JP2927392B2 - 面発光体の製造方法 - Google Patents
面発光体の製造方法Info
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Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、液晶表示器、表示パネ
ル等の表示画面に均一なバックライトを供給する面発光
体の製造方法に関する。
ル等の表示画面に均一なバックライトを供給する面発光
体の製造方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】従来より、液晶表示器等に於いては画面
を見易くするために、液晶層の裏面からバックライトが
照射される。このバックライトは均一であることが必要
であるため、液晶表示器等に於いては、通常、面発光体
が使用されている。この面発光体として、アクリル等の
透明基板の裏面に光散乱用の多数の溝を形成したもの
や、特殊蛍光インキをストライプ状に塗布したものが知
られている。光散乱用の溝を形成した面発光体は、光散
乱性の面を形成し得るようにサンドブラストにより作製
した金型を使用して製造されている。また、特殊蛍光イ
ンキを塗布したものは、基板表面に特殊蛍光インキを印
刷することにより製造されている。
を見易くするために、液晶層の裏面からバックライトが
照射される。このバックライトは均一であることが必要
であるため、液晶表示器等に於いては、通常、面発光体
が使用されている。この面発光体として、アクリル等の
透明基板の裏面に光散乱用の多数の溝を形成したもの
や、特殊蛍光インキをストライプ状に塗布したものが知
られている。光散乱用の溝を形成した面発光体は、光散
乱性の面を形成し得るようにサンドブラストにより作製
した金型を使用して製造されている。また、特殊蛍光イ
ンキを塗布したものは、基板表面に特殊蛍光インキを印
刷することにより製造されている。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、サンド
ブラストにより作製した金型を使用する場合には、高価
な金型を作製しなければならず、また非常に大がかりな
装置を必要とするという問題点がある。また、特殊蛍光
インキを印刷する方法では、特殊蛍光インキの状態が印
刷時の周囲の環境によって変化し、均一な輝度を有する
面発光体を安定して得ることができないという問題点が
ある。また、インキによる光吸収が大きいため、十分な
輝度の面発光体を得ることができないという問題点があ
る。
ブラストにより作製した金型を使用する場合には、高価
な金型を作製しなければならず、また非常に大がかりな
装置を必要とするという問題点がある。また、特殊蛍光
インキを印刷する方法では、特殊蛍光インキの状態が印
刷時の周囲の環境によって変化し、均一な輝度を有する
面発光体を安定して得ることができないという問題点が
ある。また、インキによる光吸収が大きいため、十分な
輝度の面発光体を得ることができないという問題点があ
る。
【０００４】本発明はこのような従来技術の問題点を解
決するためになされたものであり、本発明の目的は、高
輝度でしかも輝度分布が均一な面発光体を安定して供給
し得て、しかも大がかりな装置を使用することなく面発
光体を供給し得る製造方法を提供することである。
決するためになされたものであり、本発明の目的は、高
輝度でしかも輝度分布が均一な面発光体を安定して供給
し得て、しかも大がかりな装置を使用することなく面発
光体を供給し得る製造方法を提供することである。
【０００５】
【課題を解決するための手段】本発明の面発光体の製造
方法は、透明な基板の端面から入射する光を前記基板の
裏面で散乱して巨視的に均一な光を発する面発光体の製
造方法であって、前記基板の裏面側からレーザ光を前記
端面に平行な方向に走査しながら照射することにより、
前記基板の裏面に複数の溝を所定間隔で形成することを
特徴とする。
方法は、透明な基板の端面から入射する光を前記基板の
