JP2925747B2 - 自己架橋型高分子ラテックス組成物 - Google Patents

自己架橋型高分子ラテックス組成物

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JP2925747B2
JP2925747B2 JP40148790A JP40148790A JP2925747B2 JP 2925747 B2 JP2925747 B2 JP 2925747B2 JP 40148790 A JP40148790 A JP 40148790A JP 40148790 A JP40148790 A JP 40148790A JP 2925747 B2 JP2925747 B2 JP 2925747B2
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豊昭 山内
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Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、耐候性、光沢保持性、
長期のはっ水性、長期の汚染抑制、耐水性等にすぐれた
皮膜を形成し得る自己架橋型高分子ラテックス組成物に
関するものである。本発明の組成物は、塗料、粘着剤、
紙加工剤、繊維加工剤などに利用され、とくに塗料用と
して有用なものである。
【0002】
【従来の技術】水性塗料用の樹脂として乳化重合より得
られるアクリル系等の高分子ラテックスは常温で成膜
し、比較的耐久性の良好な皮膜を形成することから多く
用いられている。しかし屋外で暴露された場合、その皮
膜はほこり、煤煙、砂等の付着により汚染される。さら
に光沢値の低下は速く、光沢保持性の水準は低いもので
あった。そのため塗料が塗装された直後における艶のあ
る外観は、経時的な汚染と光沢値の低下によって、非常
に汚れた艶のない皮膜となってしまった。
【0003】上記の問題を解決するために、特公昭46
−20053号公報、特開昭57−3857号公報、特
開昭57−3850号公報に開示されているカルボニル
基含有ラテックスとヒドラジン化合物との混合物である
常温架橋型高分子ラテックスを用いて水性塗料とした場
合、その皮膜の光沢値低下速度は従来に比べやや遅くな
るが充分なものではない。この光沢値の低下は、長期に
わたり屋外へ暴露された場合において、はっ水性が徐々
に低下し、皮膜への水の浸透が容易になるためポリマ−
の分解が促進されることになる。とくに汚染の抑制につ
いて特開昭57−3857号公報では、皮膜の伸展性と
硬度という相矛盾する性能を解決する方法が開示されて
いる。この方法では、皮膜の硬度を高めることができる
ものの汚染の抑制には不充分であった。さらに、特開昭
57−3850号公報では、ラテックス粒子外殻のガラ
ス転移点を高くした複層構造とする方法が開示されてい
るが、汚染を抑制するには不充分なものであった。この
ように従来のカルボニル基含有ラテックスとヒドラジン
化合物との混合物である常温架橋型高分子ラテックスで
は、光沢保持性および汚染抑制は充分なものではなかっ
た。
【0004】また、特開昭60−181173号公報、
特開昭62−267374号公報、特開平2−6732
4号公報等に開示されているエチレン性不飽和単量体を
乳化重合せしめて得られる高分子ラテックスであって、
かつその共重合体中に加水分解性シラン化合物から形成
されるオルガノポリシロキサンが共存あるいは化学的に
結合しているラテックスまたは製造方法から得られる皮
膜は、汚染の抑制、はっ水性が優れているものの光沢保
持性はまったく不充分なものであった。これは粒子表面
に存在するオルガノポリシロキサンの持つシラノ−ル基
が、皮膜形成後において粒子間架橋しにくいためであっ
た。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】塗料が塗装された直後
