JPH0386707A - High density-magnetic recording medium - Google Patents

High density-magnetic recording medium

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Publication number
JPH0386707A
JPH0386707A JP1223185A JP22318589A JPH0386707A JP H0386707 A JPH0386707 A JP H0386707A JP 1223185 A JP1223185 A JP 1223185A JP 22318589 A JP22318589 A JP 22318589A JP H0386707 A JPH0386707 A JP H0386707A
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JP
Japan
Prior art keywords
film
recording medium
magnetic recording
syndiotactic structure
base film
Prior art date
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Pending
Application number
JP1223185A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Keisuke Funaki
圭介 舟木
Yuichi Oki
祐一 大木
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Idemitsu Kosan Co Ltd
Original Assignee
Idemitsu Kosan Co Ltd
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Publication date
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  • Addition Polymer Or Copolymer, Post-Treatments, Or Chemical Modifications (AREA)
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Abstract

PURPOSE:To obtain a high density-magnetic recording medium which has high reliability even under high temperature and high humidity conditions, does not curl during vacuum deposition and excels in coercive force by forming a vertical magnetic layer on a base film comprising an oriented laminated film comprising a styrene polymer of a syndiotactic structure and having specified physical property values. CONSTITUTION:An oriented film of a styrene polymer mainly having a syndiotactic structure or its composition or a laminated film containing one or more of such oriented films is used as a base film. This base film should have a coefficient of linear expansion <=5X10<-5>/ deg.C, desirably 4X10<-5>/ deg.C, a coefficient of static friction mum of 0.3-1.0, desirably 0.3-0.9, a heat distortion temperature >=230 deg.C, desirably >=235 deg.C, a surface roughness Ra on at least either surface (especially the layer on which a magnetic layer is formed) of 0.001-0.02mum and a coefficient of humidity expansion desirably <=10<-5>/%RH. A vertical magnetic layer is formed on at least either surface of this film to form a high density- magnetic recording medium.

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は高密度磁気記録媒体に関し、詳しくは蒸着時の
カールがなくまた保磁力のすぐれた高密度磁気記録媒体
に関する。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION [Field of Industrial Application] The present invention relates to a high-density magnetic recording medium, and more particularly to a high-density magnetic recording medium that is free from curl during deposition and has excellent coercive force.

〔従来の技術及び発明が解決しようとする課題〕従来、
磁気記録媒体としてポリエチレンテレフタレー) (P
ET)フィルム支持体に磁性層を塗布されたものが、一
般的に用いられている。
[Problems to be solved by conventional techniques and inventions] Conventionally,
Polyethylene terephthalate as a magnetic recording medium) (P
ET) A film support coated with a magnetic layer is generally used.

ところで、近年、磁気記録媒体の高密度化の要求が高ま
っている。特にビデオテープでは、小型化、高画質、長
時間録画など様々な要求がある。
Incidentally, in recent years, there has been an increasing demand for higher density magnetic recording media. In particular, for videotapes, there are various demands such as miniaturization, high image quality, and long recording times.

高密度化の技術としては、種々の技術が提案されている
が、垂直磁気記録が有望とされている。この技術として
は、バリウムフェライトの塗布。
Although various techniques have been proposed for increasing the density, perpendicular magnetic recording is considered to be promising. This technology involves coating barium ferrite.

Co−Crのスパッタリング等が提案されている。Co--Cr sputtering and the like have been proposed.

一方、本発明者らのグループが先般開発した主としてシ
ンジオタクチック構造を有するスチレン系重合体の延伸
フィルムは、PETに比べ、耐熱性、耐水性や寸法安定
性にすぐれ、しかもオリゴマーの少ない重合体であって
、様々な用途が期待されている。しかし、今までの延伸
フィルムでは、磁気記録媒体として必要なすべり性及び
平滑性の両方を満足するものはない。
On the other hand, the stretched film of a styrene polymer mainly having a syndiotactic structure, which was recently developed by the group of the present inventors, has superior heat resistance, water resistance, and dimensional stability compared to PET, and is a polymer with less oligomers. Therefore, various uses are expected. However, none of the conventional stretched films satisfies both the slipperiness and smoothness required for a magnetic recording medium.

また、従来のPETフィルムにCo−Cr等のスパッタ
リング膜を形成させる際には、その磁気特性を充分に発
現させるために、高温下でのスパッタリングが必要であ
る。しかし、PETフィルムでは、本来的に耐熱性が不
充分であり、しかもその上限の温度でのスパッタリング
では、スパッタリング膜を形成したPETフィルムがカ
ールする等の問題や、高温、減圧下でのフィルム表面へ
のオリゴマー析出による問題などがある。
Furthermore, when forming a sputtering film of Co--Cr or the like on a conventional PET film, sputtering at high temperatures is required in order to fully develop its magnetic properties. However, PET film inherently has insufficient heat resistance, and sputtering at its upper limit temperature may cause problems such as curling of the PET film on which the sputtered film is formed, or the film surface may deteriorate under high temperature and reduced pressure. There are problems such as oligomer precipitation.

そこで、本発明者らはこの主としてシンジオタクチック
構造を有するスチレン系重合体を用いて、高温、高温等
の過酷な条件下でも信頼性が高く、また蒸着時のカール
がなく、保磁力のすぐれた高密度磁気記録媒体を開発す
べく鋭意研究を重ねた。
Therefore, the present inventors developed a styrene-based polymer that mainly has a syndiotactic structure, which is highly reliable even under harsh conditions such as high temperatures, does not curl during vapor deposition, and has excellent coercive force. Intensive research was conducted to develop high-density magnetic recording media.

〔課題を解決するための手段〕[Means to solve the problem]

その結果、上記スチレン系重合体あるいはその組成物か
らなる延伸フィルムまたは該延伸フィルムを含む積層フ
ィルムであって、線膨張係数、静g擦係数μs、熱変形
温度及び表面粗さRaが一定範囲にある基材フィルムに
垂直磁性層を設けたものが、上記目的に適う高密度磁気
記録媒体になることを見出した。本発明はかかる知見に
基いて充放したものである。
As a result, the linear expansion coefficient, static g-friction coefficient μs, heat distortion temperature, and surface roughness Ra of the stretched film made of the above-mentioned styrenic polymer or its composition or the laminated film containing the stretched film are within a certain range. It has been found that a substrate film provided with a perpendicular magnetic layer can be used as a high-density magnetic recording medium suitable for the above purpose. The present invention is based on this knowledge.

すなわち本発明は、主としてシンジオタクチック構造を
有するスチレン系重合体又はその組成物の延伸フィルム
あるいは該延伸フィルムを含む積層フィルムであって、
線膨張係数が5X10−’/℃以下、静摩擦係数μsが
0.3〜1.0、熱変形温度が230℃以上であり、か
つ少なくとも片面の表面粗さRaが0.001〜0.0
2 amである基材フィルムの少なくとも片面に垂直磁
性層を形成してなる高密度磁気記録媒体を提供するもの
である。
That is, the present invention mainly relates to a stretched film of a styrenic polymer having a syndiotactic structure or a composition thereof, or a laminated film containing the stretched film,
The coefficient of linear expansion is 5X10-'/°C or less, the coefficient of static friction μs is 0.3 to 1.0, the thermal deformation temperature is 230°C or more, and the surface roughness Ra of at least one side is 0.001 to 0.0.
The present invention provides a high-density magnetic recording medium in which a perpendicular magnetic layer is formed on at least one side of a base film having a magnetic flux density of 2 am.

本発明に用いる磁気記録媒体の基材フィルムは、前述の
ように主としてシンジオタクチック構造を有するスチレ
ン系重合体の延伸フィルム、あるいはこのスチレン系重
合体を一成分とする組成物の延伸フィルム、又はこれら
の延伸フィルムを一層又は二層以上含む積層フィルムで
ある。また、この基材フィルムは、線膨張係数が5 X
 10−’/”C以下、好ましくは4 X 10−’/
”C以下であり、静摩擦係数μsが0.3〜1.0、好
ましくは0.3〜0.9であり、熱変形温度が230℃
以上、好ましくは235℃以上である。さらに該基材フ
ィルムは、少なくとも片面の表面粗さRaが0.001
〜0.02μm、好ましくは0.005〜0.02μm
である。とりわけ、磁性層形成側の基材フィルムの表面
粗さRaが上記範囲にあることが望ましい。
As mentioned above, the base film of the magnetic recording medium used in the present invention is a stretched film of a styrenic polymer mainly having a syndiotactic structure, or a stretched film of a composition containing this styrenic polymer as one component, or It is a laminated film containing one or more layers of these stretched films. In addition, this base film has a linear expansion coefficient of 5
10-'/"C or less, preferably 4 x 10-'/"
"C or less, the static friction coefficient μs is 0.3 to 1.0, preferably 0.3 to 0.9, and the heat distortion temperature is 230 ° C.
The temperature is preferably 235°C or higher. Furthermore, the base film has a surface roughness Ra of 0.001 on at least one side.
~0.02 μm, preferably 0.005-0.02 μm
It is. In particular, it is desirable that the surface roughness Ra of the base film on the side where the magnetic layer is formed is within the above range.

なお、上記基材フィルムの湿度膨張係数については、特
に制限はないが、5X10−’/%RH以下が好ましい
The humidity expansion coefficient of the base film is not particularly limited, but is preferably 5X10-'/%RH or less.

