JP2878405B2 - 描画処理における閉領域塗り潰し方法 - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、描画処理における画面中の任意矩形内に閉
領域描画処理する際の閉領域塗り潰し方法に関する。

〔従来の技術〕

従来、描画処理における画面中の任意矩形内に閉領域
描画処理する際の閉領域塗り潰し方法は、画面中に設定
された閉領域の輪郭を座標とした塗り潰し開始座標及び
終了座標を、描画すべき矩形領域の内外ともに登録し、
描画時に、その登録内容を参照して処理を行っていた。
従って、描画すべき矩形領域外の塗り潰し開始、終了座
標の数に関係なく、処理時間の高速化が図られなかっ
た。

〔発明が解決しようとする課題〕

上記従来技術は、塗り潰し開始座標及び終了座標の処
理において、描画すべき矩形領域以外についての処理も
行っていたため、塗り潰し描画処理に必要以上の時間を
要していた。

本発明の目的は、描画すべき矩形領域外の塗り潰し開
始及び終了座標の処理を簡略化することにより、塗り潰
し描画処理の高速化を図ることにある。

〔課題を解決するための手段〕

この目的を達成するために、本発明は、描画領域に設
定された任意の描画可能な矩形領域内に描画される閉領
域塗り潰し方法において、前記描画領域の各行方向に対
応して設けられるフラグ登録領域と、行方向における描
画開始座標及び描画終了座標を記録する塗り潰し開始座
標及び終了座標登録領域とを有し、前記閉領域の各輪郭
座標において、当該座標が前記矩形領域の左端より左方
であって、前記矩形領域の上端より下方、かつ、前記矩
形領域の下端より上方に位置する第１の領域に位置する
か、または、前記矩形領域内の第２の領域に位置するか
識別し、当該座標が前記第１の領域に位置するときは、
前記フラグ登録領域の当該座標に対応する行の領域にフ
ラグを登録し、当該座標が前記第２の領域に位置すると
きは、前記塗り潰し開始座標及び終了座標登録領域に当
該座標を登録する登録処理工程と、各行において、前記
フラグ登録領域の対応する領域にフラグが登録されてい
るか識別し、登録されている場合は、前記矩形領域の行
先頭から塗り潰しを開始し、その後、前記塗り潰し開始
座標及び終了座標登録領域に当該行の座標が登録されて
いるか識別し、登録されているときは当該登録されてい
る座標まで塗り潰し描画を行い、登録されていないとき
は前記矩形領域の行末尾まで塗り潰し描画を行う塗り潰
し描画処理工程と、を含むようにしたものである。

〔作用〕

描画する閉領域の輪郭座標により、フラグ登録並びに
塗り潰し開始座標及び終了座標登録を行い、そのフラグ
と塗り潰し開始座標及び終了座標とを参照することで、
簡略化された塗り潰し描画処理を行う。これによって、
メモリ登録、メモリ参照の低減（メモリアクセス数の低
減）を図ることが可能になるため、塗り潰し描画処理を
高速化することができる。

〔実施例〕 以下、本発明の一実施例を図面を参照して詳細に説明
する。

第１図は、本発明の塗り潰し描画処理の概要を示す図
である。

第１図において、画面１中の描画矩形領域２の座標か
ら、Ａ領域、Ｂ領域、Ｃ領域、Ｄ領域、及び描画矩形領
域２内の領域を判断する。ここで、Ａ領域は描画矩形領
域２の上端より上方の全ての領域を示し、Ｂ領域は描画
矩形領域２の下端より下方の全ての領域を示し、Ｃ領域
は描画矩形領域２の左端より左方であって、描画矩形領
域２の上端より下方、かつ、描画矩形領域２の下端より
上方に位置する領域を示し、Ｄ領域は描画矩形領域２の
右端より右方であって、描画矩形領域２の上端より下
方、かつ、描画矩形領域２の下端より上方に位置する領
域を示している。

そして、Ａ領域、Ｂ領域、及びＤ領域内を塗り潰し開
始座標及び終了座標の登録、参照をしない処理とし、Ｃ
領域内の塗り潰し開始座標及び終了座標はフラグ化して
登録、参照する処理とし、また、描画矩形領域２内の塗
り潰し開始座標及び終了座標は座標として登録、参照す
る処理とすることにより、描画矩形領域２内の処理を簡
略化する。そうすると、塗り潰し描画処理の高速化を図
ることができる。

以下、処理の詳細を説明するが、塗り潰し処理とし
て、塗り潰し開始座標及び終了座標の登録処理の後、登
録された座標を参照しての塗り潰し描画処理を行うた
め、この順序に従い説明する。

第２図（ａ）は、塗り潰し開始座標及び終了座標の登
録処理を説明する図である。

塗り潰し開始座標及び終了座標の登録は、閉領域の輪
郭座標を算出しながら、その輪郭座標を塗り潰し開始座
標及び終了座標として登録する。したがって、算出した
座標が、Ａ領域、Ｂ領域、Ｃ領域、若しくはＤ領域（第
１図参照）か、または、描画矩形領域２内のうちのどの
領域内にあるかで処理を分ける。

閉領域３及び閉領域４の輪郭座標を座標毎に、座標
（Ａ）、座標（Ｂ）、座標（Ｃ）、または、座標（Ｄ）
に分類し、その分類に応じた処理を実行する。以下にそ
の処理を説明する。

座標（Ｃ）は、Ａ領域、Ｂ領域、またはＣ領域にある
ため、塗り潰し開始座標及び終了座標の登録処理を行わ
ない。座標（Ｂ）は、Ｃ領域にあるため、フラグ登録処
理を行う。なお、フラグ登録処理とは、座標算出毎に、
その座標のＹ座標（行）に対応する塗り潰し開始フラグ
登録領域の内容（初期値は０）を反転することであり、
塗り潰し開始フラグ登録領域内容が‘1'であれば、描画
矩形領域２の塗り潰し開始位置（左方）に塗り潰し開始
要因があることになり、また、‘0'であれば要因がない
ことになる。座標（Ｄ）は、描画矩形領域２内にあるた
め、座標を、塗り潰し開始座標及び終了座標として登録
領域に登録する。

以上の処理で、第２図（ｂ）に示す塗り潰し開始フラ
グ登録領域と、第２図（ｃ）に示す塗り潰し開始座標及
び終了座標領域とに、塗り潰し開始フラグと塗り潰し開
始座標及び終了座標とが、それぞれ登録される。なお、
第２図（ｃ）の登録は、それぞれを登録した後、数値の
小さいものが領域の上方となるように並び替えをする。
すなわち、Ｙ座標の小さいものが上方となり、さらに同
じＹ座標である場合には、Ｘ座標が小さいものが上方に
登録される。

第３図（ａ）は、塗り潰し描画処理を説明する図であ
る。

塗り潰し描画処理は、Ｙ座標（行）単位に、座標値の
小さい方から、かつ、その行内でもＸ座標の小さい方か
ら、第３図（ｂ）に示す塗り潰し開始フラグ、および、
第３図（ｃ）に示す塗り潰し開始座標及び終了座標を参
照して行う。

なお、本実施例では、Ａ領域及びＢ領域の座標参照は
行わない処理となっているため、５行目から13行目まで
について塗り潰し描画処理を行うことになる。

行単位の処理は、まず、その行の第３図（ｂ）に示す
塗り潰し開始フラグを参照し、‘1'であれば塗り潰しを
開始要因有りなので、その行の描画矩形領域２の先頭
（左）から塗り潰しを開始する。また、第３図（ｂ）に
示す塗り潰し開始フラグが‘0'であれば塗り潰しは開始
しない。次に、第３図（ｃ）に示すその行の塗り潰し開
始座標及び終了座標（Ｙ座標により、その行のものと判
断する）を参照する。この時、Ｘ座標（桁）の小さいも
のから参照していくが、その行の塗り潰し開始座標及び
終了座標を検出する毎に、それまでの塗り潰し処理の反
対の処理（それまでに塗り潰しが開始されていれば塗り
潰し終了、塗り潰しが開始されていなければ塗り潰し開
始）をその座標から行う。この処理を繰り返して塗り潰
し描画をしていくが、塗り潰し描画は、描画矩形領域２
の末尾（右）で終了する。

以上の処理を各行ごとに行い塗り潰し描画処理を終了
する。

次に、行単位での描画処理を以下に説明する。

（１）６行目の描画処理 塗り潰し開始フラグが‘0'なので、次に塗り潰し開始
座標及び終了座標を参照し、６行13桁の座標から塗り潰
しを開始し、６行20桁の座標で塗り潰しを終了する。

（２）８行目の描画処理 塗り潰し開始フラグが‘1'なので、描画矩形領域２の
先頭から塗り潰しを開始する。次に塗り潰し開始座標及
び終了座標を参照し、８行20桁の座標で塗り潰しを終了
する。

（３）10行目の描画処理 塗り潰し開始フラグが‘1'なので、描画矩形領域２の
先頭から塗り潰しを開始する。次に塗り潰し開始座標及
び終了座標を参照するが、10行の座標が無いため、描
画、矩形領域２の末尾まで塗り潰しを行い、その末尾で
塗り潰しを終了する。

〔発明の効果〕

本発明によれば、塗り潰し矩形領域外の座標点が多い
場合、その座標点の処理を簡略化できるので、塗り潰し
描画処理の高速化を図ることができる。

【図面の簡単な説明】

第１図は、本発明の一実施例の処理概要を説明する図、
第２図（ａ）は、塗り潰し処理中の座標登録処理を説明
する図、第２図（ｂ）は、塗り潰し開始フラグ登録領域
を示す図、第２図（ｃ）は、塗り潰し開始座標及び終了
座標登録領域を示す図、第３図（ａ）は、塗り潰し処理
中の塗り潰し描画処理を説明する図、第３図（ｂ）は、
塗り潰し開始フラグ登録領域を示す図、第３図（ｃ）
は、塗り潰し開始座標及び終了座標登録領域を示す図で
ある。 １……画面（描画できる領域）、２……描画矩形領域、
３……画面中に設定された閉領域、４……画面中に設定
された閉領域、５……塗り潰し描画される領域。

Claims (1)

(57)【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】描画領域に設定された任意の描画可能な矩
   形領域内に描画される閉領域塗り潰し方法において、 前記描画領域の各行方向に対応して設けられるフラグ登
   録領域と、行方向における描画開始座標及び描画終了座
   標を記憶する塗り潰し開始座標及び終了座標登録領域と
   を有し、 前記閉領域の各輪郭座標において、当該座標が前記矩形
   領域の左端より左方であって、前記矩形領域の上端より
   下方、かつ、前記矩形領域の下端より上方に位置する第
   １の領域に位置するか、または、前記矩形領域内の第２
   の領域に位置するか識別し、当該座標が前記第１の領域
   に位置するときは、前記フラグ登録領域の当該座標に対
   応する行の領域にフラグを登録し、当該座標が前記第２
   の領域に位置するときは、前記塗り潰し開始座標及び終
   了座標登録領域に当該座標を登録する登録処理工程と、 各行において、前記フラグ登録領域の対応する領域にフ
   ラグが登録されているか識別し、登録されている場合
   は、前記矩形領域の行先頭から塗り潰しを開始し、その
   後、前記塗り潰し開始座標及び終了座標登録領域に当該
   行の座標が登録されているか識別し、登録されていると
   きは当該登録されている座標まで塗り潰し描画を行い、
   登録されていないときは前記矩形領域の行末尾まで塗り
   潰し描画を行う塗り潰し描画処理工程と、 を含むことを特徴とする描画処理における閉領域塗り潰
   し方法。