JP2866126B2 - ケイ酸含有水の処理方法 - Google Patents
ケイ酸含有水の処理方法Info
- Publication number
- JP2866126B2 JP2866126B2 JP33235389A JP33235389A JP2866126B2 JP 2866126 B2 JP2866126 B2 JP 2866126B2 JP 33235389 A JP33235389 A JP 33235389A JP 33235389 A JP33235389 A JP 33235389A JP 2866126 B2 JP2866126 B2 JP 2866126B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- water
- silicic acid
- zirconium
- containing water
- hafnium
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
Landscapes
- Removal Of Specific Substances (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】 （産業上の利用分野） 本発明は，ケイ酸含有水の処理方法に関するものであ
る。
る。
（従来の技術） 従来，各種工場におけるボイラー用水，半導体製造工
場における洗浄用水及び窯業工場，塵芥焼却工場，半導
体製造工場，セラミツクス製造工場、産業廃棄物処理工
場，廃棄物埋立処分地等，ケイ酸関連工場から排出され
る排水やケイ酸を含有する用水からケイ酸を除去する方
法として，弱塩基性イオン交換樹脂に吸着除去するイオ
ン交換樹脂法（特開昭57−144040号公報），逆浸透膜で
脱塩除去する逆浸透膜法（特開昭54−162683公報）及び
これらを組合せて除去する方法等が提案されている（特
開昭59−112890号公報）。
場における洗浄用水及び窯業工場，塵芥焼却工場，半導
体製造工場，セラミツクス製造工場、産業廃棄物処理工
場，廃棄物埋立処分地等，ケイ酸関連工場から排出され
る排水やケイ酸を含有する用水からケイ酸を除去する方
法として，弱塩基性イオン交換樹脂に吸着除去するイオ
ン交換樹脂法（特開昭57−144040号公報），逆浸透膜で
脱塩除去する逆浸透膜法（特開昭54−162683公報）及び
これらを組合せて除去する方法等が提案されている（特
開昭59−112890号公報）。
（発明が解決しようとする課題） しかし，上記のような従来からのイオン交換樹脂法で
は，ケイ酸以外の他の陰イオンも吸着してしまうので，
通水時間が短く，コストが高くつき，また，従来からの
逆浸透膜法では，SiO2やCa(OH)2などのコロイド状物質
が膜に析出し，閉塞して通水不能や逆浸透膜の耐久性等
に問題があった。
は，ケイ酸以外の他の陰イオンも吸着してしまうので，
通水時間が短く，コストが高くつき，また，従来からの
逆浸透膜法では，SiO2やCa(OH)2などのコロイド状物質
が膜に析出し，閉塞して通水不能や逆浸透膜の耐久性等
に問題があった。
さらにこれらを組み合わせて除去する方法ではたとえ
イオン交換樹脂の通水時間が少し延長されたり，逆浸透
膜にコロイド状物質の析出，閉塞が軽減されたり，逆浸
透膜の耐久性が改善されても新たな薬品，素材，処理が
必要となり，非常に複雑，かつコストが高くつく等に問
題があった。
イオン交換樹脂の通水時間が少し延長されたり，逆浸透
膜にコロイド状物質の析出，閉塞が軽減されたり，逆浸
透膜の耐久性が改善されても新たな薬品，素材，処理が
必要となり，非常に複雑，かつコストが高くつく等に問
題があった。
本発明は，これらの問題点を解消することのできるケ
イ酸含有水の処理方法を提供することを目的とするもの
である。
イ酸含有水の処理方法を提供することを目的とするもの
である。
（課題を解決するための手段） 本発明者らは，上記課題を解決するために鋭意研究の
結果，ケイ酸含有水にジルコニウム又はハフニウムの水
溶性化合物が利用できることを見出し，本発明に到達し
た。
結果，ケイ酸含有水にジルコニウム又はハフニウムの水
溶性化合物が利用できることを見出し，本発明に到達し
た。
すなわち，本発明は，ケイ酸含育水に，ジルコニウム
又はハフニウムの水溶性化合物を加えて水中のケイ酸イ
オンを不溶化させた後，固液分離することを特徴とする
ケイ酸含有水の処理方法を要旨とするものである。
又はハフニウムの水溶性化合物を加えて水中のケイ酸イ
オンを不溶化させた後，固液分離することを特徴とする
ケイ酸含有水の処理方法を要旨とするものである。
本発明に用いられるジルコニウム又はハフニウムの水
溶性化合物としては，ジルコニウム又はハフニウムの塩
化物，硫酸塩，硝酸塩，酢酸塩があげられ，その具体例
として，オキシ塩化ジルコニウム，四塩化ジルコニウ
ム，硫酸ジルコニウム，硝酸ジルコニウム，オキシ硝酸
ジルコニウム，酢酸ジルコニウム及びオキシ塩化ハフニ
ウムがあげられる。その中でも特に，オキシ塩化ジルコ
ニウム及びオキシ塩化ハフニウムが取扱いやすいので好
ましい。
溶性化合物としては，ジルコニウム又はハフニウムの塩
化物，硫酸塩，硝酸塩，酢酸塩があげられ，その具体例
として，オキシ塩化ジルコニウム，四塩化ジルコニウ
ム，硫酸ジルコニウム，硝酸ジルコニウム，オキシ硝酸
ジルコニウム，酢酸ジルコニウム及びオキシ塩化ハフニ
ウムがあげられる。その中でも特に，オキシ塩化ジルコ
ニウム及びオキシ塩化ハフニウムが取扱いやすいので好
ましい。
本発明でケイ酸含有水を処理するには，まず，ケイ酸
含有水に，ジルコニウム又はハフニウムの水溶性化合物
を加えて水中のケイ酸イオンを不溶化させることが必要
である。そのためには，例えば共存物質の種類やケイ酸
合有濃度等によつても変わるが，上記のジルコニウム又
はハフニウムの水溶性化合物を，ケイ酸含有水中のSiO2
換算量に対して通常１〜10当量ポンプにて注入すればよ
い。そのときの反応時間としては，約５〜20分間が適当
であり，また，反応時のpHとしては６〜11の範囲が好ま
しく，特に７〜10の範囲が好ましい。また，ケイ酸含有
水のpHや無機凝集剤を加えたときのpHが上記範囲外のと
きは，塩酸等の通常の酸性薬品やカセイソーダ等の通常
のアルカリ性薬品を加えて上記のpH範囲に調整するとよ
い。さらに温度としては，例えば５〜40℃が適当であ
る。
含有水に，ジルコニウム又はハフニウムの水溶性化合物
を加えて水中のケイ酸イオンを不溶化させることが必要
である。そのためには，例えば共存物質の種類やケイ酸
合有濃度等によつても変わるが，上記のジルコニウム又
はハフニウムの水溶性化合物を，ケイ酸含有水中のSiO2
換算量に対して通常１〜10当量ポンプにて注入すればよ
い。そのときの反応時間としては，約５〜20分間が適当
であり，また，反応時のpHとしては６〜11の範囲が好ま
しく，特に７〜10の範囲が好ましい。また，ケイ酸含有
水のpHや無機凝集剤を加えたときのpHが上記範囲外のと
きは，塩酸等の通常の酸性薬品やカセイソーダ等の通常
のアルカリ性薬品を加えて上記のpH範囲に調整するとよ
い。さらに温度としては，例えば５〜40℃が適当であ
る。
次に，上記で生成させた不溶化物を固液分離すること
が必要である。そのためには，例えば，沈澱，浮上，脱
水，濾過等で行えばよい。このときにジルコニウム又は
ハフニウムの水溶性化合物を加えて生成せしめた不溶化
物は，凝集してフロツク状で固液分離しやすいものであ
るが，必要に応じて硫酸バンドや塩化第２鉄等通常の無
機凝集剤又はアルリル系ポリマー等の高分子凝集剤を併
用して，さらに凝集性を高めてもよい。
が必要である。そのためには，例えば，沈澱，浮上，脱
水，濾過等で行えばよい。このときにジルコニウム又は
ハフニウムの水溶性化合物を加えて生成せしめた不溶化
物は，凝集してフロツク状で固液分離しやすいものであ
るが，必要に応じて硫酸バンドや塩化第２鉄等通常の無
機凝集剤又はアルリル系ポリマー等の高分子凝集剤を併
用して，さらに凝集性を高めてもよい。
なお，本発明においては，他の硫酸バンド凝集沈澱
法，イオン交換樹脂吸着法等と組合せて固液分離しても
よい。
法，イオン交換樹脂吸着法等と組合せて固液分離しても
よい。
（実施例） 次に，実施例によつて本発明を具体的に説明する。
実施例１ 懸濁物質5mg/l,二酸化ケイ素として36mg/lを含有し,p
H7.2の合成繊維製造工場ボイラー用水１に,100g/lの
オキシ塩化ジルコニウム・八水和物水溶液2ml（1.04当
量）を注入して５分間攪拌した後,pHを測定すると,pHは
5.7であった。
H7.2の合成繊維製造工場ボイラー用水１に,100g/lの
オキシ塩化ジルコニウム・八水和物水溶液2ml（1.04当
量）を注入して５分間攪拌した後,pHを測定すると,pHは
5.7であった。
次に，攪拌しながら100g/lカセイソーダ水溶液0.82ml
を注入してpH7.0に調整し，次いで,30分間静置して沈澱
させた後，濾紙濾過で固液分離させた。
を注入してpH7.0に調整し，次いで,30分間静置して沈澱
させた後，濾紙濾過で固液分離させた。
分離した処理水中の二酸化ケイ素濃度をJISK−0101に
よるモリブデンブルー吸光光度法で分析すると，処理水
中の二酸化ケイ素濃度は,1.09mg/l（除去率97.0％）で
あった。
よるモリブデンブルー吸光光度法で分析すると，処理水
中の二酸化ケイ素濃度は,1.09mg/l（除去率97.0％）で
あった。
実施例２ 懸濁物質89mg/l,二酸化ケイ素として52mg/lを含有し,
pH9.4の塵芥焼却場洗煙排水１に,100g/lの硫酸ジルコ
ニウム・四水和物水溶液10ml（3.25当量）及び100g/lの
硝酸ジルコニウム・五水和物水溶液10ml（2.69当量）を
注入して10分間攪拌した。
pH9.4の塵芥焼却場洗煙排水１に,100g/lの硫酸ジルコ
ニウム・四水和物水溶液10ml（3.25当量）及び100g/lの
硝酸ジルコニウム・五水和物水溶液10ml（2.69当量）を
注入して10分間攪拌した。
次に，塩化第２鉄300mgを注入して10分間攪拌した後,
pH測定すると,pHは6.2であった。さらに，ポリアクリル
アミドのアニオン系高分子凝集剤（ユニチカ社製）2mg
を注入して30分間静置して沈澱させた後，遠心分離機
（東京理化器械製）を用い,2000rpmの条件で固液分離さ
せた。
pH測定すると,pHは6.2であった。さらに，ポリアクリル
アミドのアニオン系高分子凝集剤（ユニチカ社製）2mg
を注入して30分間静置して沈澱させた後，遠心分離機
（東京理化器械製）を用い,2000rpmの条件で固液分離さ
せた。
分離した処理水中の二酸化ケイ素濃度を実施例１と同
様の方法で分析すると，処理水中の二酸化ケイ素濃度は
2.16mg/l（除去率95.8％）であつた。
様の方法で分析すると，処理水中の二酸化ケイ素濃度は
2.16mg/l（除去率95.8％）であつた。
実施例３ 懸濁物質5mg/l,二酸化ケイ素として85mg/lを含有し,p
H7.6の半導体製造工場洗浄用水10lに,100g/lのオキシ塩
化ハフニウム・八水和物水溶液10ml（1.73当量）及び10
0g/lの酢酸ジルコニウム水溶液10ml（2.16当量）を注入
して10分間攪拌した後,pH測定すると,pHは3.2であっ
た。
H7.6の半導体製造工場洗浄用水10lに,100g/lのオキシ塩
化ハフニウム・八水和物水溶液10ml（1.73当量）及び10
0g/lの酢酸ジルコニウム水溶液10ml（2.16当量）を注入
して10分間攪拌した後,pH測定すると,pHは3.2であっ
た。
次に，攪拌しながら100g/lカセイソーダ水溶液13mlを
注入してpH9.0に調整した。さらに，ポリアクリルアミ
ドのアニオン系高分子凝集剤（ユニチカ社製）30mgを注
入して30分間静置して沈澱させた後，濾紙濾過で固液分
離させた。
注入してpH9.0に調整した。さらに，ポリアクリルアミ
ドのアニオン系高分子凝集剤（ユニチカ社製）30mgを注
入して30分間静置して沈澱させた後，濾紙濾過で固液分
離させた。
分離した凝沈濾過水の一部を採り，実施例１と同様の
方法で二酸化ケイ素濃度を分析した。
方法で二酸化ケイ素濃度を分析した。
さらに，分離した凝沈濾過水の残りを，直径7mmφの
ガラス製カラムに充填された弱塩基性陰イオン交換樹脂
「IRA−35」（オルガノ社製）30mlに通水速度2.5ml/min
で通水させて吸着処理水を得，得られた吸着処理水中の
二酸化ケイ素濃度を実施例１と同様の方法で分析した。
ガラス製カラムに充填された弱塩基性陰イオン交換樹脂
「IRA−35」（オルガノ社製）30mlに通水速度2.5ml/min
で通水させて吸着処理水を得，得られた吸着処理水中の
二酸化ケイ素濃度を実施例１と同様の方法で分析した。
その結果，凝沈濾過水中及び吸着処理水中の二酸化ケ
イ素濃度は，それぞれ1.24mg/l（除去率98.5％），不検
出（除去率100％）であつた。
イ素濃度は，それぞれ1.24mg/l（除去率98.5％），不検
出（除去率100％）であつた。
（発明の効果） 本発明によれば，ケイ酸含有水中のケイ酸を，従来の
処理法に比べて，容易に低濃度まで除去することができ
る。また，本発明によれば，イニシヤルコスト及びラン
ニングコストを安くし，設備を簡単にし，かつ運転維持
管理を容易にすることができる。
処理法に比べて，容易に低濃度まで除去することができ
る。また，本発明によれば，イニシヤルコスト及びラン
ニングコストを安くし，設備を簡単にし，かつ運転維持
管理を容易にすることができる。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (56)参考文献 特開 昭52−11641（ＪＰ，Ａ) 特開 昭42−75421（ＪＰ，Ａ) 特開 昭50−76842（ＪＰ，Ａ) (58)調査した分野(Int.Cl.6，ＤＢ名) C02F 1/52 - 1/60
Claims (1)
- 【請求項１】ケイ酸含有水に，ジルコニウム又はハフニ
ウムの水溶性化合物を加えて水中のケイ酸イオンを不溶
化させた後，固液分離することを特徴とするケイ酸含有
水の処理方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP33235389A JP2866126B2 (ja) | 1989-12-20 | 1989-12-20 | ケイ酸含有水の処理方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP33235389A JP2866126B2 (ja) | 1989-12-20 | 1989-12-20 | ケイ酸含有水の処理方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH03193189A JPH03193189A (ja) | 1991-08-22 |
| JP2866126B2 true JP2866126B2 (ja) | 1999-03-08 |
Family
ID=18254013
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP33235389A Expired - Fee Related JP2866126B2 (ja) | 1989-12-20 | 1989-12-20 | ケイ酸含有水の処理方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2866126B2 (ja) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP5998796B2 (ja) * | 2012-09-25 | 2016-09-28 | 三浦工業株式会社 | シリカ除去システム及びそれを備える水処理システム |
-
1989
- 1989-12-20 JP JP33235389A patent/JP2866126B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH03193189A (ja) | 1991-08-22 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US7138063B1 (en) | Method of removing arsenic and other anionic contaminants from contaminated water using enhanced coagulation | |
| KR100195324B1 (ko) | 실리케이트 또는 알루미노실리케이트 형 화합물 및 카르보네이트 형 화합물을 포함하는 중금속 양이온 회수제 | |
| US5378366A (en) | Hot lime precipitation of arsenic from wastewater or groundwater | |
| US5336415A (en) | Removing polyvalent metals from aqueous waste streams with chitosan and halogenating agents | |
| US4534867A (en) | System for removing iron and/or other chemically reducing substances from potable water | |
| JP3646900B2 (ja) | 硼素含有水の処理装置及び方法 | |
| JPH0226557B2 (ja) | ||
| US4087359A (en) | Process for removing mercury and mercury salts from liquid effluents | |
| JP3110464B2 (ja) | 珪酸塩、アルミノ珪酸塩、又は炭酸塩型の化合物を含む、重金属陽イオン捕捉剤 | |
| Fearing et al. | Staged coagulation for treatment of refractory organics | |
| JPH0322239B2 (ja) | ||
| JP2866126B2 (ja) | ケイ酸含有水の処理方法 | |
| JPS59166290A (ja) | 洗煙排水中の有害成分除去法 | |
| JP2001121140A (ja) | 吸着剤及び水処理方法 | |
| JPH10146589A (ja) | 写真排出液中の鉄の回収方法 | |
| JP2737610B2 (ja) | 排煙脱硫排水の処理方法 | |
| JPH0315516B2 (ja) | ||
| CN110615520A (zh) | 一种水处理净化及消毒方法 | |
| JPH03186393A (ja) | フッ素含有排水の処理方法 | |
| JP2737614B2 (ja) | 排煙脱硫排水の処理方法 | |
| JP6650817B2 (ja) | 有機脱酸素剤及び懸濁物質を含有する排水の処理方法及び処理装置 | |
| US825637A (en) | Process of purifying water. | |
| SU267500A1 (ru) | Способ очистки сточных вод от ртути | |
| JPH1028979A (ja) | 二酸化塩素で殺菌された飲料用水およびスイミング用水の後処理方法 | |
| RU2098359C1 (ru) | Способ очистки воды |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |