JPH08187779A - Stretched polystyrenic film and production thereof - Google Patents
Stretched polystyrenic film and production thereofInfo
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- JPH08187779A JPH08187779A JP1994895A JP1994895A JPH08187779A JP H08187779 A JPH08187779 A JP H08187779A JP 1994895 A JP1994895 A JP 1994895A JP 1994895 A JP1994895 A JP 1994895A JP H08187779 A JPH08187779 A JP H08187779A
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Abstract
Description
【0001】[0001]
【産業上の利用分野】本発明はポリスチレン系延伸フィ
ルム及びその製造方法に関し、更に詳しくはコンデンサ
ー,FPC電絶用フィルム,写真用フィルム,製版用フ
ィルム,OHP等の光学フィルム,包装用フィルムなど
に好適に用いられるポリスチレン系延伸フィルムに関す
る。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a polystyrene stretched film and a method for producing the same, and more particularly to a capacitor, an FPC film for electrical insulation, a photographic film, a plate-making film, an optical film such as OHP, a packaging film and the like. The present invention relates to a polystyrene-based stretched film that is preferably used.
【0002】[0002]
【従来の技術及び発明が解決しようとする課題】シンジ
オタクチック構造を有するスチレン系重合体(以下、
「SPS」と略記することがある。)は、機械的強度,
耐熱性,外観,耐溶剤性等に優れていることから、種々
の用途が期待され、特に各種のフィルム,シートあるい
は繊維等の押出技術,成形品,用途等が提案されてい
る。また、延伸フィルムの製造方法、種々の物性を有す
る延伸フィルム又はその用途については、これまでも多
くの提案がなされてきた。これらの中でも、コンデンサ
ーフィルムの分野では、耐熱性,誘電特性,耐湿性に優
れるSPS延伸フィルムが材料として有望であり、極薄
で滑り性良好なフィルムの開発が望まれている。滑り性
良好な極薄フィルムについては、特定の無機微粒子ある
いは有機微粒子を添加する方法が、特開平1−1823
46号公報,特開平3−74437号公報,特開平6−
57013号公報,特開平6−57014号公報,特開
平6−57015号公報,特開平6−57016号公
報,特開平6−57017号公報,特開平6−6403
6号公報,特開平6−64037号公報,特開平6−6
5399号公報,特開平6−65400号公報,特開平
6−65401号公報,特開平6−65402号公報,
特開平6−80793号公報,特開平6−91748号
公報,特開平6−91749号公報,特開平6−114
924号公報,特開平6−114925号公報などに開
示されている。しかしながら、無機粒子あるいは有機粒
子の添加によって、極薄SPSフィルムに滑り性を付与
する場合、その微粒子とSPS自体との接着性が十分で
ない等により、延伸あるいは熱処理時の破断、フィルム
中のミクロボイドの発生、後工程での微粒子の脱落によ
る滑り性の低下、フィルム表面の傷、絶縁破壊電圧の低
下、二次加工適性不良等が生じてしまい、必ずしもフィ
ルムとして十分な性能を有しているとは言えなかった。
また、従来は、要求される滑り性等の物性を満足するた
めには、フィルムの厚みによって、無機粒子あるいは有
機粒子の種類や添加量を調製する必要があり、製造時の
端材が再利用しにくいという問題点があった。BACKGROUND OF THE INVENTION Styrene-based polymers having a syndiotactic structure (hereinafter referred to as
It may be abbreviated as "SPS". ) Is the mechanical strength,
Since it has excellent heat resistance, appearance, solvent resistance, etc., it is expected to be used for various purposes. In particular, various film, sheet or fiber extrusion techniques, molded products, applications, etc. have been proposed. In addition, many proposals have been made so far regarding a method for producing a stretched film, a stretched film having various physical properties, and its use. Among these, in the field of capacitor films, SPS stretched films, which are excellent in heat resistance, dielectric properties, and moisture resistance, are promising as materials, and the development of ultrathin films with good slipperiness is desired. For an ultrathin film having good slipperiness, a method of adding specific inorganic fine particles or organic fine particles is disclosed in JP-A-1-1823.
46, JP 3-74437 A, JP 6-A
57013, JP-A-6-57014, JP-A-6-57015, JP-A-6-57016, JP-A-6-57017, and JP-A-6-6403.
6, JP-A-6-64037, JP-A-6-6
5399, JP 6-65400 A, JP 6-65401 A, JP 6-65402 A,
JP-A-6-80793, JP-A-6-91748, JP-A-6-91749, and JP-A-6-114.
It is disclosed in Japanese Patent Laid-Open No. 924 and Japanese Patent Laid-Open No. 6-114925. However, when imparting slipperiness to the ultra-thin SPS film by adding inorganic particles or organic particles, the adhesiveness between the fine particles and SPS itself is not sufficient, and therefore, breakage during stretching or heat treatment, or microvoids in the film may occur. Occurrence, deterioration of slipperiness due to falling of fine particles in the subsequent step, scratches on the film surface, reduction of dielectric breakdown voltage, poor secondary processing suitability, etc., and it does not necessarily have sufficient performance as a film. I could not say.
Further, conventionally, in order to satisfy the required physical properties such as slipperiness, it is necessary to adjust the type and addition amount of inorganic particles or organic particles depending on the thickness of the film. There was a problem that it was difficult to do.
【0003】本発明は上記のような状況に鑑みてなされ
たものであり、本発明者らは、滑り性や表面傷等の上記
問題点を解決すべく鋭意検討を行った。その中で、SP
Sを静的に結晶化させた場合に、微小な球晶を形成する
ことを見出した。そして、この微小な球晶に着目してさ
らに検討を進めたところ、予備成形体の一部に球晶を形
成させる方法、その球晶サイズ及び濃度が溶融後の熱履
歴を制御することにより可能になることを見出した。ま
た、種々の原反を用いた延伸成形体について検討したと
ころ、延伸により形成される球晶による特定の突起が上
記の諸問題を解決するのに有効であることを見出した。
本発明はかかる知見に基いて、滑り性に優れ、表面傷が
低減し、また絶縁破壊電圧を低下させることなく、一方
で端材の再利用を可能にすべくアンチブロッキング剤が
無添加あるいは添加量が少ない等の優れた特性を有する
SPS延伸フィルムを提供すべく完成されたものであ
る。The present invention has been made in view of the above situation, and the present inventors have conducted extensive studies to solve the above problems such as slipperiness and surface scratches. Among them, SP
It was found that when S was crystallized statically, fine spherulites were formed. Then, when further study was conducted focusing on this minute spherulite, a method of forming spherulite on a part of the preform, the spherulite size and concentration can be achieved by controlling the thermal history after melting. I found that. Further, as a result of studying stretch-molded articles using various raw materials, it was found that specific projections formed by spherulites formed by stretching are effective in solving the above problems.
Based on such knowledge, the present invention is excellent in slipperiness, reduces surface scratches, and does not lower the dielectric breakdown voltage, on the other hand, an antiblocking agent is not added or added in order to enable reuse of scrap materials. It has been completed to provide an SPS stretched film having excellent properties such as a small amount.
【0004】[0004]
【課題を解決するための手段】すなわち、本発明は、高
度のシンジオタクチック構造を有するスチレン系重合体
を70〜100重量%含有するスチレン系樹脂組成物か
らなる延伸フィルムであって、少なくとも一方の表面に
該スチレン系重合体からなる直径0.2〜5.0μmの突起
を有することを特徴とするポリスチレン系延伸フィルム
を提供するものである。上記ポリスチレン系延伸フィル
ムは、上記突起が10000μm2 中に10個以上であ
ることが好ましく、動摩擦係数が0.7以下であることが
好ましい。また、本発明は、高度のシンジオタクチック
構造を有するスチレン系重合体を70〜100重量%含
有するスチレン系樹脂組成物からなり、平均結晶化度2
5%以下で且つ球晶の存在する予備成形体を2軸延伸、
熱処理することを特徴とするポリスチレン系延伸フィル
ムの製造方法をも提供するものである。以下に、本発明
を更に詳細に説明する。That is, the present invention relates to a stretched film comprising a styrene resin composition containing 70 to 100% by weight of a styrene polymer having a high syndiotactic structure, at least one of which is a stretched film. The present invention provides a polystyrene-based stretched film, characterized in that it has projections of 0.2 to 5.0 μm in diameter made of the styrene-based polymer on the surface of. The polystyrene-based stretched film preferably has 10 or more protrusions per 10,000 μm 2 and a dynamic friction coefficient of 0.7 or less. Further, the present invention comprises a styrene resin composition containing 70 to 100% by weight of a styrene polymer having a high syndiotactic structure, and has an average crystallinity of 2
Biaxially stretching a preform containing 5% or less and having spherulites,
It also provides a method for producing a stretched polystyrene film, which is characterized by heat treatment. Hereinafter, the present invention will be described in more detail.