における艶のある外観を長期にわたり保持し続けるため
には、高分子ラテックスから得られる皮膜は光沢保持性
および汚染抑制の両者に優れ、屋外などに長期暴露され
てもその皮膜は汚染されずかつ光沢値が低下しないこと
である。
【0006】
【課題を解決するための手段】本発明者らは、上記のよ
うな課題を解決するために鋭意検討をかさね、従来では
予想しえなかった皮膜の光沢保持性と汚染抑制を発現す
る本発明を完成するに至った。すなわち、本発明は、
(A)加水分解性シランの存在下において、分子中に少
なくとも1個のアルド基またはケト基を有するエチレン
性不飽和カルボニル基含有単量体と他のエチレン性不飽
和単量体とを共重合せしめて得られた高分子ラテックス
と、(B)分子中に少なくとも2個の−NH−NH2
を有するヒドラジン誘導体とからなる自己架橋型高分子
ラテックス組成物に関する。
【0007】本発明において、(A)の高分子ラテック
スとは、水媒体中で界面活性剤、ラジカル重合開始剤、
加水分解性シランの加水分解および縮合用触媒を使用し
て行われる通常の乳化重合により得られる組成物であっ
て、その高分子ラテックスがオルガノポリシロキサンを
含有し、かつアルド基またはケト基を含有するものであ
る。
【0008】本発明における(A)の高分子ラテックス
が、(A)の高分子ラテックスの固形分1kg当り、例
えばけい素を0.01〜10モル、アルド基またはケト
基が0.005〜2.0モルを含有するが、好ましくは
(A)の高分子ラテックスの固形分1kg当りけい素を
0.05〜5モル、アルド基またはケト基が0.01〜
0.5モルを含有する。
【0009】本発明において(B)の分子中に少なくと
も2個の−NH−NH2 基を有するヒドラジン誘導体
が、分子中に少なくとも1個のアルド基またはケト基を
有するエチレン性不飽和カルボニル基含有単量体に対し
て、0.05〜5モル当量であることが好ましい。上記
本発明の要件が満たされない場合には、皮膜として光沢
保持性と汚染抑制とを兼ねそなえていないため屋外など
に長期暴露されると、その皮膜は汚染と光沢値の低下に
よって、非常に汚れた艶のないものとなってしまう。
【0010】本発明において使用される加水分解性シラ
ンとは、酸触媒またはアルカリ触媒等によって加水分解
性および縮合し、オルガノポリシロキサンを形成するも
のであれば何でもよく、具体的には化1として
【0011】
【化1】
【0012】、(式中、R1 は炭素数1〜16の脂肪族
炭化水素基、アリール基、シクロアルキル基または水素
原子:R2 1〜8個の炭素原子を有するアルコキシ
基、アセトキシ基、水酸基:nは1〜3の正の整数)で
表されるオルガノアルコキシシラン類でR1 が2個また
は3個存在するときにはR1 がすべて同一でも一部また
は全部が異なっていてもよい。さらに、R2 が2個また
は3個存在するときは、R2 がすべて同一でも一部また
は全部が異なっていてもよい。アルコキシシラン類にお
いて、R1 としてはメチル基、フェニル基がとくに好ま
しい。R2 としてはメトキシ基、エトキシ基、プロポキ
シ基、プトキシ基、メトキシエトキシ基、水酸基がとく
に好ましい。アルコキシシラン類の具体例としてメチル
トリメトキシシラン、ジメチルジメトキシシラン、フェ
ニルトリメトキシシラン、ジフェニルジメトキシシラ
ン、メチルトリエトキシシラン、ジメチルジエトキシシ
ラン、フェニルトリエトキシシラン、ジフェニルジエト
キシシラン、イソブチルトリメトキシシラン、メチルフ
ェニルジメトキシシラン、などがとくに好ましく用いら
れる。
【0013】また、上記式以外のアルコキシシラン類と
して、エチレン性不飽和単量体と共重合可能なビニルト
リス(βメトキシエトキシ)シラン、ビニルトリエトキ
シシラン、ビニルエトキシシラン、γ−アクリロキシプ
ロピルトリメトキシシラン、γ−メタクリロキシプロピ
ルトリメトキシシラン、γ−(メタ)アクリロキシプロ
