JPH0915521A

JPH0915521A - レーザー光源装置

Info

Publication number: JPH0915521A
Application number: JP18501995A
Authority: JP
Inventors: Yasuo Suzuki; 康夫鈴木; Kenichi Tomita; 健一冨田; Kimio Kono; 公雄河野
Original assignee: Canon Inc
Current assignee: Canon Inc
Priority date: 1995-06-29
Filing date: 1995-06-29
Publication date: 1997-01-17

Abstract

(57)【要約】【目的】レーザービームの副走査方向におけるピッチ
の調整を容易にする。【構成】光学箱３５に基台３４が回転可能に嵌合さ
れ、基台３４には半導体レーザー光源２６を有するレー
ザーユニット２７が取り付けられている。また、基台３
４の外周に凸部３４ａが形成され、光学箱３５に設けら
れた軸３６を中心として回転可能な回転カム３７の凹部
３７ａと噛み合っている。レーザービームの副走査方向
におけるピッチを調整するとき、回転カム３７を介して
レーザーユニット２７を光軸の周りに回転し、半導体レ
ーザー光源２６を回転させる。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、レーザープリンタやデ
ジタル複写機などにおいて光書き込みに用いられるマル
チビームのレーザー光源装置に関するものである。

【０００２】

【従来の技術】例えば、従来のレーザープリンタにおい
ては、レーザープリンタの主要部に、図６に示すように
感光体１と光学ユニット２が設けられ、光学ユニット２
は２つのレーザーユニット３、４を有している。これら
の各レーザーユニット３、４はレーザービームを出射
し、一方のレーザービームをプリズム５により他方のレ
ーザービームと平行方向に偏向して、双方を１つのポリ
ゴンミラー６の反射面に照射して反射させ、レンズ７を
介して感光体１の面上に同時走査して書き込みを行うよ
うになっている。

【０００３】これらのレーザーユニット３、４は、それ
ぞれ半導体レーザー光源８、９とコリメータレンズ１
０、１１を有し、それぞれにおいてレーザービームの焦
点及び照射位置の調整を行っている。また、レーザーユ
ニット３、４を移動してレーザービームのピッチを感光
体１の面上の副走査方向へ所定のピッチとなるように調
整している。その移動する量としては、ＤＰＩ（ドット
／インチ）によって異なるが、例えば６００ＤＰＩとす
ると、レーザービームの副走査方向のピッチを４２μｍ
程度に調整する必要がある。

【０００４】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、これら
のレーザーユニット３、４の双方を僅かに移動させて調
整して、レーザービームの副走査方向のピッチを所定の
ピッチに合わせ込む作業は面倒で手間を要する。

【０００５】更に、最近では１つの半導体レーザー光源
に２つの発光点を有するものが開発されており、このよ
うな半導体レーザー光源を使用する場合には、２つの発
光点から照射されるレーザービームの走査ピッチの調整
が更に面倒となり、非常な手間を要することとなる。

【０００６】本発明の目的は、上述の問題点を解消し、
レーザービームの副走査方向におけるピッチの調整が容
易にできるレーザー光源装置を提供することにある。

【０００７】

【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
の第１発明に係るレーザー光源装置は、複数のレーザー
発光点を有する半導体レーザー光源から複数本の光ビー
ムを出射させ、被走査面に同時に所定の間隔で前記光ビ
ームを走査させるコリメータレンズを含むレーザー光源
部を有し、該レーザー光源部を基台に固定し、該基台を
取付部材に対し光軸方向の周りに回転可能に保持し、回
転調整後に前記取付部材に前記基台を固定したことを特
徴とする。

【０００８】第２発明に係るレーザー光源装置は、単一
のレーザー発光点を有する半導体レーザー光源とコリメ
ータレンズとを組み合わせた複数組のレーザー光源部を
用いて、これらのレーザー光源部から複数本の光ビーム
を出射させ、被走査面に同時に所定の間隔で前記光ビー
ムを走査させるレーザー光源装置において、前記レーザ
ー光源部を基台に固定し、該基台を取付部材に対し光軸
方向の回りに回転可能に保持し、回転調整後に前記基台
を前記取付部材に固定したことを特徴とする。

【０００９】

【作用】上述の構成を有する第１発明のレーザー光源装
置は、副走査方向におけるレーザービームのピッチを調
整するとき、複数のレーザー発光点を有するレーザー光
源部を回転自在の基台に固定し、基台を回転させて調整
する。

【００１０】第２発明のレーザー光源装置は、副走査方
向におけるレーザービームのピッチを調整するとき、単
一の発光点を有する複数組のレーザー光源部を回転自在
の基台に固定し、基台を回転させて調整する。

【００１１】

【実施例】本発明を図１〜図５に図示の実施例に基づい
て詳細に説明する。図１はレーザー光源装置が設けられ
ている走査装置における光学系の構成図であり、感光体
２１に対応するポリゴンミラー２２がモータ２３に直結
されて設けられている。また、ポリゴンミラー２２に向
けた開口絞り２４とコリメータレンズ２５と半導体レー
ザー光源２６とが順次配置されたレーザーユニット２７
が設けられ、またレーザーユニット２７とポリゴンミラ
ー２２との間にはシリンドリカルレンズ２８が配置され
ている。一方、ポリゴンミラー２２と感光体２１間には
ｆθレンズ２９、３０が設けられている。

【００１２】また、感光体２１の有効画像領域外に固定
ミラー３１が配置され、その反射方向には集光レンズ３
２、タイミング検知用センサ３３が設けられている。

【００１３】この光学系の半導体レーザー光源２６から
出射されたレーザービームは、コリメータレンズ２５を
透過することにより平行状態とされ、開口絞り２４によ
って絞られて所定のビーム形状とされる。このレーザー
ビームは更にシリンドリカルレンズ２８を透過すること
によって、その一方向だけ収束されてポリゴンミラー２
２上へ線状に照射される。そして、ポリゴンミラー２２
はモータ２３によって高速に回転しており、ポリゴンミ
ラー２２の偏向面に照射されたレーザービームは高速で
偏向走査される。

【００１４】更に、レーザービームはｆθレンズ２９、
３０を透過することにより、感光体２１の面上へ微小な
スポットとして結像される。また、ｆθレンズ２９、３
０を透過することにより、ポリゴンミラー２２で等角速
度で偏向走査されたレーザービームは、感光体２１の面
上でそのスポットが等速度で走査される。

【００１５】このスポットは感光体２１上を矢印の方向
に繰り返して走査されるが、ポリゴンミラー２２の反射
面の分割誤差があると、繰り返し走査して情報を書き込
むタイミングがずれるので、それを防止するため、各反
射面で偏向走査される先頭のレーザービームをその有効
画像領域外の部分を利用して検知している。即ち、レー
ザービームは有効画像領域外に設けられた固定ミラー３
１で反射され、集光レンズ３２を介して、タイミング検
知用センサ３３に導かれて検知され、走査ビームのタイ
ミングの調整を図っている。

【００１６】半導体レーザー光源２６、コリメータンレ
ンズ２５を含むレーザーユニット２７は、図２に示すよ
うに半導体レーザ光源２６を回転中心から若干偏心され
て圧入又は接着することにより基台３４に取り付けられ
ており、基台３４はポリゴンミラー２２が取り付けられ
たモータ２３や各種レンズなどの光学部品が設けられて
いる光学箱３５に回転可能に取り付けられ、半導体レー
ザー光源２６から出射されるレーザービームの光軸を中
心として回転可能とされている。

【００１７】また、基台３４の外周には凸部３４ａが形
成されており、光学箱３５に設けられ軸３６を中心とし
て回転可能な回転カム３７の凹部３７ａと噛み合ってい
る。これにより、回転カム３７を軸３６を中心に回転さ
せて基台３４を回転させることができ、半導体レーザー
光源２６も回転させるようになっている。なお、基台３
４には２個の固定ねじ３８が設けられて仮止めされてお
り、回転調整した後に増し締めして固定できるようにな
っている。

【００１８】このように構成されたレーザー光源装置
は、タイミング検知用センサ３３により、レーザービー
ムのずれが検知されて副走査方向のピッチを所望のＤＰ
Ｉ相当に調整するとき、回転カム３７を回転させること
により基台３４を光軸の周りに回転させて、微調整を容
易に行うことができる。なお、この実施例においては、
基台３４に対し半導体レーザー光源２６を若干偏心させ
たが、元々半導体レーザー光源２６のハウジングと発光
点とは同一中心となっていないので、敢えて偏心させな
くとも調整可能である。

【００１９】通常に使われることが多い２ビームレーザ
ーの発光点の間隔は１００μｍであり、一般的な光学系
の倍率から考えると、感光体２１上でのピッチは主走査
方向では１〜２ｍｍ程度になる。また、６００ＤＰＩと
すると副走査方向は４０±５μｍ程度の調整精度を要
し、この値から回転角度を導き出すと、合わせ込みの角
度は約０．６度となる。しかし、ここで基台３４の半径
をｒ＝２０ｍｍと考えると、外周で０．１ｍｍの移動量
となり、十分に容易に調整可能である。