【0005】先ず、本発明のポリスチレン系延伸フィル
ムの材料について説明する。本発明におけるシンジオタ
クチック構造のスチレン系重合体とは、立体化学構造が
シンジオタクチック構造、即ち炭素−炭素結合から形成
される主鎖に対して側鎖であるフェニル基や置換フェニ
ル基が交互に反対方向に位置する立体構造を有するもの
であり、そのタクティシティーは同位体炭素による核磁
気共鳴法(13C−NMR法)により定量される。13C−
NMR法により測定されるタクティシティーは、連続す
る複数個の構成単位の存在割合、例えば2個の場合はダ
イアッド,3個の場合はトリアッド,5個の場合はペン
タッドによって示すことができるが、本発明にいう高度
のシンジオタクチック構造を有するスチレン系重合体と
は、通常はラセミダイアッドで75%以上、好ましくは
85%以上、若しくはラセミペンタッドで30%以上、
好ましくは50%以上のシンジオタクティシティーを有
するポリスチレン,ポリ( アルキルスチレン),ポリ( ハ
ロゲン化スチレン),ポリ( アルコキシスチレン),ポリ(
ビニル安息香酸エステル),これらの水素化重合体およ
びこれらの混合物、あるいはこれらの構造単位を含む共
重合体を指称する。なお、ここでポリ( アルキルスチレ
ン) としては、ポリ( メチルスチレン),ポリ( エチルス
チレン),ポリ( プロピルスチレン),ポリ( ブチルスチレ
ン),ポリ( フェニルスチレン),ポリ( ビニルナフタレ
ン),ポリ( ビニルスチレン),ポリ( アセナフチレン) な
どがあり、ポリ( ハロゲン化スチレン) としては、ポリ
( クロロスチレン),ポリ( ブロモスチレン),ポリ( フル
オロスチレン) などがある。また、ポリ( アルコキシス
チレン) としては、ポリ( メトキシスチレン),ポリ( エ
トキシスチレン) などがある。これらのうち特に好まし
いスチレン系重合体としては、スチレンとp−メチルス
チレンとの共重合体,ポリスチレン,ポリ( p−メチル
スチレン),ポリ( m−メチルスチレン),ポリ( p−ター
シャリーブチルスチレン),ポリ( p−クロロスチレン),
ポリ( m−クロロスチレン),ポリ(p−フルオロスチレ
ン) をあげることができる(特開昭62−187708
号公報)。First, the material of the stretched polystyrene film of the present invention will be described. The syndiotactic styrene-based polymer in the present invention means that the stereochemical structure is a syndiotactic structure, that is, a phenyl group or a substituted phenyl group, which is a side chain, alternates with respect to the main chain formed from carbon-carbon bonds. The tacticity is determined by the nuclear magnetic resonance method ( 13 C-NMR method) using isotope carbon. 13 C-
The tacticity measured by the NMR method can be indicated by the abundance ratio of a plurality of continuous constitutional units, for example, diad in the case of 2, triad in the case of 3, and pentad in the case of 5. The styrene-based polymer having a high syndiotactic structure referred to in the invention is usually 75% or more, preferably 85% or more in racemic dyad, or 30% or more in racemic pentad,
Preferably, polystyrene having a syndiotacticity of 50% or more, poly (alkylstyrene), poly (halogenated styrene), poly (alkoxystyrene), poly (
Vinyl benzoate), hydrogenated polymers thereof and mixtures thereof, or copolymers containing these structural units. Here, as poly (alkylstyrene), poly (methylstyrene), poly (ethylstyrene), poly (propylstyrene), poly (butylstyrene), poly (phenylstyrene), poly (vinylnaphthalene), poly ( Vinyl styrene), poly (acenaphthylene), etc.
(Chlorostyrene), poly (bromostyrene), poly (fluorostyrene), etc. Examples of poly (alkoxystyrene) include poly (methoxystyrene) and poly (ethoxystyrene). Of these, particularly preferred styrene-based polymers are copolymers of styrene and p-methylstyrene, polystyrene, poly (p-methylstyrene), poly (m-methylstyrene), poly (p-tertiarybutylstyrene). ), Poly (p-chlorostyrene),
Examples thereof include poly (m-chlorostyrene) and poly (p-fluorostyrene) (JP-A-62-187708).
Issue).
【0006】更に、スチレン系共重合体におけるコモノ
マーとしては、上述の如きスチレン系重合体のモノマー
のほか、エチレン,プロピレン,ブテン,ヘキセン,オ
クテン等のオレフィンモノマー、ブタジエン,イソプレ
ン等のジエンモノマー、環状ジエンモノマーやメタクリ
ル酸メチル,無水マレイン酸,アクリロニトリル等の極
性ビニルモノマー等をあげることができる。特に、スチ
レン繰返し単位が80〜100モル%,p−メチルスチ
レン繰返し単位が0〜20モル%からなるスチレン系重
合体が好ましく用いられる。またこのスチレン系重合体
は、分子量について特に制限はないが、重量平均分子量
が10,000以上3,000,000 以下のものが好ましく、とりわ
け50,000以上 1,500,000以下のものが更に好ましい。こ
こで重量平均分子量が 10,000 未満であると、延伸が充
分にできない場合がある。さらに、分子量分布について
はその広狭は制約がなく、 様々なものを充当することが
可能であるが、重量平均分子量(Mw)/数平均分子量
(Mn)が 1. 5以上8以下のものが好ましい。なお、こ
のシンジオタクチック構造を有するスチレン系重合体
は、従来のアタクチック構造のスチレン系重合体に比べ
て耐熱性が格段に優れている。上記高度のシンジオタク
チック構造を有するスチレン系重合体は、本発明のポリ
スチレン系延伸フィルム中に70〜100重量%、好ま
しくは80〜100重量%含有される。Further, as the comonomer in the styrene-based copolymer, in addition to the above-mentioned styrene-based polymer monomers, olefin monomers such as ethylene, propylene, butene, hexene and octene, diene monomers such as butadiene and isoprene, and cyclic compounds. Examples thereof include diene monomers, polar vinyl monomers such as methyl methacrylate, maleic anhydride and acrylonitrile. In particular, a styrene-based polymer having a styrene repeating unit of 80 to 100 mol% and a p-methylstyrene repeating unit of 0 to 20 mol% is preferably used. The molecular weight of the styrene-based polymer is not particularly limited, but those having a weight average molecular weight of 10,000 or more and 3,000,000 or less are preferable, and those of 50,000 or more and 1,500,000 or less are more preferable. If the weight average molecular weight is less than 10,000, stretching may not be performed sufficiently. Further, the molecular weight distribution is not limited in its width and various kinds can be applied, but it is preferable that the weight average molecular weight (Mw) / number average molecular weight (Mn) is 1.5 or more and 8 or less. . The styrene-based polymer having the syndiotactic structure is remarkably excellent in heat resistance as compared with the conventional styrene-based polymer having the atactic structure. The styrene polymer having a high syndiotactic structure is contained in the stretched polystyrene film of the present invention in an amount of 70 to 100% by weight, preferably 80 to 100% by weight.
【0007】本発明のポリスチレン系延伸フィルムに
は、その目的を阻害しない範囲で滑剤、他の熱可塑性樹
脂、酸化防止剤、無機充填剤、ゴム、相溶化剤、着色
剤、架橋剤、架橋助剤、核剤、可塑剤などを添加するこ
ともできる。滑剤としては、例えば無機微粒子を用いる
ことができる。ここで、無機微粒子とは、IA族,IIA
族,IVA族,VIA族,VII A族,VIII族,IB族,IIB
族,III B族,IVB族元素の酸化物,水酸化物,硫化
物,窒素化物,ハロゲン化物,炭酸塩,硫酸塩,酢酸
塩,燐酸塩,亜燐酸塩,有機カルボン酸塩,珪酸塩,チ
タン酸塩,硼酸塩及びそれらの含水化合物、それらを中
心とする複合化合物,天然鉱物粒子を示す。The polystyrene stretched film of the present invention contains a lubricant, another thermoplastic resin, an antioxidant, an inorganic filler, a rubber, a compatibilizer, a colorant, a cross-linking agent, and a cross-linking aid within a range that does not impair its purpose. Agents, nucleating agents, plasticizers, etc. can also be added. As the lubricant, for example, inorganic fine particles can be used. Here, the inorganic fine particles mean group IA, IIA
Tribe, IVA, VIA, VIIA, VIII, IB, IIB
Group, Group IIIB, Group IVB oxides, hydroxides, sulfides, nitrides, halides, carbonates, sulfates, acetates, phosphates, phosphites, organic carboxylates, silicates, Titanate, borate and their hydrous compounds, their complex compounds, and natural mineral particles are shown.
