JP2910447B2 - 半導体記憶装置 - Google Patents

半導体記憶装置

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JP2910447B2
JP2910447B2 JP4260171A JP26017192A JP2910447B2 JP 2910447 B2 JP2910447 B2 JP 2910447B2 JP 4260171 A JP4260171 A JP 4260171A JP 26017192 A JP26017192 A JP 26017192A JP 2910447 B2 JP2910447 B2 JP 2910447B2
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semiconductor memory
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賢司 近藤
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Nippon Electric Co Ltd
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Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、半導体記憶装置の差動
増幅回路に関する。本発明は、ビット線対選択用デコー
ド回路の占有面積を小さくし、回路動作の高速化をはか
ることができる半導体記憶装置に関する。
【0002】
【従来の技術】従来技術を図1および図4を参照して説
明する。図1は一般的な半導体記憶装置の全体構成を示
すブロック図である。従来の半導体記憶装置は、チップ
イネーブル制御回路1と、書き込みおよび読み出し動作
の切り替えを制御する切替制御回路2と、データの入出
力を行う入出力回路3と、カラムデコーダ4と、データ
の入出力を制御する入出力制御回路5と、セルアレイ6
と、ロウデーダ7とを備える。図4は従来の半導体記憶
装置のビット線対に接続される入出力回路およびそれら
を選択するためデコード回路の構成を示す図である。同
図中BL1、BL2、BLnはビット線対、BLSA
1、BLSA2、BLSAnはビット線対BL1、BL
2、BLnごとにそれぞれ対応して設けられ、その出力
信号線対と負荷回路を共通した差動増幅回路、LD1は
差動増幅回路BLSA1、BLSA2、BLSAnに共
通の負荷回路、RB1は差動増幅回路BLSA1、BL
SA2、BLSAnに共通の出力信号線対、SR1、S
R2、SRnはそれぞれ差動増幅回路BLSA1、BL
SA2、BLSAnの選択信号線、DTR1、DTR
2,、DTRnはビット線対BL1、BL2、BLnご
とにそれぞれ対応して設けられその対応するビット線対
BL1、BL2、BLnに書き込みデータを伝達するト
ランスファゲート回路、WB1は書き込みデータ線対、
LD2は書き込みデータ線対WB1が非選択のとき電源
電圧にプリチャージする負荷回路、SW1、SW2、S
Wnはそれぞれトランスゲート回路DTR1、DTR
2、DTRnの選択信号線、BLD1、BLD2、BL
Dnはビット線対BL1、BL2、BLnごとにそれぞ
れ対応して設けられたビット線対選択用デコード回路、
GWBはグローバルな書き込みデータ線対、BTRは書
き込みデータ線対WB1とGWBとを接続するトランス
ファゲート回路、BSAは差動増幅回路、SBWはビッ
ト線対選択用デコード回路BLD1、BLD2、BLD
nおよびトランスファゲート回路BTRの選択信号線、
SBRは差動増幅回路BSAの選択信号線、WESは半
導体記憶装置の書き込みおよび読み出し動作の切り替え
を制御する回路の出力信号線、BDは半導体記憶装置内
の前述した全回路を含む複数に分割されたメモリセルブ
ロックを選択するデコード回路である。
