JP2835441B2 - ２回光反射による絶対反射率の測定方法 - Google Patents
２回光反射による絶対反射率の測定方法Info
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Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、金属のような不透
明体の光学定数、特に光の絶対反射率（不透明体では反
射率と吸収率の和が１であるから、絶対吸収率測定と等
価である。）の測定を行う方法に関するものであり、特
に、高出力光源からの光のパワーの吸収によって試料中
に誘起される物理量の変化に基づいて、光の絶対反射率
を測定する方法に関するものである。
明体の光学定数、特に光の絶対反射率（不透明体では反
射率と吸収率の和が１であるから、絶対吸収率測定と等
価である。）の測定を行う方法に関するものであり、特
に、高出力光源からの光のパワーの吸収によって試料中
に誘起される物理量の変化に基づいて、光の絶対反射率
を測定する方法に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】従来の絶対反射率測定方法であるゴニオ
ホトメータ法、Ｖ−Ｗ法及びＶ−Ｎ法などでは、すべて
試料と信号検出器（光検出器）は離れている。これらの
方法では必ず可動部があり、例えばゴニオホトメータ法
では、試料と検出器、Ｖ−Ｗ法やＶ−Ｎ法では試料とミ
ラーとを動かさなくてはならない。そのため、データの
再現性を良くするためには、装置作製時の注意と測定時
の注意が必要である。
ホトメータ法、Ｖ−Ｗ法及びＶ−Ｎ法などでは、すべて
試料と信号検出器（光検出器）は離れている。これらの
方法では必ず可動部があり、例えばゴニオホトメータ法
では、試料と検出器、Ｖ−Ｗ法やＶ−Ｎ法では試料とミ
ラーとを動かさなくてはならない。そのため、データの
再現性を良くするためには、装置作製時の注意と測定時
の注意が必要である。
【０００３】ここで、図２を参照して、通常の不透明体
の絶対反射率測定方法の一例について説明する。光源１
は、ｃｗレーザ等の高出力光源で、出力光２が平行光線
になるよう調整されている。この出力光２は、検出系で
交流増幅を行うため、光チョッパー３により１Ｈｚ〜数
十Ｈｚでチョッピングされる。光チョッパー３を通過し
た出力光２は、ビームスプリッター４において、それぞ
れ検出器５に進む出力光と非軸放物面鏡６に進む出力光
とに分けられる。検出器５は、光源１の出力をモニター
するものである。また、非軸放物面鏡６では、出力光が
不透明体の平板状試料７の表面７ａ上に集光される。
の絶対反射率測定方法の一例について説明する。光源１
は、ｃｗレーザ等の高出力光源で、出力光２が平行光線
になるよう調整されている。この出力光２は、検出系で
交流増幅を行うため、光チョッパー３により１Ｈｚ〜数
十Ｈｚでチョッピングされる。光チョッパー３を通過し
た出力光２は、ビームスプリッター４において、それぞ
れ検出器５に進む出力光と非軸放物面鏡６に進む出力光
とに分けられる。検出器５は、光源１の出力をモニター
するものである。また、非軸放物面鏡６では、出力光が
不透明体の平板状試料７の表面７ａ上に集光される。
【０００４】そこで、図の鎖線位置に検出器８を配置
し、この検出器８で試料７が無いときの出力光２の入射
パワーＰ0 を測定し、次に、検出器８を図の実線位置ま
で動かし、かつ試料７をセットして、この試料７におけ
る出力光２の反射パワーＲＰ0（Ｒは試料の絶対反射
率）を測定し、これらの比から反射率を求める。この測
定方法は、反射率の定義に沿った方法であり、ゴニオホ
トメータ法と呼ばれる方法と似ている。このような不透
明体を対象とする図２の構成の測定系による絶対反射率
Ｒの測定では、試料７と検出器８が離れているために感
度が低く、また、平板状試料７を光路から外したときの
入射パワーＰo と、試料７を所定の位置に取り付けたと
きの反射パワーＰo Ｒとを測り、その間に試料７と検出
器８の移動を必要とするので、測定の再現性をよくする
ためには、装置を高精度に製作する必要がある。また、
測定時においても精度の低下を避けるための注意が必要
になる。そして、同様な問題は、ゴニオホトメータ法の
ほかに、Ｖ−Ｗ法やＶ−Ｎ法にも存在するものである。
し、この検出器８で試料７が無いときの出力光２の入射
パワーＰ0 を測定し、次に、検出器８を図の実線位置ま
で動かし、かつ試料７をセットして、この試料７におけ
る出力光２の反射パワーＲＰ0（Ｒは試料の絶対反射
率）を測定し、これらの比から反射率を求める。この測
定方法は、反射率の定義に沿った方法であり、ゴニオホ
トメータ法と呼ばれる方法と似ている。このような不透
明体を対象とする図２の構成の測定系による絶対反射率
Ｒの測定では、試料７と検出器８が離れているために感
度が低く、また、平板状試料７を光路から外したときの
入射パワーＰo と、試料７を所定の位置に取り付けたと
きの反射パワーＰo Ｒとを測り、その間に試料７と検出
器８の移動を必要とするので、測定の再現性をよくする
ためには、装置を高精度に製作する必要がある。また、
測定時においても精度の低下を避けるための注意が必要
になる。そして、同様な問題は、ゴニオホトメータ法の
ほかに、Ｖ−Ｗ法やＶ−Ｎ法にも存在するものである。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】本発明の技術的課題
は、不透明体を対象とする高感度で高精度な絶対反射率
の測定を行える方法を得ることにある。また、本発明の
他の技術的課題は、測定精度に大きな影響を及ぼす可動
部なしに高精度な絶対反射率の測定を行える方法を得る
ことにある。
は、不透明体を対象とする高感度で高精度な絶対反射率
の測定を行える方法を得ることにある。また、本発明の
他の技術的課題は、測定精度に大きな影響を及ぼす可動
部なしに高精度な絶対反射率の測定を行える方法を得る
ことにある。
【０００６】
【課題を解決するための手段】上記課題を解決するため
の本発明の絶対反射率測定方法は、不透明体の平板状試
料に対する高出力光源からの出力光のみの照射による試
料温度上昇ΔＴac(1)と、上記出力光とその反射光の試
料への再入射とによる試料温度上昇ΔＴac(2)を、上記
試料に熱接触させた温度計で測定し、これらの温度上昇
に基づき、試料の絶対反射率Ｒを、 Ｒ＝（ΔＴac(2) −ΔＴac(1) ）／ΔＴac(1) により求めることを特徴とするものである。上記測定方
法においては、閉時には試料からの反射光を完全に吸収
し、開時にはその反射光を透過させて凹面鏡により試料
表面に集光再入射させるシャッターを備え、このシャッ
ターの開閉により反射光の試料への再入射を制御するの
が適切である。
の本発明の絶対反射率測定方法は、不透明体の平板状試
料に対する高出力光源からの出力光のみの照射による試
料温度上昇ΔＴac(1)と、上記出力光とその反射光の試
料への再入射とによる試料温度上昇ΔＴac(2)を、上記
試料に熱接触させた温度計で測定し、これらの温度上昇
に基づき、試料の絶対反射率Ｒを、 Ｒ＝（ΔＴac(2) −ΔＴac(1) ）／ΔＴac(1) により求めることを特徴とするものである。上記測定方
法においては、閉時には試料からの反射光を完全に吸収
し、開時にはその反射光を透過させて凹面鏡により試料
表面に集光再入射させるシャッターを備え、このシャッ
ターの開閉により反射光の試料への再入射を制御するの
が適切である。
【０００７】上述した本発明の絶対反射率の測定方法に
おいて、不透明体で絶対反射率がＲである平板状試料に
おいて、入射パワーＰ0 の入射光のみによるシャッター
閉時の試料温度上昇ΔＴac(1) は、（Ｐ0 −Ｐ0 Ｒ）に
比例している。また、シャッターの開時で、入射パワー
Ｐ0 の入射光と、この入射光による反射パワーＰ0 Ｒの
反射光の試料に対する再入射による試料温度上昇ΔＴac
(2) は、［（１−Ｒ）Ｐ0 ＋（１−Ｒ）ＲＰ0 ］に比例
している。したがって、これらに基づいて絶対反射率Ｒ
を求めると、 Ｒ＝（ΔＴac(2) −ΔＴac(1) ）／ΔＴac(1) となり、簡単に絶対反射率が算出される。
おいて、不透明体で絶対反射率がＲである平板状試料に
おいて、入射パワーＰ0 の入射光のみによるシャッター
閉時の試料温度上昇ΔＴac(1) は、（Ｐ0 −Ｐ0 Ｒ）に
比例している。また、シャッターの開時で、入射パワー
Ｐ0 の入射光と、この入射光による反射パワーＰ0 Ｒの
反射光の試料に対する再入射による試料温度上昇ΔＴac
(2) は、［（１−Ｒ）Ｐ0 ＋（１−Ｒ）ＲＰ0 ］に比例
している。したがって、これらに基づいて絶対反射率Ｒ
を求めると、 Ｒ＝（ΔＴac(2) −ΔＴac(1) ）／ΔＴac(1) となり、簡単に絶対反射率が算出される。
【０００８】また、本発明では、上述したように光源と
してレーザ等の高出力光源を用い、信号検出器として試
料に熱接触させた温度計を用いるので、試料と信号検出
器が離れている場合に比して高感度化が可能となる。し
かも、高出力光源からの出力光の１回だけの吸収による
試料の温度上昇ΔＴac(1) から反射率を求めるために
は、試料の物理量（熱容量、熱伝導率等）や試料と検出
器の熱接触についての情報が必要であるが、シャッター
と凹面鏡等を導入し、２回光吸収による試料温度上昇Δ
Ｔac(2) を測定して、ΔＴac(1) とΔＴac(2) との適当
な比をとることにより絶対反射率を求めるようにしてい
るので、試料の物理量や熱接触についての情報が不要に
なる。したがって、本発明の方法は、試料の物理量や試
料と温度計の熱接触の仕方によらない絶対測定である。
さらに、光軸上にあるシャッターの開閉以外に、試料、
ミラーや検出器などに測定精度に大きな影響を及ぼす可
動部がなく、絶対反射率の測定を高精度に行うことが可
能になる。
してレーザ等の高出力光源を用い、信号検出器として試
料に熱接触させた温度計を用いるので、試料と信号検出
器が離れている場合に比して高感度化が可能となる。し
かも、高出力光源からの出力光の１回だけの吸収による
試料の温度上昇ΔＴac(1) から反射率を求めるために
は、試料の物理量（熱容量、熱伝導率等）や試料と検出
器の熱接触についての情報が必要であるが、シャッター
と凹面鏡等を導入し、２回光吸収による試料温度上昇Δ
Ｔac(2) を測定して、ΔＴac(1) とΔＴac(2) との適当
な比をとることにより絶対反射率を求めるようにしてい
るので、試料の物理量や熱接触についての情報が不要に
なる。したがって、本発明の方法は、試料の物理量や試
料と温度計の熱接触の仕方によらない絶対測定である。
さらに、光軸上にあるシャッターの開閉以外に、試料、
ミラーや検出器などに測定精度に大きな影響を及ぼす可
動部がなく、絶対反射率の測定を高精度に行うことが可
能になる。
【０００９】
【発明の実施の形態】図１は、本発明に係る絶対反射率
の測定方法を実施する装置の構成を概念的に示すもので
ある。反射率の測定に用いる高出力光源１１は、ｃｗレ
ーザ等の高出力光源で、出力光１２は平行光線になるよ
う調整されている。この出力光１２は光チョッパー１３
により１Ｈｚ〜数十Ｈｚでチョッピングされている。光
チョッパー１３を通過した出力光１２は、ビームスプリ
ッター１４において、それぞれ検出器１５に進む出力光
と非軸放物面鏡１６に進む出力光に分けられる。検出器
１５は、光源１１の出力をモニターするものである。ま
た、非軸放物面鏡１６では、出力光が不透明体の平板状
試料１７の表面１７ａ上に集光される。平板状試料１７
の裏面１７ｂには、温度計１８が貼着することにより熱
接触させてあり、温度計１８の出力は検出器１５の出力
と共に、記録処理装置（図示省略）に送られる。温度計
１８としては、熱電対のような高感度なものが用いられ
る。
の測定方法を実施する装置の構成を概念的に示すもので
ある。反射率の測定に用いる高出力光源１１は、ｃｗレ
ーザ等の高出力光源で、出力光１２は平行光線になるよ
う調整されている。この出力光１２は光チョッパー１３
により１Ｈｚ〜数十Ｈｚでチョッピングされている。光
チョッパー１３を通過した出力光１２は、ビームスプリ
ッター１４において、それぞれ検出器１５に進む出力光
と非軸放物面鏡１６に進む出力光に分けられる。検出器
１５は、光源１１の出力をモニターするものである。ま
た、非軸放物面鏡１６では、出力光が不透明体の平板状
試料１７の表面１７ａ上に集光される。平板状試料１７
の裏面１７ｂには、温度計１８が貼着することにより熱
接触させてあり、温度計１８の出力は検出器１５の出力
と共に、記録処理装置（図示省略）に送られる。温度計
１８としては、熱電対のような高感度なものが用いられ
る。
【００１０】試料に入射する出力光１２の入射パワーを
Ｐo 、出力光１２に対する試料１７の絶対反射率をＲと
すれば、試料１７においては、入射した出力光１２に対
応して反射パワーＰo Ｒの反射光１２ａを生じる。この
試料１７において反射した反射光１２ａは、シャッター
１９に達する。このシャッター１９は、その閉時には試
料１７からの反射光１２ａを完全に吸収し、開時にはそ
の反射光１２ａを減衰することなく透過させて凹面鏡２
０により試料表面に集光再入射させるもので、このシャ
ッター１９の開閉により反射光１２ａの試料１７への再
入射が制御される。
Ｐo 、出力光１２に対する試料１７の絶対反射率をＲと
すれば、試料１７においては、入射した出力光１２に対
応して反射パワーＰo Ｒの反射光１２ａを生じる。この
試料１７において反射した反射光１２ａは、シャッター
１９に達する。このシャッター１９は、その閉時には試
料１７からの反射光１２ａを完全に吸収し、開時にはそ
の反射光１２ａを減衰することなく透過させて凹面鏡２
０により試料表面に集光再入射させるもので、このシャ
ッター１９の開閉により反射光１２ａの試料１７への再
入射が制御される。
【００１１】上記出力光１２及び反射光１２ａはチョッ
ピングされたレーザ光であるため、試料１７の表面１７
ａは、それらによって瞬間的に加熱される。その結果、
出力光１２のみによる試料１７の温度上昇ΔＴac(1)
と、出力光１２及び反射光１２ａとによる試料１７の温
度上昇ΔＴac(2) は、シャッター１９の閉開に応じて温
度計１８により順次求められ、計算機能を有する記録処
理装置において、平板状試料１７の絶対反射率Ｒが求め
られる。この絶対反射率Ｒが、シャッター１９の閉時の
試料温度上昇ΔＴac(1) と、シャッター１９の開時の試
料温度上昇ΔＴac(2) から、 Ｒ＝（ΔＴac(2) −ΔＴac(1) ）／ΔＴac(1) により簡単にを求められることは、前述した通りであ
る。
ピングされたレーザ光であるため、試料１７の表面１７
ａは、それらによって瞬間的に加熱される。その結果、
出力光１２のみによる試料１７の温度上昇ΔＴac(1)
と、出力光１２及び反射光１２ａとによる試料１７の温
度上昇ΔＴac(2) は、シャッター１９の閉開に応じて温
度計１８により順次求められ、計算機能を有する記録処
理装置において、平板状試料１７の絶対反射率Ｒが求め
られる。この絶対反射率Ｒが、シャッター１９の閉時の
試料温度上昇ΔＴac(1) と、シャッター１９の開時の試
料温度上昇ΔＴac(2) から、 Ｒ＝（ΔＴac(2) −ΔＴac(1) ）／ΔＴac(1) により簡単にを求められることは、前述した通りであ
る。
【００１２】上記温度上昇ΔＴac(1) のみから平板状試
料１７の反射率を求めることはできるが、この場合に
は、試料１７の熱容量、熱伝導率等の物理量や、試料１
７と温度計１８との熱接触についての情報が必要とし、
それらに基づいて複雑な計算を行う必要がある。しかる
に、上述した試料温度上昇ΔＴac(1) 及びΔＴac(2) を
用いる測定方法では、シャッター１９と凹面鏡２０とを
追加的に付設して、温度上昇ΔＴac(2) を測定するのみ
で、簡単に絶対反射率Ｒが求められる。
料１７の反射率を求めることはできるが、この場合に
は、試料１７の熱容量、熱伝導率等の物理量や、試料１
７と温度計１８との熱接触についての情報が必要とし、
それらに基づいて複雑な計算を行う必要がある。しかる
に、上述した試料温度上昇ΔＴac(1) 及びΔＴac(2) を
用いる測定方法では、シャッター１９と凹面鏡２０とを
追加的に付設して、温度上昇ΔＴac(2) を測定するのみ
で、簡単に絶対反射率Ｒが求められる。
【００１３】さらに、図２に示すような通常の測定方法
では、試料７と検出器５が離れているために感度が低い
が、試料１７と熱接触させた温度計１８を信号検出器と
して用いる本発明の測定方法では、感度の高い測定を行
うことができる。また、試料１７、検出器（温度計１
８）などに測定精度に大きな影響を及ぼす可動部がな
く、そのため、絶対反射率の測定を高精度に行うことが
可能になる。唯一、開閉するシャッター１９は可動であ
るが、単純に反射光の光路を開閉するだけのものである
ため、温度計１８及び反射光学系に対して悪い影響を与
えることはない。しかも、温度上昇ΔＴac(1) の測定か
ら温度上昇ΔＴac(2) の測定への切り替えは、そのシャ
ッター１９の開閉操作のみにより簡単に行われるため、
測定した絶対反射率Ｒの再現性がよく、信頼性が高いも
のとなる。
では、試料７と検出器５が離れているために感度が低い
が、試料１７と熱接触させた温度計１８を信号検出器と
して用いる本発明の測定方法では、感度の高い測定を行
うことができる。また、試料１７、検出器（温度計１
８）などに測定精度に大きな影響を及ぼす可動部がな
く、そのため、絶対反射率の測定を高精度に行うことが
可能になる。唯一、開閉するシャッター１９は可動であ
るが、単純に反射光の光路を開閉するだけのものである
ため、温度計１８及び反射光学系に対して悪い影響を与
えることはない。しかも、温度上昇ΔＴac(1) の測定か
ら温度上昇ΔＴac(2) の測定への切り替えは、そのシャ
ッター１９の開閉操作のみにより簡単に行われるため、
測定した絶対反射率Ｒの再現性がよく、信頼性が高いも
のとなる。
【００１４】以下においては、本発明の方法を、バルク
高温超伝導体単結晶の反射率の測定に適用し、また、可
視光と遠赤外光の領域で実測する場合について説明する
が、それらは単なる例示に過ぎないものである。本発明
の本質は、試料が透過率零の不透明物質である場合を対
象とするものであり、この方法により、絶対反射率測定
（これは絶対吸収率測定と等価である。）を簡単に行う
ことが可能になる。
高温超伝導体単結晶の反射率の測定に適用し、また、可
視光と遠赤外光の領域で実測する場合について説明する
が、それらは単なる例示に過ぎないものである。本発明
の本質は、試料が透過率零の不透明物質である場合を対
象とするものであり、この方法により、絶対反射率測定
（これは絶対吸収率測定と等価である。）を簡単に行う
ことが可能になる。
【００１５】
【実施例】図１に示すものと実質的に同じ装置におい
て、高出力光源１１として、ヘリウム・ネオンレーザ
（出力：５ｍＷ，波長：０．６３３μｍ）と、炭酸ガス
レーザ励起ガスレーザ（出力：１０ｍＷ，波長：１１９
μｍ）の２種類を用い、可視域と遠赤外域の領域で測定
した。出力光１２は光チョッパー１３により５Ｈｚでチ
ョッピングした。非軸放物面鏡１６としては、焦点距離
が１００ｍｍのものを用い、レーザ光を試料面に集光し
た。また、曲率半径１００ｍｍの凹面鏡２０を用い、試
料１７からの一回反射光を再度試料面上に集光した。試
料１７は、高温超伝導体試料（Ｌａ1.85Ｓｒ0.15ＣｕＯ
4 ）の単結晶から、一辺３ｍｍ角で厚さ０．１ｍｍの直
方体状のものを作り、３ｍｍ角の正方形の面に光を入射
させた。また、この試料１７の裏面１７ｂに、温度計１
８として、直径０．０５ｍｍのアルメル・クロメル熱電
対を銀ペーストで貼着した。
て、高出力光源１１として、ヘリウム・ネオンレーザ
（出力：５ｍＷ，波長：０．６３３μｍ）と、炭酸ガス
レーザ励起ガスレーザ（出力：１０ｍＷ，波長：１１９
μｍ）の２種類を用い、可視域と遠赤外域の領域で測定
した。出力光１２は光チョッパー１３により５Ｈｚでチ
ョッピングした。非軸放物面鏡１６としては、焦点距離
が１００ｍｍのものを用い、レーザ光を試料面に集光し
た。また、曲率半径１００ｍｍの凹面鏡２０を用い、試
料１７からの一回反射光を再度試料面上に集光した。試
料１７は、高温超伝導体試料（Ｌａ1.85Ｓｒ0.15ＣｕＯ
4 ）の単結晶から、一辺３ｍｍ角で厚さ０．１ｍｍの直
方体状のものを作り、３ｍｍ角の正方形の面に光を入射
させた。また、この試料１７の裏面１７ｂに、温度計１
８として、直径０．０５ｍｍのアルメル・クロメル熱電
対を銀ペーストで貼着した。
【００１６】測定は、直方体試料１７の３ｍｍ角の表面
１７ａに出力光１２を投射し、またシャッター１９を開
いて試料表面１７ａからの反射光１２ａを凹面鏡２０で
反射させ、試料表面１７ａに再入射させた。表１には、
本実施例の測定結果と、比較のために、同じレーザ光源
を用いた通常の測定方法（図２を参照して説明した測定
方法）による測定結果とを示している。これらの結果
は、測定誤差の範囲内でよい一致をしているが、通常の
測定方法では、前述したように、装置を高精度に製作す
る必要があり、測定時においても精度の低下を避けるた
めの注意が必要である。
１７ａに出力光１２を投射し、またシャッター１９を開
いて試料表面１７ａからの反射光１２ａを凹面鏡２０で
反射させ、試料表面１７ａに再入射させた。表１には、
本実施例の測定結果と、比較のために、同じレーザ光源
を用いた通常の測定方法（図２を参照して説明した測定
方法）による測定結果とを示している。これらの結果
は、測定誤差の範囲内でよい一致をしているが、通常の
測定方法では、前述したように、装置を高精度に製作す
る必要があり、測定時においても精度の低下を避けるた
めの注意が必要である。
【００１７】
【表１】本発明の測定方法と従来の測定方法による測定
結果の比較
結果の比較
【００１８】
【発明の効果】以上に説明したように、本発明の測定方
法によれば、試料を含め、光学系に測定精度に大きな影
響を及ぼす可動部が存在しない構成とすることができ、
かつ、信号検出器である温度計が試料に熱接触している
ので、高感度で高精度な測定が可能である。また、温度
上昇ΔＴac(1) の測定から温度上昇ΔＴac(2) の測定へ
の切り替えは、シャッタの開閉操作のみによるため、測
定条件に変化が生じることがなく、測定した絶対反射率
Ｒ値の再現性がよく、信頼性が高い。更に、光源として
高出力レーザを使うことで、紫外光から遠赤外光までの
広い領域で、微小な試料による測定も可能である。
法によれば、試料を含め、光学系に測定精度に大きな影
響を及ぼす可動部が存在しない構成とすることができ、
かつ、信号検出器である温度計が試料に熱接触している
ので、高感度で高精度な測定が可能である。また、温度
上昇ΔＴac(1) の測定から温度上昇ΔＴac(2) の測定へ
の切り替えは、シャッタの開閉操作のみによるため、測
定条件に変化が生じることがなく、測定した絶対反射率
Ｒ値の再現性がよく、信頼性が高い。更に、光源として
高出力レーザを使うことで、紫外光から遠赤外光までの
広い領域で、微小な試料による測定も可能である。
【図１】本発明の方法を実施する装置の構成を概念的に
示す構成図である。
示す構成図である。
【図２】通常の反射率の測定方法を用いる装置の概念的
な構成図である。
な構成図である。
１２ 出力光 １２ａ 反射光 １７ 試料 １８ 温度計 １９ シャッター ２０ 反射鏡
Claims (2)
- 【請求項１】不透明体の平板状試料に対する高出力光源
からの出力光のみの照射による試料温度上昇ΔＴac(1)
と、上記出力光とその反射光の試料への再入射とによる
試料温度上昇ΔＴac(2) を、上記試料に熱接触させた温
度計で測定し、これらの温度上昇に基づき、試料の絶対
反射率Ｒを、 Ｒ＝（ΔＴac(2) −ΔＴac(1) ）／ΔＴac(1) により求めることを特徴とする２回光反射による絶対反
射率の測定方法。 - 【請求項２】請求項１に記載の方法において、閉時には
試料からの反射光を完全に吸収し、開時にはその反射光
を透過させて凹面鏡により試料表面に集光再入射させる
シャッターを備え、このシャッターの開閉により反射光
の試料への再入射を制御することを特徴とする２回光反
射による絶対反射率の測定方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP29775896A JP2835441B2 (ja) | 1996-10-21 | 1996-10-21 | ２回光反射による絶対反射率の測定方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP29775896A JP2835441B2 (ja) | 1996-10-21 | 1996-10-21 | ２回光反射による絶対反射率の測定方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH10123049A JPH10123049A (ja) | 1998-05-15 |
| JP2835441B2 true JP2835441B2 (ja) | 1998-12-14 |
Family
ID=17850799
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP29775896A Expired - Lifetime JP2835441B2 (ja) | 1996-10-21 | 1996-10-21 | ２回光反射による絶対反射率の測定方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2835441B2 (ja) |
-
1996
- 1996-10-21 JP JP29775896A patent/JP2835441B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH10123049A (ja) | 1998-05-15 |
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