このような基材フィルムを作成するにあたっては、各種
の方法があるが、具体的には下記(1)〜(3)の三つ
の方法を例示することができる。
There are various methods for producing such a base film, and specifically, the following three methods (1) to (3) can be exemplified.

(1)主としてシンジオタクチック構造を有するスチレ
ン系重合体に、無機微粒子を配合してなるMi戒物、特
に、平均粒径0.01〜3μmの無機微粒子をo、oo
i〜1重量%配合してなる組成物を加熱溶融、押出、冷
却固化、加熱、延伸(面積倍率6倍以上が好ましい。)
、熱処理(220℃以上が好ましい。)して延伸フィル
ムを形成する。これによって、この延伸フィルムのみか
らなる両面が平滑かつ易滑な単層フィルムが得られる。
(1) Mi products made by blending inorganic fine particles into a styrene polymer mainly having a syndiotactic structure, especially inorganic fine particles with an average particle size of 0.01 to 3 μm.
A composition containing i to 1% by weight is heated and melted, extruded, solidified by cooling, heated, and stretched (area magnification of 6 times or more is preferable).
, heat treatment (preferably at 220°C or higher) to form a stretched film. As a result, a single-layer film consisting only of this stretched film and having smooth and smooth surfaces on both sides can be obtained.

(2)上記(1)で用いた組成物と、主としてシンジオ
タクチック構造を有するスチレン系重合体、特に残留ア
ルミニウム分が3000ppm以下、残留チタン分が1
0ppm以下及び残留スチレン系単量体が7000pp
m以下の高純度のスチレン系重合体、あるいはこのスチ
レン系重合体を主成分とする組成物(但し、無機微粒子
を含有しない。)とを加熱溶融、共押出、冷却固化、加
熱、延伸、熱処理して二種類あるいはそれ以上の延伸フ
ィルムを積層状態で形成する。これによって、片面が超
平滑で他面が易滑な粗面の多層(積層)フィルムが得ら
れる。
(2) The composition used in (1) above and a styrenic polymer mainly having a syndiotactic structure, especially a residual aluminum content of 3000 ppm or less and a residual titanium content of 1
0ppm or less and residual styrenic monomer 7000pp
A high-purity styrene polymer with a purity of less than m or a composition containing this styrene polymer as a main component (however, it does not contain inorganic fine particles) is heated and melted, coextruded, solidified by cooling, heated, stretched, and heat treated. Two or more types of stretched films are formed in a laminated state. As a result, a multilayer (laminated) film with one side ultra-smooth and the other side smooth and rough can be obtained.

(3)主としてシンジオタクチック構造を有するスチレ
ン系重合体、特に残留アルミニウム分が3000pp−
以下、残留チタン分が10ppm以下及び残留スチレン
系単量体が7000ppm以下の高純度のスチレン系重
合体あるいはこのスチレン系重合体を主成分とする組成
物(但し、無機微粒子を含有しない。)を、加熱溶融、
押出、冷却固化、加熱。
(3) A styrenic polymer mainly having a syndiotactic structure, especially a residual aluminum content of 3000 pp-
Hereinafter, a high purity styrenic polymer with a residual titanium content of 10 ppm or less and a residual styrenic monomer content of 7000 ppm or less, or a composition containing this styrene polymer as a main component (however, it does not contain inorganic fine particles) will be used. , heating melting,
Extrusion, cooling solidification, heating.

延伸、熱処理する過程でその少なくとも片面に、表面粗
面化可能な樹脂或いは無機超微粒子を含有する樹脂組成
物からなる層を、貼り合わせ(ラミネート)、塗布ある
いは蒸着等により形成させることによって、片面が超平
滑でもう一方の面が易滑な粗面の多層フィルムが得られ
る。この際上記樹脂組成物からなる層は、必要に応じて
延伸したものを用いてもよい。
In the process of stretching and heat treatment, a layer made of a resin capable of surface roughening or a resin composition containing inorganic ultrafine particles is formed on at least one side by laminating, coating, vapor deposition, etc. A multilayer film can be obtained in which one side is ultra-smooth and the other side is smooth and rough. At this time, the layer made of the resin composition may be stretched as necessary.

ここで、積層に用いる樹脂は、主としてシンジオタクチ
ック構造を有するスチレン系重合体や各種ブレンド樹脂
を用いることができるが、融点あるいは軟化点の高い樹
脂が好ましい。また、他樹脂中に含有させる無機微粒子
の種類、量2粒径は、後述の無機微粒子を用いることが
できる。
Here, as the resin used for lamination, a styrene polymer having a syndiotactic structure or various blend resins can be used, but a resin having a high melting point or softening point is preferable. Further, regarding the type, amount, and particle size of the inorganic fine particles to be contained in the other resin, the inorganic fine particles described below can be used.

また、積層する方法は特に限定はないが、共押出法の他
にこれらの他樹脂、他樹脂組成物を溶解、塗布する方法
を延伸フィルム製造工程に組み込むと生産性が良い。
Although there are no particular limitations on the laminating method, productivity is improved if a method of melting and coating other resins or other resin compositions is incorporated into the stretched film manufacturing process in addition to the coextrusion method.

ここで、特にテープにおいては、上記粗面を有する層を
パックコート層とする場合があり、主として磁性層はこ
の反対の超平滑面側に設けられる。
Here, particularly in tapes, the layer having the rough surface may be used as a pack coat layer, and the magnetic layer is mainly provided on the opposite ultra-smooth surface side.

このようにして得られた延伸フィルムは、厚さ3〜15
0μmで、線膨張係数5 X 10−’/”C以下、静
摩擦係数μsが0.3〜1.0.熱変形温度が230℃
以上であり、かつ少なくとも片面の表面粗さRaが0.
001〜0.02μmのものである。また湿度膨張係数
が5X10−’/%RH以下であればより好ましい。
The stretched film thus obtained has a thickness of 3 to 15
0 μm, linear expansion coefficient of 5 x 10-'/”C or less, static friction coefficient μs of 0.3 to 1.0, heat distortion temperature of 230°C
above, and the surface roughness Ra of at least one side is 0.
001 to 0.02 μm. Further, it is more preferable that the humidity expansion coefficient is 5×10 −′/%RH or less.

フィルム厚さについては、2〜20tImのフィルムが
磁気テープ用に、20〜150.czmのフィルムが磁
気ディスク用に、100〜500μmのフィルムが磁気
カード用として好適である。
Regarding the film thickness, a film of 2 to 20 tIm is used for magnetic tape, and a film of 20 to 150. A czm film is suitable for magnetic disks, and a 100 to 500 μm film is suitable for magnetic cards.

これらのフィルムを用いて、磁気記録媒体を作成するが
、必要に応じて、コロナ処理等により表面接着性を改良
したフィルムも用いてもよく、さらに予め、磁性層を設
ける側に接着層を設けていてもよい。
These films are used to create magnetic recording media, but if necessary, films whose surface adhesion has been improved by corona treatment etc. may also be used, and an adhesive layer may be provided in advance on the side where the magnetic layer is to be provided. You can leave it there.

ところで、上記フィルム素材として用いられる主として
シンジオタクチック構造を有するスチレン系重合体とは
、立体化学構造が主としてシンジオタクチック構造、即
ち炭素−炭素結合から形成される主鎖に対して側鎖であ
るフェニル基や置換フェニル基が交互に反対方向に位置
する立体構造を有するものであり、そのタフティシティ
−は同位体炭素による核磁気共鳴法C3C−NMR法)
により定量される。13C−NMR法により測定される
タフティシティ−は、連続する複数個の構成単位の存在
割合、例えば2個の場合はダイア・ンド。
By the way, the styrenic polymer mainly having a syndiotactic structure used as the above-mentioned film material has a stereochemical structure mainly having a syndiotactic structure, that is, a side chain with respect to the main chain formed from carbon-carbon bonds. It has a three-dimensional structure in which phenyl groups and substituted phenyl groups are alternately located in opposite directions, and its toughness is determined by nuclear magnetic resonance (C3C-NMR) using carbon isotopes.
It is quantified by Toughness measured by 13C-NMR is the proportion of a plurality of consecutive constituent units, for example, if there are two units, it is a diamond.

3個の場合はトリアット、5個の場合はペンタッドによ
って示すことができるが、本発明に言う主としてシンジ
オタクチック構造を有するスチレン系重合体とは、通常
はラセミダイアツドで75%以上、好ましくは85%以
上、若しくはラセミペンタッドで30%以上、好ましく
は50%以上のシンジオタクテイシテイ−を有するポリ
スチレン。
In the case of 3 atoms, it can be expressed as triat, and in the case of 5 atoms, it can be expressed as pentad, but the styrenic polymer mainly having a syndiotactic structure as referred to in the present invention is usually racemic diamond with a proportion of 75% or more, preferably 85%. Polystyrene having a syndiotacticity of 30% or more, preferably 50% or more in racemic pentads.

