JP2830502B2 - 半導体装置用ボンディングワイヤ及びその製造方法 - Google Patents

半導体装置用ボンディングワイヤ及びその製造方法

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Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、IC,LSI等の半導
体素子のチップ電極と外部リードとを接続するために用
いられる半導体装置用ボンディングワイヤ及びその製造
方法に関するものである。
【0002】
【従来の技術】従来、IC,LSI等の半導体素子(チ
ップ)が組み込まれた半導体装置の組立工程において、
半導体素子と外部リードとを接続する方法の一つに、金
属細線(ボンディングワイヤ)を半導体素子と外部リー
ドとにボンディングする方法がある。
【0003】上記のボンディングワイヤとしては、通
常、金線、金合金線、アルミニウム線等の細線が好適に
用いられており、一部ではあるが銅細線が用いられるこ
ともある。
【0004】特に、金線または金合金線からなるボンデ
ィングワイヤは、耐食性、安定性に極めて優れているた
めに信頼性が高く、半導体装置用ボンディングワイヤの
使用量の大部分を占めている。
【0005】上記の金線や金合金線のボンディングワイ
ヤを製造する場合、所定の線径に伸線加工された直後の
金または金合金細線は加工時に硬化するために非常に硬
くなり、ボンディング時に安定したループが得られない
という欠点がある。したがって、金または金合金細線を
300〜600℃の温度範囲の大気雰囲気中において焼
鈍し、これらの細線の内部歪を除去することが一般に行
われている。
【0006】上記の焼鈍による歪除去の程度の指標とし
ては、例えば図2に示す様に、引張試験における破断伸
び(%)と破断加重(g)が一般に用いられる。この図
によれば、焼鈍温度が高くなればなる程、破断伸びは急
激に増加し、破断加重は逆に急激に低下する。半導体装
置用ボンディングワイヤとして用いられる金または金合
金細線の場合、破断伸びは2〜10%の範囲のものが一
般的である。
【0007】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記の
金または金合金のボンディングワイヤには、機械的特性
のバラツキが大きいという欠点があった。
【0008】その理由は、金または金合金のボンディン
グワイヤに含まれる添加成分には、微量とはいえ例えば
Beの様に極めて活性の高い元素があり、大気雰囲気中
において焼鈍する際にこれらの活性元素が酸化されて金
または金合金のボンディングワイヤの破断伸びを低下さ
せ、該ボンディングワイヤの機械的特性のバラツキを大
きくするためである。
【0009】この破断伸びにバラツキがあるとル−プ形
成が不安定となり、また、破断加重にバラツキがあると
半導体素子の樹脂封止時にワイヤ流れが起こり易くな
り、ル−プ同士の接触が発生し易くなるという問題があ
った。したがって、ボンディング時に安定したループが
得られず、該ボンディングワイヤのループ異常や断線の
原因になっていた。
【0010】本発明は、上述の事情に鑑みてなされたも
のであり、活性の高い微量元素が含まれる金または金合
金のボンディングワイヤの破断強度や破断伸びのバラツ
キを改善する半導体装置用ボンディングワイヤ及びその
製造方法を提供することを目的とする。
【0011】
【課題を解決するための手段】上記課題を解決するため
に、この発明は次の様な半導体装置用ボンディングワイ
ヤ及びその製造方法を採用した。
【0012】請求項1記載の半導体装置用ボンディング
ワイヤは、活性の高い微量元素を含む金または金合金よ
りなる細線であって、不活性もしくは還元性のいずれか
の雰囲気中において焼鈍されてなることを特徴としてい
る。
【0013】また、請求項2記載の半導体装置用ボンデ
ィングワイヤの製造方法は、活性の高い微量元素を含む
金または金合金よりなる細線を、不活性もしくは還元性
のいずれかの雰囲気中において焼鈍してなることを特徴
としている。
【0014】
【作用】本発明の発明者らは、前記の課題を解決するた
めに金および金合金の焼鈍特性に関し鋭意研究を重ねた
結果、次のような知見を得た。
【0015】すなわち、半導体装置に用いられる金また
は金合金のボンディングワイヤにおいては極めて活性の
高い元素が添加成分として含まれており、焼鈍の雰囲気
を不活性もしくは還元性のいずれかの雰囲気に保つと、
これらの活性元素の酸化が抑制され、焼鈍後の金または
金合金のボンディングワイヤの破断強度を向上させ、し
たがって、該ボンディングワイヤの機械的特性が向上
し、更にそのバラツキが飛躍的に改善される。この場
合、不活性もしくは還元性のいずれかの雰囲気における
酸素濃度は、5%以下とすることが望ましい。
【0016】
【0017】また、請求項2記載の半導体装置用ボンデ
ィングワイヤの製造方法では、金または金合金よりなる
細線を、不活性もしくは還元性のいずれかの雰囲気中に
おいて焼鈍することにより、該ボンディングワイヤに含
まれる活性元素の酸化を抑制する。
【0018】
【実施例】以下、本発明の実施例について説明する。
【0019】まず、本実施例において用いられる焼鈍装
置について、図1を基に説明する。この焼鈍装置1は、
水平に設置された管状電気炉2と、該管状電気炉2内に
不活性ガスもしくは還元性ガスを供給するガス供給装置
3と、管状電気炉2及びガス供給装置3を制御する制御
装置4と、金細線5a(または、金合金細線6a)を繰
り出し管状電気炉2内に送り込むためのボンディングス
プ−ル7と、焼鈍された金細線5b(または、金合金細
線6b)を所定の速度で巻取るためのボンディングスプ
−ル8とから概略構成されている。
【0020】管状電気炉2は、水平に設置された石英管
11と、該石英管11の外周面に巻回されたヒ−タ−1
2とから概略構成されており、石英管11の中央部下端
には不活性ガスまたは還元性ガスを定量供給するための
ノズル13が設けられている。
【0021】この管状電気炉2内の温度は、金合金細線
中の添加元素の種類や量によりその最適条件が異なる
が、概ね300〜600℃の範囲で設定することが望ま
しい。
【0022】また、不活性ガスとしてはArガス、N2
ガス、CO2ガス等が好適に用いられ、還元性ガスとし
てはN2+10%H2ガス、N2+10%COガス等が好
適に用いられる。
【0023】また、管状電気炉2の前後あるいはいずれ
か一方に、巻き取り時に金細線5b(または、金合金細
線6b)同士が付着・接合し合わない様に金細線5b
(または、金合金細線6b)に界面活性剤を塗布するた
めのコ−ティング装置を設置することが望ましい。
【0024】所定の線径に伸線加工されボンディングス
プ−ル7に巻回された金細線5a(または、金合金細線
6a)は、ボンディングスプ−ル7から繰り出されて石
英管11内を所定の速度で通過する間に所定の雰囲気中
で所定の温度で焼鈍され、ボンディングスプ−ル8に巻
取られる。
【0025】次に、各々の雰囲気において焼鈍を行った
実験結果について説明する。この実験では、表1に示す
組成の金合金を線径25μmに伸線加工した金合金細線
を用いた。
【0026】
【表1】
【0027】上記の金合金細線を表2に示した各焼鈍条
件の下で焼鈍し、特性を比較した。
【表2】
【0028】表3は、上記実施例の製造方法による金合
金細線の特性(実施例)と、従来の製造方法による金合
金細線の特性(比較例)とを、比較したものである。
【0029】
【表3】 表3から明らかな様に、この発明のボンディングワイヤ
では、常温破断強度が向上するとともに、常温破断強度
及び常温破断伸びそれぞれのバラツキ(σ)の度合が小
さくなっており、比較例と比べて特性が改善されている
ことが明白である。
【0030】以上説明した様に、上記実施例のボンディ
ングワイヤによれば、金細線5a(または金合金細線6
a)を、不活性もしくは還元性のいずれかの雰囲気中に
おいて焼鈍したので、ボンディングワイヤの破断強度を
向上させることができ、したがって、該ボンディングワ
イヤの機械的特性を向上させることができ、そのバラツ
キを飛躍的に改善することができる。
【0031】また、上記実施例のボンディングワイヤの
製造方法によれば、金細線5a(または金合金細線6
a)を、不活性もしくは還元性のいずれかの雰囲気中に
おいて焼鈍するので、該ボンディングワイヤに含まれる
活性元素の酸化を抑制することができる。
【0032】したがって、該ボンディングワイヤの破断
強度を高めることができ、該ボンディングワイヤの機械
的特性を向上させ、そのバラツキを飛躍的に改善するこ
とが可能になる。
【0033】以上により、ループ異常や断線がなく、ま
たボンディング時に安定したループが得られる等の特徴
を有するボンディングワイヤ及びその製造方法を提供す
ることが可能になる。
【0034】
【発明の効果】以上説明したように、本発明による半導
体装置用ボンディングワイヤ及びその製造方法は、活性
の高い微量元素を含む金または金合金よりなる細線が
活性もしくは還元性のいずれかの雰囲気中において焼鈍
されてなるから、ボンディングワイヤに含まれる活性元
素の酸化を抑制できて、ボンディングワイヤの破断強度
を向上させて機械的強度を向上できる上に、破断強度と
破断伸びのバラツキを抑制できることでボンディング時
にループ形状を安定させることができ、半導体素子の樹
脂封止時にワイヤ流れを抑制できてループ同士の接触を
抑えることができる。そのため、ボンディングワイヤの
ループ異常や断線を抑制してボンディングした半導体装
置の品質を高精度にすることができる。
【0035】
【0036】
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の実施例において用いられる焼鈍装置の
概略側面図である。
【図2】破断伸び及び破断加重の焼鈍温度依存性を示す
図である。
【符号の説明】
5a,5b 金細線 6a,6b 金合金細線
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (56)参考文献 特開 平2−12935(JP,A) 特開 昭54−144870(JP,A) 特開 昭59−28553(JP,A) 特開 昭63−211731(JP,A) 特開 昭55−158642(JP,A) (58)調査した分野(Int.Cl.6,DB名) H01L 21/60 301 B21C 1/00 B21C 9/00

Claims (2)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】活性の高い微量元素を含む金または金合金
    よりなる細線であって、不活性もしくは還元性のいずれ
    かの雰囲気中において焼鈍されてなることを特徴とする
    半導体装置用ボンディングワイヤ。
  2. 【請求項2】活性の高い微量元素を含む金または金合金
    よりなる細線を、不活性もしくは還元性のいずれかの雰
    囲気中において焼鈍してなることを特徴とする半導体装
    置用ボンディングワイヤの製造方法。
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