ピルトリエトキシシラン、γ−(メタ)アクリロキシプ
ロピルジメトキシメチルシランなどその他の官能基をも
つγ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、N−
β(アミノエチル)γ−アミノプロピルトリメトキシシ
ラン、γ−メルカプトプロピルトリメトキシシランおよ
びテトラメトキシシラン、テトラエトキシシランなども
用いることができる。
【0014】クロロシラン類として例えばメチルクロロ
シラン、メチルジクロロシラン、ジメチルジクロロシラ
ン、トリメチルクロロシラン、フェニルトリクロロシラ
ン、ジフェニルクロロシラン、ビニルクロルシラン、γ
−(メタ)アクリロキシプロピルトリクロロシラン、γ
−(メタ)アクリロキシプロピルジクロロメチルシラン
などがある。
【0015】環状シランとしてはオクタメチルシクロテ
トラシロキサン、オクタフェニルシクロシロキサン、ヘ
キサメチルシクロトリシロキサン、デカメチルシクロペ
ンタシロキサン、テトラメチルテトラビニルシクロテト
ラシロキサンなども用いることができる。これら加水分
解性シランの一種または二種以上を併用しても差し支え
なく、エチレン性不飽和単量体に共重合可能である加水
分解性シランと、他の加水分解性シランとの併用はとく
に好ましい。
【0016】本発明において、分子中に少なくとも1個
のアルド基またはケト基を有するエチレン性不飽和カル
ボニル基含有単量体とは、そのカルボニル基がアルド基
またはケト基を含有するエチレン性不飽和単量体をい
い、カルボン酸およびエステル類の持つカルボニル基を
含有するエチレン性不飽和単量体は除外される。具体的
には、アクロレイン、ジアセトンアクリルアミド、ジア
セトンメタクリルアミド、ホルミルスチロ−ル、ビニル
メチルケトン、ビニルエチルケトン、ビニルイソブチル
ケトン、アクリルオキシアルキルプロパナ−ル類、メタ
クリルオキシアルキルプロパナ−ル類、ジアセトンアク
リレ−ト、ジアセトンメタクリレ−ト、アセトニルアク
リレ−ト、2−ヒドロキシプロピルアクリレ−トアセチ
ルアセテ−ト、ブタンジオ−ルアクリレ−トアセチルア
セテ−ト等が挙げられる。
【0017】さらに本発明における他のエチレン性不飽
和単量体を具体的に示せば、アクリル酸エステル、メタ
クリル酸エステル〔以後単に(メタ)アクリル酸エステ
ルのように表すことがある。〕、スチレン、ビニルトル
エン等の芳香族単量体、酢酸ビニル、プロピオン酸ビニ
ル、パ−サチック酸ビニル等のビニルエステル類、(メ
タ)アクリロニトリル等のシアン化ビニル類、塩化ビニ
ル、塩化ビニリデン等のハロゲン化ビニル類、ブタジエ
ン等があり、さらに種々の官能性単量体例えば(メタ)
アクリルアミド、ビニルピロリドン、(メタ)アクリル
酸2−ヒドロキシエチル、N−メチロ−ルアクリルアミ
ド、N−ブトキシメチルアクリルアミド、メタクリル酸
アシッドホスホオキシエチル、メタクリル酸3−クロロ
−2−アシッドホスホオキシプロピル、メチルプロパン
スルホン酸アクリルアミド、ジビニルベンゼン、(ポ
リ)オキシエチレンモノ(メタ)アクリレ−ト、(ポ
リ)プロピレングリコ−ル(メタ)アクリレ−ト、(メ
タ)アクリル酸アリル、(ポリ)オキシエチレンジ(メ
タ)アクリレ−ト、トリメチロ−ルプロパントリ(メ
タ)アクリレ−ト、(メタ)アクリル酸ジメチルアミノ
エチル、(メタ)アクリル酸ジエチルアミノエチルなど
が含まれる。カルボキシル基を持つ単量体としては、ア
クリル酸、メタクリル酸、イタコン酸、フマ−ル酸、マ
レイン酸、無水マレイン酸およびイタコン酸、フマ−ル
酸、マレイン酸の半エステルなどがある。アクリル酸エ
ステル又はメタクリル酸エステルとしては、例えば、
(メタ)アクリル酸メチル、(メタ)アクリル酸エチ
ル、(メタ)アクリル酸ブチル、(メタ)アクリル酸2
−エチルヘキシル、(メタ)アクリル酸シクロヘキシ
ル、(メタ)アクリル酸ドデシル等がある。