ポリ(アルキルスチレン)、ポリ(ハロゲン化スチレン
)、ポリ(アルコキシスチレン)、ポリ(ビニル安息香
酸エステル)、これらの水素化重合体およびこれらの混
合物、あるいはこれらの構造単位を含む共重合体を指称
する。なお、ここでポリ(アルキルスチレン)としては
、ポリ(メチルスチレン)、ポリ(エチルスチレン)、
ポリ(プロピルスチレン)、ポリ(ブチルスチレン)、
ポリ(フェニルスチレン)、ポリ(ビニルナフタレン)
、ポリ(ビニルスチレン)9ポリ(アセナフチレン)な
どがあり、ポリ(ハロゲン化スチレン)としては、ポリ
(クロロスチレン)、ポリ(ブロモスチレン)、ポリ(
フルオロスチレン)などがある、また、ポリ(アルコキ
シスチレン)としては、ポリ(メトキシスチレン)、ポ
リ(エトキシスチレン)などがある。これらのうち特に
好ましいスチレン系重合体としては、ポリスチレン、ポ
リ(p−メチルスチレン)、ポリ(m−メチルスチレン
)、ポリ(p−ターシャリ−ブチルスチレン)ポリ(p
−クロロスチレン)、ポリ(m−クロロスチレン)、ポ
リ(p−フルオロスチレン)、またスチレンとp−メチ
ルスチレンとの共重合体をあげることができる(特開昭
62−187708号公報)。
Refers to poly(alkyl styrene), poly(halogenated styrene), poly(alkoxystyrene), poly(vinyl benzoate), hydrogenated polymers thereof, mixtures thereof, or copolymers containing these structural units. do. Note that poly(alkylstyrene) here includes poly(methylstyrene), poly(ethylstyrene),
Poly(propylstyrene), poly(butylstyrene),
Poly(phenylstyrene), poly(vinylnaphthalene)
, poly(vinylstyrene) 9 poly(acenaphthylene), etc. Poly(halogenated styrene) includes poly(chlorostyrene), poly(bromostyrene), poly(bromostyrene), etc.
Examples of poly(alkoxystyrene) include poly(methoxystyrene) and poly(ethoxystyrene). Among these, particularly preferred styrenic polymers include polystyrene, poly(p-methylstyrene), poly(m-methylstyrene), poly(p-tert-butylstyrene) poly(p-
-chlorostyrene), poly(m-chlorostyrene), poly(p-fluorostyrene), and copolymers of styrene and p-methylstyrene (JP-A-62-187708).

更に、スチレン系共重合体におけるコモノマーとしては
、上述の如きスチレン系重合体のモノマーのほか、エチ
レン、プロピレン、ブテン、ヘキセン、オクテン等のオ
レフィンモノマー、ブタジェン、イソプレン等のジエン
モノマー、環状ジエンモノマーやメタクリル酸メチル、
無水マレイン酸、アクリロニトリル等の極性ビニルモノ
マー等をあげることができる。
Furthermore, as comonomers in the styrene copolymer, in addition to the above-mentioned styrene polymer monomers, olefin monomers such as ethylene, propylene, butene, hexene, and octene, diene monomers such as butadiene and isoprene, cyclic diene monomers, etc. methyl methacrylate,
Examples include polar vinyl monomers such as maleic anhydride and acrylonitrile.

またこのスチレン系重合体は、分子量について特に制限
はないが、重量平均分子量が10,000以上3,00
0,000以下のものが好ましく、とりわけ50,00
0以上1,500.000以下のものが最適である。こ
こで重量平均分子量が10.000未満であると、延伸
が充分にできない。さらに、分子量分布についてもその
広狭は制約がなく、様々なものを充当することが可能で
あるが、重量平均分子量(Mw)/数平均分子it(M
n)が1.5以上8以下が好ましい、なお、この主とし
てシンジオタクチック構造を有するスチレン系重合体は
、従来のアタクチック構造のスチレン系重合体に比べて
耐熱性が格段に優れている。
In addition, this styrene polymer has a weight average molecular weight of 10,000 or more and 3,000 or more, although there is no particular restriction on the molecular weight.
0,000 or less is preferred, especially 50,00
The optimum value is 0 or more and 1,500.000 or less. If the weight average molecular weight is less than 10,000, sufficient stretching cannot be achieved. Furthermore, there are no restrictions on the width or narrowness of the molecular weight distribution, and various values can be used, but the weight average molecular weight (Mw)/number average molecular it (M
n) is preferably 1.5 or more and 8 or less. Note that this styrenic polymer mainly having a syndiotactic structure has much better heat resistance than conventional styrenic polymers having an atactic structure.

また、前述の延伸フィルム(特に平滑面を有するフィル
ム〉を構成する主としてシンジオタクチック構造を有す
るスチレン系重合体は、上述した如きものであればよい
が、特に残留アル′、−1−ウム分が3000ppm以
下、残留チタン分が10ppn+以下及び残留スチレン
系単量体が7000ppm以下のものが好ましい。とり
わけ、残留アルミニウム分が1000ppn+以下、残
留チタン分が7 ppm以下及び残留スチレン系単量体
が5000pp+s以下のものが最適である。
The styrenic polymer mainly having a syndiotactic structure constituting the above-mentioned stretched film (particularly a film having a smooth surface) may be of the type described above, but especially the one containing residual aluminum and -1-um. It is preferable that the residual aluminum content is 3000 ppm or less, the residual titanium content is 10 ppn+ or less, and the residual styrene monomer is 7000 ppm or less.In particular, the residual aluminum content is 1000 ppn+ or less, the residual titanium content is 7 ppm or less, and the residual styrene monomer is 5000 pp+s. The following are optimal.

このような高純度のスチレン系重合体を製造するには、
様々な手法があるが、例えば次の如くである。まず、残
留アルくニウム分及び残留チタン分を上記の範囲内に抑
えるためには、■高活性触媒を用いてスチレン系重合体
を製造する方法(特願昭63−7466号明細書参照)
あるいは■脱灰、洗浄による方法、即ち、特開昭62−
187708号公報等に記載の通常のIVA族の有機金
属化合物とメチルアルミノキサン等のアルキルアルミノ
キサンを触媒成分として、スチレン系単量体を重合させ
た後、得られたシンジオタクチック構造のスチレン系重
合体を、酸、アルカリを適当な溶媒に溶解させた溶液に
より脱灰し、適当な溶媒で洗浄する方法である。
To produce such high-purity styrenic polymers,
There are various methods, such as the following. First, in order to suppress the residual aluminum content and the residual titanium content within the above range, there is a method for producing a styrenic polymer using a highly active catalyst (see Japanese Patent Application No. 7466/1983).
Or ■ method by deashing and washing, that is, JP-A-62-
A styrenic polymer with a syndiotactic structure obtained by polymerizing a styrenic monomer using an ordinary IVA group organometallic compound described in Publication No. 187708 and an alkylaluminoxane such as methylaluminoxane as a catalyst component. This is a method of deashing with a solution of acid or alkali dissolved in an appropriate solvent, and washing with an appropriate solvent.

このようにして■あるいは■の方法により、残留アルご
ニウム分及び残留チタン分の少ないシンジオタクチック
構造のスチレン系重合体が得られるが、さらに、これを
下記■あるいは■の方法で処理すれば、残留スチレン系
単量体が7000pp−以下のものとなる。
In this way, a styrenic polymer with a syndiotactic structure with a low residual argonium content and residual titanium content can be obtained by the method (■) or (2). , the residual styrene monomer is 7000 pp- or less.

■上記スチレン系重合体を減圧乾燥する方法ここで減圧
乾燥するにあたっては、乾燥温度を該重合体のガラス転
移温度以上とすると効率がよい。
(2) Method of drying the styrenic polymer under reduced pressure When drying under reduced pressure, it is efficient to set the drying temperature to the glass transition temperature or higher of the polymer.

■上記スチレン系重合体を押出機にまり脱気する方法 上記スチレン系重合体あるいは■の方法で減圧乾燥した
スチレン系重合体を、押出機により脱気し、同時に成形
用材料(ペレット)とする。ここで押出機はベント付き
が好ましく、−軸、二軸いずれの押出機を用いてもよい
■Method of degassing the above styrenic polymer in an extruder The above styrenic polymer or the styrene polymer dried under reduced pressure using method (■) is degassed in an extruder, and at the same time is made into a molding material (pellet). . Here, the extruder is preferably equipped with a vent, and either a -shaft or twin-screw extruder may be used.

このような処理を経て残留アルミニウム分、残留チタン
分及び残留スチレン系単量体の少ない高純度のシンジオ
タクチック構造のスチレン系重合体が得られる。
Through such treatment, a highly purified styrenic polymer having a syndiotactic structure with a small residual aluminum content, residual titanium content, and residual styrene monomer can be obtained.

一方、易清な粗面を有する延伸フイ、ルムの構成素材は
、主としてシンジオタクチック構造を有するスチレン系
重合体に無機微粒子を含有させた組成物、特に上記スチ
レン系重合体に平均粒径0.0〜3μmの無機微粒子を
o、ooi〜1重量%含有させた組成物である。この組
成物は、スチレン系重合体(但し、必ずしも上記の如き
高純度であることを要せず、特開昭62−187708
号公報等に記載の方法等によればよい。)に、無機微粒
子を配合するあるいは重合中に析出させることによって
調製される。ここで、無機微粒子とは、IA族、  I
IA族、IVA族、VIA族、■A族、■族。
On the other hand, the constituent materials of stretched films and lumens with easy-to-clean rough surfaces are mainly composed of a styrene polymer having a syndiotactic structure containing inorganic fine particles, especially the styrene polymer having an average particle size of 0. The composition contains o, ooi to 1% by weight of inorganic fine particles of 0 to 3 μm. This composition is made of a styrene-based polymer (however, it does not necessarily have to be of high purity as described above,
The method described in the publication, etc. may be used. ) with inorganic fine particles or by precipitating them during polymerization. Here, the inorganic fine particles are group IA, I
Group IA, Group IVA, Group VIA, Group ■A, Group ■.

