JP2866673B2 - Magnetic recording media - Google Patents
Magnetic recording mediaInfo
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- JP2866673B2 JP2866673B2 JP22318489A JP22318489A JP2866673B2 JP 2866673 B2 JP2866673 B2 JP 2866673B2 JP 22318489 A JP22318489 A JP 22318489A JP 22318489 A JP22318489 A JP 22318489A JP 2866673 B2 JP2866673 B2 JP 2866673B2
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Description
【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は磁気記録媒体に関し、詳しくはすべり性,平
滑性,温度及び湿度に対する寸法安定性等にすぐれ、磁
気テープ,磁気ディスク,磁気ドラム,磁気カードなど
に有用な磁気記録媒体に関する。Description: BACKGROUND OF THE INVENTION The present invention relates to a magnetic recording medium, and more particularly, to a magnetic tape, a magnetic disk, a magnetic drum, and a magnetic recording medium having excellent slipperiness, smoothness, and dimensional stability against temperature and humidity. The present invention relates to a magnetic recording medium useful for a magnetic card and the like.
従来から、磁気記録媒体としてポリエチレンテレフタ
レート(PET)フィルム支持体に磁性層を塗布したもの
が広く用いられている。しかし、PETフィルムは耐水性
が劣り、高温,高湿下で加水分解するおそれがあり、使
用に耐えなくなる場合がある。また、PETのガラス転移
温度は、60〜70℃であり、それ以上の高温下での使用に
は、伸び等が生じやすいため、必ずしも信頼性が充分で
ない。Conventionally, a magnetic recording medium in which a magnetic layer is coated on a polyethylene terephthalate (PET) film support has been widely used. However, the PET film has poor water resistance, may be hydrolyzed at high temperature and high humidity, and may not be usable. In addition, the glass transition temperature of PET is 60 to 70 ° C., and elongation or the like is apt to occur when used at a higher temperature, and the reliability is not always sufficient.
一方、近年に至って磁気記録媒体が高密度化する傾向
にあり、その信頼性への要求が高まっている。高密度化
の一つの手段として蒸着法があるが、PETフィルムでは
耐熱性が不足し、またオリゴマー析出等の問題がある。On the other hand, in recent years, the density of magnetic recording media has tended to increase, and demand for reliability thereof has increased. As one means for increasing the density, there is an evaporation method. However, the heat resistance of the PET film is insufficient, and there are problems such as oligomer precipitation.
ところで、本発明者らのグループが先般開発した主と
してシンジオタクチック構造を有するスチレン系重合体
は、PETに比べ、耐熱性,耐水性や寸法安定性にすぐ
れ、しかもオリゴマーの少ない重合体であって、様々な
用途が期待されている。By the way, the styrenic polymer mainly having a syndiotactic structure recently developed by the group of the present inventors is a polymer having excellent heat resistance, water resistance and dimensional stability as compared with PET, and having less oligomers. Various applications are expected.
そこで、本発明者らはこの主としてシンジオタクチッ
ク構造を有するスチレン系重合体を用いて、高温,高湿
等の過酷な条件下でも信頼性の高い磁気記録媒体を開発
すべく鋭意研究を重ねた。Therefore, the present inventors have conducted intensive studies to develop a magnetic recording medium having high reliability under severe conditions such as high temperature and high humidity by using the styrenic polymer having a syndiotactic structure. .
その結果、上記スチレン系重合体又はその組成物の延
伸フィルムあるいは該延伸フィルムを含む積層フィルム
であって、線膨張係数及び静摩擦係数が一定範囲にある
基材フィルムに磁性層を有するものが、上記目的に適う
磁気記録媒体になることを見出した。本発明はかかる知
見に基いて完成したものである。As a result, a stretched film of the styrene-based polymer or the composition thereof or a laminated film including the stretched film, wherein the linear expansion coefficient and the static friction coefficient having a magnetic layer in a certain range of the base film, It has been found that the magnetic recording medium is suitable for the purpose. The present invention has been completed based on such findings.
すなわち本発明は、主としてシンジオタクチック構造
を有するスチレン系重合体又はその組成物の延伸フィル
ムあるいは該延伸フィルムを含む積層フィルムであっ
て、線膨張係数が5×10-5/℃以下及び静摩擦係数が0.3
以上1.0以下である基材フィルムの少なくとも片面に磁
性層を有し、かつ該磁性層形成側の基材フィルムの表面
粗さRaが0.001μm以上0.05μm以下である磁気記録媒
体を提供するものである。That is, the present invention mainly relates to a stretched film of a styrenic polymer having a syndiotactic structure or a composition thereof or a laminated film containing the stretched film, having a coefficient of linear expansion of 5 × 10 −5 / ° C. or less and a coefficient of static friction. Is 0.3
A magnetic recording medium having a magnetic layer on at least one side of a base film that is not less than 1.0 and a surface roughness Ra of the base film on the side on which the magnetic layer is formed is 0.001 μm or more and 0.05 μm or less. is there.
本発明では磁気記録媒体の基材フィルムとして、上述
した延伸フィルムからなる単層フィルムあるいは該延伸
フィルムを含む積層フィルムが用いられる。また、この
基材フィルムは、線膨張係数が5×10-5/℃以下、好ま
しくは4×10-5/℃以下であり、また、この基材フィル
ムの静摩擦係数μsについては、0.3〜1.0、好ましくは
0.3〜0.9である。この静摩擦係数μsは、基材フィルム
の表面状態を規定するものであるが、特に基材フィルム
の磁性層形成側と反対側表面の静摩擦係数μsが、上記
範囲にあることが望ましい。In the present invention, a single-layer film composed of the above-described stretched film or a laminated film including the stretched film is used as the base film of the magnetic recording medium. The base film has a coefficient of linear expansion of 5 × 10 −5 / ° C. or less, preferably 4 × 10 −5 / ° C. or less, and the coefficient of static friction μs of the base film is 0.3 to 1.0 ,Preferably
0.3 to 0.9. The coefficient of static friction μs defines the surface condition of the substrate film. In particular, the coefficient of static friction μs of the surface of the substrate film opposite to the side on which the magnetic layer is formed is desirably in the above range.
また、この基材フィルムの表面粗さRaについては、特
に制限はないが、少なくともその片面の表面粗さRaが、
0.001〜0.05μmであることが好ましく、特に0.001〜0.
04μmが最適である。とりわけ、磁性層形成側の基材フ
ィルムの表面粗さRaが上記範囲にあることが望ましい。In addition, the surface roughness Ra of the base film is not particularly limited, but at least one surface roughness Ra is,
It is preferably 0.001 to 0.05 μm, particularly 0.001 to 0.
04 μm is optimal. In particular, it is desirable that the surface roughness Ra of the base film on the side on which the magnetic layer is formed be within the above range.
なお、上記基材フィルムの湿度膨張係数については、
特に制限はないが、5×10-5/%RH以下が好ましい。In addition, about the humidity expansion coefficient of the base film,
Although there is no particular limitation, it is preferably 5 × 10 −5 /% RH or less.
このような本発明の磁気記録媒体のベースフィルムを
作成するにあたっては、各種の方法があるが、具体的に
は下記(1)〜(3)の三つの方法を例示することがで
きる。There are various methods for producing such a base film of the magnetic recording medium of the present invention, and specifically, the following three methods (1) to (3) can be exemplified.
(1)主としてシンジオタクチック構造を有するスチレ
ン系重合体に、無機微粒子を配合してなる組成物、特
に、平均粒径0.01〜3μmの無機微粒子を0.001〜1重
量%配合してなる組成物を加熱溶融,押出,冷却固化,
加熱,延伸,熱処理して延伸フィルムを形成する。これ
によって、この延伸フィルムのみからなる画面が平滑か
つ粗面化された易滑な単層フィルムが得られる。(1) A composition mainly comprising a styrene polymer having a syndiotactic structure and inorganic fine particles, particularly a composition comprising 0.001 to 1% by weight of inorganic fine particles having an average particle diameter of 0.01 to 3 μm. Heat melting, extrusion, cooling solidification,
Heat, stretch and heat-treat to form a stretched film. As a result, a smooth single-layer film in which the screen composed of only the stretched film is smooth and roughened is obtained.
(2)上記(1)で用いた組成物と、主としてシンジオ
タクチック構造を有するスチレン系重合体、特に残留ア
ルミニウム分が3000ppm以下,残留チタン分が10ppm以下
及び残留スチレン系単量体が7000ppm以下の高純度のス
チレン系重合体、あるいはこのスチレン系重合体を主成
分とする組成物(但し、無機微粒子を含有しない。)と
を加熱溶融,共押出,冷却固化,加熱,延伸,熱処理し
て二種類あるいはそれ以上の延伸フィルムを積層状態で
形成する。これによって、片面が超平滑で他面が粗面化
された易滑な多層(積層)フィルムが得られる。(2) The composition used in the above (1) and a styrene polymer having a syndiotactic structure, particularly, a residual aluminum content of 3000 ppm or less, a residual titanium content of 10 ppm or less, and a residual styrene monomer of 7000 ppm or less And heat-melting, co-extrusion, cooling and solidification, heating, stretching, and heat-treating a high-purity styrene-based polymer or a composition containing this styrene-based polymer as a main component (but not containing inorganic fine particles). Two or more stretched films are formed in a laminated state. Thereby, a smooth multi-layer (laminated) film having one surface super-smooth and the other surface roughened can be obtained.
