極 １８ 上部ワイヤガイド構体 ２０ 下部ワイヤガイド構体 ２６ 被加工物 １００ 貯水槽 １０２ 清浄水槽 １０４ 汚濁水槽 １０９、１１８、１２２、１３２、１３４ ポンプ １１１ フィルタ １２０ 樹脂塔 １２４ 導伝率センサ １３５ ＮＣ １３６ 誘電制御盤 １４０、１４２ 直流モータ制御盤 １４４、１４６ トランスデューサ
フロントページの続き (56)参考文献 特開 昭58−109230（ＪＰ，Ａ) 特開 平３−32521（ＪＰ，Ａ) 実開 昭58−117318（ＪＰ，Ｕ) (58)調査した分野(Int.Cl.6，ＤＢ名) B23H 7/02
Claims (10)
- 【請求項１】 移動可能な繊条加工電極と、互いに離間
した第１の電極ガイド・加工液放出手段及び第２の電極
ガイド・加工液放出手段を備え、前記第１の電極ガイド
・加工液放出手段は全体として、前記電極に沿う第１の
方向に加工液を放出する第１の放出口を有し、前記第２
の電極ガイド・加工液放出手段は全体として、前記電極
に沿う第２の方向に加工液を放出する第２の放出口を有
する放電加工装置の制御システムであって、 前記第１の放出口及び前記第２の放出口において必要な
加工液流量条件に応じて第１の電気信号及び第２の電気
信号を発生させる手段と、 前記第１の電気信号に応答して前記第１の放出口の加工
液流量出力を制御する第１の加工液流量出力制御手段
と、 前記第２の電気信号に応答して前記第２の放出口の加工
液流量出力を制御する第２の加工液流量出力制御手段と
を備え、 前記第１の電気信号及び前記第２の電気信号は、閾値以
下の流量では前記必要とされる加工液流量条件における
流量を表し、閾値以上の流量では前記必要とされる加工
液流量条件における圧力を表し、 前記第１の加工液流量出力制御手段は、第１のポンプ制
御信号を発生し、前記第１の電気信号に応答する第１の
モ−タ手段と、前記第１の放出口において必要とされる
加工液流量条件を設定するように第１のポンプ制御信号
に応答する第１のポンプとを含み、 前記第２の加工液流量出力制御手段は、第２のポンプ制
御信号を発生し、前記第２の電気信号に応答する第２の
モ−タ手段と、前記第２の放出口において必要とされる
加工液流量条件を設定するように前記第２のポンプ制御
信号に応答する第２のポンプとを含む、放電加工装置の
制御システム。 - 【請求項２】 前記第１のポンプ及び前記第２のポンプ
はポジティブ容積形ポンプである、請求項１に記載の放
電加工装置の制御システム。 - 【請求項３】 前記第１のポンプ及び前記第２のポンプ
は圧力３００ｐｓｉで作動する、請求項２に記載の放電
加工装置の制御システム。 - 【請求項４】 前記第１のモータ手段及び前記第２のモ
−タ手段の各々は、直流モ−タ制御装置を含む、請求項
１に記載の放電加工装置の制御システム。 - 【請求項５】 前記第１のモータ手段及び前記第２のモ
−タ手段の各々は、交流モ−タ装置とインバ−タとを含
む、請求項１に記載の放電加工装置の制御システム。 - 【請求項６】 所定の流量を表す前記第１の電気信号及
び前記第２の電気信号の一方に応答して、複数の動作方
式で前記第１の流量出力制御手段及び前記第２の流量出
力制御手段を作動させる選択手段を含み、前記動作方式
は圧力制御方式及び流量制御方式を含む、請求項１に記
載の放電加工装置の制御システム。 - 【請求項７】 前記第１の放出口における圧力を表す第
３の電気信号を発生する第１のトランスデュ−サ手段
と、前記第２の放出口における圧力を表す第４の電気信
号を発生する第２のトランスデュ−サ手段とを含み、前
記第１のポンプ制御信号及び前記第２のポンプ制御信号
は前記第３の電気信号及び前記第４の電気信号に応答し
て変えられる、請求項１に記載の放電加工装置の制御シ
ステム。 - 【請求項８】 移動可能な繊条加工電極と、互いに離間
した第１の電極ガイド・加工液放出手段及び第２の電極
ガイド・加工液放出手段を備え、前記第１の電極ガイド
・加工液放出手段は全体として、前記電極に沿う第１の
方向に加工液を放出する第１の放出口を有し、前記第２
の電極ガイド・加工液放出手段は全体として、前記電極
に沿う第２の方向に加工液を放出する第２の放出口を有
する放電加工装置の制御システムであって、 前記第１の放出口において必要とされる加工液流量条件
に応じて第１の電気信号を発生させる手段と、 前記第２の放出口において必要とされる加工液流量条件
に応じて第２の電気信号を発生させる手段と、 前記第１の電気信号に応答して、前記第１の放出口の加
工液流量出力を制御する第１の流量出力制御手段と、 前記第２の電気信号に応答して、前記第２の放出口の加
工液流量出力を制御する第２の流量出力制御手段と、 所定の流量を表す前記第１の電気信号及び前記第２の電
気信号の一つに応答して、複数の動作方式で前記第１の
流量出力制御手段及び前記第２の流量出力制御手段を作
動させる選択手段とを備え、 前記動作方式は圧力制御方式及び流量制御方式を含み、 前記選択手段は、閾値以上の流量条件では圧力制御方式
で動作し、前記閾値以下では流量制御方式で動作する、
放電加工装置の制御システム。 - 【請求項９】 前記第１の電気信号及び前記第２の電気
信号の各々は、流量制御方式による動作時には流量を表
し、圧力制御方式による動作時には圧力を表す、請求項
８に記載の放電加工装置の制御システム。 - 【請求項１０】 前記第１の加工液流量出力制御手段
は、第１のポンプ制御信号を発生し、前記第１の電気信
号に応答する第１のモ−タ手段と、前記第１の放出口に
おいて必要とされる加工液流量条件を設定するように第
１のポンプ制御信号に応答する第１のポンプとを含み、 前記第２の加工液流量出力制御手段は、第２のポンプ制
御信号を発生し、前記第２の電気信号に応答する第２の
モ−タ手段と、前記第２の放出口において必要とされる
加工液流量条件を設定するように前記第２のポンプ制御
信号に応答する第２のポンプとを含み、また、 第１のトランスデュ−サ手段及び第２のトランスデュ−
サ手段が設けられており、前記第１のトランスデュ−サ
手段は前記第１の放出口における圧力を表す第３の電気
信号を発生し、前記第２のトランスデュ−サ手段は前記
第２の放出口における圧力を表す第４の電気信号を発生
し、 前記第１のポンプ制御信号及び前記第２のポンプ制御信
号は前記第３の電気信号及び前記第４の電気信号に応答
して変えられる、請求項９に記載の放電加工装置の制御
システム。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| US07/485,615 US5045663A (en) | 1990-02-27 | 1990-02-27 | System for control of flushing flow in a spark discharge (EDM) machine |
| US485,615 | 1990-02-27 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0639645A JPH0639645A (ja) | 1994-02-15 |
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