JP2836256B2 - 光ファイバのコア用組成物及び光ファイバ - Google Patents
光ファイバのコア用組成物及び光ファイバInfo
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Description
バのコア材用として用いられるオルガノポリシロキサン
組成物及び該組成物の硬化物をコアとするプラスチック
光ファイバに関する。
ように、光ファイバには、石英ガラスや多成分ガラスを
芯(コア)成分や鞘(クラッド)成分とするガラス系光
ファイバのほかに、芯成分、鞘成分ともにプラスチック
からなるプラスチック光ファイバがある。このプラスチ
ック光ファイバはガラス系光ファイバに比べ、伝送損失
が大きく、長距離通信には適さないという欠点はある
が、ガラス系光ファイバに比べて開口数を大きくしやす
く、取扱が容易で、安価であるという利点を持ってい
る。
光の透過性が良い有機重合体から成る芯と、芯成分より
も屈折率が小さく、透明性の良い有機重合体から成る鞘
とから構成されている。この場合、芯物質として適当な
光透過性の良い有機重合体としては、例えばポリメタク
リル酸メチル、ポリスチレン、ポリカーボネート等が知
られている。
キサン弾性体を用いることが特開昭60−43613号
公報に提案されており、これを芯物質としたプラスチッ
ク光ファイバは、ポリメタクリル酸メチル等を芯成分と
するものに比べ、可とう性に富み、耐熱性にも優れてい
るという利点を有している。
は、プラスチック光ファイバの芯成分として適用した場
合、高湿度の条件下に置いておくと短時間で光伝送損失
が大きくなるという欠点があり、この欠点の解決が望ま
れていた。
高湿度の条件下に置いておいても光伝送損失が小さいオ
ルガノポリシロキサン硬化物を与える光ファイバのコア
用組成物及び該硬化物をコアとする光ファイバを提供す
ることを目的とする。
目的を達成するため鋭意検討を重ねた結果、 (イ)分子中に下記単位(1)を有すると共に、けい素
原子に直結したアルケニル基をけい素原子1個当り0.
05個以上有するアルケニル基含有オルガノポリシロキ
サンと、 (ロ)下記平均組成式(2)で示されるオルガノシラン
又はオルガノポリシロキサンと、 (ハ)1分子中にけい素原子に直結した水素原子を少な
くとも2個以上有するオルガノポリシロキサンと、 (ニ)白金系触媒とを含有したオルガノポリシロキサン
組成物が光ファイバのコア用組成物として非常に有効で
あり、該組成物の硬化物をコアに適用した光ファイバ
は、高温及び高湿度の条件下に長時間曝されても光透過
率が低下せず、光伝送損失が小さいことを見い出した。
炭化水素基である。)
異種の炭素数1〜10の置換又は非置換の一価炭化水素
基、aは0≦a≦2、bは0<b≦4、0<a+b≦4
で示される実数である。)
は、耐湿性を高めるために、硬化前のオルガノポリシロ
キサン構造に三次元構成単位である上記R1SiO1.5単
位を含有させて架橋密度を高め、更にけい素原子に直結
したアルコキシ基(R3 O−Si)を有するオルガノポ
リシロキサンを用いることにより、湿度の変化に対して
高光透過率を安定して維持するものである。
ノポリシロキサン、(ロ)成分のオルガノシラン又はオ
ルガノポリシロキサン、(ハ)成分のオルガノポリシロ
キサン及び(ニ)成分の白金系触媒とを含有する光ファ
イバのコア用組成物及び該組成物の硬化物をコアとする
光ファイバを提供する。
明の光ファイバのコア用オルガノポリシロキサン組成物
を構成する(イ)成分のオルガノポリシロキサンは、架
橋密度を高めるために、下記三次元構成単位(1)を有
し、かつけい素原子に直結したアルケニル基を有するも
のである。