IB族、  IIB族、IIIB族、IVB族元素の酸
化物。
Oxides of Group IB, Group IIB, Group IIIB, Group IVB elements.

水酸化物、硫化物、窒素化物、ハロゲン化物、炭酸塩、
酢酸塩、燐酸塩、亜燐酸塩、有機カルボン酸塩、珪酸塩
、チタン酸塩、硼酸塩及びそれらの含水化合物、それら
を中心とする複合化合物、天然鉱物粒子を示す。
hydroxides, sulfides, nitrides, halides, carbonates,
Shows acetates, phosphates, phosphites, organic carboxylates, silicates, titanates, borates and their hydrated compounds, complex compounds centered on them, and natural mineral particles.

具体的には、弗化リチウム、硼砂(硼酸ナトリウム含水
塩)等のIA族元素化合物、炭酸マグネシウム、燐酸マ
グネシウム、酸化マグネシウム(マグネシア)、塩化マ
グネシウム、酢酸マグネシウム、弗化マグネシウム、チ
タン酸マグネシウム、珪酸マグネシウム、珪酸マグネシ
ウム含水塩(タルク)、炭酸カルシウム、燐酸カルシウ
ム。
Specifically, lithium fluoride, Group IA element compounds such as borax (sodium borate hydrate), magnesium carbonate, magnesium phosphate, magnesium oxide (magnesia), magnesium chloride, magnesium acetate, magnesium fluoride, magnesium titanate, and silicic acid. Magnesium, magnesium silicate hydrate (talc), calcium carbonate, calcium phosphate.

亜燐酸カルシウム、硫酸カルシウム(石膏)、酢酸カル
シウム、テレフタル酸カルシウム、水酸化カルシウム、
珪酸カルシウム8弗化カルシウム。
Calcium phosphite, calcium sulfate (gypsum), calcium acetate, calcium terephthalate, calcium hydroxide,
Calcium silicate calcium octafluoride.

チタン酸カルシウム、チタン酸ストロンチウム。Calcium titanate, strontium titanate.

炭酸バリウム、燐酸バリウム、硫酸バリウム、亜燐酸バ
リウム等の■A族元素化合物、二酸化チタン(チタニア
)、−酸化チタン、窒化チタン、二酸化ジルコニウム(
ジルコニア)、−酸化ジルコニウム等のl’lt/A族
元素化合物、二酸化モリブデン。
■ Group A element compounds such as barium carbonate, barium phosphate, barium sulfate, barium phosphite, titanium dioxide (titania), titanium oxide, titanium nitride, zirconium dioxide (
l'lt/A group element compounds such as zirconia), -zirconium oxide, and molybdenum dioxide.

三酸化モリブデン、硫化モリブデン等のVIA族元素化
合物、塩化マンガン、酢酸マンガン等の■A族元素化合
物、塩化コバルト、酢酸コバルト等の■族元素化合物、
沃化第一銅等のIB族元素化合物、酸化亜鉛、酢酸亜鉛
等のIIB族元素化合物、酸化アルミニウム(アルミナ
)、水酸化アルミニウム、弗化アルミニウム、アルミノ
シリケート(珪酸アルξす、カオリン、カオリナイト)
等の111B族元素化合物、酸化珪素(シリカ、シリカ
ゲル)9石墨、カーボン、グラファイト、ガラス等の■
B族元素化合物、カーナル石、カイナイト。
Group VIA element compounds such as molybdenum trioxide and molybdenum sulfide; ■ Group A element compounds such as manganese chloride and manganese acetate; Group ■ element compounds such as cobalt chloride and cobalt acetate;
IB group element compounds such as cuprous iodide, IIB group element compounds such as zinc oxide and zinc acetate, aluminum oxide (alumina), aluminum hydroxide, aluminum fluoride, aluminosilicate (aluminum silicate, kaolin, kaolinite) )
Group 111B element compounds such as silicon oxide (silica, silica gel) 9 graphite, carbon, graphite, glass, etc.
Group B element compounds, carnalite, kainite.

雲母(マイカ、キンウンモ)、バイロース鉱等の天然鉱
物の粒子が挙げられる。
Examples include particles of natural minerals such as mica and villoseite.

本発明で用いる無機微粒子の平均粒径は、特に制限はな
いが、好ましくは0.01〜3μm1より好ましくは0
.01〜1amで、組成物中の含量は0.001〜1重
量%、好ましくはo、ooi〜0.6重量%である。こ
こで平均粒径が0.01μmより小さいと粒子同士の二
次凝集のため分散が困難となる場合があり、また平均粒
径が3μmより大きいと平滑性が低下する。また、&l
lll生物中機微粒子の含量が0.001重量%より少
ないとすべり性の改良の効果が不充分となり、含量が1
重量%より多いと薄物での延伸が困難となる場合がある
The average particle size of the inorganic fine particles used in the present invention is not particularly limited, but is preferably from 0.01 to 3 μm, more preferably from 0.01 to 3 μm.
.. 01-1am, the content in the composition is 0.001-1% by weight, preferably o,ooi-0.6% by weight. If the average particle size is smaller than 0.01 μm, dispersion may become difficult due to secondary aggregation of particles, and if the average particle size is larger than 3 μm, smoothness will decrease. Also, &l
lll If the content of biologically sensitive particles is less than 0.001% by weight, the effect of improving slipperiness will be insufficient;
If the amount is more than % by weight, it may become difficult to stretch thin products.

また、前述の無機微粒子は本発明の目的を達成する上で
、効果的な成分であるが、本発明の目的を阻害しない限
り、他の種類あるいは他の粒径の微粒子、無機充填材等
を含むものであってもよい。
In addition, although the above-mentioned inorganic fine particles are an effective component in achieving the object of the present invention, other types or particle sizes of fine particles, inorganic fillers, etc. may be used as long as they do not impede the object of the present invention. It may include.

本発明で用いる無機微粒子は、最終的な成形品(フィル
ム)に含有されるが、含有させる方法に限定はない。例
えば、スチレン系単量体の重合中の任意の過程で添加あ
るいは析出させる方法、溶融押出する任意の過程で添加
する方法が挙げられる。
The inorganic fine particles used in the present invention are contained in the final molded product (film), but there is no limitation on the method of containing them. Examples include a method of adding or precipitating the styrenic monomer at any step during polymerization, and a method of adding at any step of melt extrusion.

この中で特に本発明においては、重合過程の任意の段階
で上記無機微粒子をスラリー状として添加する方法が、
粒子の二次凝集を防げるうえで好ましい。
Among these, particularly in the present invention, the method of adding the above-mentioned inorganic fine particles in the form of a slurry at any stage of the polymerization process is
This is preferable since secondary aggregation of particles can be prevented.

またこれらの微粒子を効果的に分散させるため、分散剤
、界面活性剤等を用いてもよい。
Further, in order to effectively disperse these fine particles, a dispersant, a surfactant, etc. may be used.

上述の基材フィルムを構成する延伸フィルムに使用され
る素材には、さらに成形性、力学物性。
The material used for the stretched film that constitutes the base film mentioned above also has moldability and mechanical properties.

表面性等を考慮して、本発明の目的を阻害しない範囲で
、酸化防止剤、帯電防止剤、難燃剤、無機充填材、さら
に他の樹脂などを適宜配合することもできる。
In consideration of surface properties, etc., antioxidants, antistatic agents, flame retardants, inorganic fillers, and other resins may be appropriately blended within a range that does not impede the object of the present invention.

ここで他の樹脂としては、各種のものがあるが、例えば
、アククチツク構造のスチレン系重合体。
There are various types of other resins, such as styrene polymers with an active structure.

アイソタクチック構造のスチレン系重合体、ポリフェニ
レンエーテル等は、前述のシンジオタクチック構造のス
チレン系重合体と相溶になりやすく、延伸用予備成形体
を作成するときの結晶化の制御に有効で、その後の延伸
性が向上し、延伸条件の制御が容易で、且つ力学物性に
優れたフィルムを得ることができる。このうち、アクク
チツク構造および/またはアイソタクチック構造のスチ
レン系重合体を含有させる場合、シンジオタクチック構
造のスチレン系重合体と同様のモノマーからなるものが
好ましい。また、これら相溶性樹脂成分の含有割合は7
0〜1重量%、特に好ましくは50〜2重量%とすれば
よい。ここで相溶性樹脂成分の含有割合が70重量%を
超えると、シンジオタクチック構造のスチレン系重合体
の長所である耐熱性等が損なわれるため好ましくない。
Isotactic structure styrenic polymers, polyphenylene ethers, etc. are easily compatible with the syndiotactic structure styrenic polymers mentioned above, and are effective in controlling crystallization when creating preforms for stretching. , it is possible to obtain a film with improved subsequent stretchability, easy control of stretching conditions, and excellent mechanical properties. Among these, when a styrene polymer having an actic structure and/or an isotactic structure is contained, it is preferable to use a monomer similar to the styrene polymer having a syndiotactic structure. In addition, the content ratio of these compatible resin components is 7
The amount may be 0 to 1% by weight, particularly preferably 50 to 2% by weight. If the content of the compatible resin component exceeds 70% by weight, it is not preferable because the advantages of the syndiotactic styrene polymer, such as heat resistance, will be impaired.

また、非相溶性樹脂としては、例えば、ポリエチレン。Further, examples of the incompatible resin include polyethylene.

ポリプロピレン、ポリブテン、ポリペンテン等のポリオ
レフィン、ポリエチレンテレフタレート。
Polyolefins such as polypropylene, polybutene, polypentene, and polyethylene terephthalate.

ポリブチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレー
ト等のポリエステル、ナイロン−6やナイロン6.6等
のポリアミド、ポリフェニレンスルフィド等のポリチオ
エーテル、ポリカーボネート。
Polyesters such as polybutylene terephthalate and polyethylene naphthalate, polyamides such as nylon-6 and nylon 6.6, polythioethers such as polyphenylene sulfide, and polycarbonates.

ボリアリレート、ポリスルホン、ポリエーテルエーテル
ケトン、ポリエーテルスルホン、ポリイミド、テフロン
等のハロゲン化ビニル系重合体、ポリメタクリル酸メチ
ル等のアクリル系重合体、ポリビニルアルコール等、上
記相溶性の樹脂以外はすべて相当し、さらに、上記相溶
性の樹脂を含む架橋樹脂が挙げられる。これらの樹脂は
、本発明のシンジオタクチック構造のスチレン系重合体
と非相溶であるため、少量含有する場合、シンジオタク
チック構造のスチレン系重合体中に島のように分散させ
ることができ、延伸後に程良い光沢を与えたり、表面の
すべり性を改良するのに有効である。これら非相溶性樹
脂成分の含有割合は、光制御を目的とする場合、0.0
01〜5重量%が好ましい。また、製品として使用する
温度が高い場合は、比較的耐熱性のある非相溶性樹脂を
用いることが好ましい。
Polyarylate, polysulfone, polyether ether ketone, polyether sulfone, polyimide, halogenated vinyl polymers such as Teflon, acrylic polymers such as polymethyl methacrylate, polyvinyl alcohol, etc., all other than the compatible resins listed above are equivalent. Furthermore, crosslinked resins containing the above-mentioned compatible resins can be mentioned. These resins are incompatible with the styrenic polymer having a syndiotactic structure of the present invention, so if they are contained in small amounts, they cannot be dispersed like islands in the styrenic polymer having a syndiotactic structure. It is effective in imparting a suitable gloss after stretching and improving surface slipperiness. The content ratio of these incompatible resin components is 0.0 for the purpose of light control.
01 to 5% by weight is preferred. Furthermore, when the temperature at which the product is used is high, it is preferable to use an incompatible resin that is relatively heat resistant.

本発明の高密度磁気記録媒体の基材フィルムを成形する
には、前述した如き方法によればよいが、この際に行う
加熱溶融から熱固定までの操作を具体的に説明すれば、
次の通りである。
The base film of the high-density magnetic recording medium of the present invention may be formed by the method described above, but the operations from heat melting to heat fixation will be specifically explained as follows.
It is as follows.

まず、上述の如き成形素材を通常は押出成形(あるいは
共押出成形)して、延伸用予備成形体(フィルム、シー
トまたはチューブ)とする。この成形にあっては、上記
成形素材の加熱溶融したものを押出成形機にて所定形状
に成形するのが一般的であるが、成形素材を加熱溶融さ
せずに、軟化した状態で成形してもよい。ここで用いる
押出成形機は、−軸押出成形機、二軸押出成形機のいず
れでもよく、またベント付き、ベント無しのいずれでも
よいが、−軸のタンデム型が好ましい。
First, the above-mentioned molding material is usually extruded (or coextruded) to form a preform for stretching (film, sheet, or tube). In this molding, it is common to heat and melt the above-mentioned molding material and mold it into a predetermined shape using an extrusion molding machine, but the molding material is molded in a softened state without being heated and melted. Good too. The extrusion molding machine used here may be either a -shaft extruder or a twin-screw extruder, and may be either with a vent or without a vent, but a -shaft tandem type is preferred.

なお、押出機には適当なメツシュを使用すれば、夾雑物
や異物を除去することができる。特にこの際のメツシュ
は、100メツシュ以上が好ましく、とりわけ400メ
ツシュ以上が最適である。ここでこれらのメツシュを用
いる際には、メツシュそのものの耐圧2強度を考慮して
、上記以下の番手を前後に入れても良い。またメツシュ
の形状は、平板状9円筒状等適当に選定して使用するこ
とができる。
Note that impurities and foreign matter can be removed by using a suitable mesh in the extruder. In particular, the mesh at this time is preferably 100 mesh or more, and most preferably 400 mesh or more. When using these meshes here, considering the pressure resistance and two-strength of the mesh itself, the above-mentioned or lower counts may be added to the front and back. Further, the shape of the mesh can be appropriately selected and used, such as a flat plate, a cylindrical shape, etc.

またここで押出条件は、特に制限はなく、様々な状況に
応じて適宜選定すればよいが、好ましくは温度を成形素
材の融点〜分解温度より50℃高い温度の範囲で選定し
、剪断応力を5X106dyne/c4以下とする。用
いるダイはT−ダイ、円環ダイ等をあげることができる
The extrusion conditions here are not particularly limited and may be appropriately selected depending on various situations, but preferably the temperature is selected within the range of 50°C higher than the melting point of the molding material to the decomposition temperature, and the shear stress is reduced. 5X106dyne/c4 or less. The die used may be a T-die, an annular die, or the like.

上記押出成形後、得られた延伸用予備成形体を冷却固化
する。この際の冷媒は、気体、液体5金属ロ一ル等各種
のものを使用することができる。
After the above extrusion molding, the obtained preform for stretching is cooled and solidified. As the refrigerant at this time, various types such as gas, liquid 5 metal rolls, etc. can be used.

金属ロール等を用いる場合、エアナイフ、エアチャンバ
ー、タッチロール、静電印荷等の方法によると厚みムラ
や波うち防止に効果的である。
When using a metal roll or the like, methods such as an air knife, air chamber, touch roll, and electrostatic charging are effective in preventing thickness unevenness and waviness.

冷却固化の温度は、通常は0℃〜延伸延伸用酸形体のガ
ラス転移温度より30℃高い温度の範囲、好ましくは2
0″C〜ガラス転移温度の範囲である。
The cooling solidification temperature is usually in the range of 0°C to 30°C higher than the glass transition temperature of the acid form for stretching, preferably 2°C.
It is in the range of 0''C to glass transition temperature.

また冷却速度は200〜3℃/秒の範囲で適宜選択する
Further, the cooling rate is appropriately selected within the range of 200 to 3°C/sec.

次に、この冷却、固化した予備成形体を一軸あるいは二
軸に延伸する。二軸延伸の場合は縦方向及び横方向に同
時に延伸してもよいが、任意の順序で逐次延伸してもよ
い、また延伸は一段で行ってもよく、多段で行ってもよ
い。
Next, this cooled and solidified preform is uniaxially or biaxially stretched. In the case of biaxial stretching, stretching may be carried out simultaneously in the longitudinal and transverse directions, or sequentially in any order, and stretching may be carried out in one stage or in multiple stages.

ここで延伸方法としては、テンターによる方法。The stretching method used here is a method using a tenter.

ロール間で延伸する方法、気体圧力を利用してバブリン
グによる方法、圧延による方法など様々であり、これら
を適当に選定あるいは組み合わせて通用すればよい。特
にMD方向にロール間で延伸後、TD力方向テンターで
延伸し、さらに必要に応じて再延伸することが好ましい
。延伸温度は、一般には予備成形体のガラス転移温度と
融点の間で設定すればよい、なお、逐次延伸あるいは多
段延伸する際には一段目はガラス転移温度と低温結晶化
温度の間の温度とし、後段はガラス転移温度と融点の間
の温度とするのが好ましい。また延伸速度は、通常は1
×10〜1×10S%/分、好ましくはlXIO3−l
Xl0’%/分である。
There are various methods such as stretching between rolls, bubbling using gas pressure, and rolling, and any of these methods may be appropriately selected or combined. In particular, it is preferable to stretch the film between rolls in the MD direction, then stretch it with a tenter in the TD force direction, and then re-stretch it if necessary. Generally, the stretching temperature may be set between the glass transition temperature and the melting point of the preform; however, in the case of sequential or multistage stretching, the first stage should be set at a temperature between the glass transition temperature and the low-temperature crystallization temperature. , the latter stage is preferably at a temperature between the glass transition temperature and the melting point. In addition, the stretching speed is usually 1
×10-1×10S%/min, preferably lXIO3-l
Xl0'%/min.

上述の如き条件で延伸して得られた延伸フィルムに、さ
らに高温時の寸法安定性、耐熱性、フィルム面内の強度
バランスが要求される場合などには、さらに熱固定を行
うことが好ましい3熱固定は、通常行われている方法で
行うことができるが、この延伸フィルムを緊張状態、弛
緩状態あるいは制限収縮状態の下で、220℃から融点
までの温度範囲にて、0.5〜120秒間保持すること
によって行えばよい。なお、この熱固定は、上記範囲内
で条件を変えて二回以上行うことも可能である。
In cases where the stretched film obtained by stretching under the above conditions is required to have further dimensional stability at high temperatures, heat resistance, and in-plane strength balance of the film, it is preferable to further heat set the film. Heat setting can be carried out by a commonly used method, and the stretched film is heated at a temperature of 0.5 to 120° C. under tension, relaxation, or limited shrinkage at a temperature ranging from 220°C to the melting point. This can be done by holding it for a second. Note that this heat fixing can be performed two or more times under different conditions within the above range.

熱固定の温度が、あまり低いと蒸着によって磁性体層を
形成する場合に、充分な耐熱性がなくなり好ましくない
。また、この熱固定はアルゴンガス。
If the heat setting temperature is too low, sufficient heat resistance will be lost when forming a magnetic layer by vapor deposition, which is not preferable. Also, this heat fixation is done using argon gas.

窒素ガスなどの不活性ガス雰囲気下で行っても良い。It may be carried out under an inert gas atmosphere such as nitrogen gas.

このようにして得られる本発明の基材フィルムは、線膨
張係数、静摩擦係数μs、熱変形温度及び表面粗さRa
が前述した範囲のものとなる。なお、この基材フィルム
は、テープ状、ディスク状。
The base film of the present invention obtained in this manner has a linear expansion coefficient, a static friction coefficient μs, a heat distortion temperature, and a surface roughness Ra.
is within the range mentioned above. Note that this base film is tape-shaped or disk-shaped.

カード状等様々な形態とすることができる。It can be made into various forms such as a card shape.

本発明の磁気記録媒体は、上記基材フィルムに少なくと
も片面に垂直磁性層を形成してなるものであるが、アン
ダーコート層、バックコートNあるいはトップコート層
を形成することもできる。
The magnetic recording medium of the present invention is formed by forming a perpendicular magnetic layer on at least one side of the base film, but an undercoat layer, back coat N or top coat layer may also be formed.

これらの各層は、基材フィルムを中心に両面あるいは片
面の全部あるいは一部に形成される。
Each of these layers is formed on both sides or all or part of one side of the base film.

また、磁性層の素材となる磁性体は、垂直磁化可能な磁
性体で、例えばGo 、Co−0,Co−Cr、Co−
V、Co−Ni、Co−P、Co−Nt−0゜Co−N
1−P、Co−N1−N、Co−N1−W。
Further, the magnetic material that is the material of the magnetic layer is a magnetic material that can be perpendicularly magnetized, such as Go, Co-0, Co-Cr, Co-
V, Co-Ni, Co-P, Co-Nt-0゜Co-N
1-P, Co-N1-N, Co-N1-W.

CoN1(Cr)/Cr 、Ba0 ・I FezOz
などを列挙することができる。
CoN1(Cr)/Cr , Ba0 ・I FezOz
etc. can be listed.

この磁性体を用いて垂直磁性層を基材フィルムに形成す
るには、塗布、蒸着、スパッタリング。
Coating, vapor deposition, and sputtering are used to form a perpendicular magnetic layer on a base film using this magnetic material.

メツキ等の各種の方法によればよく、その操作条件等は
常法にしたがって、適宜選定すればよい。
Various methods such as plating may be used, and the operating conditions may be appropriately selected according to conventional methods.

特にCo系の磁性体は蒸着あるいはスパッタリング、B
aO・γFe、0.は塗布により形成するのが垂直磁性
層を形成するうえで好ましい。
In particular, Co-based magnetic materials are produced by vapor deposition or sputtering, B
aO・γFe, 0. It is preferable to form the perpendicular magnetic layer by coating.

なお、磁性層の厚みは特に制限はないが、一般には0.
01〜10μmであり、特に塗布の場合は0.5〜10
μm、蒸着やスパッタリングの場合は0.01−1μm
、メツキの場合は0.1〜5μmである。
The thickness of the magnetic layer is not particularly limited, but is generally 0.
01 to 10 μm, especially in the case of coating 0.5 to 10 μm
μm, 0.01-1 μm for vapor deposition and sputtering
, in the case of plating, it is 0.1 to 5 μm.

なお、塗布にあたって使用するバインダー用の樹脂とし
ては、例えば塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体、塩化ビ
ニル−酢酸ビニル部分ケン化共重合体、塩化ビニル−塩
化ビニリデン共重合体、塩化ビニル−アクリロニトリル
、ビニルブチラール。
Examples of binder resins used for coating include vinyl chloride-vinyl acetate copolymer, vinyl chloride-vinyl acetate partially saponified copolymer, vinyl chloride-vinylidene chloride copolymer, vinyl chloride-acrylonitrile, and vinyl chloride-vinyl acetate copolymer. Butyral.

ビニルホルマール等のビニル共重合系、ニトロセルロー
ス、セルロースアセトブチレート等のuI3素系、飽和
ポリエステル、ポリウレタンポリアミド、エポキシ等の
縮重合系、ブタジェン・アクリロニトリル共重合体等の
合成ゴム系、ポリホスファゼン等の無機高分子系があげ
られ、イソシアネート化合物等の架橋剤を用いてもよい
Vinyl copolymer systems such as vinyl formal, uI trinary systems such as nitrocellulose and cellulose acetobutyrate, condensation polymer systems such as saturated polyester, polyurethane polyamide, and epoxy, synthetic rubber systems such as butadiene-acrylonitrile copolymers, polyphosphazene, etc. Examples include inorganic polymers, and crosslinking agents such as isocyanate compounds may also be used.

このようにして得られた本発明の磁気記録媒体は、磁気
ヘッド摩耗防止等のため表面を研磨しても良い。
The surface of the thus obtained magnetic recording medium of the present invention may be polished to prevent wear of the magnetic head.

〔実施例] 次に本発明を実施例に基いてさらに詳しく説明する。〔Example] Next, the present invention will be explained in more detail based on examples.

参考例1 (1)無機微粒子を含むスチレン系重合体成形用材料(
重合体組成物)の作成 アルゴン置換した内容積500mのガラス製容器に、硫
酸銅5水塩(CaSO3−5H!0)17.8g(71
ミリモル)、トルエン2001d及びトリメチルアルミ
ニウム24d(250ミリモル)を入れ、40℃で8時
間反応させた。その後、固体部分を除去して得られた溶
液から、更に、トルエンを室温下で減圧留去して接触生
成物6.7gを得た。このものの凝固点降下法によって
測定した分子量は610であった。また、’H−NMR
測定による前述の高磁場成分(即ち、−〇、1〜−0.
5ppm)は43%であった。
Reference Example 1 (1) Styrenic polymer molding material containing inorganic fine particles (
17.8 g (71 g of copper sulfate pentahydrate (CaSO3-5H!0)
2001d of toluene and 24d (250 mmol) of trimethylaluminum were added, and the mixture was reacted at 40°C for 8 hours. Thereafter, from the solution obtained by removing the solid portion, toluene was further distilled off under reduced pressure at room temperature to obtain 6.7 g of a contact product. The molecular weight of this product was 610 as measured by freezing point depression method. Also, 'H-NMR
The above-mentioned high magnetic field components (i.e. -0, 1 to -0.
5ppm) was 43%.

一方、精製スチレンモノマー95部に乾式法シリカ(デ
グツサ■製アニロジルTT−600(1次粒子の直径4
0mμのもの))を0.4部添加し、T、にホモミキサ
ーL型(特殊機化工業製)を用いて、円筒容器の中で混
合攪拌してスチレン混合物を得た。なおこの際、ステア
リン酸カルシウムを0.2重量部加えた。
On the other hand, 95 parts of purified styrene monomer was added with dry process silica (Anirodyl TT-600 (manufactured by Degutsusa) (primary particle diameter 4.
A styrene mixture was obtained by adding 0.4 parts of 0 mμ (0 mμ)) and stirring in a cylindrical container using a homomixer L type (manufactured by Tokushu Kika Kogyo Co., Ltd.). At this time, 0.2 parts by weight of calcium stearate was added.

内容積21の反応容器に、上述の如く調製したスチレン
混合物1i、上述の如く得られた接触生成物をアルミニ
ウム原子として5トリモル、トリイソブチルアルミニウ
ムを5ξリモル、ペンタメチルシクロペンタジェニルチ
タントリメトキシド0.025ミリモルを用いて90℃
で5時間重合反応を行った0反応終了後、生成物を水酸
化ナトリウムのメタノール溶液で触媒成分を分解後、メ
タノールで繰返し洗浄後、乾燥して重合体308gを得
た。
In a reaction vessel with an internal volume of 21, the styrene mixture 1i prepared as above, 5 trimoles of the contact product obtained above as aluminum atoms, 5ξ trimoles of triisobutylaluminum, and pentamethylcyclopentadienyl titanium trimethoxide. 90°C using 0.025 mmol
After the polymerization reaction was completed for 5 hours, the catalyst component of the product was decomposed with a methanol solution of sodium hydroxide, washed repeatedly with methanol, and dried to obtain 308 g of a polymer.

この重合体の重量平均分子量を、1,2.4−トリクロ
ロベンゼンを溶媒として、135℃でゲルパー旦ニージ
ョンクロマトグラフィーにて測定したところ389.0
00であり、また重量平均分子量/数平均分子量は2.
64であった。また、融点及び13C−NMR測定によ
り、この重合体はシンジオタクチック構造のポリスチレ
ンであることを確認した。
The weight average molecular weight of this polymer was determined to be 389.0 by Gelper knee chromatography at 135°C using 1,2.4-trichlorobenzene as a solvent.
00, and the weight average molecular weight/number average molecular weight is 2.
It was 64. Furthermore, it was confirmed by melting point and 13C-NMR measurements that this polymer was polystyrene with a syndiotactic structure.

この重合体を130℃で1.2.4−トリクロロベンゼ
ンに溶解し、濾別し、重合体中のシリカ含量を調べたと
ころ0.4wt%であった。また、この溶液をスライド
ガラス上に滴下し、顕微鏡で観察し、シリカの平均粒径
を調べたところ0.08μmであった。
This polymer was dissolved in 1,2,4-trichlorobenzene at 130°C, filtered, and the silica content in the polymer was determined to be 0.4 wt%. Further, this solution was dropped onto a glass slide and observed under a microscope to find out the average particle size of the silica, which was 0.08 μm.

さらに、このスチレン系重合体を150’l、t?2時
間、減圧乾燥した。得られたパウダーを、ベント付き二
軸押出機の先端にキャピラリーを持つ装置で300℃に
て押出し、冷却後、カットしペレットとした。このペレ
ットを熱風により攪拌しながら結晶化させた。このペレ
ットは、結晶化度35%でスチレンモノマーを700p
p+i含んでいた。
Furthermore, 150'l, t? of this styrene polymer was added. It was dried under reduced pressure for 2 hours. The obtained powder was extruded at 300° C. using a vented twin-screw extruder with a capillary at the tip, cooled, and then cut into pellets. The pellets were crystallized while stirring with hot air. This pellet contains 700p of styrene monomer with a crystallinity of 35%.
It included p+i.

(2)無機微粒子を含まないスチレン系重合体成形用材
料の作成 乾式シリカを含まないスチレンモノマーを用いて、上記
(1)と同様にしてスチレン系重合体を製造した。得ら
れた重合体は、重量平均分子量が4i7.OOO,重量
平均分子量/数平均分子量が2.54./l含量が75
ppim、Tt含量が2ppmであった。
(2) Preparation of styrenic polymer molding material containing no inorganic particles A styrenic polymer was produced in the same manner as in (1) above using a styrene monomer containing no dry silica. The obtained polymer had a weight average molecular weight of 4i7. OOO, weight average molecular weight/number average molecular weight is 2.54. /l content is 75
The ppim and Tt contents were 2 ppm.

このスチレン系重合体を上記(1)と同様にペレットと
した。このペレットの結晶化度は30%であり、スチレ
ンモノマー含量は800 ppmであった・ 参考例2(スチレン系重合体延伸フィルムの製造)(1
)参考例1(1)のようにして得られた成形材料を用い
、直列型タンデム押出機の先端にT−ダイを取りつけた
装置で330℃で溶融押出した。
This styrene polymer was made into pellets in the same manner as in (1) above. The crystallinity of this pellet was 30%, and the styrene monomer content was 800 ppm. Reference Example 2 (Production of styrenic polymer stretched film) (1
) The molding material obtained as in Reference Example 1 (1) was melt-extruded at 330° C. using an in-line tandem extruder equipped with a T-die at the tip.

この時の剪断応力は、1.5 X 10 ’dyne/
c4であった。この溶融押出したシートを静電印荷によ
り63℃の冷却ロールに密着させ、冷却固化させた。
The shear stress at this time is 1.5 x 10'dyne/
It was c4. This melt-extruded sheet was brought into close contact with a cooling roll at 63° C. by electrostatic charging, and cooled and solidified.

この時の冷却速度は平均55℃/秒で130μmの延伸
用シートを得た。このシートをロール間で3、それぞれ
のロールの周速度を変化させ縦方向に、110″C1延
伸速度6000%/分で3倍に延伸した。続いて、横方
向にテンターを用いて120℃、延伸速度6000%/
分で3倍に延伸した。
The cooling rate at this time was an average of 55° C./sec to obtain a stretched sheet of 130 μm. This sheet was stretched 3 times between rolls in the longitudinal direction at a 110"C1 stretching speed of 6000%/min by changing the circumferential speed of each roll. Then, in the transverse direction using a tenter, the sheet was stretched at 120° C. Stretching speed 6000%/
It was stretched 3 times in minutes.

更に横方向にテンターで固定したまま、縦方向に、13
0℃、2000%/分で1.5倍に再延伸した。このフ
ィルムを、テンターに固定し若干弛緩させ、255℃で
10秒熱処理した。
Furthermore, while fixing it horizontally with a tenter, vertically, 13
It was re-stretched to 1.5 times at 0° C. and 2000%/min. This film was fixed in a tenter, slightly relaxed, and heat-treated at 255° C. for 10 seconds.

得られたフィルムは厚さ12μmであった。このフィル
ムの湿度膨張係数を20〜80%の範囲で、また膨張係
数を0℃〜90℃にて測定した。
The resulting film had a thickness of 12 μm. The humidity expansion coefficient of this film was measured in the range of 20% to 80%, and the expansion coefficient was measured at 0°C to 90°C.

さらに表面粗さをJIS  B−0601に準拠し、カ
ットオフ値0.08aniで、また、静摩擦係数をAS
TM D−1984Bに準拠して測定した。
Furthermore, the surface roughness was determined according to JIS B-0601 with a cutoff value of 0.08 ani, and the static friction coefficient was determined according to AS
Measured in accordance with TM D-1984B.

このフィルムの熱変形温度をサーマルメカニカルアナリ
シス(TMA)にて測定した。なお、熱変形温度は試料
長の2%変化の温度とした。得られたフィルムの性質を
表に示す。
The heat distortion temperature of this film was measured using thermal mechanical analysis (TMA). Note that the thermal deformation temperature was the temperature at which the sample length changed by 2%. The properties of the obtained film are shown in the table.

(2)T−ダイのリップ開度を4倍とし、再延伸倍率を
1.3倍としたことの他は、参考例2(1)と同様にし
た。得られたフィルムの性質を表に示す。
(2) The same procedure as in Reference Example 2 (1) was carried out except that the lip opening degree of the T-die was 4 times and the re-stretching ratio was 1.3 times. The properties of the obtained film are shown in the table.

(3)参考例1(1)及び参考例1(2)の結晶化させ
たスチレン系重合体ペレットを用いて、押出機の先端に
T−ダイを取りつけた装置で330℃で溶融共押出した
ことの他は、参考例2(1)と同様にした。得られたフ
ィルムの性質を表に示す。なお、この時、参考例1(2
)のスチレン系重合体ペレットを50/150/400
/150150メツシユを入れた主押出機の直列型タン
デム単軸押出機で、また参考例1(1)のスチレン系重
合体ベレットを複押出機で溶融押出した。
(3) Using the crystallized styrenic polymer pellets of Reference Example 1 (1) and Reference Example 1 (2), melt coextrusion was carried out at 330°C using a device equipped with a T-die at the tip of the extruder. Other than that, the same procedure as in Reference Example 2(1) was carried out. The properties of the obtained film are shown in the table. In addition, at this time, reference example 1 (2
) 50/150/400 styrenic polymer pellets
The styrenic polymer pellet of Reference Example 1 (1) was melt-extruded using an in-line tandem single-screw extruder as a main extruder containing a /150150 mesh, and a double extruder using a double extruder.

(4)参考例t(2)のスチレン系重合体ベレットを用
いて、押出機中に50/150/400/150150
メツシユを入れたことの他は、参考例2(1)と同様に
延伸フィルムを作成した。このフィルムをコロナ処理し
た。次に、特開平l−95113号公報の実施例1で得
られたシンジオタクチック構造のスチレン−ジビニルベ
ンゼン共重合体(ジビニルベンゼン単位9.4モル%、
エチルベンゼン単位5.0モル%9重量平均分子量36
0.000 )の0.5wt%クロロホルム溶液を作り
、この溶液にスチレン−ジビニルベンゼン共重合体に対
して0.5wt%の乾式法シリカ(テグツサ■製アエロ
ジルTT−600ニー次粒子の粒径40mμのもの)を
添加し、ホモミキサーL型(特殊機化工業製)を用いて
円筒容器で均一に混合し、スラリー溶液とした。このス
ラリー溶液を上記フィルムにバーコーターにて塗布し、
250℃で10秒乾燥した。得られたフィルムの性質を
表に示す。
(4) Using the styrene polymer pellet of Reference Example t(2), 50/150/400/150150 was added to the extruder.
A stretched film was prepared in the same manner as in Reference Example 2(1) except that a mesh was added. This film was corona treated. Next, a styrene-divinylbenzene copolymer having a syndiotactic structure obtained in Example 1 of JP-A-1-95113 (9.4 mol% of divinylbenzene units,
Ethylbenzene units 5.0 mol% 9 Weight average molecular weight 36
A 0.5 wt% chloroform solution of 0.000) was prepared, and this solution was added with 0.5 wt% dry process silica (particle size 40 mμ of Aerosil TT-600 secondary particles manufactured by Tegutsusa ■) based on the styrene-divinylbenzene copolymer. ) was added thereto and mixed uniformly in a cylindrical container using a homomixer L type (manufactured by Tokushu Kika Kogyo) to obtain a slurry solution. Apply this slurry solution to the above film using a bar coater,
It was dried at 250°C for 10 seconds. The properties of the obtained film are shown in the table.