【0008】具体的には、弗化リチウム,硼砂( 硼酸ナ
トリウム含水塩) 等のIA族元素化合物、炭酸マグネシ
ウム,燐酸マグネシウム,酸化マグネシウム( マグネシ
ア),塩化マグネシウム,酢酸マグネシウム,弗化マグネ
シウム,チタン酸マグネシウム,珪酸マグネシウム,珪
酸マグネシウム含水塩( タルク),炭酸カルシウム,燐酸
カルシウム,亜燐酸カルシウム,硫酸カルシウム( 石
膏),酢酸カルシウム,テレフタル酸カルシウム,水酸化
カルシウム,珪酸カルシウム,弗化カルシウム,チタン
酸カルシウム,チタン酸ストロンチウム,炭酸バリウ
ム,燐酸バリウム,硫酸バリウム,亜燐酸バリウム等の
IIA族元素化合物、二酸化チタン(チタニア),一酸化チ
タン,窒化チタン,二酸化ジルコニウム( ジルコニア),
一酸化ジルコニウム等のIVA族元素化合物、二酸化モリ
ブデン,三酸化モリブデン,硫化モリブデン等のVIA族
元素化合物、塩化マンガン,酢酸マンガン等のVII A族
元素化合物、塩化コバルト,酢酸コバルト等のVIII族元
素化合物、沃化第一銅等のIB族元素化合物、酸化亜
鉛,酢酸亜鉛等のIIB族元素化合物、酸化アルミニウム
(アルミナ),水酸化アルミニウム,弗化アルミニウム,
アルミノシリケート( 珪酸アルミナ,カオリン,カオリ
ナイト) 等のIII B族元素化合物、酸化珪素( シリカ,
シリカゲル),石墨, カーボン,グラファイト,ガラス等
のIVB族元素化合物、カーナル石,カイナイト,雲母(
マイカ, キンウンモ),バイロース鉱等の天然鉱物の粒子
が挙げられる。ここで用いる無機微粒子の平均粒径は、
特に制限はないが、好ましくは 0. 01〜3μm、成形
品中の含量は 0. 001〜5重量%、好ましくは 0. 0
05〜3重量%である。この無機微粒子は最終的な成形
品に含有されるが、含有される方法に限定はない。例え
ば、重合中の任意の過程で添加あるいは析出させる方
法、溶融押出する任意の過程で添加する方法が挙げられ
る。Specifically, Group IA element compounds such as lithium fluoride and borax (sodium borate hydrous salt), magnesium carbonate, magnesium phosphate, magnesium oxide (magnesia), magnesium chloride, magnesium acetate, magnesium fluoride, titanic acid Magnesium, magnesium silicate, magnesium silicate hydrous salt (talc), calcium carbonate, calcium phosphate, calcium phosphite, calcium sulfate (gypsum), calcium acetate, calcium terephthalate, calcium hydroxide, calcium silicate, calcium fluoride, calcium titanate , Strontium titanate, barium carbonate, barium phosphate, barium sulfate, barium phosphite, etc.
IIA group element compounds, titanium dioxide (titania), titanium monoxide, titanium nitride, zirconium dioxide (zirconia),
Group IVA element compounds such as zirconium monoxide, group VIA element compounds such as molybdenum dioxide, molybdenum trioxide and molybdenum sulfide, group VIIA element compounds such as manganese chloride and manganese acetate, group VIII element compounds such as cobalt chloride and cobalt acetate , Group IB element compounds such as cuprous iodide, Group IIB element compounds such as zinc oxide and zinc acetate, aluminum oxide
(Alumina), aluminum hydroxide, aluminum fluoride,
Group IIIB element compounds such as aluminosilicate (alumina silicate, kaolin, kaolinite), silicon oxide (silica,
Group IVB element compounds such as silica gel), graphite, carbon, graphite, glass, carnal stone, kainite, mica (
Particles of natural minerals such as mica, quinnemo) and birose ore are included. The average particle size of the inorganic fine particles used here is
There is no particular limitation, but it is preferably 0.001 to 3 μm, and the content in the molded product is 0.001 to 5% by weight, preferably 0.0
It is from 05 to 3% by weight. The inorganic fine particles are contained in the final molded article, but the method of containing them is not limited. For example, a method of adding or precipitating in an arbitrary process during polymerization, a method of adding in an arbitrary process of melt extrusion can be mentioned.
【0009】本発明において上記のスチレン系重合体
に、添加できる他の熱可塑性樹脂としては各種のものが
あるが、例えば、アタクチック構造のスチレン系重合
体,アイソタクチック構造のスチレン系重合体,ポリフ
ェニレンエーテル等が、挙げられる。これらの樹脂は前
述のシンジオタクチック構造のスチレン系重合体と相溶
しやすく、延伸用予備成形体を作成するときの結晶化の
制御に有効で、その後の延伸性が向上し、延伸条件の制
御が容易で、且つ力学物性に優れたフィルムを得ること
ができる。このうち、アタクチック構造および/または
アイソタクチック構造のスチレン系重合体を含有させる
場合は、シンジオタクチック構造のスチレン系重合体と
同様の単量体からなるものが好ましい。また、これら相
溶性樹脂成分の含有割合は1〜70重量%、特に2〜5
0重量%とすればよい。ここで相溶性樹脂成分の含有割
合が70重量%を超えると、シンジオタクチック構造の
スチレン系重合体の長所である耐熱性等が損なわれるこ
とがあるため好ましくない。In the present invention, there are various kinds of other thermoplastic resins which can be added to the above-mentioned styrene-based polymer. For example, a styrene-based polymer having an atactic structure, a styrene-based polymer having an isotactic structure, Examples thereof include polyphenylene ether. These resins are easily compatible with the styrene-based polymer having the syndiotactic structure described above, are effective in controlling crystallization when creating a preform for stretching, and are improved in the stretchability after that, and the stretching condition A film that is easy to control and has excellent mechanical properties can be obtained. Among these, in the case of containing a styrene-based polymer having an atactic structure and / or an isotactic structure, those containing the same monomer as the styrene-based polymer having a syndiotactic structure are preferable. The content ratio of these compatible resin components is 1 to 70% by weight, especially 2 to 5%.
It may be 0% by weight. When the content of the compatible resin component exceeds 70% by weight, the heat resistance, which is an advantage of the styrene polymer having a syndiotactic structure, may be impaired, which is not preferable.
【0010】また、本発明で用いられる上記のスチレン
系重合体に添加し得る他の樹脂であって、非相溶性樹脂
としては、例えば、ポリエチレン,ポリプロピレン,ポ
リブテン,ポリペンテン等のポリオレフィン、ポリエチ
レンテレフタレート,ポリブチレンテレフタレート,ポ
リエチレンナフタレート等のポリエステル、ナイロン−
6やナイロン6,6等のポリアミド、ポリフェニレンス
ルフィド等のポリチオエーテル、ポリカーボネート,ポ
リアリレート,ポリスルホン,ポリエーテルエーテルケ
トン,ポリエーテルスルホン,ポリイミド,テフロン等
のハロゲン化ビニル系重合体、ポリメタクリル酸メチル
等のアクリル系重合体、ポリビニルアルコール等、上記
相溶性の樹脂以外はすべて相当し、さらに、上記相溶性
の樹脂を含む架橋樹脂が挙げられる。これらの樹脂は、
本発明に用いられるシンジオタクチック構造のスチレン
系重合体と非相溶であるため、少量含有する場合、シン
ジオタクチック構造のスチレン系重合体中に島のように
分散させることができ、延伸後に程良い光沢を与えた
り、表面のすべり性を改良するのに有効である。これら
非相溶性樹脂成分の含有割合は、光沢を目的とする場合
は2〜50重量%、表面性の制御を目的とする場合は0.
001〜5重量%が好ましい。また、製品として使用す
る温度が高い場合は、比較的耐熱性のある非相溶性樹脂
を用いることが好ましい。Other resins which can be added to the above-mentioned styrene polymer used in the present invention and which are incompatible resins include, for example, polyolefins such as polyethylene, polypropylene, polybutene and polypentene, polyethylene terephthalate, Polyester such as polybutylene terephthalate, polyethylene naphthalate, nylon-
Polyamide such as 6 or nylon 6,6, polythioether such as polyphenylene sulfide, polycarbonate, polyarylate, polysulfone, polyetheretherketone, polyethersulfone, polyimide, vinyl halide polymer such as Teflon, polymethylmethacrylate, etc. Examples of the acrylic polymer, polyvinyl alcohol, etc. other than the above compatible resins include cross-linking resins containing the above compatible resins. These resins are
Since it is incompatible with the styrene-based polymer having a syndiotactic structure used in the present invention, when contained in a small amount, it can be dispersed like islands in the styrene-based polymer having a syndiotactic structure, and after stretching. It is effective for giving moderate gloss and improving the surface slipperiness. The content ratio of these incompatible resin components is 2 to 50% by weight for the purpose of gloss, and 0 for the purpose of controlling the surface property.
001-5 weight% is preferable. Further, when the temperature used as a product is high, it is preferable to use an incompatible resin having relatively high heat resistance.
【0011】酸化防止剤としてはリン系酸化防止剤,フ
ェノール系酸化防止剤,硫黄系酸化防止剤を用いること
ができる。このような酸化防止剤を用いることにより、
熱安定性のよいポリスチレン系樹脂組成物が得られる。
ここでリン系酸化防止剤としては種々のものが挙げら
れ、モノホスファイトやジホスファイト等であることを
問わない。モノホスファイトとしてはトリス(2,4−
ジ−t−ブチルフェニル)ホスファイト;トリス(モノ
およびジ−ノニルフェニル)ホスファイト等が挙げられ
る。またジホスファイトとしては、一般式As the antioxidant, a phosphorus-based antioxidant, a phenol-based antioxidant and a sulfur-based antioxidant can be used. By using such an antioxidant,
A polystyrene resin composition having good heat stability can be obtained.