て、R1は炭素数1〜10の置換又は非置換の一価炭化
水素基であり、具体的に例示すると、メチル基,エチル
基,プロピル基等のアルキル基、ビニル基,アリル基,
ヘキセニル基等のアルケニル基、シクロヘキシル基等の
シクロアルキル基、フェニル基,トリル基,キシリル基
等のアリール基、ベンジル基,フェニルエチル基等のア
ラルキル基、テトラクロロフェニル基,クロロフェニル
基,クロロメチル基,ペンタフルオロブチル基,トリフ
ルオロプロピル基等のハロゲン置換一価炭化水素基など
が挙げられるが、これらの中でもメチル基,フェニル
基,ビニル基が好ましく、これらの置換基の割合は特に
制限されない。
(イ)成分のオルガノポリシロキサン中30〜80モル
%、特に40〜70モル%の割合で含有することが好ま
しい。
キサンは、後述する(ロ)成分あるいは(ハ)成分のオ
ルガノポリシロキサンのけい素原子に直結した水素原子
と、(ニ)成分の白金系触媒の存在下で付加架橋反応に
より硬化するものであり、このため1分子中にけい素原
子に直結したビニル基,アリル基,アクリル基等のアル
ケニル基をけい素原子1個当り0.05個以上、好まし
くは0.15個以上有することが必要である。このけい
素原子に直結したアルケニル基の数がけい素原子1個当
り0.05個未満の場合、硬化速度が遅くなったり、あ
るいは硬化物が得られなくなる。
基を有する(イ)成分のオルガノポリシロキサンとして
は、具体的に下記平均組成式で示されるものが例示され
る。なお、Meはメチル基、Viはビニル基、Phはフ
ェニル基を示す。
式におけるそれぞれの構成単位に対応するオルガノハロ
シラン、オルガノアルコキシシランを共加水分解する公
知方法によって得ることができる。
に直結したアルコキシ基(R3 O−Si)を有する下記
平均組成式(2)で示されるオルガノシラン又はオルガ
ノポリシロキサンである。
ぞれ水素原子あるいは同種又は異種の炭素数1〜10の
置換又は非置換の一価炭化水素基であり、具体例として
は上述したR1と同様のものが挙げられる。なお、R2,
R3には後述する(ハ)成分のオルガノポリシロキサン
のけい素原子に直結した水素原子と(ニ)成分の白金系
触媒の存在下で付加架橋反応するビニル基、アリル基、
アクリル基等のアルケニル基を含んでいても差し支えな
い。また(イ)成分のアルケニル基と(ニ)成分の白金
系触媒の存在下で付加反応する水素原子等を含んでいて
よい。好ましい例を挙げると、R2は水素原子、メチル
基、エチル基、フェニル基、ビニル基、R3はメチル
基、エチル基である。
0<a+b≦4で示される実数であるが、耐湿性向上の
面からaは0≦a≦1、bは1≦b≦4、1<a+b≦
4が好ましい。
ルガノポリシロキサンと相溶すれば特に制限されず、例
えば環状、鎖状、分枝状、網状などいずれであっても差
し支えない。更に、25℃における粘度は10cs以下
の低粘度のものから1000cs以上の高粘度のものま
で広範囲のものが使用できるが、光ファイバの製造面か
ら、低粘度のオルガノポリシロキサン組成物が好ましい
ため、組成物の粘度を低下させる意味で、(ロ)成分の
オルガノポリシロキサンは25℃において1000cs
以下の低粘度のものが好ましい。
均組成式i〜ixで示されるものが例示される。なお、M
eはメチル基、Etはエチル基、Viはビニル基、Ph
はフェニル基を示す。
記式におけるそれぞれの構成単位に対応するオルガノア
ルコキシシランを部分共加水分解する公知方法によって
得ることができる。
成物全体に対する含有率が0.5〜50重量%、特に5
〜20重量%の範囲となるような量が好ましい。(ロ)
成分の含有率が0.5重量%に満たないと光ファイバの
耐湿性の向上が不十分となり、50重量%を超えると耐
熱性が悪くなる場合がある。
サン組成物を構成する(ハ)成分は、1分子中にけい素
原子に直結した水素原子を少なくとも2個以上有するオ
ルガノポリシロキサンであり、これは上記(イ)成分及
び(ロ)成分中のアルケニル基と付加架橋反応により硬
化物を形成するための成分である。この場合、(イ)成
分のオルガノポリシロキサン中のアルケニル基(A)に
対する(ハ)成分のオルガノポリシロキサン中のけい素
原子に直結した水素原子(B)の割合は、硬化の目的を
達成すれば良く、特に制限されないが、A/Bはモル比
で10/1〜1/10、特に5/1〜1/5とすること
が望ましい。
において、水素原子以外のけい素原子に結合した有機基
としては、一価の有機基であれば特に制限されないが、
一価の置換又は非置換の炭化水素基が好ましい。この一
価の置換又は非置換の炭化水素基としては、上述した
(イ)成分のR1と同様の炭素数1〜10のアルキル
基、アラルキル基、ハロゲン置換一価炭化水素基などが
挙げられるが、特にメチル基、フェニル基が好ましい。
ンの分子構造は、(ロ)成分と同様(イ)成分のオルガ
ノポリシロキサンと相溶すれば特に制限されず、例えば
環状、鎖状、分枝状、網状などいずれであっても差し支
えない。
の低粘度のものから1000cs以上の高粘度のものま
で広範囲のものが使用できるが、光ファイバの製造面か
ら、低粘度のオルガノポリシロキサン組成物が好ましい
ため、組成物の粘度を低下させる意味で、(ハ)成分の
オルガノポリシロキサンは25℃において1000cs
以下の低粘度のものが好ましい。
成物を構成する(ニ)成分の白金系触媒は、(イ)成分
及び(ロ)成分中のけい素結合アルケニル基と(ハ)成
分のオルガノポリシロキサン中のけい素結合水素原子と
の付加反応による架橋結合の生成を促進して硬化に要す
る時間を短縮するための触媒である。この白金系触媒と
しては、例えば白金黒、塩化白金酸などが挙げられる
が、オルガノポリシロキサンに溶解させるため、例えば
塩化白金酸のアルコール変性溶液、塩化白金酸のシリコ
ーン変性溶液などの溶液とすることが好ましい。
量であるが、光ファイバに使用する場合、白金が光伝送
損失に影響を与えることから、白金の量は少ない方が良
く、具体的には(イ)成分、(ロ)成分及び(ハ)成分
の合計量に対して白金として5ppm以下、特に1pp
m以下とすることが好ましい。
シロキサン組成物は、上述した(イ)成分、(ロ)成
分、(ハ)成分及び(ニ)成分を含有してなるものであ
るが、これらの成分を混合して組成物とした場合、
(ニ)成分の白金系触媒の触媒作用により、(イ)成分
及び(ロ)成分と(ハ)成分との付加反応が常温付近に
おいても進行し、また、加熱下においてはこの付加反応
の進行が早いため、作業面から反応抑制剤を添加しても
良い。この反応抑制剤としては、例えばアセチレンアル
コール類のほか、3−メチル−3−ブチン−2−オー
ル,2−メチル−1−ペンチル−3−オール,3,5−
ジメチル−1−ヘキシン−3−オール,2,5−ジメチ
ル−3−ヘキシン−2,5−ジオール,3,6−ジメチ
ル−4−オクチン−3,6−ジオール,2,4,7,9
−テトラメチル−5−デシン−4,7−ジオールなどが
挙げられる。この反応抑制剤の添加量は特に制限はな
く、作業条件に合わせて適宜選択すれば良い。
混合し、チューブ等に圧入するなど、公知の方法により
ファイバ状に成形した後、加熱、硬化して光ファイバの
コアを製造することができる。この場合、硬化条件は通
常100〜150℃で3時間以上加熱することが好まし
い。
用するものであるが、クラッド(鞘)成分としては公知
のプラスチックにより構成することができる。このクラ
ッド成分の具体的に好ましい材料として、例えばポリテ
トラフルオロエチレン,テトラフルオロエチレン/パー
フルオロアルキルビニルエーテル共重合体,テトラフル
オロエチレン/ヘキサフルオロプロピレン共重合体,ポ
リクロロトリフルオロエチレン,テトラフルオロエチレ
ン/エチレン共重合体,ポリビニルフルオライド,ポリ
ビニリデンフルオライド,テトラフルオロエチレン/ビ
ニリデンフルオライド共重合体等の含フッ素ポリマーや
ポリアミド樹脂,ポリイミド樹脂,ポリアミドイミド樹
脂,エポキシ樹脂,ポリ塩化ビニル樹脂,ポリエステル
樹脂等を挙げることができる。
シリコーン系プラスチック光ファイバは、高湿度下に曝
されても光伝送損失が大きくならず、湿度の変化に対し
高い光透過率を安定して維持できるため、本来の可とう
性、耐熱性と相まってプラスチック光ファイバの適用範
囲を拡げるものである。
体的に説明するが、本発明は下記実施例に制限されるも
のではない。なお、以下の例において部はいずれも重量
部である。
有するオルガノポリシロキサンとアルコキシ基を有する
オルガノポリシロキサンを合成した。
ロキサンの合成〉フラスコ内にフェニルトリメトキシシ
ラン108.9g(0.55モル)、メチルビニルジメ
トキシシラン39.6g(0.30モル)及びジメチル
ジメトキシシラン18g(0.15モル)を仕込み、5
℃以下に冷却した。この溶液に20%塩酸水溶液11
4.5gを30℃以下で滴下し、次にこの反応液を室温
で1時間、60〜70℃で2時間撹拌し、次いでトルエ
ン110g、10%硫酸ナトリウム水溶液110gを添
加し、有機層を分離した。
で中性になるまで洗浄し、次いで110〜120℃に加
熱共沸脱水を2時間行なった後、40℃まで冷却し、ト
ルエン52g、水酸化カリウム0.025gを加えて1
10〜120℃で加熱し、共沸脱水により水を除去しな
がら縮合重合を4時間行なった。次いで、室温まで冷却
し、トリメチルクロルシラン0.12gを添加し、1時
間撹拌した後、10%硫酸ナトリウム水溶液で中性にな
るまで洗浄した。この反応液を無水硫酸ナトリウムで乾
燥、ろ過し、トルエンを加熱、減圧にて除去し、下記平
均組成式で示されるPhSiO1.5単位及びビニル基を
含有したポリシロキサンAを得た。
ロキサンの合成〉フラスコ内にテトラエトキシシラン1
24.8g(0.6モル)、ビニルトリエトキシシラン
76g(0.4モル)及び35%塩酸0.21gを仕込
み、10℃以下に冷却した。この溶液にエタノール4
3.2gと水14.4gの混合溶液を40℃以下で滴下
した後、50〜60℃で1時間加熱した。次いで室温ま
で冷却し、プロピレンオキサイド0.56gを添加し、
1時間撹拌混合し中和した。この反応混合液を100℃
/5mmHgに加熱、減圧し、下記平均組成式で示され
るエトキシ基を含有するオルガノポリシロキサン(B−
1)117gを得た。
上記方法で合成したビニル基を含有するオルガノポリシ
ロキサン(A)65.0部、上記方法で合成したエトキ
シ基を含有するオルガノポリシロキサン(B−1)10
部及び下記式で示されるけい素に結合した水素原子を有
するオルガノハイドロジェンポリシロキサン(C)25
部を混合し、この混合物の重量を基準として塩化白金酸
のオクチルアルコール変性溶液を白金として1ppmと
なるように添加してオルガノポリシロキサン組成物を調
製した。
有するオルガノポリシロキサンを合成した。
ロキサンの合成〉実施例1と同様の方法でテトラメトキ
シシラン91.2g(0.6モル)、ビニルトリメトキ
シシラン59.2g(0.4モル)、35%塩酸0.1
8g、メタノール43.2g、水14.4g及びプロピ
レンオキサイド0.48gから下記平均組成式で示され
るメトキシ基を含有するオルガノポリシロキサン(B−
2)110gを得た。
実施例1で合成したビニル基を含有するオルガノポリシ
ロキサン(A)64.3部、上記方法で合成したメトキ
シ基を含有するオルガノポリシロキサン(B−2)10
部及び実施例1で用いたオルガノハイドロジェンポリシ
ロキサン(C)25.7部を混合し、この混合物の重量
を基準として塩化白金酸のオクチルアルコール変性溶液
を白金として1ppmとなるように添加してオルガノポ
リシロキサン組成物を調製した。
を含有するオルガノポリシロキサン(A)69.9部、
実施例2で合成したメトキシ基を含有するオルガノポリ
シロキサン(B−2)5部及び実施例1で用いたオルガ
ノハイドロジェンポリシロキサン(C)25.1部を混
合し、この混合物の重量を基準として塩化白金酸のオク
チルアルコール変性溶液を白金として1ppmとなるよ
うに添加してオルガノポリシロキサン組成物を調製し
た。
を含有するオルガノポリシロキサン(A)74.3部、
実施例2で合成したメトキシ基を含有するオルガノポリ
シロキサン(B−2)1部及び実施例1で用いたオルガ
ノハイドロジェンポリシロキサン(C)24.7部を混
合し、この混合物の重量を基準として塩化白金酸のオク
チルアルコール変性溶液を白金として1ppmとなるよ
うに添加してオルガノポリシロキサン組成物を調製し
た。
を含有するオルガノポリシロキサン(A)74.9部、
実施例2で合成したメトキシ基を含有するオルガノポリ
シロキサン(B−2)0.5部及び実施例1で用いたオ
ルガノハイドロジェンポリシロキサン(C)24.6部
を混合し、この混合物の重量を基準として塩化白金酸の
オクチルアルコール変性溶液を白金として1ppmとな
るように添加してオルガノポリシロキサン組成物を調製
した。
含有するオルガノポリシロキサン(A)及び実施例1で
用いたオルガノハイドロジェンポリシロキサン(C)2
4.6部を混合し、この混合物の重量を基準として塩化
白金酸のオクチルアルコール変性溶液を白金として1p
pmとなるように添加してオルガノポリシロキサン組成
物を調製した。
ポリシロキサン組成物を内径1.5mm,外径2.2m
mのフッ素樹脂チューブに圧入し、100℃,6時間、
150℃,24時間加熱硬化し、光ファイバを作製し
た。
で高温及び高湿度環境に曝し、その前後の光量変化を6
60nmの光で測定した。結果を次表に示す。条 件 耐熱性:光ファイバを150℃の環境下に1000時間
曝した後、室温下に取り出し、2時間放置後、光量を測
定した。 耐湿性:光ファイバを70℃,95RH%の環境下に1
000時間曝した後、室温下に取り出し、2時間放置
後、光量を測定した。
Claims (2)
- 【請求項1】 (イ)分子中に下記単位(1)を有する
と共に、けい素原子に直結したアルケニル基をけい素原
子1個当り0.05個以上有するアルケニル基含有オル
ガノポリシロキサンと、 (ロ)下記平均組成式(2)で示されるオルガノシラン
又はオルガノポリシロキサンと、 (ハ)1分子中にけい素原子に直結した水素原子を少な
くとも2個以上有するオルガノポリシロキサンと、 (ニ)白金系触媒とを含有することを特徴とする光ファ
イバのコア用組成物。 【化1】 (但し、R1は炭素数1〜10の置換又は非置換の一価
炭化水素基である。) 【化2】 (但し、R2,R3はそれぞれ水素原子あるいは同種又は
異種の炭素数1〜10の置換又は非置換の一価炭化水素
基、aは0≦a≦2、bは0<b≦4、0<a+b≦4
で示される実数である。) - 【請求項2】 請求項1記載の組成物の硬化物をコアと
する光ファイバ。
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