(5)熱処理を施さなかったことの他は、参考例2(1
)と同様にした。
(5) Reference example 2 (1) except that no heat treatment was performed.
).

(6)参考例1(2)のスチレン系重合体材料より参考
例2(1)と同様にしてフィルムを作成した。
(6) A film was prepared from the styrene polymer material of Reference Example 1 (2) in the same manner as in Reference Example 2 (1).

実施例1 参考例2 (1)のフィルムの片面にコロナ処理を施し
、その面にCo−Cr膜(Cr20wt%)0.1μm
を真空蒸着法にて形成させた。この時の基板温度は25
0℃であったが、テープのカール等は見られなかった。
Example 1 Reference Example 2 Corona treatment was applied to one side of the film of (1), and a 0.1 μm Co-Cr film (Cr20wt%) was applied to that side.
was formed by a vacuum evaporation method. The substrate temperature at this time is 25
Although the temperature was 0°C, no curling of the tape was observed.

この蒸着後のテープの静摩擦係数をASTM D−19
84に従って測定したところ0.55で良好なすべり性
を示した。また蒸着後の保磁力Hcを振動試料型磁力計
VSMにて磁化特性曲線より求めたところ9000eで
あった。
The static friction coefficient of the tape after vapor deposition was determined by ASTM D-19.
84, the result was 0.55, indicating good slipperiness. Further, the coercive force Hc after vapor deposition was determined from a magnetization characteristic curve using a vibrating sample magnetometer VSM and was found to be 9000e.

実施例2 参考例2(1)のフィルムの片面にコロナ処理を施し、
その面に磁性塗料を塗布した。この磁性塗料の組成は、
バリウムフェライト磁性粉100重量部、塩化ビニル−
酢酸ビニル共重合体(U、C。
Example 2 Corona treatment was applied to one side of the film of Reference Example 2 (1),
Magnetic paint was applied to that surface. The composition of this magnetic paint is
100 parts by weight of barium ferrite magnetic powder, vinyl chloride
Vinyl acetate copolymer (U, C.

C0社製VAGH)15重量部、ポリウレタン20重量
部、レシチン4重量部、ステアリン酸3重量部、メチル
イソブチルケトン100重量部、メチルエチルケトン1
00重量部、シクロヘキサノン100重量部、イソシア
ネート3重量部とした。
VAGH manufactured by C0) 15 parts by weight, 20 parts by weight of polyurethane, 4 parts by weight of lecithin, 3 parts by weight of stearic acid, 100 parts by weight of methyl isobutyl ketone, 1 part by weight of methyl ethyl ketone.
00 parts by weight, 100 parts by weight of cyclohexanone, and 3 parts by weight of isocyanate.

乾燥後の磁性層の厚みは3μmであった。この磁気テー
プを実施例1と同様に調べた。結果を表に示す。
The thickness of the magnetic layer after drying was 3 μm. This magnetic tape was examined in the same manner as in Example 1. The results are shown in the table.

実施例3 参考例2(2)のフィルムの両面にコロナ処理を施し、
両面に磁性体を設はディスク状にしたこと以外は実施例
1と同様にした。結果を表に示す。
Example 3 Corona treatment was applied to both sides of the film of Reference Example 2 (2),
The procedure was the same as in Example 1 except that the magnetic material was provided on both sides and the disc shape was used. The results are shown in the table.

実施例4 参考例2(3)のフィルムの片面にコロナ処理を施し、
その面にCO−〇膜(0,21れ%)0.8μmを形成
させた。この膜の形成は、Coの蒸発には電子ビームを
用い、Oxガスを導入させ析出速度約900人/sec
で行った。膜中酸素組成の分析にはEPMAを用いた。
Example 4 Corona treatment was applied to one side of the film of Reference Example 2 (3),
A CO-0 film (0.21%) of 0.8 μm was formed on that surface. The formation of this film uses an electron beam to evaporate Co and introduces Ox gas at a deposition rate of about 900 people/sec.
I went there. EPMA was used to analyze the oxygen composition in the film.

この蒸着テープを実施例1と同様に調べた。結果を表に
示す。
This vapor-deposited tape was examined in the same manner as in Example 1. The results are shown in the table.

実施例5 参考例2(4)のフィルムを用い、CoN 1(Ni 
0.1 wt%)によりCo−Nt−0膜(0,22w
t%)を形成させたこと以外は実施例4と同様にした。
Example 5 Using the film of Reference Example 2 (4), CoN 1 (Ni
Co-Nt-0 film (0.1 wt%)
The procedure was the same as in Example 4 except that t%) was formed.

結果を表に示す。The results are shown in the table.

比較例1 参考例2(5)のフィルムを用い、基板温度を100℃
としたこと以外は実施例1と同様にした。
Comparative Example 1 Using the film of Reference Example 2 (5), the substrate temperature was 100°C.
The procedure was the same as in Example 1 except for the following.

結果を表に示す。なお、基板250℃での磁性層形成は
フィルムの収縮、カールにより困難であつた。
The results are shown in the table. Incidentally, it was difficult to form a magnetic layer on the substrate at 250° C. due to shrinkage and curling of the film.

比較例2 参考例2(6)のフィルムを用いたこと以外は実施例1
と同様にした。結果を表に示す。
Comparative Example 2 Example 1 except that the film of Reference Example 2 (6) was used.
I did the same thing. The results are shown in the table.

比較例3 PETフィルム(ティジン製テトロンN512μm)を
用いて、基板温度200℃で実施例1と同様にした。結
果を表に示す。なお、基板温度250 ’Cでの磁性層
形成はフィルムの一部溶融。
Comparative Example 3 The same procedure as in Example 1 was carried out using a PET film (Tetron N512 μm manufactured by Tijin Co., Ltd.) at a substrate temperature of 200°C. The results are shown in the table. Note that when the magnetic layer is formed at a substrate temperature of 250'C, part of the film is melted.

伸び等により困難であった。This was difficult due to elongation, etc.

(以下余白) 〔発明の効果] 本発明の高密度磁気記録媒体は、蒸着時のカールがなく
、また保磁力にすぐれ、しかも極めて高密度に垂直磁気
層が形成されている。また、すべり性及び平滑性にすぐ
れ、その上温度、湿度に対する寸法安定性にもすぐれた
ものである。
(The following is a blank space) [Effects of the Invention] The high-density magnetic recording medium of the present invention has no curl during vapor deposition, has excellent coercive force, and has a perpendicular magnetic layer formed at extremely high density. Furthermore, it has excellent slipperiness and smoothness, and also excellent dimensional stability against temperature and humidity.

したがって、本発明の高密度磁気記録媒体は、各種の磁
気テープ、磁気ディスク、磁気ドラム。
Therefore, the high-density magnetic recording medium of the present invention can be applied to various magnetic tapes, magnetic disks, and magnetic drums.

磁気カード等に好適に利用することができる。It can be suitably used for magnetic cards and the like.

Claims (4)

【特許請求の範囲】[Claims] (1)主としてシンジオタクチック構造を有するスチレ
ン系重合体又はその組成物の延伸フィルムあるいは該延
伸フィルムを含む積層フィルムであって、線膨張係数が
5×10^−^5/℃以下、静摩擦係数μsが0.3〜
1.0、熱変形温度が230℃以上であり、かつ少なく
とも片面の表面粗さRaが0.001〜0.02μmで
ある基材フィルムの少なくとも片面に垂直磁性層を形成
してなる高密度磁気記録媒体。
(1) A stretched film of a styrenic polymer or its composition mainly having a syndiotactic structure, or a laminated film containing the stretched film, with a coefficient of linear expansion of 5 x 10^-^5/°C or less, and a coefficient of static friction. μs is 0.3~
1.0, a high-density magnetic material formed by forming a perpendicular magnetic layer on at least one side of a base film having a heat deformation temperature of 230°C or higher and a surface roughness Ra of at least one side of 0.001 to 0.02 μm recoding media.
(2)延伸フィルムが無機微粒子を含有する主としてシ
ンジオタクチック構造のスチレン系重合体組成物からな
る請求項1記載の高密度磁気記録媒体。
(2) The high-density magnetic recording medium according to claim 1, wherein the stretched film is composed of a styrene-based polymer composition mainly having a syndiotactic structure and containing inorganic fine particles.
(3)基材フィルムの少なくとも片面の表面粗さRaが
、0.001μm以上0.05μm以下である請求項1
又は2記載の高密度磁気記録媒体。
(3) Claim 1 wherein the surface roughness Ra of at least one side of the base film is 0.001 μm or more and 0.05 μm or less.
Or the high-density magnetic recording medium according to 2.
(4)基材フィルムが、無機微粒子を含有する主として
シンジオタクチック構造のスチレン系重合体組成物から
なる層と無機微粒子を含有しない主としてシンジオタク
チック構造のスチレン系重合体又はその組成物からなる
層を有する積層体である請求項1〜3のいずれかに記載
の高密度磁気記録媒体。
(4) The base film consists of a layer consisting of a styrenic polymer composition with a mainly syndiotactic structure containing inorganic fine particles and a styrenic polymer composition with a mainly syndiotactic structure containing no inorganic fine particles or a composition thereof. The high-density magnetic recording medium according to any one of claims 1 to 3, which is a laminate having layers.
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