KR960004313B1 - Photographic film - Google Patents

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KR960004313B1
KR960004313B1 KR1019900016609A KR900016609A KR960004313B1 KR 960004313 B1 KR960004313 B1 KR 960004313B1 KR 1019900016609 A KR1019900016609 A KR 1019900016609A KR 900016609 A KR900016609 A KR 900016609A KR 960004313 B1 KR960004313 B1 KR 960004313B1
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케이스께 후나끼
유이찌 오우끼
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이데미쓰 고산 가부시끼가이샤
이데미쓰 쇼스께
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    • G03C1/795Photosensitive materials characterised by the base or auxiliary layers the base being of macromolecular substances

Abstract

A photographic film which comprises (A) a stretched film of a styrene polymer having a syndiotactic configuration or a composition containing it, wherein the thickness is 20 to 500 mu m, haze is not more than 3% and moisture expansion coefficient is not more than 1 x 10<-><6>/%RH, and (B) a photosensitive layer, which is light and excellent in mechanical properties, is disclosed.

Description

사진필름Photographic film

본 발명은 사진필름에 관하여, 좀더 상세하게는 특정의 베이스(base)필름층과 감광층으로 이루어지며, 경량으로 역학물성이 우수하여 게다가 치수안정성이 양호한 사진필름에 관한 것이다The present invention relates to a photographic film, and more particularly, to a photographic film made of a specific base film layer and a photosensitive layer, which is light in weight, has excellent mechanical properties, and also has good dimensional stability.

종래, 사진필름의 베이스필름으로서는, 셀룰로오스게 중합체필름, 폴리에스테르필름, 아탁틱구조의 폴리스티렌필름 등이 사용되고 있다. 특히 감는 필름이외의 필름베이스로서는 역학물성이 우수하고 또 그외의 밸런스로 된 폴리에스테르필름이 사용되고 있다.Conventionally, as a base film of a photographic film, a cellulose crab polymer film, a polyester film, the polystyrene film of the atactic structure, etc. are used. In particular, as a film base other than the winding film, a polyester film having excellent mechanical properties and other balance is used.

그러나, 셀룰로오스계 중합체필름은 습식법으로 필름을 제조하기 때문에 비용이 높고, 또한 역학적 강도가 충분하지 못하다. 한편, 폴리에스테르필름은, 비중이 크고 습도에 약하다는 결점이 있으며 수분을 함유한 상태로 고온 건조한 경우, 가수분해에 의한 열화(劣化)의 염려가 있는 이외에 실온부근의 사용때에도 습도변화에 의한 치수변화가 생기고, (습도팽창계수 1-2×10-5/%RH)정밀도가 요구되는 마스터필름등의 용도로 개선이 소망되고 있다.However, the cellulose-based polymer film is expensive because of producing the film by the wet method, and the mechanical strength is not sufficient. On the other hand, polyester film has the disadvantage of high specific gravity and weak humidity, and when it is dried at a high temperature in a state of containing moisture, there is a risk of deterioration due to hydrolysis. There is a desire for improvement in applications such as master films where changes occur and (humidity expansion coefficient 1-2 × 10 -5 /% RH) precision is required.

또한, 아탁틱구조의 폴리스티렌필름은 투명성, 습도치수안정성, 흡수율등이 우수하지만 내열성, 역학물성이 떨어지는 것이다. 이와 같이 종래 이용되고 있는 베이스필름에는 각종 문제가 있으며, 얻어진 사진필름의 물성은 반드시 만족한 것은 아니었다.In addition, the polystyrene film of the atactic structure is excellent in transparency, humidity dimensional stability, water absorption, etc., but inferior in heat resistance and mechanical properties. Thus, the conventionally used base film has various problems, and the physical properties of the obtained photo film were not necessarily satisfied.

그래서 본 발명자들은 보다 물성이 우수한 사진필름을 개발하기 위하여 예의 연구를 거듭하였다. 그 결과, 신디오탁틱구조를 갖는 스티렌계 중합체 또는 그 조성물이 종래의 내열성 수지에 비하여 현저하게 낮은 습도팽창계수를 갖고, 사진필름의 소개로서 적절한 것을 발견하고 또 특정의 두께, 헤이즈(haze)값, 습도팽창계수의 필름을 베이스필름으로서 사용한 사진필름이 상술한 목적을 달성하는 것을 발견하였다. 본 발명은 이러한 지견에 기초하여 완성한 것이다.Thus, the present inventors made diligent research to develop a photo film having better physical properties. As a result, a styrene polymer having a syndiotactic structure or a composition thereof has a significantly lower humidity expansion coefficient than that of a conventional heat resistant resin, and is found to be suitable as an introduction of a photographic film, and has a specific thickness and haze value. It has been found that the photographic film using the film of the humidity expansion coefficient as the base film achieves the above-mentioned object. The present invention has been completed based on these findings.

즉, 본 발명은 (A) 신디오탁틱구조를 갖는 스티렌계 중합체 또는 그것을 함유한 조성물로 이루어진 것과 동시에 두께 20-500㎛로서 헤이즈 3% 이하, 습도팽창계수 1×10-6/%RH인 연신필름층(이하, A층으로 표기한다) 및 (B) 감광층(이하, B층으로 표기한다)으로 이루어진 사진필름을 제공하는 것이다. 본 발명에 있어서의 A층은, 사진필름의 소위 베이스필름으로서 신디오탁틱구조를 갖는 스티렌계 중합체 또는 그것을 1성분으로 함유하는 조성물로 이루어진 필름을 사용한다.That is, the present invention (A) made of a styrenic polymer having a syndiotactic structure or a composition containing the same, at the same time 20-500 ㎛ stretch haze 3% or less, humidity expansion coefficient of 1 × 10 -6 /% RH It is to provide a photo film composed of a film layer (hereinafter referred to as A layer) and (B) photosensitive layer (hereinafter referred to as B layer). The layer A in the present invention uses a styrenic polymer having a syndiotactic structure or a film containing a composition as one component as a so-called base film of a photographic film.

여기서, 신디오탁틱구조를 갖는 스티렌계 중합체라 하는 것은, 탄소-탄소결합으로부터 형성되는 주사슬에 대하여 곁사슬인 페닐기 혹은 그 유도체가 상호교대로 반대방향에 위치하는 입체구조를 갖는 것이며, 그 입체규칙성(탁티서티)은 탄소동위원소에 의한 핵자기공명법(13C-NMR법)으로 정량되는 것이 일반적이고 또 정밀도가 우수하다.Here, the styrene-based polymer having a syndiotactic structure is one having a three-dimensional structure in which phenyl groups or derivatives thereof, which are side chains, are alternately located in opposite directions with respect to the main chain formed from a carbon-carbon bond. The surname (taxicity) is generally quantified by the nuclear magnetic resonance method ( 13 C-NMR method) by carbon isotope and is excellent in precision.

13C-NMR법으로 정량되는 입체규칙성은, 연속하는 복수개의 구성단위 존재비율, 예를 들면 2개의 경우는 다이아드, 3개의 경우는 트리아드, 5개의 경우는 펜타드로서 나타낼 수가 있다.The stereoregularity quantified by the 13 C-NMR method can be expressed as a plurality of consecutive unit abundances, for example, two cases of diamonds, three cases of triads, and five cases of pentads.

본 발명에서 말하는 신디오탁틱구조를 갖는 스티렌계 중합체라 하는 것은, 통상은 라세미다이아드로 75%이상, 바람직하게는 85% 이상 또는 라세미펜타드로 30% 이상, 바람직하게는 50% 이상의 입체규칙성을 갖는 것이다.Styrene-based polymers having a syndiotactic structure as used in the present invention are usually at least 75%, preferably at least 85%, or at least 30%, preferably at least 50%, of racemic dies. Having a last name.

구체적으로는 입체규칙성의 폴리스티렌, 폴리(알킬스티렌), 폴리(할로겐화스티렌),폴리(할로겐화알킬스티렌), 폴리(알콕시스티렌), 폴리(비닐벤조산에스테르), 이들의 수소화중합체 및 이들의 혼합물 또는 이들의 구조단위를 함유한 혼성중합체를 지칭한다.Specifically, stereoregular polystyrene, poly (alkylstyrene), poly (halogenated styrene), poly (halogenated styrene), poly (alkoxy styrene), poly (vinylbenzoic acid ester), hydrogenated polymers thereof and mixtures thereof or these Refers to an interpolymer containing a structural unit of

또한, 여기서 폴리(알킬스티렌)으로서는 폴리(메틸스티렌), 폴리(에틸스티렌), 폴리(프로필스티렌), 폴리(부틸스티렌), 폴리(페닐스티렌), 폴리(비닐나프탈렌), 폴리(비닐스티렌), 폴리(아세나프탈렌) 등이 있으며, 폴리(할로겐화스티렌)으로서는 폴리 (클로로스티렌), 폴리(브로모스티렌), 폴리(플루오로스티렌) 등이 있다.In addition, as poly (alkyl styrene), poly (methyl styrene), poly (ethyl styrene), poly (propyl styrene), poly (butyl styrene), poly (phenyl styrene), poly (vinyl naphthalene), poly (vinyl styrene) And poly (acenaphthalene), and the like (poly (halogenated styrene)) include poly (chlorostyrene), poly (bromostyrene), poly (fluorostyrene) and the like.

또한, 폴리(알콕시스티렌)으로서는 폴리(메톡시스티렌), 폴리(에톡시스티렌) 등이 있다.Examples of poly (alkoxy styrene) include poly (methoxy styrene) and poly (ethoxy styrene).

또한, 이들의 구조단위를 함유한 혼성중합체의 혼성단량체 성분으로서는, 상술한 바와 같은 스티렌계 중합체의 단량체 이외에, 에틸렌, 프로필렌, 부텐, 헥센, 옥텐 등의 올레핀단량체, 부타디엔, 이소프렌 등의 디엔단량체, 고리형 올레핀단량체, 고리형 디엔단량체 혹은 메타크릴산메틸, 무수말레산, 아크릴로니트릴 등의 극성비닐단량체 등을 들 수가 있다.In addition to the monomers of the above-described styrene-based polymers, as the hybrid monomer component of the interpolymer containing these structural units, olefin monomers such as ethylene, propylene, butene, hexene and octene, diene monomers such as butadiene and isoprene, And cyclic olefin monomers, cyclic diene monomers or polar vinyl monomers such as methyl methacrylate, maleic anhydride and acrylonitrile.

이들 중 특히 바람직한 스티렌계 중합체로서는 폴리스티렌, 폴리(알킬스티렌), 수소화폴리스티렌 및 이들 구조단위를 함유한 혼성중합체를 들 수 있다.Among these, particularly preferred styrene polymers include polystyrene, poly (alkyl styrene), hydrogenated polystyrene, and interpolymers containing these structural units.

또한, 이 스티렌계 중합체의 분자량에 대해서 특별히 제한은 없으나 중량평균분자량이 10,000 이상, 3,000,000 이하의 것이 바람직하고, 특히 바람직하게는 50,000 이상 1,500,000 이하의 것이다.There is no particular limitation on the molecular weight of the styrene polymer, but the weight average molecular weight is preferably 10,000 or more and 3,000,000 or less, particularly preferably 50,000 or more and 1,500,000 or less.

다시 또, 각종의 것을 충당하는 것이 가능하지만 중량평균분자량(Mw)/수평균분자량(Mn)이 1.5 이상 8이하가 바람직하다.Moreover, although various things can be covered, it is preferable that weight average molecular weight (Mw) / number average molecular weight (Mn) is 1.5 or more and 8 or less.

또한, 이 신디오탁틱구조를 갖는 스티렌계 중합체는 종래의 아탁틱구조의 스티렌계 중합체에 비하여 내열성이 현격하게 우수하다.In addition, the styrene polymer having the syndiotactic structure is remarkably excellent in heat resistance as compared with the conventional styrene polymer of the atactic structure.

이와 같은 신디오탁틱구조를 갖는 스티렌계 중합체는 예를 들면, 불활성 탄화수소용매중 또는 용매의 비존재하에 티탄화합물 및 물과 트리알킬알루미늄의 축합생성물을 촉매로 하여 스티렌계 단량체(상술한 스티렌계 중합체에 대응하는 단량체)를 중합함으로서 제조할 수가 있다(일본국 특개소 62-187708호 공보).Styrene-based polymers having such syndiotactic structure include styrene-based monomers (the styrene-based polymers described above) using, for example, a condensation product of a titanium compound and water and trialkylaluminum in an inert hydrocarbon solvent or in the absence of a solvent. It can manufacture by superposing | polymerizing in the monomer). (Japanese Unexamined-Japanese-Patent No. 62-187708).

또한, 폴리(할로겐화 알킬스티렌)에 대해서는 일본국 특개평1-46912호 공보, 이들의 수소화중합체는 일본국 특개평1-l78505호 공보에 기재된 수법으로 얻을 수가 있다.Moreover, about poly (halogenated alkyl styrene), Unexamined-Japanese-Patent No. 1-46912, these hydrogenated polymers can be obtained by the method of Unexamined-Japanese-Patent No. 1-l78505.

본 발명에 있어서, A층은 기본적으로는 상술한 스티렌계 중합체를 필름의 소재로서 사용하지만, 다시 또성형성, 역학물성, 표면성 등을 고려하여 다른 수지성분을 함유시켜도 좋다.In the present invention, the layer A basically uses the above-described styrene-based polymer as the material of the film, but may further contain other resin components in consideration of forming properties, mechanical properties, surface properties, and the like.

예를 들면, 아탁틱구조 혹은 아이소탁틱구조의 스티렌계 중합체, 폴리페닐렌에테르 등은, 상술한 신디오탁틱구조를 갖는 스티렌계 중합체와 상용으로 되기 쉽고, 연신용 예비성형체를 작성할 때 결정화가 제어에 유효하여 그 후의 연신성이 향상하여 연신조건제어가 용이하며, 또 역학물성이 우수한 필름을 얻을 수가 있다.For example, styrene polymers, polyphenylene ethers, and the like of atactic or isotactic structures tend to be compatible with the styrene polymers having the syndiotactic structure described above, and crystallization is controlled when preparing preforms for stretching. It is effective for the subsequent stretching property, and it is easy to control extending | stretching conditions, and the film excellent in mechanical properties can be obtained.

이중 아탁틱구조 및/또는 아이소탁틱구조의 스티렌계 중합체를 함유시키는 경우, 신디오탁틱구조를 갖는 스티렌계 중합체와 같이 단량체로 이루어진 것이 바람직하다.In the case of containing a styrenic polymer having a double atactic structure and / or isotactic structure, it is preferably made of a monomer such as a styrene polymer having a syndiotactic structure.

또한, 이들 상용성 수지성분의 함유비율은 70-1중량%, 특히 바람직하게는 50-2중량%로 하면 좋다.Moreover, the content rate of these compatible resin components is 70-1 weight%, Especially preferably, it is 50-2 weight%.

여기서, 상용성 수지성분의 함유비율이 70중량%를 초과하면, 신디오탁틱구조의 스티렌계 중합체의 장점인 내열성 등이 손상되기 때문에 바람직하지 못하다.Here, when the content rate of compatible resin component exceeds 70 weight%, since the heat resistance etc. which are the advantage of the styrene polymer of a syndiotactic structure are damaged, it is unpreferable.

또한, 비상용성 수지로서는 예를 들면 폴리에틸렌, 폴리프로필렌, 폴리부텐, 폴리펜텐 등의 폴리올레핀; 폴리에틸렌테레프탈레이트, 폴리부틸렌테레프탈레이트, 폴리에틸렌나프탈레이트 등의 폴리에스테르; 나이론 -6, 혹은 나이론-6,6 등의 폴리아미드; 폴리페닐렌설파이드 등의 폴리티오에테르; 폴리카르보네이트; 폴리아릴레이트; 폴리술폰; 폴리에테르에테르케톤; 폴리에테르술폰; 폴리이미드; 테프론등의 할로겐화 비닐계 중합체; 폴리메타크릴산메틸 등의 아크릴계 중합체; 폴리비닐알코올 등 상술한 상용성의 수지 이외는 모두 해당하고, 다시 또 상술한 상용성의 수지를 함유한 가교수지(cross linked resins)을 들 수 있다.Moreover, as incompatible resin, For example, polyolefin, such as polyethylene, a polypropylene, a polybutene, a polypentene; Polyesters such as polyethylene terephthalate, polybutylene terephthalate and polyethylene naphthalate; Polyamides such as nylon-6 or nylon-6,6; Polythioethers such as polyphenylene sulfide; Polycarbonates; Polyarylates; Polysulfones; Polyether ether ketone; Polyether sulfone; Polyimide; Halogenated vinyl polymers such as teflon; Acrylic polymers such as polymethyl methacrylate; All other than the above-mentioned compatible resins such as polyvinyl alcohol, and the like, and cross-linked resins containing the above-mentioned compatible resins may be mentioned again.

이들의 수지는 본 발명의 신디오탁틱구조를 갖는 스티렌계 중합체와 비상용이기 때문에 소량함유하는 경우, 신디오탁틱구조의 스티렌계 중합체중에 섬과 같이 분산시키는 것이 가능하고, 연신 후에 상당히 광택을 부여하며, 표면의 윤활성을 개량하는데 유효하다.Since these resins are incompatible with the styrenic polymer having the syndiotactic structure of the present invention, when contained in a small amount, it is possible to disperse like islands in the styrenic polymer of the syndiotactic structure, giving a considerably gloss after stretching. It is effective in improving the lubricity of the surface.

이들 비상용성수지성분의 함유비율은 광택을 목적으로 하는 경우는 50-2중량%, 표면성의 제어를 목적으로 하는 경우 0.001-5중량%가 바람직하다.The content of these incompatible resin components is preferably 50-2% by weight for the purpose of gloss and 0.001-5% by weight for the purpose of controlling the surface properties.

또한, 제품으로 사용하는 온도가 높은 경우는 내열성인 수지를 사용하는 것이 바람직하다.In addition, when the temperature used for a product is high, it is preferable to use resin which is heat resistant.

다시 또, 본 발명의 목적을 손상하지 않는 범위에서 무기충전제, 산화방지제, 대전방지제, 색소 등을 배합할 수가 있다.In addition, an inorganic filler, an antioxidant, an antistatic agent, a dye, or the like can be blended within a range not impairing the object of the present invention.

여기서, 사용할 수 있는 무기충전제로서는, IA족, IIA족, IVA족, VIA족, VIIA족, VIII족, Ib족, IIB족, IIIB족, IVB족 원소의 산화물, 수산화물, 황화물, 질소화물, 할로겐화물, 탄산염, 초산염, 인산염, 아인산염, 유기카르복시산염, 규산염, 티탄산염, 붕산염 및 이들의 함수화합물, 이들을 중심으로 하는 복합화합물, 천연광물입자 등을 들 수 있다.Here, as inorganic fillers that can be used, oxides, hydroxides, sulfides, nitrides, halogens of Groups IA, IIA, IVA, VIA, VIIA, VIII, Ib, IIB, IIIB, IVB elements Cargoes, carbonates, acetates, phosphates, phosphites, organic carboxylates, silicates, titanates, borates and their hydrous compounds, composite compounds based on them, natural mineral particles and the like.

구체적으로는, 불화리튬, 붕사(붕산나트륨 함수염) 등의 IA족 원소화합물; 탄산마그네슘, 인산마그네슘, 산화마그네슘(마그네시아), 염화마그네슘, 초산마그네슘, 불화마그네슘, 티탄산마그네슘, 규산마그네슘, 규산마그네슘함수물(활석), 탄산칼슘, 인산칼슘, 아인산칼슘, 황산칼슘(석고), 초산칼슘, 테레프탈산칼슘, 수산화칼슘, 규산칼슘, 불화칼슘, 티탄산칼슘, 티탄산스트론튬, 탄산바륨, 인산바륨, 황산바륨, 아인산바륨 등의 IIA족 원소화합물; 이산화티탄(티타니아), 일산화티탄, 질화티탄, 이산화지르코늄(지르코니아), 일산화지르코늄 등의 IVA족 원소화합물, 이산화몰리브덴, 삼산화몰리브덴, 황화몰리브덴 등의 VIA족 원소화합물; 염화망간, 초산망간 등의 VIIA족 원소화합물, 염화코발트, 초산코발트 등의 VIII족 원소화합물; 브롬화제일구리 등의 IB족 원소화합물; 산화아연, 초산아연 등의 IIB족 원소화합물, 산화알루미늄(알루미나), 수산화알루미늄, 불화알루미늄, 알루미노실리케니트(규산알루미나, 카올린, 카올리나이트)등의 IIIB족 원소화합물; 산화규소(실리카, 실리카겔), 석묵, 탄소, 흑연, 유리 등의 IVB족 원소화합물; 카아닐라이트, 카이나이트, 운모(마이카, 금운모), 연망간석 등의 천연광물의 입자를 들 수 있다.Specifically, Group IA element compounds, such as lithium fluoride and borax (sodium borate hydrochloride); Magnesium carbonate, magnesium phosphate, magnesium oxide (magnesia), magnesium chloride, magnesium acetate, magnesium fluoride, magnesium titanate, magnesium silicate, magnesium silicate function (talc), calcium carbonate, calcium phosphate, calcium phosphite, calcium sulfate (gypsum) Group IIA elements, such as calcium acetate, calcium terephthalate, calcium hydroxide, calcium silicate, calcium fluoride, calcium titanate, strontium titanate, barium carbonate, barium phosphate, barium sulfate, and barium phosphite; Group VIA elements such as elemental IVA compounds such as titanium dioxide (titania), titanium monoxide, titanium nitride, zirconium dioxide (zirconia) and zirconium oxide, molybdenum dioxide, molybdenum trioxide and molybdenum sulfide; Group VIII element compounds such as group VIIA element compounds such as manganese chloride and manganese acetate, cobalt chloride and cobalt acetate; IB group element compounds, such as cuprous bromide; Group IIB element compounds such as group IIB elements such as zinc oxide and zinc acetate, aluminum oxide (alumina), aluminum hydroxide, aluminum fluoride, and aluminosilicate (alumina silicate, kaolin, kaolinite); Group IVB elements such as silicon oxide (silica, silica gel), quartz, carbon, graphite, glass, etc .; Particles of natural minerals, such as kaanilite, kineite, mica (mica, gold mica) and lead manganese, are mentioned.

본 발명의 A층을 구성하는 필름은, 상술한 바와 같은 소재로 이루어진 필름이며, 또 두께 20-500㎛로 헤이즈가 3% 이하의 것이다.The film which comprises A-layer of this invention is a film which consists of a raw material as mentioned above, and is 20-500 micrometers in thickness, and a haze is 3% or less.

이 범위의 두께, 헤이즈를 갖는 필름을 얻기 위해서는 비교적 결정화 속도가 느린 것이 바람직하다.It is preferable that the crystallization rate is relatively slow in order to obtain a film having a thickness and haze in this range.

예를 들면, (1) 용해도파라미터 δ가 8.5(cal/㎤)1/2이상의 방향족탄화수소용매로 중합시킨 상술한 스티렌계 중합체, (2) 상술한 바와 같은 상용성의 열가소성 수지를 배합하여 이루어진 상술한 스티렌계 중합체, (3) 상술한 스티렌계 중합체중, 랜덤(random)혼성중합체로서 그 함량이 30몰% 이하인 것 등이 있다.For example, (1) the above-mentioned styrene-based polymer polymerized with an aromatic hydrocarbon solvent having a solubility parameter δ of 8.5 (cal / cm 3) 1/2 or more, and (2) the above-mentioned made of a compatible thermoplastic resin as described above. Styrene-based polymer and (3) Among the above-described styrene-based polymers, there are random interpolymers having a content of 30 mol% or less.

(1)의 용매의 구체예로서는 벤젠, 톨루엔, 에틸벤젠, 크실렌, 프로필벤젠 등의 알킬벤젠이외에 벌크중합중의 스티렌계 단량체, 예를 들면 스티렌, 알킬스티렌, 할로겐화스티렌 등도 함유된다.As a specific example of the solvent of (1), in addition to alkylbenzenes, such as benzene, toluene, ethylbenzene, xylene, and propylbenzene, the styrene monomer in bulk polymerization, for example, styrene, alkylstyrene, a halogenated styrene, etc. are contained.

또한, (2)의 상용성의 열가소성 수지를 함유시키는 방법에 한정은 없으나, 중합시에 첨가 또는 동시에 생성시키는 방법 혹은 용융혼합법이 바람직하다. 다시 또, 본 발명의 A층에 있어서, 상술한 바와 같은 성상의 필름을 얻기 위해서는 스티렌계 중합체 또는 그 조성물 중의 잔류 스티렌 단량체가 7000ppm 이하인 것이 바람직하다.In addition, there is no limitation on the method of containing the compatible thermoplastic resin of (2), but the method of adding or simultaneously producing | generating at the time of superposition | polymerization, or melt-mixing method is preferable. In addition, in the layer A of the present invention, in order to obtain the above-mentioned film, the styrene polymer or the residual styrene monomer in the composition is preferably 7000 ppm or less.

그와 같은 스티렌계 중합체 또는 조성물을 얻기 위해서는 이하의 방법에 의거하면 좋다.In order to obtain such a styrene polymer or composition, it may be based on the following method.

(1) 중합 후 또는 다시 또 처리 후의 스티렌계 중합체를 감압건조하는 방법, 여기서 감압건조하는데 있어서는 건조온도를 그 중합체의 유리전이온도 이상의 온도로 하면 효율이 좋다.(1) A method of drying the styrenic polymer after polymerization or again after the treatment under reduced pressure, in which the drying temperature is a temperature higher than the glass transition temperature of the polymer, the efficiency is good.

(2) 다시 또 압출기로 탈기하고, 동시에 성형용 재료(펠릿)로 한다.(2) Again, it is degassed with an extruder and it is set as a molding material (pellet) at the same time.

여기서, 압출기는 벤트부착이 바람직하고, 1축, 2축 어느 것의 압출기를 사용하여도 좋다.In this case, the extruder is preferably attached with a vent, and a single screw or a twin screw extruder may be used.

여기서, 잔류단량체 휘발분이 7000ppm을 초과하면, 압출성형시에 거품이 생기고 연신시에 표면이 거칠게 되어 헤이즈가 3%를 초과하는 것이 있고 바람직하지 못하다.Here, when the residual monomer volatile content exceeds 7000 ppm, foaming occurs during extrusion molding, the surface becomes rough during stretching, and the haze exceeds 3%, which is undesirable.

이상가 같은 본 발명의 스티렌계 중합체 또는 그 중합체를 함유한 조성물을 소재로 하여 A층으로 된 필름을 제조한다.The film of A layer is manufactured using the styrene-type polymer of this invention as described above, or the composition containing this polymer as a raw material.

필름의 제조 방법은 상술한 목적을 달성할 수 있는 조건으로 행하면 좋고, 특별히 제한은 없다.What is necessary is just to perform the manufacturing method of a film on the conditions which can achieve the objective mentioned above, and there is no restriction | limiting in particular.

구체적으로는 가열용융하여 압출하고 냉각, 고화시켜 제조한다.Specifically, it is produced by hot melting, extruding, cooling and solidifying.

여기서 사용하는 압출성형기는 일축압출성형기, 2축압출성형기의 어느 것이어도 좋고, 또한 벤드부착, 벤트가 없는 어는 것이어도 좋으나, 일축의 탄뎀형이 바람직하다.The extruder used herein may be either a single screw extrusion machine or a twin screw extrusion machine, or may be any one having no bends and no vents, but a uniaxial tandem type is preferable.

또한 압축기에는 2차 응집입자를 분쇄, 제거 또는 먼지, 이물제거를 위해 적당한 메시를 사용하여도 좋다. 또한, 여기서 압출조건은 특별히 제한은 없으며, 다양한 상황에 따라 적절히 선정하면 좋으나, 바람직하게는 온도를 성형소재의 융점-분해온도보다 50℃ 높은 온도의 범위로 선정한다.In the compressor, a suitable mesh may be used for pulverizing, removing secondary dust, or removing dust or foreign matter. In addition, the extrusion conditions are not particularly limited, and may be appropriately selected according to various situations. Preferably, the temperature is selected within a range of 50 ° C. higher than the melting point-decomposition temperature of the molding material.

사용하는 다이는 T-다이, 둥근고리-다이 등을 들 수가 있다.Examples of the die to be used include a T-die and a round ring die.

상술한 압출성형 후 얻어진 예비성형체(원판시이트)를 냉각고화한다.The preform (original sheet) obtained after the above-mentioned extrusion molding is cooled and solidified.

이때의 냉매는 기체, 액체, 금속로울러 등 각종의 것을 사용할 수가 있다.Refrigerant at this time can use various things, such as a gas, a liquid, and a metal roller.

금속로울러 등을 사용하는 경우, 에이나이프, 배기실, 터치로울(touch roll), 정전인하 등의 방법에 의하면 두께의 불균형 또는 서어지(surge) 방지에 효과적이다.In the case of using a metal roller or the like, it is effective to prevent an unbalanced or surge of thickness by a method such as a knife, an exhaust chamber, a touch roll, and an electrostatic reduction.

냉각고화의 온도는, 통상은 0℃-원판시이트의 유리전이온도보다 30℃ 높은 온도의 범위, 바람직하게는 유리전이온도보다 50℃ 낮은 온도-유리전이온도의 범위이다.The temperature of the cooling solidification is usually in the range of 30 ° C higher than the glass transition temperature of 0 ° C.-original sheet, and preferably in the range of the temperature-glass transition temperature 50 ° C lower than the glass transition temperature.

또한 냉각속도는 200-3℃/초의 범위로 적절히 선택한다.Moreover, a cooling rate is suitably selected in the range of 200-3 degreeC / sec.

이와 같이 하여 얻어진 원판시이트는 두께 100-5,000㎛의 범위의 것이다.The disc sheet thus obtained is in the range of 100-5,000 μm in thickness.

이어서 냉각, 고화한 원판시이트를 일축 또는 2축으로 연신하다.Subsequently, the original sheet which cooled and solidified is extended | stretched uniaxially or biaxially.

2축연신의 경우는 횡방향(transverse direction, TD) 및 종방향(machine direction,MD)으로 동시에 연신하여도 좋으나, 임의의 순서로 차례대로 연신하여도 좋다.In the case of biaxial stretching, stretching may be performed simultaneously in the transverse direction (TD) and the longitudinal direction (machine direction (MD)), but may be performed in any order.

또한, 연신은 1단계로 행하여도 좋고 다단으로 행하여도 좋다.In addition, extending | stretching may be performed in one step, and you may carry out by multistage.

여기서, 연실방법으로서는, 텐터(tenter)에 의한 방법, 로울 사이로 연신하는 방법, 기체압력을 이용하여 버블링에 의한 방법, 압연에 의한 방법 등 각종이 있으며, 이들을 적절히 선정 또는 조합시켜 적용하면 좋다.Here, as the method of yarn, there are various methods such as a tenter, a method of stretching between rolls, a method of bubbling using a gas pressure, a method of rolling, and the like, and these may be appropriately selected or combined and applied.

연신온도는, 일반적으로 원판시이트의 유리전이온도와 융점 사이로 설정하면 좋다.In general, the stretching temperature may be set between the glass transition temperature and the melting point of the original sheet.

단, 순차적인 연신 또는 다단연신하는 경우에는 첫단계에 유리전이온도와 냉결정화온도의 범위로 나중에 유리전이온도와 융점의 범위로 행하는 것이 바람직하다.However, in the case of sequential stretching or multi-stage stretching, it is preferable to perform the glass transition temperature and the cold crystallization temperature in the first step later, in the range of the glass transition temperature and the melting point.

또한, 연신속도는 통상 1×10-1×105%/분, 바람직 하게는 1×103-1×105%/분이 다.Further, the drawing speed is usually 1 × 10 −1 × 10 5 % / min, preferably 1 × 10 3 -1 × 10 5 % / min.

연신배율에 대해서는 특별히 제한은 없으나, 6배 이상으로 하는 것이 바람직하다.There is no restriction | limiting in particular about draw ratio, It is preferable to set it as 6 times or more.

6배만으로는 충분한 역학물성, 습도팽창계수를 갖는 필름이 얻어지지 않는다.Six times alone, a film having sufficient mechanical properties and humidity expansion coefficient cannot be obtained.

상술한 바와 같은 조건으로 연신하여 얻어진 연신필름에 다시 또 고온시의 치수안정성, 내열성, 필름면내의 강도 밸런스성의 향상을 위해 열고정을 행하는 것이 바람직하다.It is preferable to heat-set the stretched film obtained by extending | stretching on the conditions mentioned above again, in order to improve the dimensional stability at the time of high temperature, heat resistance, and the balance of strength in the film plane.

열고정은 통상 행해지고 있는 방법으로 행할 수 있으나, 이 연신필름을 긴장상태, 이완상태 또는 제한수축상태하에서 그 필름의 유리전이온도-융점, 바람직하게는 사용환경상한온도-융점의 범위로, 0.5-180초간 유치하도록 행하면 좋다.The heat setting can be carried out in the usual manner, but the stretched film is in the range of 0.5 to 180 degrees of glass transition temperature-melting point, preferably upper limit of use environment temperature-melting point of the film under tension, relaxation or limited shrinkage. It may be carried out for a second.

또한, 이 열고정은 상술한 범위내에서 조건을 변화하여 2회 이상 행하여도 가능하다.In addition, this heat setting can be performed twice or more by changing conditions within the above-mentioned range.

또한, 이 열고정은 아르곤기체, 질소기체 등의 불활성 기체분위기하에서 행하여도 좋다.In addition, this heat setting may be performed under inert gas atmosphere such as argon gas and nitrogen gas.

이 열고정을 행하지 않으면 특히 유리전이온도 근방에서 변형이 생기가 쉽고, 가공시 또는 사용시에 제약이 있다.If this heat setting is not performed, deformation is particularly likely near the glass transition temperature, and there are limitations in processing or use.

다시 또, 연신, 열고정의 조건을 필름의 복굴절의 절대값 |△n|이 40×10-3이하로 되도록 조정함으로 투명성 등의 물성이 우수한 필름으로 되어 바람직하다.Moreover, it is preferable to set it as the film excellent in physical properties, such as transparency, by adjusting conditions of extending | stretching and heat setting so that the absolute value | (DELTA) n | of birefringence of a film may be 40x10 <-3> or less.

이와 같이 하여 얻어진 스티렌계 중합체 또는 그 조성물의 연신필름은 두께 20-500㎛, 특히 50㎛ 이상이며, 또한 헤이즈가 3% 이하, 습도팽창계수가 1×10-6/%RH 이하로 있어 본 발명의 A층으로 사용할 수가 있다.The stretched film of the styrene polymer or the composition thus obtained has a thickness of 20-500 µm, in particular 50 µm or more, and has a haze of 3% or less and a humidity expansion coefficient of 1 × 10 −6 /% RH or less. It can be used as A layer of.

본 발명의 사진필름은, 다시 또 이 A층의 필름을 지지체로서 이것에 A층의 감광층을 적층하여 된 것이다.The photo film of the present invention is obtained by further laminating the photosensitive layer of A layer on the film of this A layer as a support.

이 A층에 인접하는 층과의 접착력을 향상하는 목적으로 이 A층 표면을 콜로나처리할 수 있다.The surface of this A layer can be colonized for the purpose of improving the adhesive force with the layer adjacent to this A layer.

본 발명에 있어서의 B층인 감광층은 그 사용목적, 감광재료의 종류에 의해 적절히 선정되며, 통상의 방법으로 적층하면 좋다.The photosensitive layer which is B layer in this invention is suitably selected by the purpose of use and the kind of photosensitive material, and what is necessary is just to laminate | stack by a normal method.

구체적으로는 이 감광층을 형성한 사진필름으로서, ① 은염감광재료를 사용한 은염사진필름, ② 디아조감광재료를 사용한 디아조감광필름, ③ 광색성감광재료를 사용한 광색성필름 또는 ④ 광전도성 재료를 사용한 열가소성 녹화(recording)필름 등이 있다.Specifically, as the photo film on which the photosensitive layer is formed, (1) silver dye photo film using silver salt photosensitive material, (2) diazo photosensitive film using diazo photosensitive material, (3) photochromic film using photochromic photosensitive material or (4) photoconductive material. And thermoplastic recording film using.

이하, 각각에 대해서 설명한다.Hereinafter, each will be described.

또한, 여기서 사용하는 베이스필름으로는 상술한 A층이 사용된다.In addition, the layer A mentioned above is used as a base film used here.

우선, ① 은염사진필름은, 기본적으로 보호층/은염감광층/하부피복층(undercoating layer)/베이스필름/후부(back) 피복층으로 이루어진다.First, (1) A silver salt photographic film basically consists of a protective layer / silver dye photosensitive layer / undercoating layer / base film / back coating layer.

여기서, 보호층에는, 각종의 젤라틴 등이 사용된다.Here, various gelatin etc. are used for a protective layer.

또한, 은염감광층은 브롬화은염 등의 감광성은염, 크롬염, 제이은염과 바인더의 젤라틴으로 이루어진 젤라틴유제(emulsion)층이며, 하부피복층은 베이스필름과 젤라틴유제층과의 접착성을 고려하여 선정한다.In addition, the silver salt photosensitive layer is a gelatin emulsion layer consisting of a photosensitive resin such as silver bromide salt, chromium salt, Jay silver salt and a gelatin of a binder, and the lower coating layer is selected in consideration of the adhesion between the base film and the gelatin emulsion layer.

예를 들면, 젤라틴, 카제인 등의 천연고분자물; 폴리비닐알코올 및 그 유도체, 무수말레산과 메틸비닐에테르, 초산비닐, 메타크릴산메틸, 스티렌 등과의 혼성중합체 및 메타크릴산, 아크릴산, 아타콘 등과 초산비닐, 메타크릴산메틸, 스티렌 등과의 혼성중합체 등의 단독 또는 이들의 혼합물 등을 들 수 있다.For example, natural polymers, such as gelatin and casein; Polyvinyl alcohol and its derivatives, interpolymers with maleic anhydride and methyl vinyl ether, vinyl acetate, methyl methacrylate, styrene and the like and interpolymers with methacrylic acid, acrylic acid, atacone and vinyl acetate, methyl methacrylate and styrene Single or a mixture thereof, and the like.

칼라사진의 경우에는 은염감광층중에 발색제를 분산시키고, 이 은염감광층을 복수층, 중간젤라틴층 혹은 여과층을 사이에 끼워 형성시킨다.In the case of color photographs, a color developer is dispersed in the silver dye photosensitive layer, and the silver dye photosensitive layer is formed by sandwiching a plurality of layers, an intermediate gelatin layer or a filtration layer therebetween.

다시 또, 은염감광재료로는, 상술한 적층제 이외에 헐레이션(halation)방지층 혹은 대전방지층 등을 적층하여도 좋다.Moreover, as a silver salt photosensitive material, you may laminate | stack a halation prevention layer, an antistatic layer, etc. other than the above-mentioned lamination | stacking agent.

또한, 은염감광재료의 용도의 하나로서 X선 사진용도가 있으나, 이 경우에는 본 발명의 베이스 필름(기재)의 양면에 감광층인 젤라틴유제층이 설치된다.In addition, there is an X-ray photographic use as one of the uses of the silver salt photosensitive material. In this case, a gelatin emulsion layer serving as a photosensitive layer is provided on both sides of the base film (base material) of the present invention.

각층의 적층은, 통상 도포에 의하면 좋고 각층의 두께는 A층을 20-500㎛, 바람직하게는 25-300㎛, 특히 바람직하게는 75-250㎛로 하고, B층을 1-50㎛, 바람직하게는 3-30㎛로 하며, 보호층을 0.01-10㎛, 바람직하게는 0.1-5㎛로 하고, 후부피복층을 0.01-20㎛, 바람직하게는 0.1-10㎛로 하며, 하부피복층을 10㎛ 이하, 바람직하게는 5㎛ 이하로 한다.The lamination of each layer is usually carried out by application, and the thickness of each layer is 20-500 µm, preferably 25-300 µm, particularly preferably 75-250 µm, and the layer B is 1-50 µm. Preferably it is 3-30 micrometers, a protective layer is 0.01-10 micrometers, Preferably it is 0.1-5 micrometers, A rear coat layer is 0.01-20 micrometers, Preferably it is 0.1-10 micrometers, and a lower coat layer is 10 micrometers. Hereinafter, Preferably it is 5 micrometers or less.

이어서, ② 디아조감광필름에 대하여 설명한다.Next, a diazo photosensitive film is demonstrated.

디아조감광재료는 통상 디아조감광층/베이스필름/후부피복층으로 이루어진다.The diazo photosensitive material usually consists of a diazo photosensitive layer / base film / back coating layer.

디아조감광층은 통상의 디아조늄과 커플러로 이루어진 조성물과 바인더로 이루어지지만 이러한 감광층에 사용되는 바인더로서는 폴리비닐알코올계 바인더 및 부티르산 초산셀룰로오스, 니트로셀룰로오스, 초산셀룰로오스 등의 셀룰로오스계 바인더, 폴리염화비닐리덴, 폴리염화비닐초산비닐 등의 염화비닐계 바인더, 폴리아크릴산에스테르 등의 폴리메타크릴산에스테르계 바인더, 폴리스티렌, 말레산 등의 폴리스티렌, 아크릴산에스테르계 바인더, 폴리아미드계 바인더를 들 수가 있다.The diazo photosensitive layer is composed of a composition and a binder composed of a common diazonium and a coupler, but examples of the binder used in the photosensitive layer include polyvinyl alcohol-based binders, cellulose-based binders such as cellulose butyrate, nitrocellulose, and cellulose acetate, and polyvinyl chloride. And vinyl chloride binders such as lidene and polyvinyl chloride, polymethacrylate ester binders such as polyacrylic acid esters, polystyrenes such as polystyrene and maleic acid, acrylic ester binders, and polyamide binders.

이러한 바인더로 이루어진 디아조감광층은 0.1-15㎛, 바람직하게는 2-8㎛의 두께로 베이스필름의 한쪽면에 설치된다.The diazo photosensitive layer made of such a binder is provided on one side of the base film with a thickness of 0.1-15 μm, preferably 2-8 μm.

또한, 후부피복층을 그 필름에 설치하는 경우는 0.1-15㎛, 바람직하게는 2-8㎛의 두께로 도포한다.In addition, when providing a rear part coating layer in the film, it is apply | coated to the thickness of 0.1-15 micrometers, Preferably it is 2-8 micrometers.

이러한 후부피복층을 설치함으로서 그 필름의 커어링(curling)방지 및 긁힘상결점을 개선할 수가 있다.By providing such a rear coating layer, it is possible to improve the anti-curing and scratch defects of the film.

디아조감광재료에 있어서의 A층(베이스필름)의 두께는 25-500㎛, 바람직하게는 38-300㎛이다.The thickness of the layer A (base film) in the diazo photosensitive material is 25-500 µm, preferably 38-300 µm.

또, 필요에 따라 A층에 다시 적당한 접착제층, 앵커(anchor)피복층을 설치하여도 좋다.If necessary, an appropriate adhesive layer and an anchor coating layer may be further provided on the A layer.

다시 또, ③ 광색성필름은 상술한 A층에 감광성물질의 스피로피란(2개의 고리에 공통인 1개의 탄소원자를 함유한 고리형 화합물)과 바인더를 도포한 것으로 이루어지고, 그 두께는 0.1-15㎛이다.(3) The photochromic film is composed of a layer of photosensitive material coated with spiropyrane (a cyclic compound containing one carbon atom common to two rings) and a binder, the thickness of which is 0.1-15. [Mu] m.

또한, ④ 열가소성 녹화필름은 투명한 광전도성 물질을 함유한 열가소성 수지층/투명 또는 반사전도층/베이스필름의 구성으로 이루어진 것이다.In addition, (4) The thermoplastic video recording film is composed of a thermoplastic resin layer / transparent or reflective conductive layer / base film containing a transparent photoconductive material.

투명도전층으로서는 증착금, 구리, 도전성 산화주석 등이 사용되며, 반사도전층으로서는 증착알루미늄의 층 등이 사용된다.As the transparent conductive layer, deposited gold, copper, conductive tin oxide, and the like are used, and as the reflective conductive layer, a layer of evaporated aluminum is used.

이들의 적층방법은 베이스필름에 투명도전층을 증착에 의해 50-5000Å 적층한 후에 0.5-5㎛의 두께로된 형태로 광전도성 물질을 함유한 열가소성 수지층을 도포하는 방법이 바람직하다.These lamination methods are preferably a method of applying a thermoplastic resin layer containing a photoconductive material in a thickness of 0.5-5 μm after laminating 50-5000 mm 3 of a transparent conductive layer on a base film by vapor deposition.

이상과 같이 하여 얻어진 사진필름은 어느 것도 베이스필름으로 본 발명의 A층을 사용하기 때문에 각종 물성이 우수한 것이다.Any of the photo films obtained as described above is excellent in various physical properties because the A film of the present invention is used as the base film.

이와 같이 하여 얻어진 본 발명의 사진필름은 베이스필름으로서 물성이 우수한 필름을 사용하기 때문에 종래의 사진필름보다 경량이며, 또한 역학물성, 치수안정성 등이 극히 양호하다.The photo film of the present invention thus obtained is lighter than the conventional photo film because of its excellent physical properties as a base film, and has extremely good mechanical properties, dimensional stability and the like.

따라서, 본 발명의 사진필름은 흑백사진, 칼라사진, 인쇄제판, X선사진, 복사 등의 사진필름으로서 폭넓게 이용된다.Therefore, the photographic film of the present invention is widely used as photographic films such as black and white photographs, color photographs, printing plates, X-ray photographs, and copies.

아래에 본 발명을 실시예 및 비교예로서 좀 더 상세하게 설명한다.The present invention is described in more detail below as examples and comparative examples.

제조예 1Preparation Example 1

(1) 트리메틸알루미늄과 물의 접촉생성물의 조제(1) Preparation of contact product of trimethylaluminum and water

아르곤치환한 내용량 500ml의 유리제품용기에 황산구리 5수염(CuSO4·5H2O)17.8(71mmol), 톨루엔 200ml 및 트리메틸알루미늄 24ml(250mmol)을 넣고, 40℃로 8시간 반응시켰다.Copper sulfate pentahydrate (CuSO 4 .5H 2 O) 17.8 (71 mmol), 200 ml of toluene and 24 ml (250 mmol) of trimethylaluminum were added to a glassware container having an argon-substituted content of 500 ml, and reacted at 40 ° C for 8 hours.

그 후, 고체부분을 제거하여 얻어진 용액으로부터 다시 또 톨루엔을 실온하에 감압증류 제거하여 접촉생성물 6.7g을 얻었다.Thereafter, toluene was further distilled off under reduced pressure from the solution obtained by removing the solid portion at room temperature to obtain 6.7 g of a contact product.

이 접촉생성물의 분자량을 응고점강하법으로 측정하였던 바 610이었다.The molecular weight of this contact product was found to be 610 by the solidification point method.

(2)스티렌계 중합체의 제조(2) Preparation of styrene polymer

내용량 2의 반응용기에, 정제스티렌 1, 상술한 (1)에서 얻어진 접촉생성물을 알루미늄원자로서 5mmol, 트리이소부틸알루미늄을 5mmol, 펜타메틸시클로펜타디에닐티탄트리메톡시드 0.025mmol을 사용하여 90℃에서 5시간 중합반응을 행하였다.Inner capacity 2 In the reaction vessel of, purified styrene 1 The polymerization product was carried out at 90 DEG C for 5 hours using 5 mmol of aluminum as the aluminum atom, 5 mmol of triisobutyl aluminum and 0.025 mmol of pentamethylcyclopentadienyl titanium trimethoxide as the aluminum atom.

반응종료후, 생성물을 수산화나트륨의 메탄올용액으로 촉매성분을 분해 후, 메탄올로 반복세척후 건조하여 중합체 308g을 얻었다.After the completion of the reaction, the product was decomposed into a methanol solution of sodium hydroxide, the catalyst component was repeatedly washed with methanol and dried to obtain 308 g of a polymer.

1,2,4-트리클로로벤젠을 용매로 하여 135℃에서 켈투과크로마토그래피로 측정한 이 중합체의 중량평균분자량은 389,000, 중량평균분자량/수평균분자량은 2.64였다.The weight average molecular weight of this polymer measured by kel permeation chromatography at 135 degreeC using 1,2,4-trichlorobenzene as the solvent was 389,000, and the weight average molecular weight / number average molecular weight was 2.64.

또한, 융점 및13C-NMR 측정에 의해 이 중합체는 신디오탁틱구조의 폴리스티렌인 것을 확인하였다.Furthermore, melting point and 13 C-NMR measurement confirmed that this polymer was polystyrene with syndiotactic structure.

제조예 2Preparation Example 2

제조예 1(2)에 있어서, 중합시에 중합용매로서 헵탄 500ml를 가한 것 이외는 제조예 1(2)와 같이 하여 중량평균분자량 412,000, 중량평균분자량/수평균분자량 2.28의 신디오탁틱구조의 폴리스티렌을 얻었다.In Preparation Example 1 (2), a syndiotactic structure having a weight average molecular weight of 412,000 and a weight average molecular weight / number average molecular weight of 2.28 was prepared in the same manner as in Production Example 1 (2) except that 500 ml of heptane was added as a polymerization solvent in the polymerization. Polystyrene was obtained.

제조예 3Preparation Example 3

제조예 2에 있어서, 원료단량체로서 스티렌 950ml 및 p-메틸스터렌 50ml를 사용하여 혼성중합을 행한 것 이외는 제조예 2와 같이 행하였다.In Production Example 2, the polymerization process was carried out as in Production Example 2, except that hybrid polymerization was carried out using 950 ml of styrene and 50 ml of p-methylsterene as raw material monomers.

얻어진 혼성중합체는 모두 신디오탁틱구조로 p-메틸스티렌단위를 9.5몰% 함유하는 것이13C-NMR에 의해 확인되었다.It was confirmed by 13 C-NMR that all the obtained interpolymers contained 9.5 mol% of p-methylstyrene units in syndiotactic structure.

또한, 중량평균분자량은 438,000, 중량평균분자량/수평균분자량은 2.51이었다.The weight average molecular weight was 438,000 and the weight average molecular weight / number average molecular weight was 2.51.

실시예 1Example 1

제조예 1에서 제조된 스티렌계 중합체를 150℃에서 가압, 건조후, 벤트부착 일축압출기로 펠릿화하고, 이 펠릿을 130℃의 열풍중 교반하면서 결정화시켰다.The styrene polymer prepared in Production Example 1 was pressed at 150 ° C., dried, and pelletized by a vented single screw extruder, and the pellet was crystallized while stirring in hot air at 130 ° C.

이 결정화 펠릿중의 스티렌단량체 함유량은 1,100ppm이었다.The styrene monomer content in this crystallization pellet was 1,100 ppm.

이어서, 이 펠릿을 250메시의 여과기안에 존재하는 압출기의 선단에 T-다이를 붙인 장치로 압출하였다.This pellet was then extruded with an apparatus in which a T-die was attached to the tip of an extruder present in a 250 mesh filter.

이때의 용융온도는 330℃였다.Melting temperature at this time was 330 degreeC.

이 용융상태의 시이트를 로울표면이 55℃로 조절된 터치로울인출(take-off)기를 사용하여 결정화도 12%, 두께 1mm의 시이트로 성형하였다.The molten sheet was molded into a sheet having a crystallinity of 12% and a thickness of 1 mm using a touch roll take-off machine having a roll surface adjusted to 55 ° C.

얻어진 시이트를 종방향(MD)으로 3배, 횡방향으로 3배, 다시 또 종방향(MD)으로 1.3배, 120℃로 연신하였다.The obtained sheet was stretched three times in the longitudinal direction (MD), three times in the lateral direction, and 1.3 times in the longitudinal direction (MD) and at 120 ° C.

계속하여 230℃로 제한수축하에 20초간 열처리하였다.Subsequently, heat treatment was performed at 230 ° C. for 20 seconds under limited shrinkage.

얻어진 필름은 두께 85㎛, 헤이즈 1.8, 복굴절의 절대값 |△n|은 10×10-3이었다.The obtained film had a thickness of 85 μm, a haze of 1.8, and an absolute value | Δn | of birefringence of 10 × 10 −3 .

또한, 이 필름의 밀도는 1.06g/㎤이었다.Moreover, the density of this film was 1.06 g / cm <3>.

또한, 이 필름의 습도팽창계수를, 열기계식 분석기(thermal mechanical analysis)에 습도가변장치를 끼워 실온에서 20%RH부터 80%RH의 평균으로 하여 측정하였던 바 5×10-7/%RH였다.In addition, the coefficient of humidity expansion of the film was measured as an average of 20% RH to 80% RH at room temperature with a humidity variable device fitted to a thermal mechanical analysis, and was 5 × 10 −7 /% RH.

이어서, 은염사진필름의 대표예로서 모의적인 X선 사진필름을 아래의 순서로 하여 성능평가를 행하였다.Subsequently, as a representative example of the silver salt photographic film, the performance of the simulated X-ray photographic film was evaluated in the following order.

(1) 젤라틴(1) gelatin

5중량% 젤라틴수용액 9부에 대하여 4중량% 포르말린 1부를 첨가하고, 상술한 적층필름에 건조 후에 두께가 0.7㎛로 되도록 도포하여 100℃, 3분간 건조하였다.1 part of 4 weight% formalin was added with respect to 9 parts of 5 weight% gelatin aqueous solution, and it dried at 100 degreeC for 3 minutes, apply | coating to the above-mentioned laminated | multilayer film so that thickness might be 0.7 micrometer.

(2) X선 사진필름용 유제(2) emulsion for X-ray photographic film

미야모또 고로저서 「사진감광재료와 취급법」 고리쓰 출판(주) 1955년, 84쪽 기재의 유제를 사용하였다.Kojimi Miyamoto Book "Photosensitive Materials and Handling" Koritsu Co., Ltd. In 1955, the emulsion described on page 84 was used.

(3) 보호막 및 후부피복젤라틴층(3) Protective film and back coating gelatin layer

2중량%의 젤라틴수용액 9부에, 4% 포르말린 1부를 첨가한 것을 유제층면에 0.3㎛ 및 유제층과는 반대편에 7㎛되도록 도포하여 실온에서 건조하였다.To 9 parts of 2% by weight gelatin aqueous solution, 1 part of 4% formalin was added to the emulsion layer surface so as to have a thickness of 0.3 µm and an emulsion layer 7 µm on the opposite side, and dried at room temperature.

이 사진필름을 사용하여 Al박의 X선 회절상을 촬영하여 현상하였다.The X-ray diffraction image of Al foil was imaged and developed using this photographic film.

이때, 현상직후 및 80℃, 85%RH하에서 12시간 후의 상(image)의 상태, 인장시험(JIS C 2318) 및 밀도를 측정하였다.At this time, the state of the image, the tensile test (JIS C 2318) and the density after 12 hours at 80 ° C. and 85% RH at the time of development were measured.

결과를 표에 나타냈다.The results are shown in the table.

실시예 2Example 2

실시예 1에 있어서, 베이스필름작성시에 아탁틱폴리스티렌(이데미쓰 세끼유 가가꾸(주)제품 HH-30E)을 10중량% 함유한 재료를 사용한 것 이외는, 실시예 1과 같은 조작을 행하였다.In Example 1, operation similar to Example 1 was performed except having used the material containing 10 weight% of atactic polystyrene (HH-30E by Idemitsu Sekiyu Kagaku Co., Ltd.) at the time of base film preparation. It was.

결과를 표에 나타냈다.The results are shown in the table.

실시예 3Example 3

실시예 1에 있어서, 제조예 3의 스티렌계 중합체를 사용한 것 이외는 실시예 1과 같은 조작을 행하였다.In Example 1, operation similar to Example 1 was performed except having used the styrene-type polymer of manufacture example 3.

결과를 표에 나타냈다.The results are shown in the table.

실시예 4Example 4

실시예 1과 같이 하여 베이스필름을 작성하고, 그 한쪽면에 감광층, 다른면에 커얼링방지층을 갖는 모의적인 디아조감광필름을 아래의 요령으로 제조하였다.A base film was prepared in the same manner as in Example 1, and a simulated diazo photosensitive film having a photosensitive layer on one side and an anti-kering layer on the other side was prepared in the following manner.

셀룰로오스초산부티르산(이스트만사 제품, EAB-171)의 초산에틸 15중량% 용액 40ml, 4-디아조-N, N'-디에틸아닐린클로라이드염화아연복염 1.5g, 주석산 1.5g,β-레조르신산에탄올아민 1.2g, 오일블루 0.01g 및 메탄올 60ml를 혼합하여, 베이스필름에 도포하고 100℃로 3분간 건조하여 두께 6㎛의 디아조감광층을 얻었다.40 ml of 15% by weight ethyl acetate solution of cellulose butyric acid (EAB-171, Eastman Co., Ltd.), 4-diazo-N, N'-diethylaniline chloride zinc chloride salt 1.5g, tartaric acid 1.5g, β-resorcinic acid 1.2 g of ethanolamine, 0.01 g of oil blue, and 60 ml of methanol were mixed, applied to a base film, and dried at 100 ° C. for 3 minutes to obtain a diazo photosensitive layer having a thickness of 6 μm.

커얼링방지제로서, 다른면에 셀룰로오스초산부티르산만을 도포하여 동이하게 건조하였다.As an anti-caling agent, only cellulose butyric acid was apply | coated to the other side, and it dried similarly.

얻어진 디아조감광필름의 감광층에 원고를 밀착시켜 수은램프로 감광시키고 모노에탄올아민 10% 수용액중으로 2초간 침지하여 현상하였다.The manuscript was brought into close contact with the photosensitive layer of the obtained diazo photosensitive film, and the resultant was immersed in a 10% aqueous solution of monoethanolamine for development for 2 seconds.

결과를 표에 나타냈다.The results are shown in the table.

비교예 1Comparative Example 1

실시예 1에 있어서, 제조예 2의 중합체를 사용하여 135℃로 연신한 것 이외는 실시예 1과 같이 하였다.In Example 1, it carried out similarly to Example 1 except having extended | stretched to 135 degreeC using the polymer of manufacture example 2.

결과를 표에 나타냈다.The results are shown in the table.

비교예 2Comparative Example 2

실시예 1에 있어서, 아탁틱폴리스티렌(이데이쓰 세끼유 가가꾸(주)제품, HH-30E)을 사용하여 용융온도를 220℃로 하고 열처리를 실시하지 않은 것 이외는 실시예 1과 같이 하여 필름 및 사진필름을 작성하였다.In Example 1, a film was prepared in the same manner as in Example 1 except that the melting temperature was set to 220 ° C. using atactic polystyrene (manufactured by Idetsu Seiki Oil Co., Ltd., HH-30E). And photographic films were prepared.

결과를 표에 나타냈다The results are shown in the table.

비교예 3Comparative Example 3

폴리에틸렌테레프탈레이트(떼이진 제품, 테토론, OP3, 75㎛)를 사용하여 실시예 1과 같이 하였다.Polyethylene terephthalate (traded product, Testosterone, OP3, 75 µm) was used as in Example 1.

결과를 표에 나타냈다.The results are shown in the table.

[표][table]

1) SPS : 신디오탁틱폴리스티렌1) SPS: Syndiotactic Polystyrene

aPS : 아탁틱폴리스티렌aPS: Atactic Polystyrene

coSPS : 신디오탁틱(스티렌-p-메틸스티렌)혼성중합체coSPS: Syndiotactic (styrene-p-methylstyrene) interpolymer

PET : 폴리에틸렌테레프탈레이트PET: Polyethylene Terephthalate

2) JIS K 705에 의해 측정2) measured by JIS K705

3) 현상특성3) Developing characteristics

처리전(현상직후)Before treatment (after development)

상 양호 : Al회절점이 선명촬영Good: Al diffraction point is clear

불량 : 고차의 Al회절점이 불선명하다.Poor: Higher Al diffraction point is unclear.

처리후(90℃, 85%RH 이하로 12시간 처리)After treatment (Treatment at 90 ℃, 85% RH or less for 12 hours)

상 양호 : 현상직후와 같음.Good: Same as immediately after development.

불량 : 필름의 뒤집어짐, 수축 등으로 화상의 닳는 일이 있음.Poor: The image may be worn out due to film overturning or shrinkage.

탄성율 : 고체점탄성장치(스펙트로미터)로 30℃에서 측정Modulus of elasticity: measured at 30 ° C with a solid viscoelastic device (spectrometer)

양호 : 40,000kg/㎠ 이상Good: More than 40,000kg / ㎠

가능 : 25,00-40,000kg/㎠Available: 25,00-40,000kg / ㎠

불량 : 25,000kg/㎠ 이하Poor: 25,000kg / ㎠ or less

Claims (14)

(A)신디오탁틱구조를 갖는 스티렌계 중합체로 이루어짐과 동시에 두께 20-500㎛로서 헤이즈(haze) 3% 이하, 습도팽창계수가 1×10-6/%RH 이하인 연신필름층 및 (B)감광층으로 이루어진 사진필름.(A) A stretched film layer composed of a styrene polymer having a syndiotactic structure and having a thickness of 20-500 µm and having a haze of 3% or less and a humidity expansion coefficient of 1 × 10 -6 /% RH or less (B) Photo film consisting of a photosensitive layer. 제1항에 있어서, 스티렌계 중합체의 중량평균분자량이 10,000-3,000,000인 사진필름.The photographic film of claim 1, wherein the weight average molecular weight of the styrene-based polymer is 10,000-3,000,000. 제1항에 있어서, 스티렌계 중합체의 중량평균분자량이 50,000-1,500,000인 사진필름.The photographic film of claim 1, wherein the weight average molecular weight of the styrenic polymer is 50,000-1,500,000. 중량평균분자량/수평균분자량이 1.5-8인 사진필름.Photo film with weight average molecular weight / number average molecular weight 1.5-8. 제1항에 있어서, (A)층이 상용성수지 70-1중량%를 함유하는 사진필름.The photographic film of claim 1, wherein the layer (A) contains 70-1% by weight of the compatible resin. 제1항에 있어서, (A)층이 상용성수지 50-2중량%를 함유하는사진필름.The photographic film of claim 1, wherein the layer (A) contains 50-2% by weight of the compatible resin. 제1항에 있어서, (A)층이 비상용성수지 50-2중량%를 함유하는 사진필름.The photographic film of claim 1, wherein layer (A) contains 50-2% by weight of incompatible resin. 제1항에 있어서, (A)층이 상용성수지 0.001-5중량%를 함유하는 사진필름.The photographic film of claim 1, wherein the layer (A) contains 0.001-5% by weight of the compatible resin. 제1항에 있어서, 다시 또 무기충전제, 산화방지제, 대전방지제 또는 색소를 함유하는 사진필름.The photographic film of claim 1, further comprising an inorganic filler, an antioxidant, an antistatic agent, or a dye. 제1항에 있어서, 스티렌계 중합체중의 잔류 스티렌계 단량체 함유량이 7,000ppm 이하인 사진필름.The photographic film of claim 1, wherein the residual styrene monomer content in the styrene polymer is 7,000 ppm or less. 제1항에 있어서, (A)층 필름의 복굴절의 절대값이 40×10-3이하로 되도록 조정된 사진필름.The photographic film of Claim 1 adjusted so that the absolute value of birefringence of (A) layer film may be 40x10 <-3> or less. 제1항에 있어서, (A)층으로서 베이스필름, (B)감광층으로서 젤라틴 유제층, 보호층, 후부피복층 및 하부피복층으로 이루어진 사진필름.The photographic film of claim 1, comprising (A) a base film, (B) a photosensitive layer, and a gelatin emulsion layer, a protective layer, a rear coating layer, and a lower coating layer. 제12항에 있어서, (A)층, (B)감광층, 보호층, 후부피복층 및 하부피복층의 두께가 각각 20-500㎛, 1-50㎛, 0.01-10㎛, 0.01-20㎛ 및 10㎛ 이하인 사진필름.The thicknesses of the layers (A), (B) photosensitive layer, protective layer, rear coating layer and lower coating layer are 20-500 µm, 1-50 µm, 0.01-10 µm, 0.01-20 µm and 10, respectively. Photo film of less than or equal to μm. 제1항에 있어서, (B)감광층이 은염감광재료, 디아조감광재료, 광색성감광재료 또는 광전도성 재료로 이루어진 사진필름.The photographic film of claim 1, wherein (B) the photosensitive layer is composed of a silver salt photosensitive material, a diazo photosensitive material, a photochromic photosensitive material, or a photoconductive material.
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Families Citing this family (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO1994019722A1 (en) * 1993-02-16 1994-09-01 Teijin Limited Base film for photographic film
US5723208A (en) * 1993-12-07 1998-03-03 Teijin Limited Laminated base film for photographic film
US5582964A (en) * 1994-04-14 1996-12-10 Fuji Photo Film Co., Ltd. Photographic material having a syndiotactic styrenic polymer containing support
EP0706082A1 (en) * 1994-10-06 1996-04-10 Konica Corporation A silver halide photographic light-sensitive material
US5618661A (en) * 1994-11-18 1997-04-08 Konica Corporation Silver halide photographic light-sensitive material and processing method therefor
DE69625277T2 (en) * 1995-05-29 2003-11-13 Toyo Boseki Oriented polystyrene film with isotactic configuration
US5705328A (en) * 1995-08-30 1998-01-06 Konica Corporation Silver halide photographic light-sensitive material
JPH0990561A (en) * 1995-09-26 1997-04-04 Konica Corp Silver halide photographic sensitive material
US6066442A (en) 1995-10-23 2000-05-23 Konica Corporation Plastic film having an improved anti-static property

Family Cites Families (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
BE537548A (en) * 1954-04-22
BE606002A (en) * 1960-07-11
US3549608A (en) * 1966-12-05 1970-12-22 Eastman Kodak Co Stereosymmetric polypropylene

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