JP2942721B2 - マルチビーム走査装置 - Google Patents
マルチビーム走査装置Info
- Publication number
- JP2942721B2 JP2942721B2 JP19452695A JP19452695A JP2942721B2 JP 2942721 B2 JP2942721 B2 JP 2942721B2 JP 19452695 A JP19452695 A JP 19452695A JP 19452695 A JP19452695 A JP 19452695A JP 2942721 B2 JP2942721 B2 JP 2942721B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- light
- light source
- source unit
- emitted
- amount
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
Landscapes
- Laser Beam Printer (AREA)
- Mechanical Optical Scanning Systems (AREA)
- Semiconductor Lasers (AREA)
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、デジタル複写機及
びレーザプリンタ等の書き込み系に用いられる光走査装
置に適用され、特にマルチビーム化により記録速度を向
上させたマルチビーム走査装置に関する。
びレーザプリンタ等の書き込み系に用いられる光走査装
置に適用され、特にマルチビーム化により記録速度を向
上させたマルチビーム走査装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】書き込み系に用いられる光走査装置にお
いて記録速度を上げる手段として、偏向手段としての回
転多面鏡の回転速度を上げる方法がある。しかし、この
方法ではモータの耐久性や多面鏡の材質などが問題とな
り記録速度に限界がある。記録速度を低下させることな
く多面鏡の回転速度を低くするには、一度に複数のレー
ザ光で走査するようにすればよい。
いて記録速度を上げる手段として、偏向手段としての回
転多面鏡の回転速度を上げる方法がある。しかし、この
方法ではモータの耐久性や多面鏡の材質などが問題とな
り記録速度に限界がある。記録速度を低下させることな
く多面鏡の回転速度を低くするには、一度に複数のレー
ザ光で走査するようにすればよい。
【０００３】このようにしたマルチビーム走査装置とし
て、特開昭６０−３２０１９号公報に開示されているよ
うに、複数個の半導体レーザからの光束を合成して出射
する光源方式や、特開平２−５４２１１号公報に開示さ
れているように、複数の発光源がアレイ状に配列された
半導体レーザアレイを用いた光源方式が提案され、走査
線ピッチの調整は、前者では副走査方向の光軸傾き、後
者では光軸回りの光源傾きにより調節されている。更に
前者では半導体レーザを用いるために波長や出力が選べ
るので利用範囲が広いという特徴がある。また、環境の
変動によるビームピッチが変動するのを解決するため
に、特願平５−２１６８００号による出願がある。
て、特開昭６０−３２０１９号公報に開示されているよ
うに、複数個の半導体レーザからの光束を合成して出射
する光源方式や、特開平２−５４２１１号公報に開示さ
れているように、複数の発光源がアレイ状に配列された
半導体レーザアレイを用いた光源方式が提案され、走査
線ピッチの調整は、前者では副走査方向の光軸傾き、後
者では光軸回りの光源傾きにより調節されている。更に
前者では半導体レーザを用いるために波長や出力が選べ
るので利用範囲が広いという特徴がある。また、環境の
変動によるビームピッチが変動するのを解決するため
に、特願平５−２１６８００号による出願がある。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】一般にマルチビーム走
査装置では、装置フレームに光源部を取り付ける際、取
り付け誤差や光学素子の加工誤差等により所定の走査線
ピッチが得られないため、その調整が必須となってい
る。本発明は、複数個の半導体レーザからの光ビームを
合成して出射する光源方式において、複雑な調整機構を
必要とせずに、合成された光ビームを光軸回りに回動調
整して走査線ピッチの調整を容易に行えるようにするこ
とを目的とする。更に、光ビームを回動調整する際に被
走査面にて所定のビームスポット径が得られるように
し、更に又、ビームスポット径を変更する際に光学部品
の変更等面倒な作業を必要としないで、光源部の交換の
みで対応できるようにし、更に又、このビームスポット
径を光源部の変更による簡単な作業で変更することがで
き、更に又、光ビームを回動調整する際に露光強度が変
動しないようにし、あるいは又、光ビームが回動調整さ
れて走査線ピッチ等が自動補正される際にも露光強度の
変動が生じないようにすることを目的とする。
査装置では、装置フレームに光源部を取り付ける際、取
り付け誤差や光学素子の加工誤差等により所定の走査線
ピッチが得られないため、その調整が必須となってい
る。本発明は、複数個の半導体レーザからの光ビームを
合成して出射する光源方式において、複雑な調整機構を
必要とせずに、合成された光ビームを光軸回りに回動調
整して走査線ピッチの調整を容易に行えるようにするこ
とを目的とする。更に、光ビームを回動調整する際に被
走査面にて所定のビームスポット径が得られるように
し、更に又、ビームスポット径を変更する際に光学部品