(3)主としてシンジオタクチック構造を有するスチレ
ン系重合体、特に残留アルミニウム分が3000ppm以下,
残留チタン分が10ppm以下及び残留スチレン系単量体が7
000ppm以下の高純度のスチレン系重合体あるいはこのス
チレン系重合体を主成分とする組成物(但し、無機微粒
子を含有しない。)を、加熱溶融,押出,冷却固化,加
熱,延伸,熱処理する過程でその少なくとも片面に、表
面粗面化可能な樹脂或いは無機超微粒子を含有する樹脂
組成物からなる層を、貼り合わせ(ラミネート),塗布
あるいは蒸着等により形成させることによって、片面が
超平滑でもう一方の面が粗面化された易滑な多層フィル
ムが得られる。この際上記樹脂組成物からなる層は、必
要に応じて延伸したものを用いてもよい。(3) Styrene-based polymer having a syndiotactic structure, particularly, the residual aluminum content is 3000 ppm or less,
Residual titanium content is 10 ppm or less and residual styrene monomer is 7
Process of heating and melting, extruding, cooling and solidifying, heating, stretching, and heat-treating a styrene polymer having a high purity of 000 ppm or less or a composition containing this styrene polymer as a main component (but not containing inorganic fine particles). By forming a layer made of a resin or a resin composition containing inorganic ultrafine particles on at least one surface thereof by laminating, coating or vapor-depositing, one surface thereof is super smooth. A smooth multilayer film having one surface roughened can be obtained. At this time, the layer made of the resin composition may be stretched as necessary.
ここで、積層に用いる樹脂は、主としてシンジオタク
チック構造を有するスチレン系重合体や各種ブレンド樹
脂を用いることができるが、融点あるいは軟化点の高い
樹脂が好ましい。また、他樹脂中に含有させる無機微粒
子の種類,量,粒径は、後述の無機微粒子を用いること
ができる。Here, as the resin used for lamination, a styrene-based polymer having a syndiotactic structure or various blend resins can be mainly used, but a resin having a high melting point or softening point is preferable. The type, amount, and particle size of the inorganic fine particles contained in the other resin may be the inorganic fine particles described below.
また、積層する方法は特に限定はないが、共押出法の
他にこれらの他樹脂、他樹脂組成物を溶解、塗布する方
法を延伸フィルム製造工程に組み込むと生産性が良い。The method of laminating is not particularly limited, but the productivity is good if the method of dissolving and applying these other resins and other resin compositions besides the co-extrusion method is incorporated in the stretched film manufacturing process.
ここで、特にテープにおいては、上記粗面を有する層
をバックコート層とする場合があり、主として磁性層は
この反対の超平滑面側に設けられる。Here, particularly in a tape, the layer having the rough surface may be used as a back coat layer, and the magnetic layer is mainly provided on the opposite super smooth surface side.
このようにして得られた延伸フィルムは厚さ2〜500
μmで、線膨張係数5×10-5/℃以下,静摩擦係数μs0.
3〜1.0で且つ(1)の方法によれば両面の表面粗さRaが
0.005〜0.05μm、(2),(3)の方法によれば易滑
な粗面と平滑面の両方を合せ持ち、それぞれの表面粗さ
が0.005〜0.05μm,0.001〜0.04μmのものである。また
湿度膨張係数が5×10-5/%RH以下であればより好まし
い。The stretched film thus obtained has a thickness of 2 to 500
μm, linear expansion coefficient 5 × 10 −5 / ° C or less, static friction coefficient μs 0.
According to the method (1), the surface roughness Ra of both surfaces is 3 to 1.0.
According to the methods of (2) and (3), both the smooth surface and the smooth surface are combined, and the surface roughness is 0.005 to 0.05 μm and 0.001 to 0.04 μm, respectively. . It is more preferable that the coefficient of humidity expansion is 5 × 10 −5 /% RH or less.
フィルム厚さについては、2〜20μmのフィルムが磁
気テープ用に、20〜150μmのフィルムが磁気ディスク
用に、100〜500μmのフィルムが磁気カード用として好
適である。Regarding the film thickness, a film of 2 to 20 μm is suitable for a magnetic tape, a film of 20 to 150 μm is for a magnetic disk, and a film of 100 to 500 μm is suitable for a magnetic card.
これらのフィルムを用いて、磁気記録媒体を作成する
が、必要に応じて、コロナ処理等により表面接着性を改
良したフィルムも用いてもよく、さらに予め、磁性層を
設ける側に接着層を設けていてもよい。Using these films, a magnetic recording medium is prepared.If necessary, a film having improved surface adhesiveness by corona treatment or the like may be used.In addition, an adhesive layer is provided in advance on the side on which the magnetic layer is provided. May be.
ところで、上記フィルム素材として用いられる主とし
てシンジオタクチック構造を有するスチレン系重合体と
は、立体化学構造が主としてシンジオタクチック構造、
即ち炭素−炭素結合から形成される主鎖に対して側鎖で
あるフェニル基や置換フェニル基が交互に反対方向に位
置する立体構造を有するものであり、そのタクティシテ
ィーは同位体炭素による核磁気共鳴法(13C−NMR法)に
より定量される。13C−NMR法により測定されるタクティ
シティーは、連続する複数個の構成単位の存在割合、例
えば2個の場合はダイアッド,3個の場合はトリアッド,5
個の場合はペンタッドによって示すことができるが、本
発明に言う主としてシンジオタクチック構造を有するス
チレン系重合体とは、通常はラセミダイアッドで75%以
上、好ましくは85%以上、若しくはラセミペンタッドで
30%以上、好ましくは50%以上のシンジオタクティシテ
ィーを有するポリスチレン,ポリ(アルキルスチレ
ン),ポリ(ハロゲン化スチレン),ポリ(アルコキシ
スチレン),ポリ(ビニル安息香酸エステル),これら
の水素化重合体およびこれらの混合物、あるいはこれら
の構造単位を含む共重合体を指称する。なお、ここでポ
リ(アルキルスチレン)としては、ポリ(メチルスチレ
ン),ポリ(エチルスチレン),ポリ(プロピルスチレ
ン),ポリ(ブチルスチレン),ポリ(フェニルスチレ
ン),ポリ(ビニルナフタレン),ポリ(ビニルスチレ
ン),ポリ(アセナフチレン)などがあり、ポリ(ハロ
ゲン化スチレン)としては、ポリ(クロロスチレン),
ポリ(ブロモスチレン),ポリ(フルオロスチレン)な
どがある。また、ポリ(アルコキシスチレン)として
は、ポリ(メトキシスチレン),ポリ(エトキシスチレ
ン)などがある。これらのうち特に好ましいスチレン系
重合体としては、ポリスチレン,ポリ(p−メチルスチ
レン),ポリ(m−メチルスチレン),ポリ(p−ター
シャリーブチルスチレン),ポリ(p−クロロスチレ
ン),ポリ(m−クロロスチレン),ポリ(p−フルオ
ロスチレン)、またスチレンとp−メチルスチレンとの
共重合体をあげることができる(特開昭62−187708号公
報)。By the way, the styrene polymer having a predominantly syndiotactic structure used as the film material refers to a stereochemical structure having a predominantly syndiotactic structure,
That is, it has a three-dimensional structure in which phenyl groups and substituted phenyl groups, which are side chains, are alternately located in opposite directions with respect to the main chain formed from carbon-carbon bonds, and has a tacticity of nuclear magnetism due to isotope carbon. It is quantified by the resonance method ( 13C -NMR method). Tacticity measured by the 13 C-NMR method is the abundance ratio of a plurality of continuous structural units, for example, dyad in the case of two, triad in the case of three, 5
The styrene polymer having a syndiotactic structure referred to in the present invention is usually 75% or more, preferably 85% or more as a racemic diad, or a racemic pentad. so
Polystyrene, poly (alkylstyrene), poly (halogenated styrene), poly (alkoxystyrene), poly (vinylbenzoate) having a syndiotacticity of 30% or more, preferably 50% or more, A coalescent and a mixture thereof, or a copolymer containing these structural units is referred to. Here, poly (alkylstyrene) includes poly (methylstyrene), poly (ethylstyrene), poly (propylstyrene), poly (butylstyrene), poly (phenylstyrene), poly (vinylnaphthalene), and poly (vinylstyrene). Vinyl (styrene)) and poly (acenaphthylene). Poly (halogenated styrene) includes poly (chlorostyrene),
Examples include poly (bromostyrene) and poly (fluorostyrene). Examples of poly (alkoxystyrene) include poly (methoxystyrene) and poly (ethoxystyrene). Of these, particularly preferred styrene polymers include polystyrene, poly (p-methylstyrene), poly (m-methylstyrene), poly (p-tert-butylstyrene), poly (p-chlorostyrene), and poly (p-chlorostyrene). m-chlorostyrene), poly (p-fluorostyrene), and a copolymer of styrene and p-methylstyrene (JP-A-62-187708).
更に、スチレン系共重合体におけるコモノマーとして
は、上述の如きスチレン系重合体のモノマーのほか、エ
チレン,プロピレン,ブテン,ヘキセン,オクテン等の
オレフィンモノマー、ブタジエン,イソプレン等のジエ
ンモノマー、環状ジエンモノマーやメタクリル酸メチ
ル,無水マレイン酸,アクリロニトリル等の極性ビニル
モノマー等をあげることができる。Further, as the comonomer in the styrenic copolymer, in addition to the styrenic polymer monomer as described above, olefin monomers such as ethylene, propylene, butene, hexene, and octene; diene monomers such as butadiene and isoprene; and cyclic diene monomers. Examples include polar vinyl monomers such as methyl methacrylate, maleic anhydride, and acrylonitrile.
またこのスチレン系重合体は、分子量について特に制
限はないが、重量平均分子量が10,000以上3,000,000以
下のものが好ましく、とりわけ50,000以上1,500,000以
下のものが最適である。ここで重量平均分子量が10,000
未満であると、延伸が充分にできない。さらに、分子量
分布についてもその広狭は制約がなく、様々なものを充
当することが可能であるが、重量平均分子量(Mw)/数
平均分子量(Mn)が1.5以上8以下が好ましい。なお、
この主としてシンジオタクチック構造を有するスチレン
系重合体は、従来のアタクチック構造のスチレン系重合
体に比べて耐熱性が格段に優れている。The molecular weight of the styrenic polymer is not particularly limited, but is preferably 10,000 to 3,000,000, more preferably 50,000 to 1,500,000. Where the weight average molecular weight is 10,000
If it is less than 100%, stretching cannot be performed sufficiently. Further, the molecular weight distribution is not limited in its width and may be any of various types. However, the weight average molecular weight (Mw) / number average molecular weight (Mn) is preferably 1.5 or more and 8 or less. In addition,
The styrene-based polymer mainly having a syndiotactic structure has much better heat resistance than a conventional styrene-based polymer having an atactic structure.
また、前述の延伸フィルム(特に超平滑面を有するフ
ィルム)を構成する主としてシンジオタクチック構造を
有するスチレン系重合体は、上述した如きものであれば
よいが、特に残留アルミニウム分が3000ppm以下、残留
チタン分が10ppm以下及び残留スチレン系単量体が7000p
pm以下のものが好ましい。とりわけ、残留アルミニウム
分が1000ppm以下,残留チタン分が7ppm以下及び残留ス
チレン系単量体が5000ppm以下のものが最適である。The styrenic polymer mainly having a syndiotactic structure constituting the above-mentioned stretched film (especially, a film having an ultra-smooth surface) may be any one as described above. Titanium content is less than 10ppm and residual styrene monomer is 7000p
Those below pm are preferred. In particular, those having a residual aluminum content of 1000 ppm or less, a residual titanium content of 7 ppm or less, and a residual styrene monomer of 5000 ppm or less are optimal.
このような高純度のスチレン系重合体を製造するに
は、様々な手法があるが、例えば次の如くである。ま
ず、残留アルミニウム分及び残留チタン分を上記の範囲
内に抑えるためには、高活性触媒を用いてスチレン系
重合体を製造する方法(特願昭63−7466号明細書参照)
あるいは脱灰,洗浄による方法、即ち、特開昭62−18
7708号公報等に記載の通常のIV A族の有機金属化合物と
メチルアルミノキサン等のアルキルアルミノキサンを触
媒成分として、スチレン系単量体を重合させた後、得ら
れたシンジオタクチック構造のスチレン系重合体を、
酸,アルカリを適当な溶媒に溶解させた溶液により脱灰
し、適当な溶媒で洗浄する方法である。There are various methods for producing such a high-purity styrene-based polymer, and for example, it is as follows. First, in order to keep the residual aluminum content and the residual titanium content within the above ranges, a method of producing a styrenic polymer using a highly active catalyst (see Japanese Patent Application No. 63-7466).
Alternatively, a method using deashing and washing, that is,
No. 7708, etc., a styrene-based monomer obtained by polymerizing a styrene-based monomer using a group IV organometallic compound and an alkylaluminoxane such as methylaluminoxane as a catalyst component, and then obtaining a styrene-based polymer having a syndiotactic structure. Coalescing,
This is a method in which deashing is performed with a solution in which an acid or alkali is dissolved in a suitable solvent, and the resultant is washed with a suitable solvent.
このようにしてあるいはの方法により、残留アル
ミニウム分及び残留チタン分の少ないシンジオタクチッ
ク構造のスチレン系重合体が得られるが、さらに、これ
を下記あるいはの方法で処理すれば、残留スチレン
系単量体が7000ppm以下のものとなる。In this manner or by the above method, a styrene-based polymer having a syndiotactic structure with a low residual aluminum content and a low residual titanium content can be obtained. Your body will be less than 7000 ppm.
上記スチレン系重合体を減圧乾燥する方法 ここで減圧乾燥するにあたっては、乾燥温度を該重合
体のガラス転移温度以上とすると効率がよい。Method for Drying the Styrenic Polymer under Reduced Pressure Here, when drying under reduced pressure, it is efficient to set the drying temperature to be equal to or higher than the glass transition temperature of the polymer.
上記スチレン系重合体を押出機により脱気する方法 上記スチレン系重合体あるいはの方法で減圧乾燥し
たスチレン系重合体を、押出機により脱気し、同時に成
形用材料(ペレット)とする。ここで押出機はベント付
きが好ましく、一軸,二軸いずれの押出機を用いてもよ
い。Method for degassing the styrene-based polymer by an extruder The styrene-based polymer obtained by drying under reduced pressure by the above-mentioned styrene-based polymer or the above method is degassed by an extruder, and is simultaneously formed into a molding material (pellet). Here, the extruder is preferably provided with a vent, and a single-screw or twin-screw extruder may be used.
このような処理を経て残留アルミニウム分,残留チタ
ン分及び残留スチレン系単量体の少ない高純度のシンジ
オタクチック構造のスチレン系重合体が得られる。Through such treatment, a styrene-based polymer having a high purity syndiotactic structure with little residual aluminum, residual titanium and residual styrene-based monomer can be obtained.
一方、易滑な粗面を有する延伸フィルムの構成素材
は、主としてシンジオタクチック構造を有するスチレン
系重合体に無機微粒子を含有させた組成物、特に上記ス
チレン系重合体に平均粒径0.01〜3μmの無機微粒子を
0.001〜1重量%含有させた組成物である。この組成物
は、スチレン系重合体(但し、必ずしも上記の如き高純
度であることを要せず、特開昭62−187708号公報等に記
載の方法等によればよい。)に、無機微粒子を配合する
あるいは重合中に析出させることによって調製される。
ここで、無機微粒子とは、I A族,II A族,IV A族,VI A
族,VII A族,VIII族,I B族,II B族,III B族,IV B族元素
の酸化物,水酸化物,硫化物,窒素化物,ハロゲン化
物,炭酸塩,酢酸塩,燐酸塩,亜燐酸塩,有機カルボン
酸塩,珪酸塩,チタン酸塩,硼酸塩及びそれらの含水化
合物、それらを中心とする複合化合物,天然鉱物粒子を
示す。On the other hand, the constituent material of the stretched film having a smooth rough surface is mainly a composition containing inorganic fine particles in a styrene-based polymer having a syndiotactic structure, in particular, an average particle size of 0.01 to 3 μm in the styrene-based polymer. Inorganic fine particles
It is a composition containing 0.001-1% by weight. The composition may be a styrene-based polymer (however, it is not necessarily required to have the high purity as described above, and may be prepared according to the method described in JP-A-62-187708). Or precipitated during polymerization.
Here, the inorganic fine particles refer to IA group, IIA group, IVA group, VIA group.
Oxides, hydroxides, sulfides, nitrides, halides, carbonates, acetates, phosphates of Group IV, VIIA, VIII, IB, IIB, IIIB, IVB elements, Shows phosphites, organic carboxylate, silicate, titanate, borate and their hydrated compounds, composite compounds centered on them, and natural mineral particles.
具体的には、弗化リチウム,硼砂(硼酸ナトリウム含
水塩)等のI A族元素化合物、炭酸マグネシウム,燐酸
マグネシウム,酸化マグネシウム(マグネシア),塩化
マグネシウム,酢酸マグネシウム,弗化マグネシウム,
チタン酸マグネシウム,珪酸マグネシウム,珪酸マグネ
シウム含水塩(タルク),炭酸カルシウム,燐酸カルシ
ウム,亜燐酸カルシウム,硫酸カルシウム(石膏),酢
酸カルシウム,テレフタル酸カルシウム,水酸化カルシ
ウム,珪酸カルシウム,弗化カルシウム,チタン酸カル
シウム,チタン酸ストロンチウム,炭酸バリウム,燐酸
バリウム,硫酸バリウム,亜燐酸バリウム等のII A族元
素化合物、二酸化チタン(チタニア),一酸化チタン,
窒化チタン,二酸化ジルコニウム(ジルコニア),一酸
化ジルコニウム等のIV A族元素化合物、二酸化モリブデ
ン,三酸化モリブデン,硫化モリブデン等のVI A族元素
化合物、塩化マンガン,酢酸マンガン等のVII A族元素
化合物、塩化コバルト,酢酸コバルト等のVIII族元素化
合物、沃化第一銅等のI B族元素化合物、酸化亜鉛,酢
酸亜鉛等のII B族元素化合物、酸化アルミニウム(アル
ミナ),水酸化アルミニウム,弗化アルミニウム,アル
ミノシリケート(珪酸アルミナ,カオリン,カオリナイ
ト)等のIII B族元素化合物、酸化珪素(シリカ,シリ
カゲル),石墨,カーボン,グラファイト,ガラス等の
IV B族元素化合物、カーナル石,カイナイト,雲母(マ
イカ,キンウンモ),バイロース鉱等の天然鉱物の粒子
が挙げられる。Specifically, group IA element compounds such as lithium fluoride, borax (sodium borate hydrate), magnesium carbonate, magnesium phosphate, magnesium oxide (magnesia), magnesium chloride, magnesium acetate, magnesium fluoride,
Magnesium titanate, magnesium silicate, magnesium silicate hydrate (talc), calcium carbonate, calcium phosphate, calcium phosphite, calcium sulfate (gypsum), calcium acetate, calcium terephthalate, calcium hydroxide, calcium silicate, calcium fluoride, titanium Group IIA element compounds such as calcium phosphate, strontium titanate, barium carbonate, barium phosphate, barium sulfate, barium phosphite, titanium dioxide (titania), titanium monoxide,
Group IVA element compounds such as titanium nitride, zirconium dioxide (zirconia) and zirconium oxide; Group VIA element compounds such as molybdenum dioxide, molybdenum trioxide and molybdenum sulfide; Group VII A element compounds such as manganese chloride and manganese acetate; Group VIII element compounds such as cobalt chloride and cobalt acetate; Group IB element compounds such as cuprous iodide; Group IIB element compounds such as zinc oxide and zinc acetate; aluminum oxide (alumina); aluminum hydroxide; , Aluminosilicate (alumina silicate, kaolin, kaolinite) and other Group IIIB element compounds, silicon oxide (silica, silica gel), graphite, carbon, graphite, glass, etc.
IV Group B element compounds, particles of natural minerals such as kernalite, kainite, mica (mica, kinunmo), and virose ore.
本発明で用いる無機微粒子の平均粒径は、特に制限は
ないが、好ましくは0.01〜3μm、より好ましくは0.01
〜1μmで、組成物中の含量は0.001〜1重量%、好ま
しくは0.001〜0.6重量%である。ここで平均粒径が0.01
μmより小さいと粒子同士の二次凝集のため分散が困難
となる場合があり、また平均粒径が3μmより大きいと
平滑性が低下する。また、組成物中の無機微粒子の含量
が0.001重量%より少ないとすべり性の改良の効果が不
充分となり、含量が1重量%より多いと薄物での延伸が
困難となる場合がある。The average particle size of the inorganic fine particles used in the present invention is not particularly limited, but is preferably 0.01 to 3 μm, more preferably 0.01 to 3 μm.
〜1 μm, the content in the composition is 0.001-1% by weight, preferably 0.001-0.6% by weight. Where the average particle size is 0.01
If it is smaller than μm, dispersion may be difficult due to secondary agglomeration of particles, and if it is larger than 3 μm, smoothness may be reduced. On the other hand, if the content of the inorganic fine particles in the composition is less than 0.001% by weight, the effect of improving the slip property is insufficient, and if the content is more than 1% by weight, stretching with a thin material may be difficult.
また、前述の無機微粒子は本発明の目的を達成する上
で、効果的な成分であるが、本発明の目的を阻害しない
限り、他の種類あるいは他の粒径の微粒子,無機充填材
等を含むものであってもよい。In addition, the above-mentioned inorganic fine particles are effective components in achieving the object of the present invention. However, as long as the object of the present invention is not impaired, fine particles of other types or other particle sizes, inorganic fillers, and the like are used. May be included.
本発明で用いる無機微粒子は、最終的な成形品(フィ
ルム)に含有されるが、含有させる方法に限定はない。
例えば、スチレン系単量体の重合中の任意の過程で添加
あるいは析出させる方法、溶融押出する任意の過程で添
加する方法が挙げられる。The inorganic fine particles used in the present invention are contained in the final molded product (film), but there is no limitation on the method of including them.
For example, a method of adding or precipitating the styrene-based monomer in an arbitrary step during the polymerization and a method of adding the styrene-based monomer in an arbitrary step of melt-extrusion may be mentioned.
この中で特に本発明においては、重合過程の任意の段
階で上記無機微粒子をスラリー状として添加する方法
が、粒子の二次凝集を防げるうえで好ましい。Among them, particularly in the present invention, a method of adding the above-mentioned inorganic fine particles as a slurry at an arbitrary stage of the polymerization process is preferable from the viewpoint of preventing secondary aggregation of the particles.
またこれらの微粒子を効果的に分散させるため、分散
剤,界面活性剤等を用いてもよい。In order to effectively disperse these fine particles, a dispersant, a surfactant and the like may be used.
本発明の基材フィルムを構成する延伸フィルムに使用
される素材には、さらに成形性,力学物性,表面性等を
考慮して、本発明の目的を阻害しない範囲で、酸化防止
剤,帯電防止剤,難燃剤,無機充填材、さらに他の樹脂
などを適宜配合することもできる。The material used for the stretched film constituting the base film of the present invention may further include an antioxidant, an antistatic agent, and the like, as long as the object of the present invention is not impaired, in consideration of moldability, mechanical properties, surface properties, and the like. An agent, a flame retardant, an inorganic filler, and another resin may be appropriately compounded.
ここで他の樹脂としては、各種のものがあるが、例え
ば、アタクチック構造のスチレン系重合体,アイソタク
チック構造のスチレン系重合体,ポリフェニレンエーテ
ル等は、前述のシンジオタクチック構造のスチレン系重
合体と相溶になりやすく、延伸用予備成形体を作成する
ときの結晶化の制御に有効で、その後の延伸性が向上
し、延伸条件の制御が容易で、且つ力学物性に優れたフ
ィルムを得ることができる。このうち、アタクチック構
造および/またはアイソタクチック構造のスチレン系重
合体を含有させる場合、シンジオタクチック構造のスチ
レン系重合体と同様のモノマーからなるものが好まし
い。また、これら相溶性樹脂成分の含有割合は70〜1重
量%、特に好ましくは50〜2重量%とすればよい。ここ
で相溶性樹脂成分の含有割合が70重量%を超えると、シ
ンジオタクチック構造のスチレン系重合体の長所である
耐熱性等が損なわれるため好ましくない。また、非相溶
性樹脂としては、例えば、ポリエチレン,ポリプロピレ
ン,ポリブテン,ポリペンテン等のポリオレフィン、ポ
リエチレンテレフタレート,ポリブチレンテレフタレー
ト,ポリエチレンナフタレート等のポリエステル、ナイ
ロン−6やナイロン6,6等のポリアミド、ポリフェニレ
ンスルフィド等のポリチオエーテル、ポリカーボネー
ト,ポリアリレート,ポリスチレン,ポリエーテルエー
テルケトン,ポリエーテルスルホン,ポリイミド,テフ
ロン等のハロゲン化ビニル系重合体、ポリメタクリル酸
メチル等のアクリル系重合体、ポリビニルアルコール
等、上記相溶性の樹脂以外はすべて相当し、さらに、上
記相溶性の樹脂を含む架橋樹脂が挙げられる。これらの
樹脂は、本発明のシンジオタクチック構造のスチレン系
重合体と非相溶であるため、少量含有する場合、シンジ
オタクチック構造のスチレン系重合体中に島のように分
散させることができ、延伸後に程良い光沢を与えたり、
表面のすべり性を改良するのに有効である。これら非相
溶性樹脂成分の含有割合は、光沢を目的とする場合は50
〜2重量%、表面性の制御を目的とする場合、0.001〜
5重量%が好ましい。また、製品として使用する温度が
高い場合は、比較的耐熱性のある非相溶性樹脂を用いる
ことが好ましい。Here, there are various resins as other resins. For example, the styrene-based polymer having an atactic structure, the styrene-based polymer having an isotactic structure, and polyphenylene ether are the styrene-based polymers having a syndiotactic structure. It is easy to be compatible with coalescence, is effective in controlling crystallization when preparing a preform for stretching, improves stretchability thereafter, easily controls stretching conditions, and provides a film with excellent mechanical properties. Obtainable. Among them, when a styrenic polymer having an atactic structure and / or an isotactic structure is contained, a styrene-based polymer having a syndiotactic structure is preferably used. The content ratio of these compatible resin components may be 70 to 1% by weight, particularly preferably 50 to 2% by weight. Here, when the content ratio of the compatible resin component is more than 70% by weight, heat resistance and the like, which are advantages of the styrene-based polymer having a syndiotactic structure, are not preferable. Examples of the incompatible resin include polyolefins such as polyethylene, polypropylene, polybutene and polypentene; polyesters such as polyethylene terephthalate, polybutylene terephthalate and polyethylene naphthalate; polyamides such as nylon-6 and nylon 6,6; and polyphenylene sulfide. Polythioether, such as polycarbonate, polyarylate, polystyrene, polyetheretherketone, polyethersulfone, polyimide, vinyl halide polymers such as Teflon, acrylic polymers such as polymethylmethacrylate, and the above-mentioned phases such as polyvinylalcohol. Except for the soluble resin, it corresponds to all, and further includes a crosslinked resin containing the above-mentioned compatible resin. Since these resins are incompatible with the syndiotactic-structured styrene-based polymer of the present invention, if they are contained in small amounts, they can be dispersed like islands in the syndiotactic-structured styrene-based polymer. , Give a good gloss after stretching,
It is effective for improving the surface slip property. The content ratio of these incompatible resin components is 50 for gloss.
~ 2% by weight, 0.001 ~
5% by weight is preferred. When the temperature used as a product is high, it is preferable to use a relatively heat-resistant incompatible resin.
本発明の磁気記録媒体の基材フィルムを成形するに
は、前述した如き方法によればよいが、この際に行う加
熱溶融から熱固定までの操作を具体的に説明すれば、次
の通りである。The base film of the magnetic recording medium of the present invention can be formed by the method as described above, and the operation from heat melting to heat fixing performed at this time is specifically described as follows. is there.
まず、上述の如き成形素材を通常は押出成形(あるい
は共押出成形)して、延伸用予備成形体(フィルム,シ
ートまたはチューブ)とする。この成形にあっては、上
記成形素材の加熱溶融したものを押出成形機にて所定形
状に成形するのが一般的であるが、成形素材を加熱溶融
させずに、軟化した状態で成形してもよい。ここで用い
る押出成形機は、一軸押出成形機,二軸押出成形機のい
ずれでもよく、またベント付き,ベント無しのいずれで
もよいが、一軸の直列タンデム型が好ましい。なお、押
出機には適当なメッシュを使用すれば、夾雑物や異物を
除去することができる。特に平滑面を有する延伸フィル
ムを作成する場合にはメッシュは、100メッシュ以上が
好ましく、とりわけ400メッシュ以上が最適である。こ
こでこれらのメッシュを用いる際には、メッシュそのも
のの耐圧,強度を考慮して、上記以下の番手を前後に入
れても良い。またメッシュの形状は、平板状,円筒状等
適当に選定して使用することができる。First, the above-mentioned molding material is usually extruded (or co-extruded) to obtain a preform for stretching (film, sheet or tube). In this molding, it is common to heat-melt the above molding material into a predetermined shape using an extruder, but without heating and melting the molding material, molding in a softened state. Is also good. The extruder used here may be either a single-screw extruder or a twin-screw extruder, and may or may not have a vent, but a single-screw in-line tandem type is preferred. In addition, if an appropriate mesh is used for the extruder, impurities and foreign substances can be removed. In particular, when preparing a stretched film having a smooth surface, the mesh is preferably 100 mesh or more, and most preferably 400 mesh or more. Here, when these meshes are used, the following counts may be added before and after considering the pressure resistance and strength of the mesh itself. The shape of the mesh can be appropriately selected and used, such as a flat plate shape or a cylindrical shape.
またここで押出条件は、特に制限はなく、様々な状況
に応じて適宜選定すればよいが、好ましくは温度を成形
素材の融点〜分解温度より50℃高い温度の範囲で選定
し、剪断応力を5×106dyne/cm2以下とする。用いるダ
イはT−ダイ,円環ダイ等をあげることができる。In addition, the extrusion conditions are not particularly limited and may be appropriately selected according to various situations.Preferably, the temperature is selected in a range from the melting point of the molding material to a temperature 50 ° C. higher than the decomposition temperature, and the shear stress is determined. 5 × 10 6 dyne / cm 2 or less. The die to be used includes a T-die, a ring die and the like.
上記押出成形後、得られた延伸用予備成形体を冷却固
化する。この際の冷媒は、気体,液体,金属ロール等各
種のものを使用することができる。金属ロール等を用い
る場合、エアナイフ,エアチャンバー,タッチロール,
静電印荷等の方法によると厚みムラや波うち防止に効果
的である。After the extrusion molding, the obtained preform for stretching is cooled and solidified. Various refrigerants such as gas, liquid, and metal roll can be used as the refrigerant at this time. When using metal rolls, air knives, air chambers, touch rolls,
According to a method such as electrostatic imprinting, it is effective for preventing thickness unevenness and waviness.
冷却固化の温度は、通常は0℃〜延伸用予備成形体の
ガラス転移温度より30℃高い温度の範囲、好ましくは20
℃〜ガラス転移温度の範囲である。また冷却速度は200
〜3℃/秒の範囲で適宜選択する。The temperature of cooling and solidification is usually in the range of 0 ° C. to a temperature 30 ° C. higher than the glass transition temperature of the preform for stretching, preferably 20 ° C.
C to the glass transition temperature. The cooling rate is 200
33 ° C./sec.
次に、この冷却,固化した予備成形体を一軸あるいは
二軸に延伸する。二軸延伸の場合は縦方向及び横方向に
同時に延伸してもよいが、任意の順序で逐次延伸しても
よい。また延伸は一段で行ってもよく、多段で行っても
よい。Next, the cooled and solidified preform is uniaxially or biaxially stretched. In the case of biaxial stretching, the film may be stretched simultaneously in the machine direction and the transverse direction, but may be sequentially stretched in any order. The stretching may be performed in one step or may be performed in multiple steps.
ここで延伸方法としては、テンターによる方法,ロー
ル間で延伸する方法,気体圧力を利用してバブリングに
よる方法,圧延による方法など様々であり、これらを適
当に選定あるいは組み合わせて適用すればよい。延伸温
度は、一般には予備成形体のガラス転移温度と融点の間
で設定すればよい。また延伸速度は、通常は1×10〜1
×105%/分、好ましくは1×103〜1×105%/分であ
る。上述の如き条件で延伸して得られた延伸フィルム
に、さらに高温時の寸法安定性,耐熱性,フィルム面内
の強度バランスが要求される場合などには、さらに熱固
定を行うことが好ましい。熱固定は、通常行われている
方法で行うことができるが、この延伸フィルムを緊張状
態,弛緩状態あるいは制限収縮状態の下で、該フィルム
のガラス転移温度〜融点、好ましくは融点より100℃低
い温度〜融点直前の温度範囲にて、0.5〜120秒間保持す
ることによって行えばよい。なお、この熱固定は、上記
範囲内で条件を変えて二回以上行うことも可能である。
また、この熱固定はアルゴンガス,窒素ガスなどの不活
性ガス雰囲気下で行っても良い。Here, there are various stretching methods, such as a tenter method, a method of stretching between rolls, a method of bubbling using gas pressure, and a method of rolling, and these may be appropriately selected or combined and applied. The stretching temperature may generally be set between the glass transition temperature and the melting point of the preform. The stretching speed is usually 1 × 10 to 1
× 10 5 % / min, preferably 1 × 10 3 to 1 × 10 5 % / min. When a stretched film obtained by stretching under the above-mentioned conditions requires further dimensional stability at high temperatures, heat resistance and strength balance in the film plane, it is preferable to further heat-fix. The heat setting can be carried out by a commonly used method. However, the stretched film is stretched, relaxed or restricted in a contracted state, and has a glass transition temperature to a melting point of the film, preferably 100 ° C. lower than the melting point. What is necessary is just to hold | maintain in the temperature range just before a melting point from the temperature for 0.5 to 120 seconds. The heat setting can be performed twice or more with the conditions changed within the above range.
The heat fixing may be performed in an atmosphere of an inert gas such as an argon gas or a nitrogen gas.
このようにして得られる本発明の基材フィルムは、線
膨張係数,表面粗さRa及び静摩擦係数μsが前述した範
囲のものとなる。なお、この基材フィルムは、テープ
状,ディスク状,カード状等様々な形態とすることがで
きる。The thus obtained substrate film of the present invention has a linear expansion coefficient, a surface roughness Ra and a static friction coefficient μs in the above-mentioned ranges. In addition, this base film can be in various forms such as a tape shape, a disk shape, and a card shape.
本発明の磁気記録媒体は、上記基材フィルムに少なく
とも一層の磁性層を形成してなるが、アンダーコート
層,バックコート層あるいはトップコート層を形成する
こともできる。これらの各層は、基材フィルムを中心に
両面あるいは片面の全部あるいは一部に形成される。The magnetic recording medium of the present invention has at least one magnetic layer formed on the above-mentioned substrate film, but may have an undercoat layer, a backcoat layer or a topcoat layer formed thereon. Each of these layers is formed on all or a part of both surfaces or one surface with the base film as the center.
また、磁性層の素材となる磁性体は、各種のものがあ
り、例えばCo,Co−O,Co−Cr,Co−V,Co−Ni,Co−P,Co−
γFe2O3,Co−Ni−P,Co−Ni−N,Co−Ni−W,Co−Ni−Pt,C
oNi(Cr)/Cr,Fe,Fe−O,Fe−Ag,γFe2O3,Fe−Co,Ni,CrO
2などを列挙することができる。Further, there are various kinds of magnetic materials as a material of the magnetic layer, for example, Co, Co-O, Co-Cr, Co-V, Co-Ni, Co-P, Co-.
γFe 2 O 3 , Co-Ni-P, Co-Ni-N, Co-Ni-W, Co-Ni-Pt, C
oNi (Cr) / Cr, Fe, Fe-O, Fe-Ag, γFe 2 O 3 , Fe-Co, Ni, CrO
2 and the like can be listed.
この磁性体を用いて磁性層をベースフィルムに形成す
るには、塗布,蒸着,スパッタリング,メッキ等の各種
の方法によればよく、その操作条件等は常法にしたがっ
て、適宜選定すればよい。In order to form a magnetic layer on a base film using this magnetic material, various methods such as coating, vapor deposition, sputtering, and plating may be used, and operating conditions and the like may be appropriately selected according to a conventional method.
なお、磁性層の厚みは特に制限はないが、一般には0.
01〜10μmであり、特に塗布の場合は0.5〜10μm、蒸
着やスパッタリングの場合は0.01〜1μm、メッキの場
合は0.1〜5μmである。The thickness of the magnetic layer is not particularly limited, but is generally 0.
The thickness is from 0.01 to 10 μm, particularly from 0.5 to 10 μm in the case of coating, from 0.01 to 1 μm in the case of vapor deposition or sputtering, and from 0.1 to 5 μm in the case of plating.
なお、塗布にあたって使用するバインダー用の樹脂と
しては、例えば塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体,塩化
ビニル−酢酸ビニル部分ケン化共重合体,塩化ビニル−
塩化ビニリデン共重合体,塩化ビニル−アクリロニトリ
ル,ビニルブチラール,ビニルホルマール等のビニル共
重合系、ニトロセルロース,セルロースアセトブチレー
ト等の繊維素系、飽和ポリエステル,ポリウレタンポリ
アミド,エポキシ等の縮重合系、ブタジエン・アクリロ
ニトリル共重合体等の合成ゴム系、ポリホスファゼン等
の無機高分子系があげられ、イソシアネート化合物等の
架橋剤を用いてもよい。Examples of the resin for the binder used in the coating include a vinyl chloride-vinyl acetate copolymer, a vinyl chloride-vinyl acetate partially saponified copolymer, and a vinyl chloride-vinyl acetate copolymer.
Vinylidene chloride copolymer, vinyl copolymers such as vinyl chloride-acrylonitrile, vinyl butyral, and vinyl formal; fibrous systems such as nitrocellulose and cellulose acetobutyrate; polycondensation systems such as saturated polyester, polyurethane polyamide and epoxy; butadiene -Synthetic rubbers such as acrylonitrile copolymers and inorganic high polymers such as polyphosphazenes may be mentioned, and a crosslinking agent such as an isocyanate compound may be used.
このようにして得られた本発明の磁気記録媒体は、磁
気ヘッド摩耗防止等のため表面を研磨しても良い。The surface of the magnetic recording medium of the present invention thus obtained may be polished to prevent wear of the magnetic head.
次に本発明を実施例に基いてさらに詳しく説明する。 Next, the present invention will be described in more detail based on examples.
参考例1 (1)無機微粒子を含むスチレン系重合体成形用材料
(重合体組成物)の作成 アルゴン置換した内容積500mlのガラス製容器に、硫
酸銅5水塩(CuSO4・5H2O)17.8g(71ミリモル),トル
エン200ml及びトリメチルアルミニウム24ml(250ミリモ
ル)を入れ、40℃で8時間反応させた。その後、固体部
分を除去して得られた溶液から、更に、トルエンを室温
下で減圧留去して接触生成物6.7gを得た。このものの凝
固点降下法によって測定した分子量は610であった。ま
た、1H−NMR測定による前述の高磁場成分(即ち、−0.1
〜−0.5ppm)は43%であった。Reference Example 1 (1) Preparation of Styrenic Polymer Molding Material (Polymer Composition) Containing Inorganic Fine Particles Copper sulfate pentahydrate (CuSO 4 .5H 2 O) was placed in a glass container having an inner volume of 500 ml and purged with argon. 17.8 g (71 mmol), 200 ml of toluene and 24 ml (250 mmol) of trimethylaluminum were added and reacted at 40 ° C. for 8 hours. Thereafter, toluene was further distilled off from the solution obtained by removing the solid portion under reduced pressure at room temperature to obtain 6.7 g of a contact product. Its molecular weight measured by freezing point depression method was 610. The high magnetic field component of the above according to the 1 H-NMR measurement (i.e., -0.1
(-0.5 ppm) was 43%.
一方、精製スチレンモノマー100部に乾式法シリカ
(デグツサ(株)製アニロジルTT−600(1次粒子の直
径40mμのもの))を0.4部添加し、T.KホモミキサーL
型(特殊機化工業製)を用いて、円筒容器の中で混合撹
拌してスチレン混合物を得た。なおこの際、ステアリン
酸カルシウムを0.05重量部加えた。On the other hand, 0.4 parts of dry silica (anilosil TT-600 manufactured by Degussa Co., Ltd. (having a primary particle diameter of 40 mμ)) was added to 100 parts of purified styrene monomer, and TK homomixer L was added.
Using a mold (manufactured by Tokushu Kika Kogyo Co., Ltd.), the mixture was stirred in a cylindrical container to obtain a styrene mixture. At this time, 0.05 parts by weight of calcium stearate was added.
内容積2の反応容器に、上述の如く調製したスチレ
ン混合物1、上述の如く得られた接触生成物をアルミ
ニウム原子として5ミリモル、トリイソブチルアルミニ
ウムを5ミリモル、ペンタメチルシクロペンタジエニル
チタントリメトキシド0.025ミリモルを用いて90℃で5
時間重合反応を行った。反応終了後、生成物を水酸化ナ
トリウムのメタノール溶液で触媒成分を分解後、メタノ
ールで繰返し洗浄後、乾燥して重合体308gを得た。A styrene mixture 1 prepared as described above, 5 mmol of the contact product obtained as described above as aluminum atoms, 5 mmol of triisobutylaluminum, 5 mmol of triisobutylaluminum, pentamethylcyclopentadienyl titanium trimethoxide were placed in a reaction vessel having an internal volume of 2. 5 at 90 ° C using 0.025 mmol
The polymerization reaction was performed for an hour. After completion of the reaction, the product was decomposed with a methanol solution of sodium hydroxide to decompose the catalyst component, washed repeatedly with methanol, and dried to obtain 308 g of a polymer.
この重合体の重量平均分子量を、1,2,4−トリクロロ
ベンゼンを溶媒として、135℃でゲルパーミエーション
クロマトグラフィーにて測定したところ389,000であ
り、また重量平均分子量/数平均分子量は2.64であっ
た。また、融点及び13C−NMR測定により、この重合体は
シンジオタクチック構造のポリスチレンであることを確
認した。The weight average molecular weight of this polymer measured by gel permeation chromatography at 135 ° C. using 1,2,4-trichlorobenzene as a solvent was 389,000, and the weight average molecular weight / number average molecular weight was 2.64. Was. Further, the polymer was confirmed to be a polystyrene having a syndiotactic structure by the melting point and 13 C-NMR measurement.
この重合体を130℃で1,2,4−トリクロロベンゼンに溶
解し、濾別し、重合体中のシリカ含量を調べたところ0.
4wt%であった。また、この溶液をスライドガラス上に
滴下し、顕微鏡で観察し、シリカの平均粒径を調べたと
ころ0.08μmであった。This polymer was dissolved in 1,2,4-trichlorobenzene at 130 ° C., filtered and the silica content in the polymer was determined.
It was 4 wt%. Further, this solution was dropped on a slide glass, observed with a microscope, and the average particle diameter of silica was determined to be 0.08 μm.
さらに、このスチレン系重合体を150℃で2時間、減
圧乾燥した。得られたパウダーを、ベント付き二軸押出
機の先端にキャピラリーを持つ装置で300℃にて押出
し、冷却後、カットしペレットとした。このペレットを
熱風により撹拌しながら結晶化させた。このペレット
は、結晶化度35%でスチレンモノマーを700ppm含んでい
た。Further, the styrene polymer was dried at 150 ° C. for 2 hours under reduced pressure. The resulting powder was extruded at 300 ° C. using a device having a capillary at the tip of a vented twin-screw extruder, and after cooling, cut into pellets. The pellet was crystallized while being stirred by hot air. The pellet contained 700 ppm of styrene monomer at a crystallinity of 35%.
(2)無機微粒子を含まないスチレン系重合体成形用材
料の作成 乾式シリカを含まないスチレンモノマーを用いて、上
記(1)と同様にしてスチレン系重合体を製造した。得
られた重合体は、重量平均分子量が417,000,重量平均分
子量/数平均分子量が2.54,Al含量が75ppm,Ti含量が2pp
mであった。(2) Preparation of styrenic polymer molding material containing no inorganic fine particles A styrenic polymer was produced in the same manner as in (1) above, using a styrene monomer containing no fumed silica. The obtained polymer had a weight average molecular weight of 417,000, a weight average molecular weight / number average molecular weight of 2.54, an Al content of 75 ppm, and a Ti content of 2 pp.
m.
このスチレン系重合体を上記(1)と同様にペレット
とした。このペレットの結晶化度は30%であり、スチレ
ンモノマー含量は800ppmであった。This styrene-based polymer was formed into pellets in the same manner as in the above (1). The crystallinity of the pellet was 30% and the styrene monomer content was 800 ppm.
参考例2(スチレン系重合体延伸フィルムの製造) (1)参考例1(1)のようにして得られた成形材料を
用い、直列型タンデム押出機の先端にT−ダイを取りつ
けた装置で330℃で溶融押出した。この時の剪断応力
は、1.5×105dyne/cm2であった。この溶融押出したシー
トを静電印荷により63℃の冷却ロールに密着させ、冷却
固化させた。この時の冷却速度は平均55℃/秒で130μ
mの延伸用シートを得た。このシートをロール間で、そ
れぞれのロールの周速度を変化させ縦方向に、110℃,
延伸速度6000%/分で3倍に延伸した。続いて、横方向
にテンターを用いて120℃、延伸速度6000%/分で3倍
に延伸した。更に横方向にテンターで固定したまま、縦
方向に、130℃,2000%/分で1.5倍に再延伸した。この
フィルムを、テンターに固定し若干弛緩させ、255℃で1
0秒熱処理した。Reference Example 2 (Production of Stretched Styrenic Polymer Film) (1) Using a molding material obtained as in Reference Example 1 (1), using a device in which a T-die was attached to the tip of a series tandem extruder. It was melt extruded at 330 ° C. The shear stress at this time was 1.5 × 10 5 dyne / cm 2 . This melt-extruded sheet was brought into close contact with a cooling roll at 63 ° C. by electrostatic imprinting, and was cooled and solidified. The cooling rate at this time is 130μ at an average of 55 ° C / sec.
m of a sheet for stretching was obtained. Change the peripheral speed of each roll between the rolls at 110 ° C,
The film was stretched three times at a stretching speed of 6000% / min. Subsequently, the film was stretched three times in the transverse direction using a tenter at 120 ° C. and a stretching speed of 6000% / min. Further, the film was stretched 1.5 times in the longitudinal direction at 130 ° C. and 2000% / min while being fixed in the transverse direction with a tenter. This film is fixed on a tenter and slightly relaxed.
Heat treatment was performed for 0 seconds.
得られたフィルムは厚さ12μmであった。このフィル
ムの線膨張係数を0℃〜90℃にて測定した。さらに表面
粗さをJIS B−0601に準拠し、カットオフ値0.08mmで、
また、静摩擦係数をASTM D−1984Bに準拠して測定し
た。得られたフィルムの性質を表に示す。The resulting film was 12 μm thick. The linear expansion coefficient of this film was measured at 0 ° C to 90 ° C. Furthermore, the surface roughness conforms to JIS B-0601, with a cutoff value of 0.08 mm,
The coefficient of static friction was measured according to ASTM D-1984B. The properties of the resulting film are shown in the table.
(2)T−ダイのリップ開度を4倍とし、再延伸倍率を
1.3倍としたことの他は、参考例2(1)と同様にし
た。得られたフィルムの性質を表に示す。(2) The lip opening of the T-die is set to 4 times, and the redraw ratio is set to
The procedure was the same as in Reference Example 2 (1), except that the magnification was 1.3 times. The properties of the resulting film are shown in the table.
(3)参考例1(1)及び参考例1(2)の結晶化させ
たスチレン系重合体ペレットを用いて、押出機の先端に
T−ダイを取りつけた装置で330℃で溶融共押出したこ
との他は、参考例2(1)と同様にした。得られたフィ
ルムの性質を表に示す。なお、この時、参考例1(2)
のスチレン系重合体ペレットを50/150/400/150/50メッ
シュを入れた主押出機の直列型タンデム単軸押出機で、
また参考例1(1)のスチレン系重合体ペレットを複押
出機で溶融押出した。(3) Using the crystallized styrene-based polymer pellets of Reference Example 1 (1) and Reference Example 1 (2), melt co-extrusion was performed at 330 ° C. using an apparatus equipped with a T-die at the tip of an extruder. Except for this, the procedure was the same as in Reference Example 2 (1). The properties of the resulting film are shown in the table. At this time, Reference Example 1 (2)
The styrene polymer pellets of 50/150/400/150/50 mesh are put in series tandem single screw extruder of main extruder,
The styrene polymer pellet of Reference Example 1 (1) was melt-extruded with a double extruder.
(4)参考例1(2)のスチレン系重合体ペレットを用
いて、押出機中に50/150/400/150/50メッシュを入れた
ことの他は、参考例2(1)と同様に延伸フィルムを作
成した。このフィルムをコロナ処理した。次に、特開平
1−95113号公報の実施例1で得られたシンジオタクチ
ック構造のスチレン−ジビニルベンゼン共重合体(ジビ
ニルベンゼン単位9.4モル%,エチルベンゼン単位5.0モ
ル%,重量平均分子量360,000)の0.5wt%クロロホルム
溶液を作り、この溶液にスチレン−ジビニルベンゼン共
重合体に対して0.5wt%の乾式法シリカ(テグツサ
(株)製アエロジルTT−600:一次粒子の粒径40mμのも
の)を添加し、ホモミキサーL型(特殊機化工業製)を
用いて円筒容器で均一に混合し、スラリー溶液とした。
このスラリー溶液を上記フィルムにバーコーターにて塗
布し、250℃で10秒乾燥した。得られたフィルムの性質
を表に示す。(4) In the same manner as in Reference Example 2 (1), except that the styrene-based polymer pellets of Reference Example 1 (2) were used and a 50/150/400/150/50 mesh was placed in the extruder. A stretched film was prepared. The film was corona treated. Next, a styrene-divinylbenzene copolymer having a syndiotactic structure (9.4 mol% of divinylbenzene units, 5.0 mol% of ethylbenzene units, and a weight average molecular weight of 360,000) obtained in Example 1 of JP-A-1-95113 was used. A 0.5 wt% chloroform solution is prepared, and to this solution is added 0.5 wt% of styrene-divinylbenzene copolymer by dry process silica (Aerosil TT-600 manufactured by Tegutsusa Co., Ltd .: primary particles having a particle size of 40 mμ). Then, using a homomixer L type (manufactured by Tokushu Kika Kogyo Co., Ltd.), the mixture was uniformly mixed in a cylindrical container to obtain a slurry solution.
This slurry solution was applied to the above film using a bar coater, and dried at 250 ° C. for 10 seconds. The properties of the resulting film are shown in the table.
(5)熱処理を施さなかったことの他は、参考例2
(1)と同様にした。(5) Reference Example 2 except that no heat treatment was performed
Same as (1).
(6)用いた無機微粒子を、平均粒径4μmのシリカ
(水澤化学工業(株)製シルトンAMT−40)としたこと
の他は、参考例1(1)と同様にしてスチレン系重合体
を作成した後、参考例2(1)と同様にした。(6) A styrene-based polymer was prepared in the same manner as in Reference Example 1 (1) except that the inorganic fine particles used were silica having an average particle size of 4 μm (Silton AMT-40 manufactured by Mizusawa Chemical Industry Co., Ltd.). After the preparation, it was the same as Reference Example 2 (1).
(7)参考例1(2)のスチレン系重合体材料より参考
例2(1)と同様にしてフィルムを作成した。(7) A film was prepared from the styrene polymer material of Reference Example 1 (2) in the same manner as in Reference Example 2 (1).
実施例1 参考例2(1)と同様にして得られたベースフィルム
の片面にコロナ放電処理を施し、続いてCo80重量%,Ni2
0重量%からなるターゲットを作成し、このターゲット
によってRFスパッタ法で、約3000Åの厚さのCo−Ni系の
磁性薄膜を形成した。Example 1 One side of a base film obtained in the same manner as in Reference Example 2 (1) was subjected to a corona discharge treatment, followed by 80% by weight of Co, Ni2
A target of 0% by weight was prepared, and a Co-Ni-based magnetic thin film having a thickness of about 3000 mm was formed by the RF sputtering method using the target.
この時、ターゲットとフィルムの間の距離は60mm,プ
レート電圧1.9kV,プレート電流160mA,アルゴン圧1.1×1
0-2mmHgであった。At this time, the distance between the target and the film was 60 mm, the plate voltage was 1.9 kV, the plate current was 160 mA, and the argon pressure was 1.1 × 1.
It was 0 -2 mmHg.
このテープをVHS−ビデオテープと同幅に注意深くス
リットし、市販テープを分解し、テープのみ入れかえ、
ビデオカセットを作成した。Carefully slit this tape to the same width as the VHS-video tape, disassemble the commercial tape, replace only the tape,
I made a video cassette.
このテープの静摩擦係数より、すべり性を評価した。
このテープの静摩擦係数はベースフィルムと同等で良好
であった。The slip property was evaluated from the coefficient of static friction of this tape.
The coefficient of static friction of this tape was as good as that of the base film.
また作成したVHS−ビデオカセットテープを家庭用ビ
デオ録画装置で録画再生した。なお、この時信頼性の指
標として室温条件と85℃,75%RHの高温多湿条件での録
画再生状態を観察したが、両方の条件下でほとんど変化
なく、画像の乱れはなく良好であった。The created VHS-video cassette tape was recorded and played back by a home video recorder. At this time, the recording / reproducing condition was observed under room temperature conditions and high temperature and high humidity conditions of 85 ° C. and 75% RH as an index of reliability. Under both conditions, there was almost no change, and the image was not disturbed and good. .
実施例2 参考例2(1)と同様にして得られたベースフィルム
の片面にコロナ放電処理を施し、磁性塗料を塗布した。
なお、この磁性塗料の組成は、γ−FeO3磁性粉末45重量
部,塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体(U.C.C.社製VAG
H)17重量部,アクリロニトリル−ブタジエン共重合体
(日本ゼオン社製N 1432J)3.5重量部,ポリイソシアネ
ート(日本ポリウレタン製コロネートL)1.5重量部,
メチルイソブチルケトン50重量部,トルエン50重量部,
カーボンブラック4重量部である。乾燥後の磁性層の厚
みは3μmであった。Example 2 One side of the base film obtained in the same manner as in Reference Example 2 (1) was subjected to a corona discharge treatment, and a magnetic paint was applied.
The composition of this magnetic paint was as follows: γ-FeO 3 magnetic powder 45 parts by weight, vinyl chloride-vinyl acetate copolymer (UCC VAG)
H) 17 parts by weight, 3.5 parts by weight of an acrylonitrile-butadiene copolymer (N1432J manufactured by Zeon Corporation), 1.5 parts by weight of polyisocyanate (Coronate L manufactured by Nippon Polyurethane)
50 parts by weight of methyl isobutyl ketone, 50 parts by weight of toluene,
4 parts by weight of carbon black. The thickness of the dried magnetic layer was 3 μm.
このテープを用いて実施例1と同様にした。結果を表
に示す。The same operation as in Example 1 was performed using this tape. The results are shown in the table.
実施例3 参考例2(2)と同様にして得られたベースフィルム
の両面にコロナ放電処理した後、実施例1と同様にして
両面に磁性層を設けた。このフィルムの両面を適度に研
磨した後、市販の5インチフロッピーと同じサイズに切
り抜いた。さらにこの円盤を市販のフロッピーのジャケ
ットに入れ、フロッピーディクを作成した。磁性層をも
つフィルムの静摩擦係数を実施例1と同様に調べた。ま
た作成したフロッピーを用いて、SAVEとLOADの状態をNE
C PC−9801Fを用いて、室温条件と高温高湿条件下で調
べたところいずれも良好であった。Example 3 After performing corona discharge treatment on both surfaces of the base film obtained in the same manner as in Reference Example 2 (2), magnetic layers were provided on both surfaces in the same manner as in Example 1. After appropriately polishing both sides of the film, the film was cut into the same size as a commercially available 5-inch floppy. Furthermore, this disk was put in a commercially available floppy jacket to make a floppy disk. The coefficient of static friction of the film having the magnetic layer was examined in the same manner as in Example 1. Also, using the floppy that was created, change the status of SAVE and LOAD to NE
Using CPC-9801F, it was found that both were good under room temperature conditions and high temperature and high humidity conditions.
実施例4 参考例2(3)と同様にして得たフィルムの平滑面側
に磁性層を設けることの他は、実施例1と同様にした。
結果を表に示す。Example 4 The procedure of Example 1 was repeated, except that a magnetic layer was provided on the smooth surface side of the film obtained in the same manner as in Reference Example 2 (3).
The results are shown in the table.
実施例5 参考例2(4)と同様にして得たフィルムの平滑面側
に磁性層を設けることの他は、実施例1と同様にした。
結果を表に示す。Example 5 The procedure of Example 1 was repeated, except that a magnetic layer was provided on the smooth surface side of the film obtained in the same manner as in Reference Example 2 (4).
The results are shown in the table.
比較例1 参考例2(5)と同様にして得たフィルムの片面に磁
性層を設けることの他は、実施例1と同様にした。結果
を表に示す。Comparative Example 1 The procedure of Example 1 was repeated, except that a magnetic layer was provided on one side of the film obtained in the same manner as in Reference Example 2 (5). The results are shown in the table.
比較例2 参考例2(6)と同様にして得たフィルムの片面に磁
性層を設けることの他は、実施例1と同様にした。結果
を表に示す。Comparative Example 2 The procedure of Example 1 was repeated, except that a magnetic layer was provided on one side of the film obtained in the same manner as in Reference Example 2 (6). The results are shown in the table.
比較例3 参考例2(7)と同様にして得たフィルムの片面に磁
性層を設けることの他は、実施例1と同様にした。結果
を表に示す。Comparative Example 3 The procedure of Example 1 was repeated except that a magnetic layer was provided on one side of the film obtained in the same manner as in Reference Example 2 (7). The results are shown in the table.
比較例4 ポリエチレンテレフタレート(PET)フィルム(テイ
ジン製テトロンNS12μm)を用いたことの他は、実施例
1と同様にした。結果を表に示す。Comparative Example 4 The procedure of Example 1 was repeated, except that a polyethylene terephthalate (PET) film (Tetron NS 12 μm manufactured by Teijin) was used. The results are shown in the table.
〔発明の効果〕 叙上の如く得られる本発明の磁気記録媒体は、すべり
性及び平滑性にすぐれ、また温度,湿度に対する寸法安
定性にもすぐれたものである。 [Effect of the Invention] The magnetic recording medium of the present invention obtained as described above has excellent slipperiness and smoothness, and also has excellent dimensional stability against temperature and humidity.
したがって、本発明の磁気記録媒体は、各種の磁気テ
ープ,磁気ディスク,磁気ドラム,磁気カード等に好適
に利用することができる。Therefore, the magnetic recording medium of the present invention can be suitably used for various magnetic tapes, magnetic disks, magnetic drums, magnetic cards, and the like.
フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 FI B29L 7:00 C08L 25:00 Continued on the front page (51) Int.Cl. 6 Identification code FI B29L 7:00 C08L 25:00
Claims (3)
スチレン系重合体又はその組成物の延伸フィルムあるい
は該延伸フィルムを含む積層フィルムであって、線膨張
係数が5×10-5/℃以下及び静摩擦係数が0.3以上1.0以
下である基材フィルムの少なくとも片面に磁性層を有
し、かつ該磁性層形成側の基材フィルムの表面粗さRaが
0.001μm以上0.05μm以下である磁気記録媒体。1. A stretched film of a styrene polymer having a syndiotactic structure or a composition thereof or a laminated film containing the stretched film, having a coefficient of linear expansion of 5 × 10 −5 / ° C. or less and a coefficient of static friction Has a magnetic layer on at least one side of the substrate film is 0.3 or more and 1.0 or less, and the surface roughness Ra of the substrate film on the magnetic layer forming side is
A magnetic recording medium having a size of 0.001 μm or more and 0.05 μm or less.
してシンジオタクチック構造のスチレン系重合体組成物
からなる請求項1記載の磁気記録媒体。2. The magnetic recording medium according to claim 1, wherein the stretched film is mainly composed of a styrene polymer composition having a syndiotactic structure containing inorganic fine particles.
としてシンジオタクチック構造のスチレン系重合体組成
物からなる層と無機微粒子を含有しない主としてシンジ
オタクチック構造のスチレン系重合体又はその組成物か
らなる層を有する積層体である請求項1又は2記載の磁
気記録媒体。3. A layer comprising a predominantly syndiotactic styrene polymer composition containing inorganic fine particles, and a predominantly syndiotactic styrene polymer containing no inorganic fine particles or a composition thereof. The magnetic recording medium according to claim 1, wherein the magnetic recording medium is a laminate having a layer composed of:
Priority Applications (11)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP22318489A JP2866673B2 (en) | 1989-08-31 | 1989-08-31 | Magnetic recording media |
CA002039161A CA2039161A1 (en) | 1989-08-31 | 1990-08-30 | Magnetic recording medium |
PCT/JP1990/001104 WO1991003810A1 (en) | 1989-08-31 | 1990-08-30 | Magnetic recording medium |
DE69032926T DE69032926T2 (en) | 1989-08-31 | 1990-08-30 | Magnetic recording medium |
DE69027763T DE69027763T2 (en) | 1989-08-31 | 1990-08-30 | MAGNETIC RECORDING MEDIUM |
AT95109896T ATE176354T1 (en) | 1989-08-31 | 1990-08-30 | MAGNETIC RECORDING MEDIUM |
US07/651,262 US5374462A (en) | 1989-08-31 | 1990-08-30 | Magnetic recording medium |
AT90912858T ATE140334T1 (en) | 1989-08-31 | 1990-08-30 | MAGNETIC RECORDING MEDIUM |
EP95109896A EP0682340B1 (en) | 1989-08-31 | 1990-08-30 | Magnetic recording medium |
EP19900912858 EP0440817B1 (en) | 1989-08-31 | 1990-08-30 | Magnetic recording medium |
KR1019910700426A KR960005449B1 (en) | 1989-08-31 | 1991-04-29 | Magnetic recording medium |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP22318489A JP2866673B2 (en) | 1989-08-31 | 1989-08-31 | Magnetic recording media |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH0386706A JPH0386706A (en) | 1991-04-11 |
JP2866673B2 true JP2866673B2 (en) | 1999-03-08 |
Family
ID=16794122
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP22318489A Expired - Fee Related JP2866673B2 (en) | 1989-08-31 | 1989-08-31 | Magnetic recording media |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2866673B2 (en) |
Families Citing this family (10)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0691750A (en) * | 1992-09-11 | 1994-04-05 | Toyobo Co Ltd | Syndiotactic polystyrene biaxially drawn film |
JPH0699485A (en) * | 1992-09-21 | 1994-04-12 | Toyobo Co Ltd | Syndiotactic polystyrenic biaxially stretched film |
JPH06100711A (en) * | 1992-09-21 | 1994-04-12 | Toyobo Co Ltd | Syndiotactic polystyrenic biaxially oriented film |
JPH06107813A (en) * | 1992-09-28 | 1994-04-19 | Toyobo Co Ltd | Biaxially oriented syndiotactic polystyrene film |
JPH06107812A (en) * | 1992-09-28 | 1994-04-19 | Toyobo Co Ltd | Biaxially oriented syndiotactic polystyrene film |
JPH06106616A (en) * | 1992-09-28 | 1994-04-19 | Toyobo Co Ltd | Syndiotactic polystyrenr biaxially oriented film |
JPH0724911A (en) * | 1993-07-08 | 1995-01-27 | Toyobo Co Ltd | Syndyotactic polystyrene film |
US8067105B2 (en) | 2004-01-29 | 2011-11-29 | Teijin Dupont Films Japan Limited | Biaxially oriented film |
JP4805608B2 (en) * | 2004-05-17 | 2011-11-02 | 帝人デュポンフィルム株式会社 | Biaxially oriented laminated film and magnetic recording medium |
WO2009041516A1 (en) | 2007-09-28 | 2009-04-02 | Anritsu Corporation | Jitter generation device, device test system using the same, and jitter generation method |
-
1989
- 1989-08-31 JP JP22318489A patent/JP2866673B2/en not_active Expired - Fee Related
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Publication number | Publication date |
---|---|
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