【００２０】図３は第２の実施例の構成図である。基台
４０の外周には凹部４０ａが形成され、この凹部４０ａ
は光学箱３５に軸４１を中心として回転可能に設けられ
た回転カム４２の凸部４２ａと噛み合っており、回転カ
ム４２を軸４１に対して回転させると基台４０を回転さ
せることができ、第１の実施例と同様の効果が得られ
る。

【００２１】図４は第３の実施例の構成図である。基台
４３の外周の一部には歯車形状部分４３ａが設けられ、
また、回転カム４４のこれと対向する側に同様な歯車形
状部分４４ａが設けられて互いに噛み合っており、回転
カム４４は軸４５により回転可能とされ、第１、第２の
実施例と同様の効果が得られる。

【００２２】図５は第４の実施例の構成図であって、単
一のレーザー発光点を有する半導体レーザー光源２６
と、図示しないコリメータとを組み合わせた２組のレー
ザーユニット２７が使用されている。

【００２３】左側のレーザーユニット２７は、基台５１
に嵌合又は接着により取り付けられ、基台５１は光学箱
５０の嵌合孔に嵌合されて止めねじ５２で固定されてい
る。また、右側のレーザーユニット２７は第２の実施例
と同様に構成された基台５３と回転カム５４とにより、
回転調整可能に取り付けられている。

【００２４】この実施例においては、所定の副走査ピッ
チに調整するとき右側の基台５３を回転カム５４により
回転して調整した後に、仮り締めしてある固定ねじ５５
を増し締めして固定する。

【００２５】また、この第４の実施例では、右側のレー
ザーユニット２７のみを回転可能としたが、左側の基台
５３も回転可能に嵌合させて、双方のレーザーユニット
２７を回転させて調整するようにしてもよい。この場合
には、複数のビームの所定ピッチが大きくても対応でき
る利点がある。

【００２６】なお、３００ＤＰＩ程度の大きなピッチで
あれば、合わせ込みのための基台３４の外周の回転移動
量が０．２ｍｍ程度になるので、基台３４の外周面をロ
ーレット状にして、そのローレット形状部を直接手で操
作して調整するようにすることもできる。

【００２７】更に、上述の各実施例において、半導体レ
ーザー光源２６が複数の発光点を有するものであっても
よい。

【００２８】

【発明の効果】以上説明したように本発明に係るレーザ
ー光源装置は、レーザー光源部を固定した基台を光軸の
周りに回転させるようにしたので、副走査方向における
レーザービームのピッチを高精度で調整することができ
る。

【図面の簡単な説明】

【図１】光学系の基本構成の斜視図である。

【図２】第１の実施例の構成図である。

【図３】第２の実施例の構成図である。

【図４】第３の実施例の構成図である。

【図５】第４の実施例の部分斜視図である。

【図６】従来例のレーザー走査装置の構成図である。

【符号の説明】

２１感光体２６半導体レーザー光源２７レーザーユニット３４、４０、４３、５１、５３基台３４ａ、４２ａ凸部３５光学箱３７、４２、４４、５４回転カム３７ａ、４０ａ凹部４３ａ、４４ａ歯車形状部分

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】複数のレーザー発光点を有する半導体レ
ーザー光源から複数本の光ビームを出射させ、被走査面
に同時に所定の間隔で前記光ビームを走査させるコリメ
ータレンズを含むレーザー光源部を有し、該レーザー光
源部を基台に固定し、該基台を取付部材に対し光軸方向
の周りに回転可能に保持し、回転調整後に前記取付部材
に前記基台を固定したことを特徴とするレーザー光源装
置。
【請求項２】前記基台の外周部の一部に前記取付部材
に設けた回転カムの第１の係止部と係止する第２の係止
部を設け、前記回転カムを回転することにより前記基台
を回転させるようにした請求項１に記載のレーザー光源
装置。
【請求項３】単一のレーザー発光点を有する半導体レ
ーザー光源とコリメータレンズとを組み合わせた複数組
のレーザー光源部を用いて、これらのレーザー光源部か
ら複数本の光ビームを出射させ、被走査面に同時に所定
の間隔で前記光ビームを走査させるレーザー光源装置に
おいて、前記レーザー光源部を基台に固定し、該基台を
取付部材に対し光軸方向の回りに回転可能に保持し、回
転調整後に前記基台を前記取付部材に固定したことを特
徴とするレーザー光源装置。
【請求項４】前記基台の外周部の一部に前記取付部材
に設けた回転カムの第１の係止部と係止する第２の係止
部を設け、前記回転カムを回転することにより前記基台
を回転させるようにした請求項３に記載のレーザー光源
装置。