の変更等面倒な作業を必要としないで、光源部の交換の
みで対応できるようにし、更に又、このビームスポット
径を光源部の変更による簡単な作業で変更することがで
き、更に又、光ビームを回動調整する際に露光強度が変
動しないようにし、あるいは又、光ビームが回動調整さ
れて走査線ピッチ等が自動補正される際にも露光強度の
変動が生じないようにすることを目的とする。
【０００５】
【課題を解決するための手段】上記目的達成のため、請
求項１の発明は、複数個の半導体レーザと該半導体レー
ザから光ビームを各々平行光束にするコリメータレンズ
とこれら光ビームを重ね合わせて出射するビーム合成手
段とを実質一体的に合成してなる光源部を有し複数本の
光ビームを同時に繰り返し走査するマルチビーム走査装
置において、前記光源部は、ビーム合成手段から射出さ
れる各光束が少なくとも主走査方向に所定角度隔てて出
射されるよう構成すると共に、前記合成された光ビーム
を光軸回りに回動調整自在にしたことを特徴とするもの
であり、請求項２記載の発明は、請求項１において、半
導体レーザからビーム合成手段に至る光路中の各々に円
形スリットを有した円形絞り板を備えると共に、出射光
束が少なくとも副走査方向に所定の光束径を形成すべく
光ビームを整形するビーム整形手段をビーム合成手段の
後段に備えたことを特徴とするものであり、請求項３記
載の発明は、請求項２におけるビーム整形手段を、光源
部と一体的に支持するとともに、光源部に対し、光軸回
りに回動可能としたことを特徴とするものであり、請求
項４記載の発明は、複数個の発光源がアレイ状に配列さ
れた半導体レーザアレイと該半導体レーザアレイからの
光ビームを各々平行光束にするコリメータレンズとを実
質一体的に形成すると共に該半導体レーザアレイからの
光ビームの光軸回りに回動調整自在とした光源部を有し
複数本の光ブームを同時に繰り返し走査するマルチビー
ム走査装置において、出射光束の少なくとも副走査方向
に所定の光束径を形成すべく光ビームを整形するビーム
整形手段を前記光源部と一体的に支持するとともに、光
源部に対し、光軸回りに回動可能としたことを特徴とす
るものであり、請求項５記載の発明は、請求項３及び請
求項４におけるビーム整形手段が、装置フレームと一体
的に形成してなる矩形のアパーチャにより構成したこと
を特徴とするものであり、請求項６記載の発明は、請求
項５において、光源部の回動調整における設置角度に応
じて半導体レーザの出射光量を可変制御する光量可変制
御手段を備えたことを特徴とするものであり、請求項７
記載の発明は、請求項６において、光量可変制御手段
が、アパーチャから被走査面に至る各ビームの光量変化
を検出して該光量変化を制御光量に反映させるための光
量検出手段を備えたことを特徴とするものであり、請求
項８記載の発明は、請求項６において、光量可変制御手
段が、光源部の設置角度に対応させて出射光量の変化量
を算定する光量変化算定手段を備えたことを特徴とする
ものであり、 請求項９記載の発明は、半導体レーザを含
む一般の光源に関し適用するものである。以上
求項１の発明は、複数個の半導体レーザと該半導体レー
ザから光ビームを各々平行光束にするコリメータレンズ
とこれら光ビームを重ね合わせて出射するビーム合成手
段とを実質一体的に合成してなる光源部を有し複数本の
光ビームを同時に繰り返し走査するマルチビーム走査装
置において、前記光源部は、ビーム合成手段から射出さ
れる各光束が少なくとも主走査方向に所定角度隔てて出
射されるよう構成すると共に、前記合成された光ビーム
を光軸回りに回動調整自在にしたことを特徴とするもの
であり、請求項２記載の発明は、請求項１において、半
導体レーザからビーム合成手段に至る光路中の各々に円
形スリットを有した円形絞り板を備えると共に、出射光
束が少なくとも副走査方向に所定の光束径を形成すべく
光ビームを整形するビーム整形手段をビーム合成手段の
後段に備えたことを特徴とするものであり、請求項３記
載の発明は、請求項２におけるビーム整形手段を、光源
部と一体的に支持するとともに、光源部に対し、光軸回
りに回動可能としたことを特徴とするものであり、請求
項４記載の発明は、複数個の発光源がアレイ状に配列さ
れた半導体レーザアレイと該半導体レーザアレイからの
光ビームを各々平行光束にするコリメータレンズとを実
質一体的に形成すると共に該半導体レーザアレイからの
光ビームの光軸回りに回動調整自在とした光源部を有し
複数本の光ブームを同時に繰り返し走査するマルチビー
ム走査装置において、出射光束の少なくとも副走査方向
に所定の光束径を形成すべく光ビームを整形するビーム
整形手段を前記光源部と一体的に支持するとともに、光
源部に対し、光軸回りに回動可能としたことを特徴とす
るものであり、請求項５記載の発明は、請求項３及び請
求項４におけるビーム整形手段が、装置フレームと一体
的に形成してなる矩形のアパーチャにより構成したこと
を特徴とするものであり、請求項６記載の発明は、請求
項５において、光源部の回動調整における設置角度に応
じて半導体レーザの出射光量を可変制御する光量可変制
御手段を備えたことを特徴とするものであり、請求項７
記載の発明は、請求項６において、光量可変制御手段
が、アパーチャから被走査面に至る各ビームの光量変化
を検出して該光量変化を制御光量に反映させるための光
量検出手段を備えたことを特徴とするものであり、請求
項８記載の発明は、請求項６において、光量可変制御手
段が、光源部の設置角度に対応させて出射光量の変化量
を算定する光量変化算定手段を備えたことを特徴とする
ものであり、 請求項９記載の発明は、半導体レーザを含
む一般の光源に関し適用するものである。以上