Here, various types of phosphorus-based antioxidants may be used, and they may be monophosphite, diphosphite, or the like. As monophosphite, tris (2,4-
Di-t-butylphenyl) phosphite; tris (mono- and di-nonylphenyl) phosphite and the like. The diphosphite has the general formula
【0012】[0012]
【化1】 Embedded image
【0013】〔式中、R1 及びR2 は同一でも異なって
いてもよく、それぞれ炭素数1〜20のアルキル基,炭
素数3〜20のシクロアルキル基あるいは炭素数6〜2
0のアリール基を示す。〕で表わされるホスファイトが
用いられ、具体例としては、ジステアリルペンタエリス
リトールジホスファイト;ジオクチルペンタエリスリト
ールジホスファイト;ジフェニルペンタエリスリトール
ジホスファイト;ビス(2,4−ジ−t−ブチルフェニ
ル)ペンタエリスリトールジホスファイト;ビス(2,
6−ジ−t−ブチル−4−メチルフェニル)ペンタエリ
スリトールジホスファイト;ジシクロヘキシルペンタエ
リスリトールジホスファイト;トリス(2,4−ジ−t
−ブチルフェニル)ホスファイト;テトラキス(2,4
−ジ−t−ブチルフェニル)−4,4’−ビフェニレン
ホスフォナイトなどが挙げられる。これらの中でもビス
(2,4−ジ−t−ブチルフェニル)ペンタエリスリト
ールジホスファイト;ビス(2,6−ジ−t−ブチル−
4−メチルフェニル)ペンタエリスリトールジホスファ
イト;トリス(2,4−ジ−t−ブチルフェニル)ホス
ファイト;テトラキス(2,4−ジ−t−ブチルフェニ
ル)−4,4’−ビフェニレンホスフォナイトが好まし
く用いられる。[In the formula, R 1 and R 2 may be the same or different and each is an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, a cycloalkyl group having 3 to 20 carbon atoms or 6 to 2 carbon atoms.
The aryl group of 0 is shown. ] A phosphite represented by the following formula is used, and specific examples thereof include distearyl pentaerythritol diphosphite; dioctyl pentaerythritol diphosphite; diphenyl pentaerythritol diphosphite; bis (2,4-di-t-butylphenyl) Pentaerythritol diphosphite; bis (2
6-di-t-butyl-4-methylphenyl) pentaerythritol diphosphite; dicyclohexyl pentaerythritol diphosphite; tris (2,4-di-t
-Butylphenyl) phosphite; tetrakis (2,4
-Di-t-butylphenyl) -4,4'-biphenylene phosphonite and the like. Among these, bis (2,4-di-t-butylphenyl) pentaerythritol diphosphite; bis (2,6-di-t-butyl-
4-methylphenyl) pentaerythritol diphosphite; tris (2,4-di-t-butylphenyl) phosphite; tetrakis (2,4-di-t-butylphenyl) -4,4'-biphenylene phosphonite Is preferably used.
【0014】また、フェノール系酸化防止剤としては種
々のものを使用することができるが、具体的には、ジア
ルキルフェノール,トリアルキルフェノール,ジフェニ
ルモノアルコキシフェノール,テトラアルキルフェノー
ル等が用いられる。ジアルキルフェノールとしては、
2,2' −メチレンビス(6−t−ブチル−4−メチル
フェノール);1,1−ビス(5−t−ブチル−4−ヒ
ドロキシ−2−メチルフェニル)ブタン;2,2' −メ
チレンビス( 4−メチル−6−シクロヘキシルフェノー
ル);4,4’−チオビス(6−t−ブチル−3−メチ
ルフェノール);2,2−ビス(5−t−ブチル−4−
ヒドロキシ−2−メチルフェニル)−4−n−ドデシル
メルカプト−ブタンなどが挙げられる。トリアルキルフ
ェノールとしては、2,6−ジ−t−ブチル−4−メチ
ルフェノール;2,2'−メチレンビス(6−t−ブチ
ル−4−エチルフェノール);2,2' −メチレンビス
〔4−メチル−6−(α−メチルシクロヘキシル)フェ
ノール〕;2,2' −メチレンビス(4−メチル−6−
ノニルフェノール);1,1,3−トリス−(5−t−
ブチル−4−ヒドロキシ−2−メチルフェニル)ブタ
ン;エチレングリコール−ビス〔3,3−ビス(3−t
−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)ブチレート〕;1
−1−ビス(3,5−ジメチル−2−ヒドロキシフェニ
ル)−3−(n−ドデシルチオ)−ブタン;1,3,5
−トリス(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシベ
ンジル)−2,4,6−トリメチルベンゼン;2,2−
ビス(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシベンジ
ル)マロン酸ジオクタデシルエステル;n−オクタデシ
ル−3−(4−ヒドロキシ−3,5−ジ−t−ブチルフ
ェニル)プロピオネート;テトラキス〔メチレン(3,
5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシハイドロシンナメ
ート)〕メタン;3,9−ビス〔1,1−ジメチル−2
−(β−(3−t−ブチル−4−ヒドロキシ−5−メチ
ルフェニル)プロピオニルオキシ)エチル−2,4,
8,10−テトラオキサスピロ〔5,5〕ウンデカン;
トリス−(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシベ
ンジル)イソシアヌレイト等が挙げられる。また、ジフ
ェニルモノアルコキシフェノールとしては2,6−ジフ
ェニル−4−メトキシフェノール等が挙げられ、テトラ
アルキルフェノールとしてはトリス−(4−t−ブチル
−2,6−ジ−メチル−3−ヒドロキシベンジル)−イ
ソシアヌレイト等が挙げられる。Various kinds of phenolic antioxidants can be used, and specifically, dialkylphenol, trialkylphenol, diphenylmonoalkoxyphenol, tetraalkylphenol and the like are used. As dialkylphenol,
2,2'-methylenebis (6-t-butyl-4-methylphenol); 1,1-bis (5-t-butyl-4-hydroxy-2-methylphenyl) butane; 2,2'-methylenebis (4 -Methyl-6-cyclohexylphenol); 4,4'-thiobis (6-t-butyl-3-methylphenol); 2,2-bis (5-t-butyl-4-)
Hydroxy-2-methylphenyl) -4-n-dodecylmercapto-butane and the like can be mentioned. Examples of the trialkylphenol include 2,6-di-t-butyl-4-methylphenol; 2,2'-methylenebis (6-t-butyl-4-ethylphenol); 2,2'-methylenebis [4-methyl- 6- (α-methylcyclohexyl) phenol]; 2,2′-methylenebis (4-methyl-6-
Nonylphenol); 1,1,3-tris- (5-t-
Butyl-4-hydroxy-2-methylphenyl) butane; ethylene glycol-bis [3,3-bis (3-t
-Butyl-4-hydroxyphenyl) butyrate]; 1
-1-bis (3,5-dimethyl-2-hydroxyphenyl) -3- (n-dodecylthio) -butane; 1,3,5
-Tris (3,5-di-t-butyl-4-hydroxybenzyl) -2,4,6-trimethylbenzene; 2,2-
Bis (3,5-di-t-butyl-4-hydroxybenzyl) malonic acid dioctadecyl ester; n-octadecyl-3- (4-hydroxy-3,5-di-t-butylphenyl) propionate; tetrakis [methylene (3,
5-di-t-butyl-4-hydroxyhydrocinnamate)] methane; 3,9-bis [1,1-dimethyl-2
-(Β- (3-t-Butyl-4-hydroxy-5-methylphenyl) propionyloxy) ethyl-2,4
8,10-Tetraoxaspiro [5,5] undecane;
Tris- (3,5-di-t-butyl-4-hydroxybenzyl) isocyanurate and the like can be mentioned. Examples of diphenylmonoalkoxyphenol include 2,6-diphenyl-4-methoxyphenol, and examples of tetraalkylphenol include tris- (4-t-butyl-2,6-di-methyl-3-hydroxybenzyl)-. Isocyanurate and the like can be mentioned.
【0015】更に硫黄系酸化防止剤としては、チオエー
テル系のものが好ましく、具体的にはジラウリル−3,
3’−チオジプロピオネート;ジミリスチル−3,3’
−チオジプロピオネート;ジステアリル−3,3’−チ
オジプロピオネート;ペンタエリスリトール−テトラキ
ス−(β−ラウリル−チオプロピオネート);ビス〔2
−メチル−4−(3−n−アルキルチオプロピオニルオ
キシ)−5−t−ブチルフェニル〕スルフィド;2−メ
ルカプトベイゾイミダゾール等が挙げられる。これらの
中でも特にペンタエリスリトール−テトラキス−(β−
ラウリル−チオプロピオネート)が好ましい。Further, the sulfur type antioxidant is preferably a thioether type one, specifically, dilauryl-3,
3'-thiodipropionate; dimyristyl-3,3 '
-Thiodipropionate; distearyl-3,3'-thiodipropionate; pentaerythritol-tetrakis- (β-lauryl-thiopropionate); bis [2
-Methyl-4- (3-n-alkylthiopropionyloxy) -5-t-butylphenyl] sulfide; 2-mercaptobayzoimidazole and the like. Among these, especially pentaerythritol-tetrakis- (β-
Lauryl-thiopropionate) is preferred.