【0018】本発明において使用されるヒドラジン誘導
体としては、分子中に少なくとも2個の−NH−NH2
基を有するもので、具体的には、シュウ酸ジヒドラジ
ド、マロン酸ジヒドラジド、コハク酸ジヒドラジド、ア
ジピン酸ジヒドラジド、セバシン酸ジヒドラジド、イソ
フタル酸ジヒドラジド、オキサリルジヒドラジド等ある
いは分子中に2個以上の−NH−NH2 基を有するポリ
マ−等が挙げられる。
【0019】本発明における高分子ラテックスは、通常
の乳化重合方法により得ることができる。すなわち、エ
チレン性不飽和単量体は、水、界面活性剤、ラジカル重
合触媒を基本構成とする分散系において、エチレン性不
飽和単量体を重合体粒子とする重合方法であり、また加
水分解性シランは、水、界面活性剤、加水分解用および
縮合用の酸性または塩基性触媒を基本構成とする分散系
において、加水分解性シランを重合体粒子とする重合方
法である。本発明では、分子中に少なくとも1個のアル
ド基またはケト基を有するエチレン性不飽和カルボニル
基含有単量体と他のエチレン性不飽和単量体および加水
分解性シランは、水、界面活性剤、ラジカル重合触媒、
加水分解性シランの加水分解用および縮合用酸触媒を基
本構成とする分散系において重合体粒子とする重合方法
が好ましい。この乳化重合においてエチレン性不飽和単
量体および加水分解性シランは、同一反応系にて同時に
重合させることもあるいはどちらかを先に重合させるこ
とも限定するものではないが、とくにエチレン性不飽和
単量体および加水分解性シランは、同一反応系にて同時
に重合させることが好ましい。
【0020】本発明におけるラジカル重合触媒として
は、熱または還元性物質などによってラジカル分解して
エチレン性不飽和単量体の付加重合を起こさせるもの
で、水溶性または油溶性の過硫酸塩、過酸化物、アゾビ
ス化合物等が使用できる。その例としては、過硫酸カリ
ウム、過硫酸ナトリウム、過硫酸アンモニウム、過酸化
水素、t−ブチルハイドロパ−オキサイド、t−ブチル
パ−オキシベンゾエ−ト、2,2−アゾビスイソブチロ
ニトリル、2,2−アゾビス(2−ジアミノプロパン)
ハイドロクロライド、2,2−アゾビス(2,4−ジメ
チルパレロニトリル)等があり、とくに水溶性のものが
好ましく用いられ、その量としては分子中に少なくとも
1個のアルド基またはケト基を有するエチレン性不飽和
カルボニル基含有単量体と他のエチレン性不飽和単量体
の総量に対して通常0.01〜10重量%、好ましくは
0.1〜1重量%配合される。なお、重合速度の促進、
さらに低温での重合を望むときには、重亜硫酸ナトリウ
ム、塩化第一鉄、アスコルビン酸塩、ロンガリット等の
還元剤をラジカル重合触媒と組み合わせて用いる。
【0021】また所望によってドデシルメルカプタン等
の分子量を調節するための連鎖移動剤を添加することも
可能である。本発明では、加水分解性シランの加水分解
用および縮合用酸触媒として塩酸、メタンスルホン酸、
p−トルエンスルホン酸、β−ナフタレンスルホン酸、
2−メシチレンスルホン酸、カンファ−−10−スルホ
ン酸、三フッ化ホウ素などが用いられるが、とくにヘキ
シルベンゼンスルホン酸、オクチルベンゼンスルホン
酸、デシルベンゼンスルホン酸、ドデシルベンゼンスル
ホン酸、セチルベンゼンスルホン酸のような酸触媒と乳
化重合用界面活性剤との両機能を有するものを使用する
ことが好ましい。その使用量は、高分子ラテックス固形
分に対して0.01〜10重量%、好ましくは0.05
〜5重量%、さらに好ましくは0.1〜3重量%であ
る。さらにアクリル酸、メタクリル酸も該酸触媒として
使用することができる。
【0022】本発明では、通常の界面活性剤、例えば、
脂肪酸石鹸、アルキルスルホン酸塩、アルキルスルホコ
ハク酸塩、ポリオキシエチレンアルキル硫酸塩、ポリオ
キシエチレンアルキルアリ−ル硫酸塩、p−スチレンス
ルホン酸塩等のアニオン性界面活性剤やポリオキシエチ
レンアルキルアリ−ルエ−テル、ポリオキシエチレンソ
ルビタン脂肪酸エステル、オキシエチレンオキシプロピ
レンプロックコポリマ−等のノニオン性界面活性剤等が
用いられる。その使用量は、高分子ラテックス固形分に
対して0.01〜15重量%、好ましくは0.1〜10
重量%、さらに好ましくは0.2〜5重量%である。
【0023】本発明では乳化重合終了後、成膜時の硬化
触媒として、例えばジブチルすずジラウレ−ト、ジオク
チルすずジラウレ−ト、ジブチルすずジアセテ−ト、オ
クチル酸すず、ラウリン酸すず、オクチル酸鉄、オクチ
ル酸鉛、テトラブチルチタネ−ト等の有機酸の金属塩を
本発明の組成物へ添加することができる。その使用量
は、高分子ラテックス固形分に対して0.001〜10
重量%、好ましくは0.01〜5重量%、さらに好まし
くは0.05〜3重量%である。
【0024】なおこれらの硬化用触媒はその使用に際し
て、界面活性剤と水を用いてエマルジョン化しておくこ
とが望ましい。本発明の組成物にはラテックスの長期の
分散安定を保つため、アンモニア、水酸化ナトリウム、
水酸化カリウム、ジメチルアミノエタノ−ル等のアミン
類を用いてPH2〜12、好ましくはPH3〜10の範
囲に調整する。
【0025】本発明の組成物には通常水系塗料等に添加
配合される成分、例えば増粘剤、消泡剤、顔料、分散
剤、染料、防腐剤等を配合することは任意である。
【0026】
【実施例】次に、実施例と比較例を示して本発明を具体
的に説明するが、本発明の範囲がこれらの実施例のみに
限定されるものでないことは言うまでもない。なお例中
の部および%は重量表示である。なお、得られた自己架
橋型高分子ラテックスは、下記に示す配合の塗料を調整
し、以下に示す試験方法に従って試験を実施した。 (塗料配合) 顔料ディスパ−ジョン 水 82.5部 ポイズ530 注1 7.5部 トリポリリン酸ナトリウムの5%水溶液 7.5部 ダイセルHEC SP−600の3%水溶液 注2 25.0部 ノプコ1497VD 注3 2.5部 タイペ−ク R−930 注4 375.0部 レットダウン 高分子ラテックス組成物 1000.0部 エチレングリコ−ルモノブチルエ−テル 60.0部 エチレングリコ−ルモノ2−エチルヘキシルエ−テル 10.0部 水 30.0部 ノプコ1497VD 1.0部 (試験方法) 光沢保持性 上記塗料をワイヤ−コ−タ−No.50を用いて、硫酸
アルマイト板に塗布し、室温で30日間乾燥させる。そ
のときの60度−60度鏡面反射率を光沢値として測定
した(これをゼロ時間とする。)。引き続きサンシャイ
ン型ウエザオメ−タ−(スガ試験機(株)製、WEL−
SUN−DC)を使用して暴露試験(降雨サイクル;1
2分/時間、ブラックパネル温度;60〜66℃)を行
なった。各暴露時間ごとの60度−60度鏡面反射率を
測定した。
【0027】汚染・暴露繰り返し試験 上記と同様に塗料を硫酸アルマイト板へ塗布し、室温で
30日間乾燥させる。70℃の雰囲気下で灯油を燃焼さ
せてすすを塗膜面へ2時間付着させ、室温まで冷却後、
引き続きサンシャイン型ウエザオメ−タ−(上記と同様
の条件)にて300時間暴露することを1サイクルとす
る。これを繰り返し行なう。その汚染状態を目視にて判
定した。
【0028】 屋外暴露試験 屋外暴露(試験体地面に垂直、南向きの直接暴露試験、
場所:神奈川県川崎市川崎区夜光)を3ケ月(1990
年6月21日から同年9月20日まで)行ない、上記と
同様に汚染、状態を目視にて判定した。
【0029】各実施例および比較例により得られたラテ
ックスを上記配合、試験方法に従って試験を行ない、そ
の結果を表1〜2にまとめた。
【0030】
【実施例1】かくはん機、還流冷却器、滴下槽および温
度計を取りつけた反応容器に、水300部、ジオクチル
スルホコハク酸ナトリウムの40%水溶液(花王(株)
製、ペレックスOT−P)2部、ポリオキシエチレンノ
ニルフェニルエ−テルの25%水溶液(花王(株)製、
エマルゲン950)1部、ドデシルベンゼンスルホン酸
1部を投入し、反応容器中の温度を80℃に上げてか
ら、次にメタクリル酸11部、メタクリル酸メチル24
4部、アクリル酸ブチル230部、ジアセトンアクリル
アミド15部、水330部、ポリオキシエチレンノニル
フェニルエ−テルの25%水溶液(花王(株)製、エマ
ルゲン950)5部、過硫酸アンモニウム1.0部の混
合液と、γ−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラ
ン2.5部、ジメチルメトキシシラン25部、メチルト
リメトキシシラン25部からなる混合液とを反応容器中
へ別々の滴下槽より3時間かけて流入させる。流入中は
反応容器中の温度を80℃に保つ。流入が終了してから
反応容器中の温度を85℃にして6時間保つ。室温まで
冷却後25%アンモニア水溶液を添加してpHを8に調
整してから100メッシュの金網でろ過した。ろ過され
た凝集物の乾燥重量は全単量体に対して0.02%と非
常に僅かであった。得られたラテックスの固形分は4
3.3%、粒子径1020Åであった。次に該高分子ラ
テックスにイソフタル酸ジヒドラジド8.6部を添加
し、自己架橋型高分子ラテックスとした。
【0031】
【比較例1】かくはん機、還流冷却器、滴下槽および温
度計を取りつけた反応容器に、水300部、ジオクチル
スルホコハク酸ナトリウムの40%水溶液(花王(株)
製、ペレックスOT−P)2部、ポリオキシエチレンノ
ニルフェニルエ−テルの25%水溶液(花王(株)製、
エマルゲン950)1部、ドデシルベンゼンスルホン酸
1部を投入し、反応容器中の温度を80℃に上げてか
ら、次にメタクリル酸11部、メタクリル酸メチル24
4部、アクリル酸ブチル230部、ジアセトンアクリル
アミド15部、水330部、ポリオキシエチレンノニル
フェニルエ−テルの25%水溶液(花王(株)製、エマ
ルゲン950)5部、過硫酸アンモニウム1.0部の混
合液と、γ−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラ
ン2.5部、ジメチルジメトキシシラン25部、メチル
トリメトキシシラン25部からなる混合液とを反応容器
中へ別々の滴下槽より3時間かけて流入させる。流入中
は反応容器中の温度を80℃に保つ。流入が終了してか
ら反応容器中の温度を85℃にして6時間保つ。室温ま
で冷却後25%アンモニア水溶液を添加してpHを8に
調整してから100メッシュの金網でろ過した。ろ過さ
れた凝集物の乾燥重量は全単量体に対して0.02%と
非常に僅かであった。得られたラテックスの固形分は4
3.3%、粒子径1020Åであった。
【0032】
【比較例2】比較例1の重合処方からγ−メタクリロキ
シプロピルトリメトキシシラン、ジメチルジメトキシシ
ラン、メチルトリメトキシシランを除く以外は、比較例
1と同様に行なった。ろ過された凝集物の乾燥重量は全
単量体に対して0.01%と非常に僅かであった。得ら
れたラテックスの固形分は42.8%、粒子径980Å
であった。次に該ラテックスにイソフタル酸ジヒドラジ
ド8.6部を添加し、自己架橋型高分子ラテックスとし
た。
【0033】
【比較例3】かくはん機、還流冷却器、滴下槽および温
度計を取りつけた反応容器に、水300部、ジオクチル
スルホコハク酸ナトリウムの40%水溶液(花王(株)
製、ペレックスOT−P)2部、ポリオキシエチレンノ
ニルフェニルエ−テルの25%水溶液(花王(株)製、
エマルゲン950)1部、ドデシルベンゼンスルホン酸
1部を投入し、反応容器中の温度を80℃に上げてか
ら、次にメタクリル酸11部、メタクリル酸メチル25
9部、アクリル酸ブチル230部、水330部、ポリオ
キシエチレンノニルフェニルエ−テルの25%水溶液
(花王(株)製、エマルゲン950)5部、過硫酸アン
モニウム1.0部の混合液と、γ−メタクリロキシプロ
ピルトリメトキシシラン2.5部、ジメチルジメトキシ
シラン25部、メチルトリメトキシシラン25部からな
る混合液とを反応容器中へ別々の滴下槽より3時間かけ
て流入させる。流入中は反応容器中の温度を80℃に保
つ。流入が終了してから反応容器中の温度を85℃にし
て6時間保つ。室温まで冷却後25%アンモニア水溶液
を添加してpHを8に調整してから100メッシュの金
網でろ過した。ろ過された凝集物の乾燥重量は全単量体
に対して0.05%と僅かであった。得られたラテック
スの固形分は43.2%、粒子径1050Åであった。
次に該高分子ラテックスにイソフタル酸ジヒドラジド
8.6部を添加した。
【0034】
【実施例2】かくはん機、還流冷却器、滴下槽および温
度計を取りつけた反応容器に、水300部、ポリオキシ
エチレンノニルフェニルエ−テル硫酸ナトリウムの35
%水溶液(花王(株)製、エマ−ルNC)1部、ポリオ
キシエチレンノニルフェニルエ−テルの25%水溶液
(花王(株)製、エマルゲン950)2部、ドデシルベ
ンゼンスルホン酸2部を投入し、反応容器中の温度を8
0℃に上げてから、次にメタクリル酸18部、メタクリ
ル酸メチル125部、スチレン150部、アクリル酸2
−エチルヘキシル182部、ジアセトンアクリルアミド
25部、水330部、ポリオキシエチレンノニルフェニ
ルエ−テルの25%水溶液(花王(株)製、エマルゲン
950)5部、過硫酸アンモニウム1.0部の混合液
と、γ−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン
5.0部、ジメチルジメトキシシラン30部、メチルト
リメトキシシラン10部からなる混合液とを反応容器中
へ別々の滴下槽より3時間かけて流入させる。流入中は
反応容器中の温度を80℃に保つ。流入が終了してから
反応容器中の温度を85℃にして6時間保つ。室温まで
冷却後25%アンモニア水溶液を添加してpHを8に調
整してから100メッシュの金網でろ過した。ろ過され
た凝集物の乾燥重量は全単量体に対して0.02%と非
常に僅かであった。得られたラテックスの固形分は4
3.4%、粒子径850Åであった。次に該ラテックス
にジブチルすずラウレ−ト5部、ポリオキシエチレンノ
ニルフェニルエ−テル硫酸ナトリウムの35%水溶液
(花王(株)製、エマ−ルNC)5部およびアジピン酸
ジヒドラジド10.0部の混合物を添加し、自己架橋型
高分子ラテックスとした。
【0035】
【比較例4】実施例2の重合処方からγ−メタクリロキ
シプロピルトリメトキシシラン、ジメチルジメトキシシ
ラン、メチルトリメトキシシランを除く以外は、実施例
2と同様に行なった。ろ過された凝集物の乾燥重量は全
単量体に対して0.01%と非常に僅かであった。得ら
れたラテックスの固形分は42.8%、粒子径980Å
であった。次に該ラテックスにアジピン酸ジヒドラジド
10.0部を添加し、自己架橋型高分子ラテックスとし
た。
【0036】
【比較例5】かくはん機、還流冷却器、滴下槽および温
度計を取りつけた反応容器に、水300部、ポリオキシ
エチレンノニルフェニルエ−テル硫酸ナトリウムの35
%水溶液(花王(株)製、エマ−ルNC)1部、ポリオ
キシエチレンノニルフェニルエ−テルの25%水溶液
(花王(株)製、エマルゲン950)2部、ドデシルベ
ンゼンスルホン酸2部を投入し、反応容器中の温度を8
0℃に上げてから、次にメタクリル酸18部、メタクリ
ル酸メチル150部、スチレン150部、アクリル酸2
−エチルヘキシル182部、水330部、ポリオキシエ
チレンノニルフェニルエ−テルの25%水溶液(花王
(株)製、エマルゲン950)5部、過硫酸アンモニウ
ム1.0部の混合液と、γ−メタクリロキシプロピルト
リメトキシシラン5.0部、ジメチルジメトキシシラン
30部、メチルトリメトキシシラン10部からなる混合
液とを反応容器中へ別々の滴下槽より3時間かけて流入
させる。流入中は反応容器中の温度を80℃に保つ。流
入が終了してから反応容器中の温度を85℃にして6時
間保つ。室温まで冷却後25%アンモニア水溶液を添加
してpHを8に調整してから100メッシュの金網でろ
過した。ろ過された凝集物の乾燥重量は全単量体に対し
て0.02%と非常に僅かであった。得られたラテック
スの固形分は43.5%、粒子径860Åであった。次
に該ラテックスにジブチルすずラウレ−ト5部とポリオ
キシエチレンノニルフェニルエ−テル硫酸ナトリウムの
35%水溶液(花王(株)製、エマ−ルNC)5部の混
合物を添加した。
【0037】
【実施例3】かくはん機、還流冷却器、滴下槽および温
度計を取りつけた反応容器に、水500部、ポリオキシ
エチレンノニルフェニルエーテル硫酸ナトリウムの25
%水溶液(花王(株)製、レベノールWZ)8部、ポリ
オキシエチレンノニルフェニルエーテルの25%水溶液
(花王(株)製、エマルゲン931)8部、ドデシルベ
ンゼンスルホン酸3部を投入し、反応容器中の温度を8
0℃に上げてから過硫酸ナトリウム2.0部を投入す
る。次にアクリル酸5部、メタクリル酸メチル95部、
アクリル酸エチル380部、メチルビニルケトン20部
の混合液と、r−メタクリロキシプロピルトリメトキシ
シラン10.0部、メチルトリメトキシシラン80部か
らなる混合液とを反応溶器中へ別々の滴下槽より3時間
かけて流入させる。流入中は反応容器中の温度を80℃
に保つ。流入が終了してから過硫酸ナトリウム0.2部
を添加し、反応容器中の温度を85℃にして6時間保
つ。室温まで冷却後25%アンモニア水溶液を添加して
pHを8に調整してから100メッシュの金網でろ過し
た。ろ過された凝集物の乾燥重量は全単量体に対して
0.06%と僅かであった。得られたラテックスの固形
分は49.5%、粒子径1260Åであった。次に該ラ
テックスにコハク酸ジヒドラジド10.0部を添加し、
自己架橋型高分子ラテックスとした。
【0038】
【表1】
【0039】
【表2】
【0040】
【発明の効果】本発明によれば、これまでの高分子ラテ
ックスより得られる皮膜では達成できなかった光沢保持
性と汚染抑制の両者に優れる皮膜を得ることができるた
め、屋外などに長期暴露されてもその皮膜は艶のある外
観を長期間保持することができる自己架橋型高分子ラテ
ックスである。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 FI // C09D 201/06 C09D 201/06 C09J 201/06 C09J 201/06 D06M 13/338 D06M 13/338 15/263 15/263 D21H 19/20 D21H 1/28 Z 19/24 1/34 J 19/44 E D06M 13/38 (56)参考文献 特開 平2−175742(JP,A) 特開 平2−155956(JP,A) 特開 平2−24370(JP,A) 特開 平2−49053(JP,A) 特開 昭57−12058(JP,A) 特開 昭58−127760(JP,A) 特開 昭57−3857(JP,A) 特開 昭55−147562(JP,A) (58)調査した分野(Int.Cl.6,DB名) C08L 1/00 - 101/14 C08K 5/24

Claims (1)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 (A)加水分解性シランの存在下におい
    て、分子中に少なくとも1個のアルド基またはケト基を
    有するエチレン性不飽和カルボニル基含有単量体と他の
    エチレン性不飽和単量体とを共重合せしめて得られた高
    分子ラテックスと、(B)分子中に少なくとも2個の−
    NH−NH2 基を有するヒドラジン誘導体とからなる自
    己架橋型高分子ラテックス組成物。
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