【０００６】請求項１記載の発明では、ビーム合成手段
から射出される各光束が主走査方向に所定角度隔てて出
射されるよう構成してなる光源部を、光軸回りに回動調
節することによって、各光軸の副走査方向のピッチが調
節される。請求項２記載の発明では、各光ビームは絞り
板によって整形されていて、光源部を回動させて光ビー
ムを回動調整する際に、ビーム整形手段を通過する際に
所定の光束径が保たれ、被走査面にて所定のビームスポ
ット径が得られる。
から射出される各光束が主走査方向に所定角度隔てて出
射されるよう構成してなる光源部を、光軸回りに回動調
節することによって、各光軸の副走査方向のピッチが調
節される。請求項２記載の発明では、各光ビームは絞り
板によって整形されていて、光源部を回動させて光ビー
ムを回動調整する際に、ビーム整形手段を通過する際に
所定の光束径が保たれ、被走査面にて所定のビームスポ
ット径が得られる。
【０００７】請求項３記載の発明では、請求項２におけ
るビーム整形手段を、光源部と一体的に支持したので、
ビームスポット径を変更する際に、光ビームの回動調整
による光源部の変更のみで対応できる。また、ビーム整
形手段を光軸回りに回動可能としたことにより、上記回
動調整の際、それにつれてビーム整形手段が回動するこ
とはないので、ビーム整形手段通過後の光束の姿勢は常
に一定に保たれ、走査記録面上で所定のスポット形状が
得られる。
るビーム整形手段を、光源部と一体的に支持したので、
ビームスポット径を変更する際に、光ビームの回動調整
による光源部の変更のみで対応できる。また、ビーム整
形手段を光軸回りに回動可能としたことにより、上記回
動調整の際、それにつれてビーム整形手段が回動するこ
とはないので、ビーム整形手段通過後の光束の姿勢は常
に一定に保たれ、走査記録面上で所定のスポット形状が
得られる。
【０００８】請求項４記載の発明では、請求項３におけ
ると同様に、ビーム整形手段を、光源部と一体的に支持
したので、ビームスポット径を変更する際に、光ビーム
の回動調整による光源部の変更のみで対応できる。
ると同様に、ビーム整形手段を、光源部と一体的に支持
したので、ビームスポット径を変更する際に、光ビーム
の回動調整による光源部の変更のみで対応できる。
【０００９】請求項５記載の発明では、請求項３及び請
求項４におけるビーム整形手段を、装置フレームと一体
的に形成してなるアパーチャにより構成したので、ビー
ムスポット径を変更する際に、光源部の交換のみで対応
できる。請求項６記載の発明では、請求項５において、
光源部の回動調整における設置角度に応じて半導体レー
ザの出射光量を可変制御する光量可変制御手段を備えた
ので、光ビームを回動調整する際に露光強度が変動しな
い。
求項４におけるビーム整形手段を、装置フレームと一体
的に形成してなるアパーチャにより構成したので、ビー
ムスポット径を変更する際に、光源部の交換のみで対応
できる。請求項６記載の発明では、請求項５において、
光源部の回動調整における設置角度に応じて半導体レー
ザの出射光量を可変制御する光量可変制御手段を備えた
ので、光ビームを回動調整する際に露光強度が変動しな
い。
【００１０】請求項７記載の発明では、請求項６におい
て、光量可変制御手段が、アパーチャから被走査面に至
る各ビームの光量変化を検出して該光量変化を制御し出
射光量に反映させるための光量検出手段を備えたので、
光ビームが回動調整されて走査線ピッチ等が自動補正さ
れる際にも露光強度の変動が生じない。請求項８記載の
発明では、請求項６において、光量可変制御手段が、光
源部の設置角度に対応させて出射光量の変化量を算定す
る光量変化算定手段を備えたので、請求項７におけると
同様に、走査線ピッチ等が自動補正される際にも露光強
度の変動が生じない。
て、光量可変制御手段が、アパーチャから被走査面に至
る各ビームの光量変化を検出して該光量変化を制御し出
射光量に反映させるための光量検出手段を備えたので、
光ビームが回動調整されて走査線ピッチ等が自動補正さ
れる際にも露光強度の変動が生じない。請求項８記載の
発明では、請求項６において、光量可変制御手段が、光
源部の設置角度に対応させて出射光量の変化量を算定す
る光量変化算定手段を備えたので、請求項７におけると
同様に、走査線ピッチ等が自動補正される際にも露光強
度の変動が生じない。
【００１１】
【発明の実施の形態】以下、本発明の実施例を図面に基
づいて具体的に説明する。図１〜図６は本発明に係るマ
ルチビーム走査装置の一実施例を示す図である。まず、
２個の半導体レーザを用いたマルチビーム走査装置の構
成例を説明する。図１はマルチビーム走査装置の構成を
示す斜視図である。図１に示す如く、半導体レーザ11，
12は各々支持体13，14に固定され、基体15の裏面に後述
するコリメータレンズ16，17との光軸を一致させてネジ
18，19を用いて接合される。 コリメータレンズ16，17
は、鏡筒に収められ、基体15の嵌合穴15ａ，15ｂに各々
半導体レーザ11，12との位置を合せて係合され、接着さ
れて、各光束を平行光束に変換する。コリメータレンズ
16，17からの出射光は、各々に対して真円径のスリット
を対応させて形成された絞り板20により整形され、ビー
ム合成手段21によって合成される。尚、本実施例では絞
り板20を別体に設けたがコリメータレンズ16，17の鏡筒
でこれを兼ねることも可能である。
づいて具体的に説明する。図１〜図６は本発明に係るマ
ルチビーム走査装置の一実施例を示す図である。まず、
２個の半導体レーザを用いたマルチビーム走査装置の構
成例を説明する。図１はマルチビーム走査装置の構成を
示す斜視図である。図１に示す如く、半導体レーザ11，