【0016】また、本発明のポリスチレン系延伸フィル
ム中には、必要に応じて、−NH−基を有しかつ10,0
00未満の分子量を有する有機化合物が含有する。この
ような有機化合物としては、−NH−基に電子吸引基が
隣接しているものが好ましくこのような電子吸引基とし
ては、ベンゼン環,ナフタレン環,アントラセン環,ピ
リジン環,トリアジン環,インデニル環及びこれらの誘
導体等の芳香族環又はカルボニル構造を含むことが好ま
しい。また、上記有機化合物としては熱分解温度が26
0℃以上のものが特に好ましい。具体的には以下の化合
物、例えば、2,4−ビス−(n−オクチルチオ)−6
−(4−ヒドロキシ−3,5−ジ−t−ブチルアニリ
ノ)−1,3,5−トリアジン、N,N’−ヘキサメチ
レンビス(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシ−
ヒドロシンナミド)、N,N’−ビス〔3−(3,5−
ジ−t−ブチル−ヒドロキシフェニル)プロピオニル〕
ヒドラジン、3−(N−サリチロイル)アミノ−1,
2,4−トリアゾール、デカメチレンジカルボン酸ジサ
リチロイルヒドラジド、イソフタル酸(2−フェノキシ
プロピオニルヒドラジド)、2,2−オギザミド−ビス
〔エチル−3−(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロ
キシフェニル)プロピオネート〕、オギザリル−ビス
(ベンジリデン−ヒドラジド)、N−ホルミル−N’−
サリシロイルヒドラジン、2−メルカプトベンツイミダ
ゾール、N,N’−ジ−2−ナフチル−p−フェニレン
ジアミン、4,4’−ビス(α,α−ジメチルベンジ
ル)ジフェニルアミン、2−メルカプトメチルベンツイ
ミダゾール,スチレン化ジフェニルアミン、オクチル化
ジフェニルアミン、N−フェニル−1−ナフチルアミ
ン、ポリ(2,2,4−トリメチル−1,2−ジヒドロ
キノリン)、6−エトキシ−1,2−ジヒドロ−2,
2,4−トリメチルキノリン、N,N’−ジフェニル−
p−フェニレンジアミン、N−フェニル−N’−(1,
3−ジメチルブチル)−p−フェニレンジアミン、N−
フェニル−N’−(3−メタクリルオキシ−2−ヒドロ
キシプロピル)−p−フェニレンジアミン、チオジフェ
ニルアミン、p−アミノジフェニルアミン、N−サリシ
ロイル−N’−アルデヒドヒドラジン、N−サリシロイ
ル−N’−アセチルヒドラジン、N,N’−ジフェニル
−オキサミド、N,N’−ジ(2−ヒドロキシフェニ
ル)オキサミド、6−エトキシ−2,2,4−トリメチ
ル−1,2−ジヒドロキノリン、N−フェニル−N’−
イソプロピル−p−フェニレンジアミン等が挙げられ
る。上記−NH−基を有しかつ10,000未満の分子量
を有する有機化合物は、本発明のポリスチレン系延伸フ
ィルム中に、必要に応じて、30重量%未満の量で含有
される。In the stretched polystyrene-based film of the present invention, if necessary, it has a --NH-- group and has a pH of 10,0.
Contains organic compounds having a molecular weight of less than 00. As such an organic compound, a compound in which an electron-withdrawing group is adjacent to an -NH- group is preferable, and examples of such an electron-withdrawing group include a benzene ring, a naphthalene ring, an anthracene ring, a pyridine ring, a triazine ring and an indenyl ring. And an aromatic ring or carbonyl structure such as a derivative thereof. The organic compound has a thermal decomposition temperature of 26
Those of 0 ° C. or higher are particularly preferable. Specifically, the following compounds, for example, 2,4-bis- (n-octylthio) -6
-(4-Hydroxy-3,5-di-t-butylanilino) -1,3,5-triazine, N, N'-hexamethylenebis (3,5-di-t-butyl-4-hydroxy-
Hydrocinnamide), N, N'-bis [3- (3,5-
Di-t-butyl-hydroxyphenyl) propionyl]
Hydrazine, 3- (N-salicyloyl) amino-1,
2,4-triazole, decamethylenedicarboxylic acid disalicyloyl hydrazide, isophthalic acid (2-phenoxypropionyl hydrazide), 2,2-oxazamide-bis [ethyl-3- (3,5-di-t-butyl-4] -Hydroxyphenyl) propionate], oxalyl-bis (benzylidene-hydrazide), N-formyl-N'-
Salicyloylhydrazine, 2-mercaptobenzimidazole, N, N'-di-2-naphthyl-p-phenylenediamine, 4,4'-bis (α, α-dimethylbenzyl) diphenylamine, 2-mercaptomethylbenzimidazole, Styrenated diphenylamine, octylated diphenylamine, N-phenyl-1-naphthylamine, poly (2,2,4-trimethyl-1,2-dihydroquinoline), 6-ethoxy-1,2-dihydro-2,
2,4-trimethylquinoline, N, N'-diphenyl-
p-phenylenediamine, N-phenyl-N '-(1,
3-dimethylbutyl) -p-phenylenediamine, N-
Phenyl-N '-(3-methacryloxy-2-hydroxypropyl) -p-phenylenediamine, thiodiphenylamine, p-aminodiphenylamine, N-salicyloyl-N'-aldehyde hydrazine, N-salicyloyl-N'-acetylhydrazine, N, N'-diphenyl-oxamide, N, N'-di (2-hydroxyphenyl) oxamide, 6-ethoxy-2,2,4-trimethyl-1,2-dihydroquinoline, N-phenyl-N'-
Isopropyl-p-phenylenediamine and the like can be mentioned. The above-mentioned organic compound having a -NH- group and having a molecular weight of less than 10,000 is optionally contained in the polystyrene stretched film of the present invention in an amount of less than 30% by weight.
【0017】本発明に係るポリスチレン系延伸フィルム
は、高度のシンジオタクチック構造を有するスチレン系
重合体を70〜100重量%含有するスチレン系樹脂組
成物からなる延伸フィルムであって、少なくとも一方の
表面に該スチレン系重合体からなる直径0.2〜5.0μ
m、好ましくは直径0.2〜4.0μmの突起を有する。突
起を有さない延伸フィルムでは、フィルムに表面傷が発
生し、また絶縁破壊の不良が生じるので好ましくない。
また、突起が0.2μmより小さい場合には、滑り性が不
十分であり、突起が5.0μmより大きい場合には延伸時
に破断することがあり好ましくない。また、本発明に係
るポリスチレン系延伸フィルムは、上記突起が1000
0μm2 中に好ましくは10個以上、より好ましくは5
0個以上であり、動摩擦係数が好ましくは0.7以下、よ
り好ましくは0.6以下である。上記突起が10000μ
m2 中に10個より小さい場合には、滑り性が不十分で
あり好ましくない。動摩擦係数が0.7より大きい場合に
も、滑り性が不十分であり好ましくない。さらに、本発
明のポリスチレン系延伸フィルムが上記物性を有さない
場合には、蒸着やラミネート等の二次加工適性が不十分
となり、フィルム表面傷が発生したり、絶縁破壊が不十
分となり好ましくない。なお、延伸フィルムについての
上記物性は、例えば下記の評価により測定できる。即
ち、延伸フィルムの表面を走査型電子顕微鏡等で、表面
傷の有無及び突起を観察する。また、フィルム表面の突
起に相当する部分の材料については、加熱装置付偏光顕
微鏡等により昇温しながら偏光部分を観察することによ
り、突起部の融点を測定することなどにより確認でき
る。このような物性を有する本発明に係るポリスチレン
系延伸フィルムは、滑り性に優れ、表面傷が低減し、ま
た絶縁破壊電圧が低下しない等の優れた性能を有する。The stretched polystyrene film according to the present invention is a stretched film made of a styrene resin composition containing 70 to 100% by weight of a styrene polymer having a high syndiotactic structure, and having at least one surface thereof. With a diameter of 0.2 to 5.0 μm comprising the styrene polymer
m, preferably 0.2 to 4.0 μm in diameter. A stretched film having no protrusions is not preferable because it causes surface scratches on the film and also causes defective insulation breakdown.
Further, if the protrusions are smaller than 0.2 μm, the slipperiness is insufficient, and if the protrusions are larger than 5.0 μm, they may break during stretching, which is not preferable. In addition, the polystyrene-based stretched film according to the present invention has 1000 protrusions.
In 0 μm 2 , preferably 10 or more, more preferably 5
It is 0 or more, and the dynamic friction coefficient is preferably 0.7 or less, more preferably 0.6 or less. The protrusion is 10,000μ
When it is less than 10 in m 2 , the slipperiness is insufficient, which is not preferable. Even when the coefficient of dynamic friction is more than 0.7, the slidability is insufficient, which is not preferable. Further, if the polystyrene-based stretched film of the present invention does not have the above physical properties, the suitability for secondary processing such as vapor deposition and lamination becomes insufficient, film surface scratches occur, or dielectric breakdown becomes insufficient, which is not preferable. . The above physical properties of the stretched film can be measured, for example, by the following evaluations. That is, the presence or absence of surface scratches and the protrusions are observed on the surface of the stretched film with a scanning electron microscope or the like. The material of the portion corresponding to the protrusion on the film surface can be confirmed by measuring the melting point of the protrusion by observing the polarized portion while raising the temperature with a polarization microscope equipped with a heating device. The polystyrene stretched film according to the present invention having such physical properties has excellent properties such as excellent slidability, reduced surface scratches, and no reduction in dielectric breakdown voltage.
【0018】次に、本発明のポリスチレン系延伸フィル
ムの製造方法について説明する。本発明に係るポリスチ
レン系延伸フィルムは、種々の方法によって製造するこ
とができるが、優れた滑り性等を有し、二次加工等にも
好適な延伸フィルムを得るには、以下の方法によること
が好ましい。本発明で用いられるスチレン系樹脂組成物
は、任意の方法、即ち従来の熱可塑性樹脂に用いられて
いる種々の方法で製造することができ、例えば、(A)
前記スチレン系重合体成分と(B)スチレン系重合体以
外の成分を混合し押出機等で溶融混練する方法、(A)
成分の押出工程のいずれかの段階で(B)成分を添加す
る方法、(A)成分の製造工程のいずれかの段階で
(B)成分を添加する方法、(A)成分と(B)成分を
混合した材料と(A)成分を溶融混練する方法等が適用
可能である。このようなスチレン系樹脂組成物を用いて
本発明の延伸フィルムを製造する場合、その方法は特に
制限されないが、例えばこれらの材料を溶融加熱後、冷
却すること及び/又は冷却後加熱することにより予備成
形体を成形し、次いで2軸延伸、熱処理することにより
製造することができる。Next, the method for producing the polystyrene stretched film of the present invention will be described. The polystyrene-based stretched film according to the present invention can be produced by various methods, but in order to obtain a stretched film having excellent slidability and suitable for secondary processing, etc. Is preferred. The styrenic resin composition used in the present invention can be produced by an arbitrary method, that is, various methods used for conventional thermoplastic resins, for example, (A)
A method in which the styrene polymer component and the component (B) other than the styrene polymer are mixed and melt-kneaded by an extruder or the like;
Method of adding component (B) at any stage of component extrusion process, method of adding component (B) at any stage of manufacturing process of component (A), component (A) and component (B) A method of melt-kneading the material mixed with the component (A) and the like can be applied. When the stretched film of the present invention is produced using such a styrene resin composition, the method is not particularly limited, but for example, by heating these materials after melting and / or heating after cooling. It can be manufactured by molding a preformed body, followed by biaxial stretching and heat treatment.
【0019】上記加熱溶融から熱固定までの操作を具体
例で説明すれば、次の通りである。まず、上述の如く得
られたスチレン系重合体を成形素材として、これを通常
は押出成形して、予備成形体とする。この成形にあって
は、上記成形素材の加熱溶融したものを押出成形機にて
所定形状に成形するのが一般的であるが、成形素材を加
熱溶融させずに、軟化した状態で成形してもよい。ここ
で用いる押出成形機は、一軸押出成形機,二軸押出成形
機のいずれでもよく、またベント付き,ベント無しのい
ずれでもよい。なお、押出機には適当なフィルターを使
用すれば、夾雑物や異物を除去することができる。また
フィルターの形状は、平板状,円筒状等適当に選定して
使用することができる。またここで押出条件は、特に制
限はなく、種々の状況に応じて適宜選定すればよいが、
好ましくは温度を成形素材の融点〜分解温度より50℃
高い温度の範囲で選定し、剪断応力を5×106 dyne/
cm2 以下とする。用いるダイはT−ダイ,円環ダイ等を
あげることができる。The operation from the heating and melting to the heat setting will be described below with reference to a specific example. First, the styrene polymer obtained as described above is used as a molding material, and this is usually extruded to obtain a preform. In this molding, it is common to mold the heat-melted molding material into a predetermined shape with an extruder, but do not heat the molding material and mold it in a softened state. Good. The extruder used here may be either a single-screw extruder or a twin-screw extruder, and may or may not have a vent. It should be noted that if an appropriate filter is used for the extruder, it is possible to remove impurities and foreign substances. Further, the shape of the filter can be appropriately selected and used such as a flat plate shape or a cylindrical shape. The extrusion conditions here are not particularly limited and may be appropriately selected according to various situations.
Preferably, the temperature is 50 ° C from the melting point of the molding material to the decomposition temperature.
Select in the high temperature range and set the shear stress to 5 × 10 6 dyne /
and cm 2 or less. The die used may be a T-die, an annular die or the like.
【0020】本発明の表面状態のフィルムを得るために
は、延伸用予備成形体中に球晶を発生させることが好ま
しく、材料の結晶化速度、予備成形体の厚み、冷却方法
により、適宜種々の方法を選定すれば良い。例えば、
溶融スチレン系樹脂組成物を冷却後、加熱して球晶を生
成させる方法、溶融スチレン系樹脂組成物を冷却過程
で球晶を生成させる方法、などが挙げられる。溶融スチ
レン系樹脂組成物を冷却固化する場合の温度は、通常は
0℃〜該材料のガラス転移温度より30℃高い温度の範
囲、好ましくはガラス転移温度より70℃低い温度〜ガ
ラス転移温度の範囲である。また冷却後、加熱する際の
温度は、120℃〜250℃の範囲で適宜選定できる
が、好ましくは130℃〜240℃の範囲である。な
お、冷却過程において球晶を生成させる方法において、
片面のみ急冷することにより反急冷面近傍にのみ球晶を
生成させることも可能であり、延伸後一方の片面のみ突
起を有し、他方の片面は平滑であるフィルムを得ること
もできる。これらの冷却、加熱の媒体は、温度制御され
た気体,液体,金属・セラミックスのロール等を用いる
ことができる。なお、金属ロールを用いる場合、静電ピ
ニング,エアナイフ,エアチャンバー,タッチロール等
を用いて熱伝達効率を制御するとともに、厚みムラや波
うちを防止することも可能である。ここで得られる延伸
用予備成形体の平均結晶化度は25%以下が好ましく、
また高倍率の偏光顕微鏡で球晶の存在が確認可能なもの
が好ましい。ここで、平均結晶化度が25%を越えると
延伸時に破断したり、本発明の表面状態のフィルムが得
られ難い。また、延伸用予備成形体球晶が存在しない場
合は、延伸後のフィルム表面において球晶により突起が
形成しない場合がある。In order to obtain the film having the surface state of the present invention, it is preferable to generate spherulites in the preform for stretching, and various spherulites may be appropriately selected depending on the crystallization rate of the material, the thickness of the preform, and the cooling method. You can select the method. For example,
Examples include a method in which the molten styrene-based resin composition is cooled and then heated to generate spherulites, and a method in which the molten styrene-based resin composition is cooled to generate spherulites. When the molten styrenic resin composition is cooled and solidified, the temperature is usually in the range of 0 ° C to 30 ° C higher than the glass transition temperature of the material, preferably 70 ° C lower than the glass transition temperature to glass transition temperature. Is. The temperature for heating after cooling can be appropriately selected in the range of 120 ° C to 250 ° C, but is preferably in the range of 130 ° C to 240 ° C. In the method of producing spherulites in the cooling process,
It is possible to form spherulites only in the vicinity of the anti-quenched surface by quenching only one surface, and it is also possible to obtain a film having protrusions on one surface after stretching and the other surface being smooth. As the cooling and heating medium, a temperature-controlled gas, liquid, metal / ceramic roll, or the like can be used. When a metal roll is used, it is possible to control the heat transfer efficiency by using electrostatic pinning, an air knife, an air chamber, a touch roll, and the like, and prevent uneven thickness and waviness. The average crystallinity of the preform for stretching obtained here is preferably 25% or less,
Further, it is preferable that the presence of spherulites can be confirmed with a high-magnification polarizing microscope. Here, if the average crystallinity exceeds 25%, it is difficult to obtain a film having a surface state of the present invention, or breaking during stretching. If the preform for stretching has no spherulites, projections may not be formed by spherulites on the surface of the film after stretching.
【0021】冷却,固化した延伸用予備成形シートは二
軸延伸の場合は縦方向及び横方向に同時に延伸してもよ
いが、任意の順序で逐次延伸してもよい。また延伸は一
段で行ってもよく、多段で行ってもよい。この延伸倍率
は面積比で2倍以上、好ましくは3倍以上である。この
範囲の延伸倍率であると、物性の好ましい延伸フィルム
が得られる。ここで延伸方法としては、テンターによる
方法,ロール間で延伸する方法,気体圧力を利用してバ
ブリングによる方法,圧延による方法など種々のものが
使用でき、これらを適当に選定あるいは組み合わせて適
用すればよい。延伸温度は、一般には予備成形体のガラ
ス転移温度(Tg)と冷結晶化温度(TCC)の間で設定
すればよい。延伸温度が冷結晶化温度を超えると、良好
な表面状態の延伸フィルムを得ることが困難となる。ま
た延伸速度は、通常は1×10〜1×105 %/分、好
ましくは1×103 〜1×105 %/分である。上述の
如き条件で延伸して得られた延伸フィルムに、さらに高
温時の寸法安定性,耐熱性,フィルム面内の強度バラン
スが要求される場合などには、さらに熱固定を行うこと
が好ましい。熱固定は、通常行われている方法で行うこ
とができるが、この延伸フィルムを緊張状態,弛緩状態
あるいは制限収縮状態の下で、該フィルムのガラス転移
温度〜融点、好ましくは融点より100℃低い温度〜融
点直前の温度範囲にて、0.5〜120秒間保持すること
によって行えばよい。なお、この熱固定は、上記範囲内
で条件を変えて二回以上行うことも可能である。また、
この熱固定はアルゴンガス,窒素ガスなどの不活性ガス
雰囲気下で行っても良い。このような製造方法によれ
ば、優れた滑り性等を有し、二次加工等にも好適な本発
明に係るポリスチレン系延伸フィルムを効率良く確実に
製造することができる。In the case of biaxial stretching, the cooled and solidified preforming sheet for stretching may be simultaneously stretched in the machine direction and the transverse direction, but may be sequentially stretched in any order. The stretching may be performed in one stage or in multiple stages. The draw ratio is 2 times or more, preferably 3 times or more in terms of area ratio. When the stretching ratio is within this range, a stretched film having favorable physical properties can be obtained. As the stretching method, various methods such as a tenter method, a method of stretching between rolls, a method of bubbling utilizing gas pressure, and a method of rolling can be used, and if these are appropriately selected or combined and applied. Good. The stretching temperature is typically may be set between the glass transition temperature (Tg) and cold crystallization temperature of the preform (T CC). When the stretching temperature exceeds the cold crystallization temperature, it becomes difficult to obtain a stretched film having a good surface condition. The stretching rate is usually 1 × 10 to 1 × 10 5 % / min, preferably 1 × 10 3 to 1 × 10 5 % / min. When the stretched film obtained by stretching under the above-mentioned conditions is required to have dimensional stability at high temperature, heat resistance, and strength balance in the plane of the film, it is preferable to further perform heat setting. The heat setting can be carried out by a commonly used method, but the stretched film is subjected to a tensioned state, a relaxed state or a restricted shrinking state, from the glass transition temperature to the melting point of the film, preferably 100 ° C. lower than the melting point. It may be carried out by maintaining the temperature in the temperature range from the temperature to immediately before the melting point for 0.5 to 120 seconds. The heat setting can be performed twice or more by changing the conditions within the above range. Also,
This heat setting may be performed in an atmosphere of an inert gas such as argon gas or nitrogen gas. According to such a manufacturing method, it is possible to efficiently and reliably manufacture the stretched polystyrene film according to the present invention, which has excellent slipperiness and the like and is suitable for secondary processing and the like.
【0023】[0023]
【実施例】以下に、本発明を実施例によりさらに具体的
に説明するが、本発明はこれらの実施例によって何ら限
定されるものではない。 参考例1 アルゴン置換した内容積500ミリリットルのガラス製
容器に、硫酸銅5水塩( Cu SO4 ・5H2 O)17g
(71ミリモル),トルエン200ミリリットル及びトリ
メチルアルミニウム24ミリリットル(250ミリモ
ル)を入れ、40℃で8時間反応させた。その後、固体
部分を除去して接触生成物 6. 7gを得た。このものの
凝固点降下法によって測定した分子量は610であっ
た。EXAMPLES The present invention will be described in more detail below with reference to examples, but the present invention is not limited to these examples. Reference Example 1 17 g of copper sulfate pentahydrate (Cu SO 4 .5H 2 O) was placed in a glass container having an inner volume of 500 ml replaced with argon.
(71 mmol), 200 ml of toluene and 24 ml (250 mmol) of trimethylaluminum were added, and the mixture was reacted at 40 ° C. for 8 hours. Then, the solid portion was removed to obtain 6.7 g of a contact product. The molecular weight of this product was 610 as measured by the freezing point depression method.
【0024】製造例1 シンジオタクチック構造を有
するスチレン系重合体の製造 内容積2リットルの反応容器に、上記参考例1で得られ
た接触生成物をアルミニウム原子として7.5ミリモル,
トリイソブチルアルミニウムを7.5ミリモル,ペンタ
メチルシクロペンタジエニルチタントリメトキシドを
0. 038ミリモル及び精製スチレンを1リットルと
り、90℃で5時間重合反応を行った。反応終了後、水
酸化ナトリウムのメタノール溶液で触媒成分を分解後、
生成物をメタノールで繰り返し洗浄し、乾燥して重合体
466gを得た。得られた重合体の重量平均分子量を1,
2,4−トリクロロベンゼンを溶媒として、130℃で
ゲルパーミエーションクロマトグラフィーにて測定した
ところ290,000であり、また重量平均分子量/数平
均分子量は2.72であった。更に融点及び13C−NMR
の測定により、得られた重合体はシンジオタクチック構
造のポリスチレンであることが確認された。Production Example 1 Production of Styrenic Polymer Having Syndiotactic Structure In a reaction vessel having an internal volume of 2 liters, the contact product obtained in Reference Example 1 above was 7.5 mmol as an aluminum atom,
Triisobutylaluminum 7.5 mmol, pentamethylcyclopentadienyl titanium trimethoxide
0.038 mmol and 1 liter of purified styrene were taken and a polymerization reaction was carried out at 90 ° C. for 5 hours. After completion of the reaction, after decomposing the catalyst component with a methanol solution of sodium hydroxide,
The product was washed repeatedly with methanol and dried to give a polymer.
466g was obtained. The weight average molecular weight of the obtained polymer was 1,
When measured by gel permeation chromatography at 130 ° C. using 2,4-trichlorobenzene as a solvent, it was 290000, and the weight average molecular weight / number average molecular weight was 2.72. Further melting point and 13 C-NMR
It was confirmed that the obtained polymer was polystyrene having a syndiotactic structure.
【0025】実施例1 製造例1の様にして得られたシンジオタクチック構造の
スチレン系重合体を300℃で溶融押出後、ペレットと
した。得られたペレットを濾過精度5μmの溶融フィル
ターを取り付けた押出機にて、溶融押出し静電ピニング
法にて50℃の冷却ロールに密着させて急冷し、厚さ1
00μmの非晶性予備成形シートを作成した。この非晶
性予備成形シートを170℃で30秒間加熱処理し、延
伸用予備成形シートを得た。加熱前後のこれらシートの
結晶の有無を400倍の偏光顕微鏡で観察した。観察の
結果、加熱後の延伸用予備成形シート中には結晶が存在
しており、示差走査熱量計(DSC)により測定した結
晶化度は20%であった。この加熱処理した延伸用予備
成形シートを連続的に、縦方向には110℃で3倍に、
横方向には125℃で3倍にそれぞれ延伸し、240℃
で熱処理を施し、厚さ約7μmの延伸フィルムを得た。
この得られた延伸フィルムの二次加工適正を判断するた
めに、巻取り直前にゴム性ロールを取り付けて、荷重5
kgf で巻取り、白粉の発生を観察した。得られた延伸フ
ィルムの表面を走査型電子顕微鏡にて表面傷の有無及び
突起を観察した。また、動摩擦係数をASTM D-1984 法、
絶縁破壊電圧をJIS C-2318法に準拠して測定した。その
結果を第1表に示す。また、走査型電子顕微鏡による延
伸フィルムの表面写真を図1に示す。なお、得られたフ
ィルムを加熱装置付偏光顕微鏡により、昇温しながらフ
ィルム表面の突起部に相当する部分を偏光下で観察した
ところ、SPSの融点である270℃付近で融解した。Example 1 A styrene-based polymer having a syndiotactic structure obtained as in Production Example 1 was melt extruded at 300 ° C., and then pelletized. The pellets thus obtained were melt-extruded by an extruder equipped with a melting filter having a filtration accuracy of 5 μm and brought into close contact with a cooling roll at 50 ° C. by the electrostatic pinning method to be rapidly cooled to a thickness of 1
A 00 μm amorphous preformed sheet was prepared. This amorphous preformed sheet was heat-treated at 170 ° C. for 30 seconds to obtain a preformed sheet for stretching. The presence or absence of crystals of these sheets before and after heating was observed with a 400 × polarizing microscope. As a result of the observation, crystals were present in the preformed sheet for stretching after heating, and the crystallinity measured by a differential scanning calorimeter (DSC) was 20%. This heat-treated stretched preformed sheet is continuously and longitudinally tripled at 110 ° C.,
Stretched in the transverse direction 3 times at 125 ℃, 240 ℃
Was heat treated to obtain a stretched film having a thickness of about 7 μm.
In order to judge the appropriateness of secondary processing of the obtained stretched film, a rubber roll was attached immediately before winding, and a load of 5 was applied.
It was wound up at kgf and the generation of white powder was observed. The surface of the obtained stretched film was observed with a scanning electron microscope for the presence of surface scratches and projections. In addition, the dynamic friction coefficient is determined by the ASTM D-1984 method,
The dielectric breakdown voltage was measured according to JIS C-2318 method. The results are shown in Table 1. Moreover, the surface photograph of the stretched film by a scanning electron microscope is shown in FIG. The obtained film was observed under polarized light with a polarizing microscope with a heating device while raising the temperature, and it was melted at around 270 ° C., which is the melting point of SPS.
【0026】実施例2 実施例1において、厚さ40μmの非晶性予備成形シー
トを作成し、160℃で30秒間加熱処理して延伸用予
備成形シートとしたこと以外は、実施例1と同様にして
延伸フィルムを得た。そして、実施例1と同様の評価を
行った。結果を第1表に示す。また、走査型電子顕微鏡
による延伸フィルムの表面写真を図2に示す。Example 2 Similar to Example 1 except that an amorphous preformed sheet having a thickness of 40 μm was prepared and heat-treated at 160 ° C. for 30 seconds to obtain a stretched preformed sheet. To obtain a stretched film. Then, the same evaluation as in Example 1 was performed. The results are shown in Table 1. A surface photograph of the stretched film by a scanning electron microscope is shown in FIG.
【0026】実施例3 実施例1において、厚さ300μmの非晶性予備成形シ
ートを作成し、180℃で20秒間加熱処理して延伸用
予備成形シートとしたこと以外は、実施例1と同様にし
て延伸フィルムを得た。そして、実施例1と同様の評価
を行った。結果を第1表に示す。また、走査型電子顕微
鏡による延伸フィルムの表面写真を図3に示す。Example 3 The same as Example 1 except that an amorphous preformed sheet having a thickness of 300 μm was prepared and heat-treated at 180 ° C. for 20 seconds to obtain a preformed sheet for stretching. To obtain a stretched film. Then, the same evaluation as in Example 1 was performed. The results are shown in Table 1. Moreover, the surface photograph of the stretched film by a scanning electron microscope is shown in FIG.
【0027】比較例1 実施例1において、非晶性予備成形シートを加熱処理せ
ずに、延伸及び延伸後の熱処理をしたこと以外は、実施
例1と同様にして延伸フィルムを得た。そして、実施例
1と同様の評価を行った。結果を第1表に示す。また、
走査型電子顕微鏡による延伸フィルムの表面写真を図4
に示す。Comparative Example 1 A stretched film was obtained in the same manner as in Example 1 except that the amorphous preformed sheet was stretched and heat-treated after stretching without heat treatment. Then, the same evaluation as in Example 1 was performed. The results are shown in Table 1. Also,
Figure 4 shows a photograph of the surface of the stretched film with a scanning electron microscope.
Shown in
【0028】比較例2 比較例1において、製造例で得られた上記スチレン系重
合体に直径0.8μmの球状シリカを0.15重量%添加し
たこと以外は、比較例1と同様にして延伸フィルムを得
た。そして、実施例1と同様の評価を行った。結果を第
1表に示す。Comparative Example 2 Stretching was carried out in the same manner as in Comparative Example 1 except that 0.15% by weight of spherical silica having a diameter of 0.8 μm was added to the styrene polymer obtained in Production Example. I got a film. Then, the same evaluation as in Example 1 was performed. The results are shown in Table 1.
【0029】[0029]
【表1】 [Table 1]
【0030】[0030]
【発明の効果】以上詳細に述べたように、本発明に係る
ポリスチレン系延伸フィルムは、滑り性に優れ、表面傷
が低減し、また絶縁破壊電圧を低下させず、一方で端材
の再利用を可能にすべくアンチブロッキング剤が無添加
あるいは添加量が少ない等の優れた特性を有する。この
ような本発明のポリスチレン系延伸フィルムは、コンデ
ンサー,FPC電絶用フィルム,写真用フィルム,製版
用フィルム,OHP等の光学フィルム,包装用フィルム
などに好適に用いることができ、工業的利用価値は極め
て大きい。Industrial Applicability As described in detail above, the stretched polystyrene film according to the present invention is excellent in slipperiness, reduces surface scratches, and does not lower the dielectric breakdown voltage. In order to make it possible, the anti-blocking agent has excellent properties such as no addition or a small addition amount. Such a stretched polystyrene film of the present invention can be suitably used as a capacitor, an FPC film for electrical insulation, a film for photography, a film for plate making, an optical film such as OHP, a film for packaging, etc., and has industrial utility value. Is extremely large.
【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]
【図1】 実施例1において、得られた延伸フィルムの
走査型電子顕微鏡による表面写真(1000倍)であ
る。FIG. 1 is a surface photograph (1000 times) of a stretched film obtained in Example 1 by a scanning electron microscope.
【図2】 実施例2において、得られた延伸フィルムの
走査型電子顕微鏡による表面写真(1000倍)であ
る。FIG. 2 is a scanning electron micrograph (1000 ×) of the obtained stretched film in Example 2.
【図3】 実施例3において、得られた延伸フィルムの
走査型電子顕微鏡による表面写真(1000倍)であ
る。FIG. 3 is a scanning electron microscope surface photograph (1000 ×) of the obtained stretched film in Example 3.
【図4】 比較例1において、得られた延伸フィルムの
走査型電子顕微鏡による表面写真(1000倍)であ
る。FIG. 4 is a scanning electron microscope surface photograph (1000 ×) of the obtained stretched film in Comparative Example 1.
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 FI 技術表示箇所 B29L 7:00 ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continuation of the front page (51) Int.Cl. 6 Identification code Internal reference number FI technical display location B29L 7:00
Claims (4)
スチレン系重合体を70〜100重量%含有するスチレ
ン系樹脂組成物からなる延伸フィルムであって、少なく
とも一方の表面に該スチレン系重合体からなる直径0.2
〜5.0μmの突起を有することを特徴とするポリスチレ
ン系延伸フィルム。1. A stretched film comprising a styrene resin composition containing 70 to 100% by weight of a styrene polymer having a high syndiotactic structure, the stretch film comprising at least one surface of the styrene polymer. Diameter 0.2
A polystyrene-based stretched film having protrusions of up to 5.0 μm.
以上であることを特徴とする請求項1記載のポリスチレ
ン系延伸フィルム。2. The polystyrene stretched film according to claim 1, wherein the number of the protrusions is 10 or more in 10000 μm 2 .
とする請求項1又は2記載のポリスチレン系延伸フィル
ム。3. The stretched polystyrene film according to claim 1, which has a dynamic friction coefficient of 0.7 or less.
スチレン系重合体を70〜100重量%含有するスチレ
ン系樹脂組成物からなり、平均結晶化度25%以下で且
つ球晶の存在する予備成形体を、2軸延伸、熱処理する
ことを特徴とするポリスチレン系延伸フィルムの製造方
法。4. A preform comprising a styrene-based resin composition containing 70 to 100% by weight of a styrene-based polymer having a high syndiotactic structure, having an average crystallinity of 25% or less and having spherulites. Is biaxially stretched and heat-treated, a method for producing a polystyrene-based stretched film.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1994895A JPH08187779A (en) | 1995-01-13 | 1995-01-13 | Stretched polystyrenic film and production thereof |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1994895A JPH08187779A (en) | 1995-01-13 | 1995-01-13 | Stretched polystyrenic film and production thereof |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH08187779A true JPH08187779A (en) | 1996-07-23 |
Family
ID=12013436
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JP1994895A Pending JPH08187779A (en) | 1995-01-13 | 1995-01-13 | Stretched polystyrenic film and production thereof |
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Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH08187779A (en) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2000309020A (en) * | 1999-02-23 | 2000-11-07 | Sekisui Chem Co Ltd | Stretch molding polyethylene raw fabric sheet and manufacture of oriented polyethylene sheet |
JP2013241626A (en) * | 2013-08-30 | 2013-12-05 | Teijin Ltd | High-insulating film |
-
1995
- 1995-01-13 JP JP1994895A patent/JPH08187779A/en active Pending
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JP2000309020A (en) * | 1999-02-23 | 2000-11-07 | Sekisui Chem Co Ltd | Stretch molding polyethylene raw fabric sheet and manufacture of oriented polyethylene sheet |
JP2013241626A (en) * | 2013-08-30 | 2013-12-05 | Teijin Ltd | High-insulating film |
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