【0003】次に、このように構成された従来例装置の
動作について説明する。
【0004】メモリセルブロックを選択するデコード回
路BDは、半導体記憶装置に入力されたアドレス信号の
デコード信号を受けビット線対選択用デコード回路BL
D1、BLD2、BLDn、およびトランスファゲート
回路BTRの選択信号線SBWに選択信号を発生すると
ともに、アドレス信号のデコード信号と半導体記憶装置
の書き込みおよび読み出し動作の切り替えを制御する回
路の出力信号線WESからの信号の論理を取って選択信
号線SBR上に選択信号を発生させる。また、ビット線
対BL1、BL2、BLnごとにそれぞれ対応して設け
られたビット線対選択用デコード回路BLD1、BLD
2、BLDnは、半導体記憶装置に入力されたアドレス
信号のデコード信号および選択信号SBWを受け、ビッ
ト線対BL1、BL2、BLnごとにそれぞれ対応して
設けられ書き込みデータを伝達するトランスファゲート
回路DTR1、DTR2、DTRnへの選択信号線SW
1、SW2、SWnに選択信号を発生するとともに、ア
ドレス信号のデコード信号、選択信号線SBWからの選
択信号、半導体記憶装置の書き込みおよび読み出し動作
の切り替えを制御する回路の出力信号線WESからの出
力信号の論理を取って、ビット線対BL1、BL2、B
Lnごとにそれぞれ対応して設けられその出力信号線対
と負荷回路を共通にした差動増幅回路BLSA1、BL
SA2、BLSAnへの選択信号線SR1、SR2、S
Rnに選択信号を発生させる。
【0005】ここで、図4に示す回路を含む半導体記憶
装置が書き込み動作状態でデコード回路BDによってメ
モリセルブロックおよびそれに含まれるビット線対BL
1、BL2、BLnの一つであるビット線対BL1が選
択されると選択信号線SBWおよびSW1が“Hig
h”電位となりトランスファゲート回路BTRおよびD
TR1が“ON”状態となり、書き込みデータ線対GW
B、書き込みデータ線対WB1、およびビット線対BL
1が電気的に接続され、半導体記憶装置に入力された書
き込みデータが書き込みデータ線対GWBを通じて書き
込みデータ線対WB1に伝達され、それがビット線対B
L1に伝達される。また、半導体記憶装置は書き込み状
態であるから出力信号線WESは“High”電位とな
り選択信号線SBRおよびSR1が“Low”電位とな
り差動増幅回路BLSA1、BSAが非選択となり消費
電力が低減される。
【0006】
【発明が解しようとする課題】前述した従来の半導体記
憶装置のビット線対に接続される入出力回路およびそれ
らを選択するためのデコード回路では、ビット線対ごと
にそれぞれ対応して設けられその出力信号線対と負荷回
路を共通にした差動増幅回路と、ビット線対ごとにそれ
ぞれ対応して設けられ対応するビット線対に書き込みデ
ータを伝達するトランスファゲート回路とを選択する信
号線を図4に示すようにSR1、SR2、SRnとSW
1、SW2、SWnに分離し、書き込み動作時に差動増
幅回路を非選択にすることによって消費電力の低減をは
かっているために、ビット線対ごとにそれぞれ対応して
設けられたビット線対選択用デコーダ回路BLD1、B
LD2、BLDnは、その内部に選択信号線SW1、S
W2、SWnに選択信号を発生されるデコード回路と、
選択信号線SR1、SR2、SRnに選択信号を発生さ
せるデコード回路の二つの回路を有さなければならな
い。そのためビット線対ごとにそれぞれ対応して設けら
れたビット線対選択用デコード回路の半導体記憶装置内
の占有面積が増大し、書き込みおよび読み出し動作の切
り替えを制御する回路の出力信号線の駆動負荷が増大す
る問題があった。本発明はこのような問題を解決するも
ので、ビット線対選択用デコード回路の占有面積を小さ
くし、出力信号線の駆動負荷を低減して回路動作の高速
化をはかることができる装置を提供することを目的とす
る。
【0007】
【課題を解決するための手段】本発明は、m行、n列の
マトリクス状に配列された複数のメモリセルを含むセル
アレイと、このメモリセルの各列ごとにそれぞれ対応し
て設けられその対応する列のメモリセルとそれぞれ接続
するビット線対と、このビット線対ごとにそれぞれ対応
して設けられその出力信号線対と負荷回路とを共通にし
た差動増幅回路と、前記ビット線対ごとにそれぞれ対応
して設けられその対応するビット線対に書き込みデータ
を伝達するトランスファゲート回路と、書き込みおよび
読み出し動作の切り替えを制御する制御回路とを備えた
半導体記憶装置において、前記負荷回路を前記制御回路
により制御する手段と、前記差動増幅回路および前記ト
ランスファゲート回路を選択する共通の選択信号を発生
する手段とを備えたことを特徴とする。
【0008】
【作用】ビット線対ごとにそれぞれ対応して設けられそ
の出力信号線対と負荷回路とを共通にした差動増幅回路
の共通の負荷回路を書き込み、読み出し動作の切り替え
を制御する回路の出力信号線と、半導体記憶装置に入力
されたアドレス信号のデコード信号の論理をとった信号
で制御する。
【0009】これにより、ビット線対ごとにそれぞれ対
応して設けられたビット線対選択用デコード回路の占有
面積を小さくすることができ、書き込みおよび読み出し
動作の切り替えを制御する回路の出力信号線の駆動負荷
を低減して回路動作の高速化をはかることができる。
【0010】
【実施例】次に、本発明実施例を図面に基づいて説明す
る。図1は本発明は実施例および従来例に係わる半導体
記憶装置の全体構成を示すブロック図である。
【0011】本発明実施例は、チップイネーブル制御回
路1と、書き込みおよび読み出し動作の切り替えを制御
する切替制御回路2と、データの入出力を行う入出力回
路3と、カラムデコーダ4と、データの入出力を制御す
る入出力制御回路5と、セルアレイ6と、ロウデコーダ
7と備えて全体が構成される。
【0012】(第一実施例)図2は本発明第一実施例に
おける入出力回路およびデコード回路の構成を示す図で
ある。
【0013】本発明第一実施例は、m行、n列のマトリ
クス状に配列された複数のメモリセルを含むセルアレイ
6と、このメモリセルの各列ごとにそれぞれ対応して設
けられその対応する列のメモリセルとそれぞれ接続する
ビット線対BL1〜BLnと、このビット線対BL1〜
BLnごとにそれぞれ対応して設けられその出力信号線
対RB1と負荷回路LD1とを共通にした差動増幅回路
BLSA1〜BLSAnと、ビット線対BL1〜BLn
ごとにそれぞれ対応して設けられその対応するビット線
対BL1〜BLnに書き込みデータを伝達するトランス
ファゲート回路DTR1〜DTRnと、書き込みおよび
読み出し動作の切り替えを制御する制御回路WRとを備
え、さらに、本発明の特徴として、負荷回路LD1を制
御回路WRにより制御する手段を構成するデコード回路
BD、差動増幅回路BSAと、差動増幅回路BLSA1
〜BLSAnおよびトランスファゲート回路DTR1〜
DTRnを選択する共通の選択信号SS1〜SSnを発
生するビット線対選択用デコード回路BLD1〜BLD
nとを備える。
【0014】図中、BL1、BL2、BLnはビット線
対、BLSA1、BLSA2、BLSAnはビット線対
BL1、BL2、BLnごとにそれぞれ対応して設けら
れその出力信号線対と負荷回路を共通にした差動増幅回
路であり、LD1はこの差動増幅回路BLSA1、BL
SA2、BLSAnに共通の負荷回路でPチャネル型絶
縁ゲート電界効果トランジスタで構成される。また、R
B1は差動増幅回路BLSA1、BLSA2、BLSA
nに共通の出力信号線対、DTR1、DTR2、DTR
nはビット線対BL1、BL2、BLnごとにそれぞれ
対応して設けられ、対応するビット線対BL1、BL
2、BLnに書き込みデコーダを伝達するためのトラン
スファゲート回路、WB1は書き込みデコーダ線対、L
D2はこの書き込みデータ線対WB1が非選択のとき電
源電圧にプリチャージするための負荷回路、SS1、S
S2、SSnはそれぞれ前記差動増幅回路BLSA1、
BLSA2、BLSAnおよびトランスファゲート回路
DTR1、DTR2、DTRnの選択信号線、BLD
1、BLD2、BLDnはビット線対BL1、BL2、
BLnごとにそれぞれ対応して設けられたビット線対選
択用デコード回路、GWBはグローバルな書き込みデー
タ線対、BTRは書き込みデータ線対WB1およびGW
Bを接続するためのトランスファゲート回路、BSAは
差動増幅回路、SBWはビット線対選択用デコード回路
BLD1、BLD2、BLDnおよびトランスファゲー
ト回路BTRの選択信号線、SBRは差動増幅回路BS
Aの選択信号線、WESは制御回路WRからの半導体記
憶装置の書き込みおよび読み出し動作の切り替えを制御
する回路の書込読出切替信号線、BDは半導体記憶装置
内の前述した全回路を含む複数に分割されたメモリセル
ブロックを選択するためのデコード回路、WRは制御回
路である。
【0015】次に、このように構成された本発明第一実
施例の動作について説明する。
【0016】メモリセルブロックを選択するためのデコ
ード回路BDは、半導体記憶装置に入力されたアドレス
信号のデコード信号を受けビット線対選択用デコード回
路BLD1、BLD2、BLDnおよびトランスファゲ
ート回路BTRの選択信号線SBWへの選択信号を発生
するとともに、アドレス信号のデコード信号と半導体記
憶装置の書き込みおよび読み出し動作の切り替えを制御
する回路の出力信号線WESからの出力信号の論理をと
って選択信号線SBRへの選択信号を発生させる。
【0017】ビット線対BL1、BL2、BLnごとに
それぞれ対応して設けられたビット線対選択用デコード
回路BLD1、BLD2、BLDnは、半導体記憶装置
に入力されたアドレス信号のデコード信号および選択信
号線SBWからの選択信号を受け、ビット線対BL1、
BL2、BLnごとにそれぞれ対応して設けられ、対応
するビット線対BL1、BL2、BLnに書き込みデー
タを伝達するトランスファゲート回路DTR1、DTR
2、DTRn、およびビット線対BL1、BL2、BL
nごとにそれぞれ対応して設けられ、その出力信号線対
と負荷回路を共通にした差動増幅回路BLSA1、BL
SA2、BLSAnの選択信号線SS1、SS2、SS
nに選択信号を発生する。
【0018】ここで、図2に示す回路を含む半導体記憶
装置が書き込み動作状態でデコード回路BDによってメ
モリセルブロックおよびそれに含まれるビット線対BL
1、BL2、BLnのうちのBL1が選択されると、選
択信号線SBWおよびSS1が“High”電位となり
トランスファゲート回路BTRおよびDTR1が“O
N”状態となり、書き込みデータ線対GWBおよびWB
1とビット線対BL1とが電気的に接続され半導体記憶
装置に入力された書き込みデータが書き込みデータ線対
GWBを通じて書き込みデータ線対WB1に伝達され、
それがビット線対BL1に伝達される。
【0019】また、半導体記憶装置は書き込み状態であ
るから書込読出切替信号線WESは“High”電位と
なり、選択信号線SBRが“Low”電位となって差動
増幅回路BSAが非選択となり消費電力が低減される。
かつ、ビット線対BL1、BL2、BLnごとにそれぞ
れ対応して設けられ、その出力信号線対と負荷回路を共
通にした差動増幅回路の共通の負荷回路LD1を制御す
る信号線SBRBが“High”電位となり負荷回路L
D1を“OFF”状態にし、ビット線対BL1、BL
2、BLnごとにそれぞれ対応して設けられその出力信
号線対と負荷回路を共通にした差動増幅回路BLSA
1、BLSA2、BLSAnが非選択となって消費電力
が低減される。
【0020】(第二実施例)図3は本発明第二実施例の
半導体記憶装置のビット線対に接続される入出力回路お
よびそれらを選択するためのデコード回路の回路図であ
る。図中BL1、BL2、BLnはビット対線、BLS
A1、BLSA2、BLSAnはビット線対ごとにそれ
ぞれ対応して設けられその出力信号線対と負荷回路を共
通にした差動増幅回路、LD1は差動増幅回路BLSA
1、BLSA2、BLSAnに共通の負荷回路でNチャ
ネル型絶縁ゲート電界効果トランジスタで構成される。
第二実施例と第一実施例との相違点は負荷回路LD1を
構成する絶縁ゲート電界効果トランジスタがPチャネル
型絶縁ゲート電界効果トランジスタからNチャネル型絶
縁ゲート電界効果トランジスタに変わり、その制御信号
がSBRBからその逆位相のSBRに変わったところに
あり、各回路および信号線動作および効果は第一実施例
と同様である。
【0021】
【発明の効果】以上説明したように本発明によれば、ビ
ット線対ごとにそれぞれ対応して設けられたビット線対
選択用デコード回路の占有面積を小さくするとともに、
書き込み、読み出し動作の切り替えを制御する回路の出
力信号線の駆動負荷を低減して回路動作の高速化をはか
ることができる効果がある。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明実施例および従来例に係わる半導体記憶
装置の全体構成を示すブロック図。
【図2】本発明第一実施例における入出力回路およびデ
コード回路の構成を示す図。
【図3】本発明第二実施例における入出力回路およびデ
コード回路の構成を示す図。
【図4】従来例における入出力回路およびデコード回路
の構成を示す図。
【符号の説明】
1 チップイネーブル制御回路 2 切替制御回路 3 入出力回路 4 カラムデコーダ 5 入出力制御回路 6 セルアレイ 7 ロウデコーダ BL1、BL2、BLn ビット線対 BLSA1、BLSA2、BLSAn、BSA 差動増
幅回路 LD1、LD2 負荷回路 RB1 出力信号線対 DTR1、DTR2、DTRn、BTR トランスファ
ゲート回路 WB1 書き込みデータ線対 SS1、SS2、SSn、SBR、BSA、SR1、S
R2、SRn、SW1、SW2、SWn 選択信号線 BLD1、BLD2、BLDn ビット線対選択用デコ
ード回路 GWB 書き込みデータ線対 WES 書込読出切替信号線 BD デコード回路 SBRB 制御信号線 WR 制御回路

Claims (2)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 m行、n列のマトリクス状に配列された
    複数のメモリセルを含むセルアレイ(6)と、 このメモリセルの各列ごとにそれぞれ対応して設けられ
    その対応する列のメモリセルとそれぞれ接続するビット
    線対(BL1〜BLn)と、 このビット線対ごとにそれぞれ対応して設けられその出
    力信号線対(RB1)と負荷回路(LD1)とを共通に
    した差動増幅回路(BLSA1〜BLSAn)と、 前記ビット線対ごとにそれぞれ対応して設けられその対
    応するビット線対に書き込みデータを伝達するトランス
    ファゲート回路(DTR1〜DTRn)と、 書き込みおよび読み出し動作の切り替えを制御する制御
    回路(WR)とを備えた半導体記憶装置において、 前記負荷回路(LD1)を前記制御回路(WR)により
    制御する手段(BD、BSA)と、 前記差動増幅回路(BLSA1〜BLSAn)および前
    記トランスファゲート回路(DTR1〜DTRn)を選
    択する共通の選択信号(SS1〜SSn)を発生する手
    段(BLD1〜BLDn)とを備えたことを特徴とする
    半導体記憶装置。
  2. 【請求項2】 前記負荷回路はPチャネル型絶縁ゲート
    電界効果トランジスタ、またはNチャネル型絶縁ゲート
    電界効果トランジスタである請求項1記載の半導体記憶
    装置。
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