12は各々支持体13，14に固定され、基体15の裏面に後述
するコリメータレンズ16，17との光軸を一致させてネジ
18，19を用いて接合される。 コリメータレンズ16，17
は、鏡筒に収められ、基体15の嵌合穴15ａ，15ｂに各々
半導体レーザ11，12との位置を合せて係合され、接着さ
れて、各光束を平行光束に変換する。コリメータレンズ
16，17からの出射光は、各々に対して真円径のスリット
を対応させて形成された絞り板20により整形され、ビー
ム合成手段21によって合成される。尚、本実施例では絞
り板20を別体に設けたがコリメータレンズ16，17の鏡筒
でこれを兼ねることも可能である。
【００１２】ここで、ビーム合成手段21について説明す
る。２個の半導体レーザ11，12はそのｐｎ接合面を一致
させて同一平面状に配列されている。何れか一方のビー
ム（実施例では半導体レーザ11のビーム）は、ビーム合
成手段21の入射面に貼り付けられた１／２波長板22によ
ってその偏光面が９０°回転されて、ビーム合成手段21
の偏光ビームスプリッタ面21ｂを通過する。そして半導
体レーザ12のビームは、ビーム合成手段21の斜面21ａで
内面反射し、ビーム合成手段21の偏光ビームスプリッタ
面21ｂで反射して、基準となる半導体レーザ21の光軸近
傍でそのビームと合成される。各半導体レーザ11，12に
係わる一連のそれぞれの光軸は、互いに主走査方向に僅
かにずれた位置に対応させるべく、ビーム合成手段21の
出力側に示した角度θだけ互いにずらせるように設定さ
れている。
る。２個の半導体レーザ11，12はそのｐｎ接合面を一致
させて同一平面状に配列されている。何れか一方のビー
ム（実施例では半導体レーザ11のビーム）は、ビーム合
成手段21の入射面に貼り付けられた１／２波長板22によ
ってその偏光面が９０°回転されて、ビーム合成手段21
の偏光ビームスプリッタ面21ｂを通過する。そして半導
体レーザ12のビームは、ビーム合成手段21の斜面21ａで
内面反射し、ビーム合成手段21の偏光ビームスプリッタ
面21ｂで反射して、基準となる半導体レーザ21の光軸近
傍でそのビームと合成される。各半導体レーザ11，12に
係わる一連のそれぞれの光軸は、互いに主走査方向に僅
かにずれた位置に対応させるべく、ビーム合成手段21の
出力側に示した角度θだけ互いにずらせるように設定さ
れている。
【００１３】ビーム合成手段21と絞り板20は、フランジ
部材23の裏面の所定位置に支持され、ネジ24，25により
基体15に固定される。半導体レーザ11，12からフランジ
部材23に至る光路の各部材は、半導体レーザ11，12の駆
動回路が形成された基板26に一体的に固定されていて、
光源部をなす。フランジ部材23の円筒部23ａにはアパー
チャ27が回動自在に支持されている。図２はアパーチャ
27を拡大した斜視図、図３は図１によるマルチビーム走
査装置の組み付け状態を示す断面図である。アパーチャ
27は、スナップ爪27ｂ，27ｃを備え、フランジ部材23の
円筒部23ａの外周に設けた溝に該爪27ｂを支持させて互
いに回動可能に取り付けられている。アパーチャ27は、
突起27ａが装置フレーム28の溝28ａに装着されて、光軸
回りの位置を規定して固定されている。
部材23の裏面の所定位置に支持され、ネジ24，25により
基体15に固定される。半導体レーザ11，12からフランジ
部材23に至る光路の各部材は、半導体レーザ11，12の駆
動回路が形成された基板26に一体的に固定されていて、
光源部をなす。フランジ部材23の円筒部23ａにはアパー
チャ27が回動自在に支持されている。図２はアパーチャ
27を拡大した斜視図、図３は図１によるマルチビーム走
査装置の組み付け状態を示す断面図である。アパーチャ
27は、スナップ爪27ｂ，27ｃを備え、フランジ部材23の
円筒部23ａの外周に設けた溝に該爪27ｂを支持させて互
いに回動可能に取り付けられている。アパーチャ27は、
突起27ａが装置フレーム28の溝28ａに装着されて、光軸
回りの位置を規定して固定されている。
【００１４】以上の構成において、フランジ部材23がそ
の円筒部23ａを中心に微小回動されて、光源部はアパー
チャ27の内周を基準として回動調節される。その結果、
各光軸の副走査方向のピッチが調節される。そしてアパ
ーチャ27により光束の大きさ、形状が整形される。所定
の副走査方向ピッチが得られた回動位置で装置フレーム
28にネジ止め固定される。このようにして面倒な光軸合
わせを必要とせず、光源部を回動させて光ビームを回動
調整する際に、アパーチャ27だけは、回動によらず姿勢
が維持されるので、アパーチャ通過後の光束は、走査用
レンズとの平行性が保たれ、被走査面にて所定のビーム
スポット径が得られる。
の円筒部23ａを中心に微小回動されて、光源部はアパー
チャ27の内周を基準として回動調節される。その結果、
各光軸の副走査方向のピッチが調節される。そしてアパ
ーチャ27により光束の大きさ、形状が整形される。所定
の副走査方向ピッチが得られた回動位置で装置フレーム
28にネジ止め固定される。このようにして面倒な光軸合
わせを必要とせず、光源部を回動させて光ビームを回動
調整する際に、アパーチャ27だけは、回動によらず姿勢
が維持されるので、アパーチャ通過後の光束は、走査用
レンズとの平行性が保たれ、被走査面にて所定のビーム
スポット径が得られる。
【００１５】そして矩形のアパーチャ27を、光源部と一
体的に支持したので、ビームスポット径を変更する際
に、光ビームの回動調整による光源部の変更のみで対応
でき、よって光源部を交換するのみでビームスポット径
を変更することが可能になり、調節のための作業性を著