裏面で散乱して巨視的に均一な光を発する面発光体の製
造方法であって、前記基板の裏面側からレーザ光を前記
端面に平行な方向に走査しながら照射することにより、
前記基板の裏面に複数の溝を所定間隔で形成することを
特徴とする。
【０００６】本発明の方法により面発光体を製造する場
合、高輝度でしかも輝度が均一な面発光体を得るために
は、前記レーザ光の光出力は、１０Ｗ〜２０Ｗの範囲で
あることが好ましい。この光出力が１０Ｗより小さいと
輝度分布を均一化するために面発光体の光入射側の溝の
分布密度を非常に大きくしなければならず、そのために
コスト高となるので好ましくない。また、光出力が２０
Ｗより大きいと面発光体の光入射側の溝間隔を３ｍｍ以
上としなければならず、そのために視覚的に不均一な面
発光体となるので好ましくない。
合、高輝度でしかも輝度が均一な面発光体を得るために
は、前記レーザ光の光出力は、１０Ｗ〜２０Ｗの範囲で
あることが好ましい。この光出力が１０Ｗより小さいと
輝度分布を均一化するために面発光体の光入射側の溝の
分布密度を非常に大きくしなければならず、そのために
コスト高となるので好ましくない。また、光出力が２０
Ｗより大きいと面発光体の光入射側の溝間隔を３ｍｍ以
上としなければならず、そのために視覚的に不均一な面
発光体となるので好ましくない。
【０００７】前記レーザ光の走査速度は、８００ｍｍ／
秒〜１，０００ｍｍ／秒の範囲であることが好ましい。
レーザ光の走査速度が８００ｍｍ／秒より小さいと面発
光体の光入射側の輝度が非常に大きくなり、溝分布密度
を調節しても輝度分布を均一化することができなくなる
ので好ましくない。また、走査速度が１，０００ｍｍ／
秒より大きいと、溝が安定して形成され難くなり、レー
ザーヘッドの駆動装置が大がかりなものになるので好ま
しくない。
秒〜１，０００ｍｍ／秒の範囲であることが好ましい。
レーザ光の走査速度が８００ｍｍ／秒より小さいと面発
光体の光入射側の輝度が非常に大きくなり、溝分布密度
を調節しても輝度分布を均一化することができなくなる
ので好ましくない。また、走査速度が１，０００ｍｍ／
秒より大きいと、溝が安定して形成され難くなり、レー
ザーヘッドの駆動装置が大がかりなものになるので好ま
しくない。
【０００８】前記レーザ光の前記基板裏面に於けるビー
ムウエストの直径は、０．１ｍｍ〜０．２ｍｍの範囲で
あることが好ましい。ビームウエストの直径が０．１ｍ
ｍより小さいと溝は深くなるが溝面が鏡面となるため視
覚的に不均一な面発光体となるので好ましくない。ま
た、ビームウエストの直径が０．２ｍｍより大きいと隣
接する溝が相互に干渉してしまい、設計通りの溝分布が
得られないので好ましくない。
ムウエストの直径は、０．１ｍｍ〜０．２ｍｍの範囲で
あることが好ましい。ビームウエストの直径が０．１ｍ
ｍより小さいと溝は深くなるが溝面が鏡面となるため視
覚的に不均一な面発光体となるので好ましくない。ま
た、ビームウエストの直径が０．２ｍｍより大きいと隣
接する溝が相互に干渉してしまい、設計通りの溝分布が
得られないので好ましくない。
【０００９】
【作用】本発明の製造方法によって製造される面発光体
は、透明基板の裏面にこの基板端面から入射する光を散
乱させる多数の溝を形成したものである。本発明は、こ
のような基板の裏面の溝の形成に、ＣＯ2 レーザ等を用
いたレーザ加工技術を利用するものである。レーザ光は
安定した出力を有し、周囲の環境の影響を受け難く、し
かも、高い精度で加工を行うことができるという特徴を
有している。本発明はレーザ光のこれらの特徴を生か
し、透明な基板の裏面に光散乱用の複数の溝を形成する
ものである。即ち、本発明の面発光体の製造方法では、
光出力、走査速度、基板裏面に於けるビームウエストの
直径などを精密に制御したレーザ光を基板の裏面側から
照射し走査することにより、透明基板の端面からの入射
光に対する散乱性に優れた溝が形成される。しかも、周
囲の環境の影響を受けることなく、常に同じ散乱性を有
する溝が形成される。従って、この溝を光を入射させる
端面に平行に所定間隔で形成することにより、輝度が高
く、散乱光が巨視的に均一な面発光体を得ることができ
る。なお、本明細書に於いて、巨視的に均一とは、基板
を溝の間隔より十分に大きい幅を有する複数のエリアに
分割して輝度を測定した場合に、各エリアの輝度のばら
つきが小さいことをいう。
は、透明基板の裏面にこの基板端面から入射する光を散
乱させる多数の溝を形成したものである。本発明は、こ
のような基板の裏面の溝の形成に、ＣＯ2 レーザ等を用
いたレーザ加工技術を利用するものである。レーザ光は
安定した出力を有し、周囲の環境の影響を受け難く、し
かも、高い精度で加工を行うことができるという特徴を
有している。本発明はレーザ光のこれらの特徴を生か
し、透明な基板の裏面に光散乱用の複数の溝を形成する
ものである。即ち、本発明の面発光体の製造方法では、
光出力、走査速度、基板裏面に於けるビームウエストの
直径などを精密に制御したレーザ光を基板の裏面側から
照射し走査することにより、透明基板の端面からの入射
光に対する散乱性に優れた溝が形成される。しかも、周
囲の環境の影響を受けることなく、常に同じ散乱性を有
する溝が形成される。従って、この溝を光を入射させる
端面に平行に所定間隔で形成することにより、輝度が高
く、散乱光が巨視的に均一な面発光体を得ることができ
る。なお、本明細書に於いて、巨視的に均一とは、基板
を溝の間隔より十分に大きい幅を有する複数のエリアに
分割して輝度を測定した場合に、各エリアの輝度のばら
つきが小さいことをいう。
【００１０】
【実施例】以下、本発明の実施例を図面に基づいてさら
に詳細に説明する。
に詳細に説明する。
【００１１】（実施例１）図１（ａ）及び（ｂ）に示す
ように、大きさ１５９ｍｍ×２２５ｍｍ、厚さ２．５ｍ
ｍのアクリル板製の基板１（アクリライト、三菱レイヨ
ン製）の裏面１ｂに、光源側となる入射端面１ａ（長さ
１５８ｍｍの辺）に平行にＣＯ2 レーザ光を走査して、
合計２７０本の光散乱性の溝２を形成することにより、
実施例１の面発光体を作製した。このときの条件は、レ
ーザー光出力２０Ｗ、ビームウエスト径（直径）０．１
ｍｍ、レーザビームスポットの走査速度９００ｍｍ／秒
である。形成される溝２の間隔は、この基板に於ける入
射端面１ａの側の端部で２．０ｍｍ、入射端面とは反対
側の端面１ｃの側の端部で０．４ｍｍであり、入射端面
１ａから遠ざかるにつれて徐々に溝２の間隔が小さくな
るように、換言すれば入射端面１ａから遠ざかるにつれ
て徐々に溝２の密度が大きくなるように、レーザビーム
スポットの照射位置を設定した。なお、本実施例で使用
したＣＯ2 レーザ発振器は、シンラッド社製４８−５−
２８Ｗである。
ように、大きさ１５９ｍｍ×２２５ｍｍ、厚さ２．５ｍ
ｍのアクリル板製の基板１（アクリライト、三菱レイヨ
ン製）の裏面１ｂに、光源側となる入射端面１ａ（長さ
１５８ｍｍの辺）に平行にＣＯ2 レーザ光を走査して、
合計２７０本の光散乱性の溝２を形成することにより、
実施例１の面発光体を作製した。このときの条件は、レ
ーザー光出力２０Ｗ、ビームウエスト径（直径）０．１
ｍｍ、レーザビームスポットの走査速度９００ｍｍ／秒
である。形成される溝２の間隔は、この基板に於ける入
射端面１ａの側の端部で２．０ｍｍ、入射端面とは反対
側の端面１ｃの側の端部で０．４ｍｍであり、入射端面
１ａから遠ざかるにつれて徐々に溝２の間隔が小さくな
るように、換言すれば入射端面１ａから遠ざかるにつれ
て徐々に溝２の密度が大きくなるように、レーザビーム
スポットの照射位置を設定した。なお、本実施例で使用
したＣＯ2 レーザ発振器は、シンラッド社製４８−５−
２８Ｗである。
【００１２】上記で作製した面発光体を用いて、図１
（ａ）の断面図に示す発光パネルを作製した。即ち、上
記で作製した面発光体１の入射端面１ａに平行に、即
ち、図１（ｂ）に示すように基板１上の溝２に平行に光
源である冷陰極管３（ＨＭＢＳ０３１２４０、ハリソン
電機製）を配置し、面発光体１の裏面１ｂの側（図１
（ａ）では下側）及び端面１ｃに反射フィルム４（ＲＦ
−１２５、きもと製）を貼り付けた。更に、基板１の表
面１ｄ上に２枚の拡散フィルム５，５（Ｄ１０４、きも
と製）を貼り付け、冷陰極管３の周囲をリフレクター６
（ＧＲ−３８Ｗ、きもと製）で巻いて発光パネルを作製
した。
（ａ）の断面図に示す発光パネルを作製した。即ち、上
記で作製した面発光体１の入射端面１ａに平行に、即
ち、図１（ｂ）に示すように基板１上の溝２に平行に光
源である冷陰極管３（ＨＭＢＳ０３１２４０、ハリソン
電機製）を配置し、面発光体１の裏面１ｂの側（図１
（ａ）では下側）及び端面１ｃに反射フィルム４（ＲＦ
−１２５、きもと製）を貼り付けた。更に、基板１の表
面１ｄ上に２枚の拡散フィルム５，５（Ｄ１０４、きも
と製）を貼り付け、冷陰極管３の周囲をリフレクター６
（ＧＲ−３８Ｗ、きもと製）で巻いて発光パネルを作製
した。
【００１３】次に、上記のようにして作製した発光パネ
ルの輝度及び輝度の均斉度を測定した。まず、このパネ
ルの冷陰極管３をインバータ（ＨＩＶ−８７、ハリソン
電機製）を用いて点灯させ、発光パネルの面を図２に示
すように１２個のエリアに分割し、図２に示す番号を付
した各エリアについて、輝度計（Ｂｍ−７、ＴＯＰＣＯ
Ｎ製）を用いて輝度を測定した。均斉度は各エリアにつ
いて得られた輝度を用い、以下の式（Ｉ）から算出し
た。 均斉度＝( 最低輝度／最高輝度) ×１００ …（Ｉ） その結果を表１に示す。表１に示すように、本実施例の
面発光体を用いた発光パネルの平均輝度は４６０ｃｄ／
ｍ2 、均斉度は８３％であった。
ルの輝度及び輝度の均斉度を測定した。まず、このパネ
ルの冷陰極管３をインバータ（ＨＩＶ−８７、ハリソン
電機製）を用いて点灯させ、発光パネルの面を図２に示
すように１２個のエリアに分割し、図２に示す番号を付
した各エリアについて、輝度計（Ｂｍ−７、ＴＯＰＣＯ
Ｎ製）を用いて輝度を測定した。均斉度は各エリアにつ
いて得られた輝度を用い、以下の式（Ｉ）から算出し
た。 均斉度＝( 最低輝度／最高輝度) ×１００ …（Ｉ） その結果を表１に示す。表１に示すように、本実施例の
面発光体を用いた発光パネルの平均輝度は４６０ｃｄ／
ｍ2 、均斉度は８３％であった。
【００１４】
【表１】
【００１５】（比較例）特殊蛍光インキを印刷した市販
の面発光体を比較例の面発光体として用いた。
の面発光体を比較例の面発光体として用いた。
【００１６】図１（ａ）に示した発光パネルに於いて、
実施例１の面発光体に代えて、比較例の面発光体を用い
た場合の輝度及び輝度の均斉度を測定した。その結果を
表１に併せて示す。表１に示すように、比較例の面発光
体を用いた発光パネルの平均輝度は４１９ｃｄ／ｍ2 、
均斉度は８４％であった。
実施例１の面発光体に代えて、比較例の面発光体を用い
た場合の輝度及び輝度の均斉度を測定した。その結果を
表１に併せて示す。表１に示すように、比較例の面発光
体を用いた発光パネルの平均輝度は４１９ｃｄ／ｍ2 、
均斉度は８４％であった。
【００１７】表１から明らかなように、本実施例の面発
光体を使用した発光パネルは、比較例の発光パネルと比
較すれば、平均輝度が１０％高くなっている。しかも、
比較例と同等の均斉度を有していることが分かる。
光体を使用した発光パネルは、比較例の発光パネルと比
較すれば、平均輝度が１０％高くなっている。しかも、
比較例と同等の均斉度を有していることが分かる。
【００１８】（実施例２）図３（ａ）及び（ｂ）に示す
ように、大きさ２２５ｍｍ×１４８ｍｍ、厚さ３ｍｍの
アクリル板製の基板１１（アクリライト、三菱レイヨン
製）の裏面１１ｂに、光を入射させる入射端面１１ａ及
び１１ｃ（長さ２２５ｍｍの辺）に平行にＣＯ2 レーザ
光を走査して、合計１８０本の光散乱性の溝１２を形成
することにより、実施例２の面発光体を作製した。この
ときの条件は、レーザー光出力１０Ｗ、ビームウエスト
径（直径）０．１ｍｍ、レーザビームスポットの走査速
度１０００ｍｍ／秒である。形成される溝２の間隔は、
この基板に於ける入射端面１１ａ及び１１ｃの側の両端
部で０．８３ｍｍ、基板１１の中央部で０．６ｍｍであ
り、入射端面１１ａ及び１１ｃから基板中央にかけて徐
々に溝１２の間隔が小さくなるように、換言すれば徐々
に溝１２の密度が大きくなるように、レーザビームスポ
ットの照射位置を設定した。なお、本実施例で使用した
ＣＯ2 レーザ発振器は、実施例１と同じである。
ように、大きさ２２５ｍｍ×１４８ｍｍ、厚さ３ｍｍの
アクリル板製の基板１１（アクリライト、三菱レイヨン
製）の裏面１１ｂに、光を入射させる入射端面１１ａ及
び１１ｃ（長さ２２５ｍｍの辺）に平行にＣＯ2 レーザ
光を走査して、合計１８０本の光散乱性の溝１２を形成
することにより、実施例２の面発光体を作製した。この
ときの条件は、レーザー光出力１０Ｗ、ビームウエスト
径（直径）０．１ｍｍ、レーザビームスポットの走査速
度１０００ｍｍ／秒である。形成される溝２の間隔は、
この基板に於ける入射端面１１ａ及び１１ｃの側の両端
部で０．８３ｍｍ、基板１１の中央部で０．６ｍｍであ
り、入射端面１１ａ及び１１ｃから基板中央にかけて徐
々に溝１２の間隔が小さくなるように、換言すれば徐々
に溝１２の密度が大きくなるように、レーザビームスポ
ットの照射位置を設定した。なお、本実施例で使用した
ＣＯ2 レーザ発振器は、実施例１と同じである。
【００１９】上記で作製した面発光体を用いて、図３
（ａ）の断面図に示す発光パネルを作製した。即ち、上
記で作製した面発光体１１の入射端面１１ａ及び１１ｂ
にそれぞれ平行に、即ち、図１（ｂ）に示すように基板
１１上の溝１２に平行に、２つの冷陰極管１３，１３
（ＨＭＢＳ０３１２４０、ハリソン電機製）を配置し、
面発光体１１の裏面１１ｂの側（図３（ａ）では下側）
に反射フィルム１４（ＲＦ−１２５、きもと製）を貼り
付けた。更に、基板１１の表面１ｄ上に拡散フィルム１
５（Ｄ１０４、きもと製）を貼り付け、２つの冷陰極管
１３の周囲をリフレクター１６，１６（ＧＲ−３８Ｗ、
きもと製）で巻いて、発光パネルを作製した。
（ａ）の断面図に示す発光パネルを作製した。即ち、上
記で作製した面発光体１１の入射端面１１ａ及び１１ｂ
にそれぞれ平行に、即ち、図１（ｂ）に示すように基板
１１上の溝１２に平行に、２つの冷陰極管１３，１３
（ＨＭＢＳ０３１２４０、ハリソン電機製）を配置し、
面発光体１１の裏面１１ｂの側（図３（ａ）では下側）
に反射フィルム１４（ＲＦ−１２５、きもと製）を貼り
付けた。更に、基板１１の表面１ｄ上に拡散フィルム１
５（Ｄ１０４、きもと製）を貼り付け、２つの冷陰極管
１３の周囲をリフレクター１６，１６（ＧＲ−３８Ｗ、
きもと製）で巻いて、発光パネルを作製した。
【００２０】次に、上記のようにして作製した発光パネ
ルの輝度及び輝度の均斉度を測定した。まず、このパネ
ルの２つの冷陰極管１３をインバータ（ＨＩＶ−８７、
ハリソン電機製）を用いて点灯させ、発光パネルの面を
図４に示すように９個のエリアに分割し、図４に示す番
号を付した各エリアについて、輝度計（Ｂｍ−７、ＴＯ
ＰＣＯＮ製）を用いて輝度を測定した。均斉度は各エリ
アについて得られた輝度を用い、実施例１と同様に式
（Ｉ）から算出した。その結果を表１に併せて示す。表
１に示すように、本実施例の面発光体を用いた発光パネ
ルの平均輝度は１２１８ｃｄ／ｍ2 、均斉度は８１％で
あった。
ルの輝度及び輝度の均斉度を測定した。まず、このパネ
ルの２つの冷陰極管１３をインバータ（ＨＩＶ−８７、
ハリソン電機製）を用いて点灯させ、発光パネルの面を
図４に示すように９個のエリアに分割し、図４に示す番
号を付した各エリアについて、輝度計（Ｂｍ−７、ＴＯ
ＰＣＯＮ製）を用いて輝度を測定した。均斉度は各エリ
アについて得られた輝度を用い、実施例１と同様に式
（Ｉ）から算出した。その結果を表１に併せて示す。表
１に示すように、本実施例の面発光体を用いた発光パネ
ルの平均輝度は１２１８ｃｄ／ｍ2 、均斉度は８１％で
あった。
【００２１】これに対し、図３（ａ）に於いて、実施例
２の面発光体に代え、比較例で用いた特殊蛍光インキを
印刷した市販の面発光体を用いて発光パネルを作製し、
その平均輝度及び均斉度を測定したところ、それぞれ１
０９６ｃｄ／ｍ2 、８０％であった。
２の面発光体に代え、比較例で用いた特殊蛍光インキを
印刷した市販の面発光体を用いて発光パネルを作製し、
その平均輝度及び均斉度を測定したところ、それぞれ１
０９６ｃｄ／ｍ2 、８０％であった。
【００２２】この結果から、本実施例の面発光体を使用
した発光パネルは、比較例の発光パネルと比較すれば、
平均輝度が１１％程度高くなっている。しかも、比較例
と同等の均斉度を有していることが分かる。
した発光パネルは、比較例の発光パネルと比較すれば、
平均輝度が１１％程度高くなっている。しかも、比較例
と同等の均斉度を有していることが分かる。
【００２３】（実施例３）実施例１と同様の基板及び同
様の加工条件で、レーザー光出力のみを変化させて面発
光体を作製した。各面発光体の作製時のレーザー光の出
力は、５Ｗ，１０Ｗ，１５Ｗ，２０Ｗ，２５Ｗ，３０
Ｗ，及び４０Ｗである。各面発光体について実施例１と
同様の発光パネルを作製し、各発光パネルについて、光
源である冷陰極管３（図１（ａ））からの距離に対する
相対輝度の依存性を調べた。また、比較のために比較例
の面発光体を用いた場合の発光パネルついても、同様に
相対輝度の光源からの距離に対する依存性を調べた。そ
の結果を図５に示す。図５では、図１（ａ）の入射端面
近傍の端部に於ける輝度を１００とした場合の各測定位
置に於ける相対輝度を用いて表しており（縦軸）、図５
の横軸は冷陰極管３から輝度の測定位置までの距離であ
る。図５の結果から、レーザ光出力として好ましい範囲
は１０〜２０Ｗであることが分かる。
様の加工条件で、レーザー光出力のみを変化させて面発
光体を作製した。各面発光体の作製時のレーザー光の出
力は、５Ｗ，１０Ｗ，１５Ｗ，２０Ｗ，２５Ｗ，３０
Ｗ，及び４０Ｗである。各面発光体について実施例１と
同様の発光パネルを作製し、各発光パネルについて、光
源である冷陰極管３（図１（ａ））からの距離に対する
相対輝度の依存性を調べた。また、比較のために比較例
の面発光体を用いた場合の発光パネルついても、同様に
相対輝度の光源からの距離に対する依存性を調べた。そ
の結果を図５に示す。図５では、図１（ａ）の入射端面
近傍の端部に於ける輝度を１００とした場合の各測定位
置に於ける相対輝度を用いて表しており（縦軸）、図５
の横軸は冷陰極管３から輝度の測定位置までの距離であ
る。図５の結果から、レーザ光出力として好ましい範囲
は１０〜２０Ｗであることが分かる。
【００２４】（実施例４）実施例１と同様の基板及び同
様の加工条件で、レーザーヘッドの走査速度のみを変化
させて面発光体を作製した。各面発光体の作製時のヘッ
ドの走査速度は、１０００ｍｍ／秒，９００ｍｍ／秒，
８００ｍｍ／秒，７００ｍｍ／秒，６００ｍｍ／秒，５
００ｍｍ／秒及び４００ｍｍ／秒である。各面発光体に
ついて実施例１と同様の発光パネルを作製し、各発光パ
ネルについて、実施例３と同様に、相対輝度の光源から
の距離に対する依存性を調べた。その結果を図６に示
す。図６の結果から、レーザーヘッドの走査速度として
好ましい範囲は８００ｍｍ／秒〜１０００ｍｍ／秒であ
ることが分かる。
様の加工条件で、レーザーヘッドの走査速度のみを変化
させて面発光体を作製した。各面発光体の作製時のヘッ
ドの走査速度は、１０００ｍｍ／秒，９００ｍｍ／秒，
８００ｍｍ／秒，７００ｍｍ／秒，６００ｍｍ／秒，５
００ｍｍ／秒及び４００ｍｍ／秒である。各面発光体に
ついて実施例１と同様の発光パネルを作製し、各発光パ
ネルについて、実施例３と同様に、相対輝度の光源から
の距離に対する依存性を調べた。その結果を図６に示
す。図６の結果から、レーザーヘッドの走査速度として
好ましい範囲は８００ｍｍ／秒〜１０００ｍｍ／秒であ
ることが分かる。
【００２５】（実施例５）実施例１と同様の基板及び同
様の加工条件で、レーザービームウエストの直径のみを
変化させて面発光体を作製した。各面発光体の作製時の
レーザービームウエストの直径は、０．１ｍｍ，０．２
ｍｍ，０．３ｍｍ，０．４ｍｍ及び０．５ｍｍである。
各面発光体について実施例１と同様の発光パネルを作製
し、各発光パネルについて、実施例３と同様に、相対輝
度の光源からの距離に対する依存性を調べた。その結果
を図７に示す。図７の結果から、レーザービームウエス
トの直径として好ましい範囲は０．１ｍｍ〜０．２ｍｍ
であることが分かる。
様の加工条件で、レーザービームウエストの直径のみを
変化させて面発光体を作製した。各面発光体の作製時の
レーザービームウエストの直径は、０．１ｍｍ，０．２
ｍｍ，０．３ｍｍ，０．４ｍｍ及び０．５ｍｍである。
各面発光体について実施例１と同様の発光パネルを作製
し、各発光パネルについて、実施例３と同様に、相対輝
度の光源からの距離に対する依存性を調べた。その結果
を図７に示す。図７の結果から、レーザービームウエス
トの直径として好ましい範囲は０．１ｍｍ〜０．２ｍｍ
であることが分かる。
【００２６】
【発明の効果】本発明に係る面発光体の製造方法によれ
ば、レーザ光の光出力、走査速度、ビームウエストの直
径などを精密に制御することができるので、このレーザ
光を基板の裏面側から照射し走査することにより、透明
基板の端面からの入射光に対する散乱性に優れた溝を、
周囲の環境の影響を受けることなく形成することができ
る。従って、常に同じ散乱性を有する溝を形成すること
ができ、この溝を光を入射させる端面に平行に所定間隔
で形成することにより、基板の裏面の輝度が高く、散乱
光が巨視的に均一な面発光体を得ることができる。しか
も、金型などの大がかりな装置を使用することなく面発
光体を得ることができる。
ば、レーザ光の光出力、走査速度、ビームウエストの直
径などを精密に制御することができるので、このレーザ
光を基板の裏面側から照射し走査することにより、透明
基板の端面からの入射光に対する散乱性に優れた溝を、
周囲の環境の影響を受けることなく形成することができ
る。従って、常に同じ散乱性を有する溝を形成すること
ができ、この溝を光を入射させる端面に平行に所定間隔
で形成することにより、基板の裏面の輝度が高く、散乱
光が巨視的に均一な面発光体を得ることができる。しか
も、金型などの大がかりな装置を使用することなく面発
光体を得ることができる。
【図１】（ａ）は実施例１の面発光体を用いて作製した
発光パネルの断面図、（ｂ）は（ａ）に於ける面発光体
と光源との位置関係を示す図である。
発光パネルの断面図、（ｂ）は（ａ）に於ける面発光体
と光源との位置関係を示す図である。
【図２】図１（ａ）の発光パネルの輝度を測定する場合
のエリアを示す図である。
のエリアを示す図である。
【図３】（ａ）は実施例２の面発光体を用いて作製した
発光パネルの断面図、（ｂ）は（ａ）に於ける面発光体
と光源との位置関係を示す図である。
発光パネルの断面図、（ｂ）は（ａ）に於ける面発光体
と光源との位置関係を示す図である。
【図４】図２（ａ）の発光パネルの輝度を測定する場合
のエリアを示す図である。
のエリアを示す図である。
【図５】レーザー光出力を変化させて作製した面発光体
を用いた発光パネルについての、光源からの距離に対す
る相対輝度の依存性を示す図である。
を用いた発光パネルについての、光源からの距離に対す
る相対輝度の依存性を示す図である。
【図６】レーザーヘッドの走査速度を変化させて作製し
た面発光体を用いた発光パネルについての、光源からの
距離に対する相対輝度の依存性を示す図である。
た面発光体を用いた発光パネルについての、光源からの
距離に対する相対輝度の依存性を示す図である。
【図７】レーザービームウエストの直径を変化させて作
製した面発光体を用いた発光パネルについての、光源か
らの距離に対する相対輝度の依存性を示す図である。
製した面発光体を用いた発光パネルについての、光源か
らの距離に対する相対輝度の依存性を示す図である。
１，１１…基板 １ｂ，１１ｂ…基板の裏面 １ｄ，１１ｄ…基板の裏面 １ａ，１１ａ，１１ｃ…入射端面 ２，１２…溝 ３，１３…冷陰極管 ４，１４…反射フィルム ５，１５…拡散フィルム ６，１６…リフレクター
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (56)参考文献 特開 平４−349403（ＪＰ，Ａ) 特開 平５−216030（ＪＰ，Ａ) 実開 昭61−145902（ＪＰ，Ｕ) (58)調査した分野(Int.Cl.6，ＤＢ名) G02B 6/00 331 G02F 1/1335 530
Claims (1)
- 【請求項１】 透明な基板の端面から入射する光を前記
基板の裏面で散乱して巨視的に均一な散乱光を発する面
発光体の製造方法であって、前記基板の裏面側から、光
出力が１０Ｗ〜２０Ｗの範囲で、そのビームウエストの
直径が０．１ｍｍ〜０．２ｍｍの範囲であるレーザ光
を、前記端面に平行な方向に８００ｍｍ／秒〜１，００
０ｍｍ／秒の範囲の走査速度で走査しながら照射するこ
とにより、前記基板の裏面に前記端面に平行で連続した
非鏡面を有する溝を３ｍｍ未満の所定間隔で複数形成す
ることを特徴とする面発光体の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5334321A JP2927392B2 (ja) | 1993-12-28 | 1993-12-28 | 面発光体の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5334321A JP2927392B2 (ja) | 1993-12-28 | 1993-12-28 | 面発光体の製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH07198954A JPH07198954A (ja) | 1995-08-01 |
| JP2927392B2 true JP2927392B2 (ja) | 1999-07-28 |
Family
ID=18276053
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP5334321A Expired - Lifetime JP2927392B2 (ja) | 1993-12-28 | 1993-12-28 | 面発光体の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2927392B2 (ja) |
Families Citing this family (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH11167028A (ja) * | 1997-12-04 | 1999-06-22 | Shinyei Kaisha | 面発光体 |
| EP1107048B1 (fr) * | 1999-12-09 | 2006-12-20 | Phlox | Procédé et dispositif d'usinage par laser de guides de lumière, guides de lumière et écrans rétro-éclairés incorporant ces guides |
| KR101286491B1 (ko) | 2006-07-10 | 2013-07-16 | 삼성디스플레이 주식회사 | 도광판과 이를 포함하는 액정표시장치 |
| JP6302175B2 (ja) * | 2013-06-11 | 2018-03-28 | 株式会社アガツマ | お絵描き台玩具 |
-
1993
- 1993-12-28 JP JP5334321A patent/JP2927392B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH07198954A (ja) | 1995-08-01 |
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