JP2840003B2 - 廃水処理方法 - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】この発明は、半導体素子，プリン
ト基板等の電子部品の洗浄により生じる廃水の処理方法
に関するものである。

【０００２】

【従来の技術】従来から半導体素子およびプリント基板
等の電子部品の洗浄には、特定フロンおよび１，１，１
−トリクロロエタン等の塩素系溶剤が使用されてきた。
しかしながら、オゾン層破壊の可能性が指摘されてか
ら、１９９５年末時点での上記特定フロンの全廃が決定
された。このため、国内においても、電気・電子業界を
中心に、上記特定フロンに代わる洗浄用代替フロンの開
発が積極的に行われている。そして、現在、溶剤系洗浄
剤と水系洗浄剤の２種類に大別される代替フロンが開発
されている。上記溶剤系洗浄剤は、ハロゲン化炭化水素
系を除けばいずれも引火性を有するもので、使用にあた
っては火災に対する注意が必要であり防爆対応が必須で
ある。また、毒性を有するために取扱いに注意を要す
る。これに対して、上記水系洗浄剤は、基本的に引火性
を有するものではなく危険性が非常に少ないため、最近
ではこれを中心に研究開発が行われている。上記水系洗
浄剤には、アルカリ鹸化型洗浄剤と中性高濃度界面活性
剤を主成分とする洗浄剤の二つに大別される。上記アル
カリ鹸化型洗浄剤は、洗浄力の点では優れているが、例
えば濯ぎ不足により洗浄剤が残留した場合にエレクトロ
マイグレーションが発生する等の問題を有している。こ
のような観点から、中性の高濃度界面活性剤を主成分と
する水系洗浄剤が最近注目されている。

【０００３】一方、上記中性の高濃度界面活性剤を主成
分とする洗浄剤は、非危険物で取扱いが容易であり、濯
ぎも水で行うことができるため、実用に適しており、最
近ではこの中性の高濃度界面活性剤を主成分とする洗浄
剤の開発が盛んに行われている。しかしながら、この洗
浄剤を用いて洗浄を行った際に、洗浄後に生ずる廃水の
処理が問題となる。この廃水処理としては、上記廃水
を、活性炭，イオン交換樹脂および活性汚泥等から構成
される廃水濾過システムで処理する方法が一般的であ
る。

【０００４】

【発明が解決しようとする課題】しかし、上記廃水濾過
システムは、大規模な設備となり処理にコストがかかり
過ぎるという問題を有している。さらに、上記洗浄剤
は、ノニオン性の界面活性剤と水とからなり、このノニ
オン性界面活性剤を充分に除去することができないとい
う問題も有している。このように、代替フロンとして注
目されている中性の高濃度界面活性剤を主成分とする洗
浄剤を用いての洗浄の際に生ずる廃水の処理において、
効果的な処理方法が未だ確立されておらずその開発が強
く望まれているのが実情である。

【０００５】この発明は、このような事情に鑑みなされ
たもので、ノニオン性界面活性剤等を含む廃水を低コス
トで充分に分離除去して処理することができる廃水処理
方法の提供をその目的とする。

【０００６】

【課題を解決するための手段】上記の目的を達成するた
め、この発明の廃水処理方法は、電子部品の洗浄により
生じる廃水の処理方法であって、下記の一般式（１）で
表される粒状ノボラック樹脂を準備する工程と、アルカ
リ性物質の存在下、上記粒状ノボラック樹脂と廃水とを
均一に混合する工程と、上記粒状ノボラック樹脂と廃水
の混合液に酸性物質を添加する工程とを備えたという構
成をとる。

【０００７】

【化２】

【０００８】

【作用】すなわち、この発明は、ノニオン性界面活性剤
を含有する廃水に、特定の粒状ノボラック樹脂をアルカ
リ性物質の存在下で配合し、混合する。ついで、酸性物
質を添加してノニオン性界面活性剤を沈殿させる処理方
法である。したがって、廃水を沈殿物質と上澄み液に分
離させることができ、従来の方法では除去することがで
きなかったノニオン性界面活性剤を除去することができ
ることを見出しこの発明に到達した。

【０００９】つぎに、この発明を詳しく説明する。

【００１０】この発明の廃水処理方法には、下記の一般
式（１）で表される粒状ノボラック樹脂が用いられる。

【００１１】

【化３】

【００１２】上記特定の粒状ノボラック樹脂としては、
特に限定するものではなく従来公知のものが用いられ
る。上記粒状とは、粒状，粉末状，フレーク状のものは
もちろん、粉末状のものを打錠成形等によりペレット状
に成形されたものも含む趣旨である。

【００１３】この発明の廃水処理方法は、つぎのように
して行われる。すなわち、特定の粒状ノボラック樹脂を
準備し、これをアルカリ性物質の存在下、廃水に配合し
均一に混合する。ついで、上記粒状ノボラック樹脂と廃
水の混合液に酸性物質を添加する。このようにすること
で、廃水が、沈殿物質と上澄み液とに分離される。

【００１４】上記特定の粒状ノボラック樹脂の配合量
は、上記廃水に含まれるノニオン性界面活性剤の種類，
廃水中の不純物の構成によって適宜に設定されるが、例
えば廃水中のノニオン性界面活性剤量１００重量部（以
下「部」と略す）に対して１０〜１５０部の割合に設定
することが好ましい。

【００１５】上記アルカリ性物質としては、アルカリ金
属水酸化物，アルカリ土類金属水酸化物，アンモニア，
アミン等があげられる。なかでも、水酸化ナトリウム，
水酸化カリウムを用いることが好ましい。上記アルカリ
性物質の使用量は、上記ノボラック樹脂を廃水中に溶解
させるのに必要な量に設定されるが、廃水液のｐＨが８
以上、特に好ましくは９以上になるよう配合することが
好適である。なお、上記アルカリ性物質の存在下とは、
予め廃水にアルカリ性物質を添加しておいてもよく、あ
るいは廃水にノボラック樹脂を配合した後に添加しても
よいという趣旨である。

【００１６】上記粒状ノボラック樹脂とアルカリ性物質
を添加した後に廃水に添加する酸性物質としては、塩
酸，硫酸，蓚酸等があげられる。上記酸性物質の添加量
としては、廃水中に溶解したノボラック樹脂を不溶化さ
せることができる量であればよく、例えば系全体のｐＨ
を８以下に、好ましくはｐＨ７．５〜６．５の略中性領
域に降下させることの可能な量に設定される。

【００１７】この発明の廃水処理方法において、上記粒
状ノボラック樹脂，アルカリ性物質および酸性物質以外
に、従来から用いられる吸着剤等は使用しないことが好
ましい。例えば無機凝集剤を用いると、沈殿物質量およ
び沈殿物質の占有体積が増加し、上記沈殿物質の除去等
にコストがかかり、廃水処理が高コストになってしま
う。

【００１８】このように、この発明の廃水処理方法で
は、アルカリ性物質存在下で特定の粒状ノボラック樹脂
を添加することにより粒状ノボラック樹脂が溶解する。
ついで、酸性物質を添加することで、廃水中のノニオン
性界面活性剤をノボラック樹脂が取込み沈殿させる。こ
れにより、廃水を上澄み液と沈殿物質とに分離すること
が可能となり、上記沈殿物質を除去することにより廃水
を処理することができる。上記上澄み液は、透明でかつ
乾燥固形分をほとんど含有していない。そして、上記上
澄み液は、ＣＯＤ値（化学的酸素要求量）が低下してお
り、そのまま廃捨（放流）できる場合もあり、さらに活
性汚泥等の生物処理を行うことにより一層上澄み液のＢ
ＯＤ値（生化学的酸素要求量）を低下させることができ
廃水の処理が一層進む。

【００１９】

【発明の効果】以上のように、この発明の廃水処理方法
は、廃水に、前記一般式（１）で表される粒状ノボラッ
ク樹脂をアルカリ性物質の存在下で配合して混合する。
ついで、酸性物質を添加してノニオン性界面活性剤を沈
殿させる処理方法である。このため、廃水をノニオン性
界面活性剤を取り込んだ沈殿物質と上澄み液に分離させ
ることができ、従来の方法では除去することができなか
ったノニオン性界面活性剤を除去することができる。し
たがって、従来の方法では処理できなかった中性の高濃
度界面活性剤を主成分とする水系洗浄剤による洗浄後の
廃水中のノニオン性界面活性剤を、低コストで容易かつ
高レベルで分離除去することが可能となり、代替フロン
による洗浄に切り替わりつつある半導体分野の洗浄用廃
水の処理方法として最適である。

【００２０】つぎに、この発明を実施例に基づいて詳し
く説明する。

【００２１】〔疑似廃水の作製〕 代替フロンの一種であるノニオン性界面活性剤を含む中
性高濃度界面活性剤含有洗浄剤を準備し、これを用いて
プリント基板を洗浄した際に生じる廃水と成分がほとん
ど同じの疑似廃水（ノニオン性界面活性剤含有率４５０
００ｐｐｍ）を作製した。なお、中性高濃度界面活性剤
含有洗浄剤としては、花王社製のクリンスルー７００を
用いた。

【００２２】

【実施例１】上記疑似廃水に、前記一般式（１）で表さ
れるノボラック樹脂（繰り返し数ｎ＝６）の粉末状物を
０．９部と、水酸化ナトリウム０．７部を添加し攪拌し
て均一に混合した。この時点での廃水のｐＨは１１であ
った。ついで、攪拌しながら塩酸（濃度３７％）を０．
５部添加してｐＨを６．８にした。さらに、攪拌を続け
た後、放置した結果、廃水は沈殿物質と透明な上澄み液
の二層に分離した。

【００２３】

【実施例２〜５】ノボラック樹脂，水酸化ナトリウム
（ＮａＯＨ）および濃度３７％の塩酸（ＨＣｌ）の添加
量を下記の表１に示す割合に設定した。それ以外は実施
例１と同様にして廃水処理を行った。なお、ＮａＯＨ添
加後およびＨＣｌ添加後のｐＨ値を下記の表１に併せて
示した。

【００２４】

【表１】

【００２５】このようにして処理された疑似廃水は、い
ずれも沈殿物質と透明な上澄み液に分離された。そし
て、上記上澄み液中のノニオン性界面活性剤濃度を測定
することにより処理する前の濃度からノニオン性界面活
性剤の除去率を測定した。また、沈殿物質を蒸発乾燥固
化して重量測定を行いその固形分を求めた。さらに、上
記上澄み液の透過率を測定した。これらの結果を下記の
表２に示す。なお、上記ノニオン性界面活性剤濃度の測
定は、ｃ．ｍ．ｃ濃度（ミセル生成濃度）以上はフェロ
シアン化カリ法によって行い、ｃ．ｍ．ｃ濃度未満はデ
ュノイ式表面張力計を用い検量線により求めた。上澄み
液の透過率は、ＥＰＯ−Ｂ型光電光度計（日立社製）に
よって白色光源を用い、蒸留水を１００とした場合の透
過率（％）で示した。

【００２６】

【表２】

【００２７】上記表２の結果から、各実施例により処理
された上澄み液中のノニオン性界面活性剤は殆ど除去さ
れていることがわかる。また、沈殿物質の固形分もそれ
ほど多くなく上澄み液と沈殿物質の分離も容易であるこ
とがわかる。沈殿物質の体積量も少なかった。

【００２８】ついで、上記沈殿物質を濾過除去し、上澄
み液を活性汚泥で処理することにより上澄み液は放流可
能なまでに処理された。

Claims (1)

(57)【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 電子部品の洗浄により生じる廃水の処理
   方法であって、下記の一般式（１）で表される粒状ノボ
   ラック樹脂を準備する工程と、アルカリ性物質の存在
   下、上記粒状ノボラック樹脂と廃水とを均一に混合する
   工程と、上記粒状ノボラック樹脂と廃水の混合液に酸性
   物質を添加する工程とを備えたことを特徴とする廃水処
   理方法。 【化１】