しく向上させることができる。尚、本実施例ではビーム
整形手段としてアパーチャ27を用いたが、これに代え
て、プリズム，ビームコンプレッサ等を用いて同様な機
能を持たせることができる。
体的に支持したので、ビームスポット径を変更する際
に、光ビームの回動調整による光源部の変更のみで対応
でき、よって光源部を交換するのみでビームスポット径
を変更することが可能になり、調節のための作業性を著
しく向上させることができる。尚、本実施例ではビーム
整形手段としてアパーチャ27を用いたが、これに代え
て、プリズム，ビームコンプレッサ等を用いて同様な機
能を持たせることができる。
【００１６】また本実施例では２個の半導体レーザ用い
たものを示したが、これに代えて複数個の発光源がアレ
イ状に配列された半導体レーザアレイを用いても、同様
に作用する。次に、マルチビーム走査装置の制御例を説
明する。図４はマルチビーム走査装置の系統と第１の制
御装置例を示す。同図において、光源部10は図１におけ
る半導体レーザ11，12からフランジ部材23に至る光路の
各部材によって構成されている。光源部10から射出され
た各ビームは、シリンダレンズ30を介して多面鏡31より
なる偏光手段に入射され、この多面鏡31を回転させるこ
とによって主走査方向に繰返し偏光させる。多面鏡31で
反射されたビームを更にｆθレンズ32，トロイダルレン
ズ33からなる走査用レンズによって所定の走査記録面上
にスポットとして投影させる。このとき、各ビームは副
走査方向に１ピッチｐだけずれたものとすることで２本
の走査線が同時に書き込まれる。光量検出手段としての
フォトセンサ34は被走査面近傍に配設され、非書き込み
領域にて走査ビームを検出する。演算部35ａはその検出
データを受けて所定の基準値と比較して初期値に対する
ずれ量を算出する。半導体レーザ制御部36ａは、該ずれ
量を減少すべく半導体レーザ駆動回路のビーム出力を制
御する。上記のフォトセンサ34と半導体レーザ制御部36
ａは光量可変制御手段をなす。回転駆動部37は例えばス
テッピングモータ等よりなり、光源部10を回転させると
共に回転に応じたエンコードパルスを発生する。回転変
動検出部38は例えばロータリーエンコーダからなり、制
御部39ａはそのエンコードされたデータを受けて回転駆
動部37をして光源部10を所要の位置に回転せしめる。よ
って光ビームが回動調整されて走査線ピッチ等が自動補
正される際にも露光強度が変動しない。
たものを示したが、これに代えて複数個の発光源がアレ
イ状に配列された半導体レーザアレイを用いても、同様
に作用する。次に、マルチビーム走査装置の制御例を説
明する。図４はマルチビーム走査装置の系統と第１の制
御装置例を示す。同図において、光源部10は図１におけ
る半導体レーザ11，12からフランジ部材23に至る光路の
各部材によって構成されている。光源部10から射出され
た各ビームは、シリンダレンズ30を介して多面鏡31より
なる偏光手段に入射され、この多面鏡31を回転させるこ
とによって主走査方向に繰返し偏光させる。多面鏡31で
反射されたビームを更にｆθレンズ32，トロイダルレン
ズ33からなる走査用レンズによって所定の走査記録面上
にスポットとして投影させる。このとき、各ビームは副
走査方向に１ピッチｐだけずれたものとすることで２本
の走査線が同時に書き込まれる。光量検出手段としての
フォトセンサ34は被走査面近傍に配設され、非書き込み
領域にて走査ビームを検出する。演算部35ａはその検出
データを受けて所定の基準値と比較して初期値に対する
ずれ量を算出する。半導体レーザ制御部36ａは、該ずれ
量を減少すべく半導体レーザ駆動回路のビーム出力を制
御する。上記のフォトセンサ34と半導体レーザ制御部36
ａは光量可変制御手段をなす。回転駆動部37は例えばス
テッピングモータ等よりなり、光源部10を回転させると
共に回転に応じたエンコードパルスを発生する。回転変
動検出部38は例えばロータリーエンコーダからなり、制
御部39ａはそのエンコードされたデータを受けて回転駆
動部37をして光源部10を所要の位置に回転せしめる。よ
って光ビームが回動調整されて走査線ピッチ等が自動補
正される際にも露光強度が変動しない。
【００１７】図５はマルチビーム走査装置の第２の制御
装置例を示す。同図において、制御部39ｂは図４におけ
る制御と同様に光源部10を所要の位置に回転せしめると
共に、回転変動検出部38によるデータを受けて光源部10
の当該設置角度データを演算部35ｂに出力する。図６は
光源部10の設置角度に対する被走査面上の出射光量を示
す図であり、予め実測された値を用いて演算部35ｂに記
憶されている。演算部35ｂは光量変化算定手段をなして
おり、基準設置角度に対する当該設置角度のずれ量を算
出し、且つ該ずれ量に対する光量の変化量を算出して、
該光量の変化量を補正すべく半導体レーザ制御部36ｂを
制御する。半導体レーザ制御部36ｂは、該光量の変化量
に応じて、半導体レーザ制御部36ａと同様に、半導体レ
ーザ駆動回路のビーム出力を制御する。よって走査線ピ
ッチ等が自動補正される際にも露光強度が変動しない。
装置例を示す。同図において、制御部39ｂは図４におけ
る制御と同様に光源部10を所要の位置に回転せしめると
共に、回転変動検出部38によるデータを受けて光源部10
の当該設置角度データを演算部35ｂに出力する。図６は
光源部10の設置角度に対する被走査面上の出射光量を示
す図であり、予め実測された値を用いて演算部35ｂに記
憶されている。演算部35ｂは光量変化算定手段をなして
おり、基準設置角度に対する当該設置角度のずれ量を算
出し、且つ該ずれ量に対する光量の変化量を算出して、
該光量の変化量を補正すべく半導体レーザ制御部36ｂを
制御する。半導体レーザ制御部36ｂは、該光量の変化量
に応じて、半導体レーザ制御部36ａと同様に、半導体レ
ーザ駆動回路のビーム出力を制御する。よって走査線ピ
ッチ等が自動補正される際にも露光強度が変動しない。
【発明の効果】請求項１記載の発明によれば、光源部
を、光軸回りに回動調節することによって、各光軸の副
走査方向のピッチが調節され、よって面倒な光軸合わせ
を必要とせず、調節のための作業性を著しく向上させる
ことができる。そして請求項２記載の発明によれば、各
光ビームは絞り板によって整形されているので、光源部
を回動させて光ビームを回動調整する際に、ビーム整形
手段を通過する光ビームが所定の光束径に保たれ、被走
査面にて所定のビームスポット径が得られる。
を、光軸回りに回動調節することによって、各光軸の副
走査方向のピッチが調節され、よって面倒な光軸合わせ
を必要とせず、調節のための作業性を著しく向上させる
ことができる。そして請求項２記載の発明によれば、各
光ビームは絞り板によって整形されているので、光源部
を回動させて光ビームを回動調整する際に、ビーム整形
手段を通過する光ビームが所定の光束径に保たれ、被走
査面にて所定のビームスポット径が得られる。
【００１８】そして請求項３記載の発明によれば、ビー
ム整形手段を、光源部と一体的に支持したので、ビーム
スポット径を変更する際に、光ビームの回動調整による
光源部の変更のみで対応でき、よって光源部を交換する
のみでビームスポット径を変更することが可能になり、
組付け性とメンテナンス性が向上する。請求項４記載の
発明によれば、請求項３におけると同様に、ビーム整形
手段を、光源部と一体的に支持したので、ビームスポッ
ト径を変更する際に、光ビームの回動調整による光源部
の変更のみで対応できる。
ム整形手段を、光源部と一体的に支持したので、ビーム
スポット径を変更する際に、光ビームの回動調整による
光源部の変更のみで対応でき、よって光源部を交換する
のみでビームスポット径を変更することが可能になり、
組付け性とメンテナンス性が向上する。請求項４記載の
発明によれば、請求項３におけると同様に、ビーム整形
手段を、光源部と一体的に支持したので、ビームスポッ
ト径を変更する際に、光ビームの回動調整による光源部
の変更のみで対応できる。
【００１９】請求項５記載の発明によれば、請求項３及
び請求項４におけるビーム整形手段を、アパーチャによ
り構成したので、ビームスポット径を変更する際に、光
源部の交換のみで対応でき、ビーム整形手段としての部
品点数も少なく、そして光軸変動への影響度が小さいの
で、組み付け安定性がよく、小型化が可能になる。
び請求項４におけるビーム整形手段を、アパーチャによ
り構成したので、ビームスポット径を変更する際に、光
源部の交換のみで対応でき、ビーム整形手段としての部
品点数も少なく、そして光軸変動への影響度が小さいの
で、組み付け安定性がよく、小型化が可能になる。
【００２０】請求項６記載の発明によれば、請求項５に
おいて、光源部の回動調整における設置角度に応じて半
導体レーザの出射光量を可変制御する光量可変制御手段
を備えたので、光ビームを回動調整する際に露光強度が
変動せず、安定した良好な画像を得ることができる。請
求項７記載の発明によれば、請求項６において、光量可
変制御手段が、アパーチャから被走査面に至る各ビーム
の光量変化を検出する光量検出手段を備えたので、光ビ
ームが回動調整されて走査線ピッチ等が自動補正される
際にも露光強度の変動せず、安定した良好な画像を得る
ことができる。
おいて、光源部の回動調整における設置角度に応じて半
導体レーザの出射光量を可変制御する光量可変制御手段
を備えたので、光ビームを回動調整する際に露光強度が
変動せず、安定した良好な画像を得ることができる。請
求項７記載の発明によれば、請求項６において、光量可
変制御手段が、アパーチャから被走査面に至る各ビーム
の光量変化を検出する光量検出手段を備えたので、光ビ
ームが回動調整されて走査線ピッチ等が自動補正される
際にも露光強度の変動せず、安定した良好な画像を得る
ことができる。
【００２１】請求項８記載の発明によれば、請求項６に
おいて、光量可変制御手段が、光源部の設置角度に対応
させて出射光量の変化量を算定する光量変化算定手段を
備えたので、請求項７におけると同様に、走査線ピッチ
等が自動補正される際にも露光強度の変動せず、安定し
た良好な画像を得ることができる。
おいて、光量可変制御手段が、光源部の設置角度に対応
させて出射光量の変化量を算定する光量変化算定手段を
備えたので、請求項７におけると同様に、走査線ピッチ
等が自動補正される際にも露光強度の変動せず、安定し
た良好な画像を得ることができる。
【図１】本発明に係るマルチビーム走査装置の構成の一
実施例を示す斜視図である。
実施例を示す斜視図である。
【図２】一実施例のアパーチャを拡大した斜視図であ
る。
る。
【図３】一実施例のマルチビーム走査装置の組み付け状
態を示す断面図である。
態を示す断面図である。
【図４】一実施例のマルチビーム走査装置の系統と第１
の制御装置例を示す図である。
の制御装置例を示す図である。
【図５】一実施例のマルチビーム走査装置の第２の制御
装置例を示す図である。
装置例を示す図である。
【図６】一実施例の光源部の設置角度に対する被走査面
上の出射光量を示す図である。
上の出射光量を示す図である。
10 光源部 11，12 半導体レーザ 13，14 支持体 15 基体 15ａ，15ｂ 嵌合穴 16，17 コリメータレンズ 18，19 ネジ 20 絞り板 21 ビーム合成手段 21ａ 斜面 21ｂ 偏光ビームスプリッタ面 22 １／２波長板 23 フランジ部材 23ａ 円筒部 24，25 ネジ 26 基板 27 アパーチャ（ビーム整形手段） 27ａ 突起 27ｂ，27ｃ スナップ爪 28 装置フレーム 28ａ 溝 30 シリンダレンズ 31 多面鏡（偏光手段） 32 ｆθレンズ 33 トロイダルレンズ（走査用レンズ） 34 フォトセンサ（光量検出手段） 35ａ，35ｂ 演算部 36ａ，36ｂ 半導体レーザ制御部 37 回転駆動部 38 回転変動検出部 39ａ，39ｂ 制御部
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 山崎 修一 東京都大田区中馬込１丁目３番６号 株 式会社リコー内 (58)調査した分野(Int.Cl.6，ＤＢ名) G02B 26/10 B41J 2/44
Claims (9)
- 【請求項１】複数個の半導体レーザとコリメータレンズ
と前記光源からの光ビームを重ね合せて出射するビーム
合成手段とを実質一体的に合成してなる光源部を有し複
数本の光ビームを同時に繰り返して走査するマルチビー
ム走査装置において、前記光源部は、ビーム合成手段か
ら射出される各光束が少なくとも主走査方向に所定角度
隔てて出射されるよう構成すると共に、前記合成された
光ビームを光軸回りに回動調整自在にしたことを特徴と
するマルチビーム走査装置。 - 【請求項２】半導体レーザからビーム合成手段に至る光
路中の各々に円形スリットを有した円形絞り板を備える
と共に、出射光束が少なくとも副走査方向に所定の光束
径を形成すべく光ビームを整形するビーム整形手段をビ
ーム合成手段の後段に備えたことを特徴とする請求項１
記載のマルチビーム走査装置。 - 【請求項３】ビーム整形手段は、光源部と一体的に支持
するとともに、光源部に対し、光軸回りに回動可能とし
たことを特徴とする請求項２記載のマルチビーム走査装
置。 - 【請求項４】複数個の発光源がアレイ状に配列された半
導体レーザアレイとコリメータレンズとを実質一体的に
形成すると共に該半導体レーザアレイからの光ビームの
光軸回りに回動調整自在とした光源部を有し複数本の光
ビームを同時に繰り返して走査するマルチビーム走査装
置において、出射光束の少なくとも副走査方向に所定の
光束径を形成すべく光ビームを整形するビーム整形手段
を前記光源部と一体的に支持するとともに、光源部に対
し、光軸回りに回動可能としたことを特徴とするマルチ
ビーム走査装置。 - 【請求項５】ビーム整形手段は、装置フレームと一体的
に形成してなる矩形のアパーチャにより構成したことを
特徴とする請求項３及び請求項４記載のマルチビーム走
査装置。 - 【請求項６】光源部の回動調整における設置角度に応じ
て半導体レーザの出射光量を可変制御する光量可変制御
手段を備えたことを特徴とする請求項５記載のマルチビ
ーム走査装置。 - 【請求項７】光量可変制御手段は、アパーチャから被走
査面に至る各ビームの光量変化を検出して該光量変化を
制御し出射光量に反映させるための光量検出手段を備え
たことを特徴とする請求項６記載のマルチビーム走査装
置。 - 【請求項８】光量可変制御手段は、光源部の設置角度に
対応させて出射光量の変化量を算定する光量変化算定手
段を備えたことを特徴とする請求項６記載のマルチビー
ム走査装置。 - 【請求項９】複数個の光源とコリメータレンズと前記光
源からの光ビームを重ね合せて出射するビーム合成手段
とを実質一体的に合成してなる光源部を有し複数本の光
ビームを同時に繰り返して走査するマルチビーム走査装
置において、前記光源部は、ビーム合成手段から射出さ
れる各光束が少なくとも主走査方向に所定角度隔てて出
射されるよう構成すると共に、前記合成された光ビーム
を光軸回りに回動調整自在にしたことを特徴とするマル
チビーム走査装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP19452695A JP2942721B2 (ja) | 1995-05-24 | 1995-07-31 | マルチビーム走査装置 |
Applications Claiming Priority (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7-124782 | 1995-05-24 | ||
| JP12478295 | 1995-05-24 | ||
| JP19452695A JP2942721B2 (ja) | 1995-05-24 | 1995-07-31 | マルチビーム走査装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0943523A JPH0943523A (ja) | 1997-02-14 |
| JP2942721B2 true JP2942721B2 (ja) | 1999-08-30 |
Family
ID=26461385
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP19452695A Expired - Fee Related JP2942721B2 (ja) | 1995-05-24 | 1995-07-31 | マルチビーム走査装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2942721B2 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6963433B2 (en) | 2002-11-14 | 2005-11-08 | Canon Kabushiki Kaisha | Multibeam scanning optical device and image forming apparatus using the same |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP4995879B2 (ja) * | 2009-09-28 | 2012-08-08 | 株式会社リコー | マルチビーム光源装置 |
| JP6705217B2 (ja) * | 2016-03-07 | 2020-06-03 | コニカミノルタ株式会社 | 画像形成装置およびその制御方法 |
-
1995
- 1995-07-31 JP JP19452695A patent/JP2942721B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6963433B2 (en) | 2002-11-14 | 2005-11-08 | Canon Kabushiki Kaisha | Multibeam scanning optical device and image forming apparatus using the same |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0943523A (ja) | 1997-02-14 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US5753907A (en) | Multiple beam scanning apparatus | |
| US6181363B1 (en) | Light-source device of a multi-beam scanning apparatus | |
| JPH09288244A (ja) | 光走査装置 | |
| JP3334447B2 (ja) | 光走査装置の光軸調整方法、光軸調整装置、及び光走査装置 | |
| US6963433B2 (en) | Multibeam scanning optical device and image forming apparatus using the same | |
| JP2942721B2 (ja) | マルチビーム走査装置 | |
| US6163333A (en) | Multi-beam scanning optical apparatus | |
| JPH03179420A (ja) | 光学装置 | |
| JPH1010447A (ja) | 光走査装置 | |
| JP2000180748A (ja) | 分割走査装置及び分割走査装置のビーム状態調整方法 | |
| JP2000075227A (ja) | マルチビーム光源装置 | |
| JPH10133135A (ja) | 光ビーム偏向装置 | |
| JPH04282606A (ja) | レーザビーム走査光学装置 | |
| JP2003315710A (ja) | マルチビーム走査装置及び画像形成装置 | |
| JP2003260815A (ja) | 画像記録方法および画像記録装置 | |
| US5555122A (en) | Light scanning device | |
| JPH1138342A (ja) | マルチビーム偏向走査装置 | |
| JPH03131817A (ja) | 光ビーム走査光学装置 | |
| JPH09127444A (ja) | マルチビーム走査装置 | |
| KR20050006273A (ko) | 컬러프린터용 이중 다각형 레이저 프린터헤드 | |
| JPH09288245A (ja) | 光走査装置 | |
| JPH07181410A (ja) | マルチビーム走査装置 | |
| JP3802223B2 (ja) | 光源装置 | |
| JP2001174731A (ja) | マルチビーム光源装置及びマルチビーム走査装置 | |
| JPH0915521A (ja) | レーザー光源装置 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20080618 Year of fee payment: 9 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090618 Year of fee payment: 10 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090618 Year of fee payment: 10 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100618 Year of fee payment: 11 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110618 Year of fee payment: 12 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110618 Year of fee payment: 12 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120618 Year of fee payment: 13 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130618 Year of fee payment: 14 |
|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |