JP2825087B2 - 洗浄装置 - Google Patents
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- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/02—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof
- H01L21/04—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof the devices having potential barriers, e.g. a PN junction, depletion layer or carrier concentration layer
- H01L21/18—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof the devices having potential barriers, e.g. a PN junction, depletion layer or carrier concentration layer the devices having semiconductor bodies comprising elements of Group IV of the Periodic Table or AIIIBV compounds with or without impurities, e.g. doping materials
- H01L21/30—Treatment of semiconductor bodies using processes or apparatus not provided for in groups H01L21/20 - H01L21/26
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Description
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、半導体基板もしく
は液晶基板などを洗浄する洗浄装置に関し、特に一薬液
の蒸発による第１の雰囲気室から他の異なる薬液の蒸発
による第２の雰囲気室に前記被洗浄部材を前記雰囲気を
互に混入させることなく移送するために該被洗浄部材を
浸漬し純水が満たされる分離槽を備える洗浄装置に関す
る。
は液晶基板などを洗浄する洗浄装置に関し、特に一薬液
の蒸発による第１の雰囲気室から他の異なる薬液の蒸発
による第２の雰囲気室に前記被洗浄部材を前記雰囲気を
互に混入させることなく移送するために該被洗浄部材を
浸漬し純水が満たされる分離槽を備える洗浄装置に関す
る。
【０００２】
【従来の技術】液晶パネルや半導体装置の製造におい
て、液晶基板や半導体基板表面に付着している粒子によ
る汚染および金属汚染の除去には、通常、酸・アルカリ
薬品を用いた湿式洗浄が行われている。一般的には、粒
子汚染除去を目的としたアルカリ系のＡＰＭ（アンモニ
ア水−過酸化水素水混合液）洗浄、金属汚染除去を目的
とした酸系のＳＰＭ（硫化水素酸−過酸化水素水混合
液）洗浄あるいはＨＰＭ（円貨水素酸−過酸化水素水）
洗浄が用いられている。これらの洗浄液は数十℃から百
数十℃に昇温するため、酸・アルカリの蒸気が発生す
る。アルカリ系の洗浄槽上およびその周辺はアルカリ雰
囲気になり、酸系の洗浄槽上およびその周辺は酸雰囲気
になる。アルカリ系・酸系の洗浄を１つの装置内で行う
ことが多いため、雰囲気の分離を目的として分離槽を設
けてある。ここでは、半導体基板の洗浄について説明す
る。
て、液晶基板や半導体基板表面に付着している粒子によ
る汚染および金属汚染の除去には、通常、酸・アルカリ
薬品を用いた湿式洗浄が行われている。一般的には、粒
子汚染除去を目的としたアルカリ系のＡＰＭ（アンモニ
ア水−過酸化水素水混合液）洗浄、金属汚染除去を目的
とした酸系のＳＰＭ（硫化水素酸−過酸化水素水混合
液）洗浄あるいはＨＰＭ（円貨水素酸−過酸化水素水）
洗浄が用いられている。これらの洗浄液は数十℃から百
数十℃に昇温するため、酸・アルカリの蒸気が発生す
る。アルカリ系の洗浄槽上およびその周辺はアルカリ雰
囲気になり、酸系の洗浄槽上およびその周辺は酸雰囲気
になる。アルカリ系・酸系の洗浄を１つの装置内で行う
ことが多いため、雰囲気の分離を目的として分離槽を設
けてある。ここでは、半導体基板の洗浄について説明す
る。
【０００３】図４は従来の一例における洗浄装置の構成
の一部を示す図である。従来、この種の洗浄装置は、図
４に示すように、アルカリ液槽７が置かれアルカリ雰囲
気となる第１室９から酸液槽８が置かれ酸雰囲気となる
第２室１０へのウェハキャリア１１を移動させるため
に、純水が常にオーバーフローされるとともにウェハキ
ャリア１１が潜り移動する分離槽５と、分離槽５の液面
まで伸び第１室９と第２室１０とを仕切り互に雰囲気が
混入しないようにする仕切板４とが備えられている。
の一部を示す図である。従来、この種の洗浄装置は、図
４に示すように、アルカリ液槽７が置かれアルカリ雰囲
気となる第１室９から酸液槽８が置かれ酸雰囲気となる
第２室１０へのウェハキャリア１１を移動させるため
に、純水が常にオーバーフローされるとともにウェハキ
ャリア１１が潜り移動する分離槽５と、分離槽５の液面
まで伸び第１室９と第２室１０とを仕切り互に雰囲気が
混入しないようにする仕切板４とが備えられている。
【０００４】この洗浄装置において、アルカリ雰囲気の
第１室９から酸雰囲気の第２室１０へウェハキャリアを
移動させる際は、まず、アルカリ雰囲気中の搬送用ロボ
ット１ａを用いてウェハキャリア２を分離槽５内の受け
皿１２に置く。次に、受け皿１２が紙面に対して右側へ
移動することでウェハキャリア２が酸雰囲気の第２室へ
移動し、そして、ウェハキャリア１１は酸雰囲気の搬送
用ロボット１ｂを用いて酸雰囲気内の酸液槽８上へ搬送
される。
第１室９から酸雰囲気の第２室１０へウェハキャリアを
移動させる際は、まず、アルカリ雰囲気中の搬送用ロボ
ット１ａを用いてウェハキャリア２を分離槽５内の受け
皿１２に置く。次に、受け皿１２が紙面に対して右側へ
移動することでウェハキャリア２が酸雰囲気の第２室へ
移動し、そして、ウェハキャリア１１は酸雰囲気の搬送
用ロボット１ｂを用いて酸雰囲気内の酸液槽８上へ搬送
される。
【０００５】また、この洗浄装置には、上述した酸とア
ルカリ雰囲気の分離だけでなく、酸とＩＰＡ蒸気などの
アルコール雰囲気もしくはアルカリとＩＰＡ蒸気などの
アルコール雰囲気の分離に関しても同様に分離槽および
仕切板が設けらている。
ルカリ雰囲気の分離だけでなく、酸とＩＰＡ蒸気などの
アルコール雰囲気もしくはアルカリとＩＰＡ蒸気などの
アルコール雰囲気の分離に関しても同様に分離槽および
仕切板が設けらている。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】上述した従来の洗浄装
置では、アルカリおよび酸の雰囲気室に跨がってそれぞ
れウェハキャリアが挿入されるスペースを確保する必要
があるため、分離槽の横幅がウェハキャリアの２つ分必
要となる。つまり槽の容積が一つのウェハキャリアが浸
漬される水洗槽の２倍あるため、純水の供給量が２倍必
要となる。
置では、アルカリおよび酸の雰囲気室に跨がってそれぞ
れウェハキャリアが挿入されるスペースを確保する必要
があるため、分離槽の横幅がウェハキャリアの２つ分必
要となる。つまり槽の容積が一つのウェハキャリアが浸
漬される水洗槽の２倍あるため、純水の供給量が２倍必
要となる。
【０００７】近年、半導体基板（以下ウェハと記す）の
口径が益々大きくなり、直径１５０から２００ｍｍとな
り、それに伴ないウェハキャリアが大きくなる。その結
果、分離槽の純水の使用量が増加し運用コストが上昇す
る。さらに、ウェハ直径３００ｍｍ以上になると純水の
使用量が膨大な量になり深刻な問題になる。例えば、ウ
ェハ直径が２００ｍｍから３００ｍｍに大口径化するこ
とによって、分離槽の容積は２倍以上になるため、純水
使用量の増大や装置も大型化する。この他にも、分離槽
内のウェハキャリアを移動させる際、比抵抗の大きい純
水とウェハ間の摩擦で静電気が発生し、ウェハが帯電
し、ウェハに形成される機能素子を破壊させるなどの問
題が発生する。
口径が益々大きくなり、直径１５０から２００ｍｍとな
り、それに伴ないウェハキャリアが大きくなる。その結
果、分離槽の純水の使用量が増加し運用コストが上昇す
る。さらに、ウェハ直径３００ｍｍ以上になると純水の
使用量が膨大な量になり深刻な問題になる。例えば、ウ
ェハ直径が２００ｍｍから３００ｍｍに大口径化するこ
とによって、分離槽の容積は２倍以上になるため、純水
使用量の増大や装置も大型化する。この他にも、分離槽
内のウェハキャリアを移動させる際、比抵抗の大きい純
水とウェハ間の摩擦で静電気が発生し、ウェハが帯電
し、ウェハに形成される機能素子を破壊させるなどの問
題が発生する。
【０００８】従って、本発明の目的は、純水の使用量を
節減し、ウェハを帯電させることなく洗浄できかつより
小型な洗浄装置を提供することにある。
節減し、ウェハを帯電させることなく洗浄できかつより
小型な洗浄装置を提供することにある。
【０００９】
【課題を解決するための手段】本発明の特徴は、一薬液
の蒸発による第１の雰囲気室から他の異なる薬液の蒸発
による第２の雰囲気室に被洗浄部材を積載するキャリア
部材を前記雰囲気を互に混入させることなく移送するた
めに該キャリア部材を浸漬し純水が満たされる分離槽を
備える洗浄装置において、前記キャリア部材の一つが収
納できる容積をもつ前記分離槽と、前記第１の雰囲気室
と前記第２の雰囲気室とを仕切るとともに下端を前記分
離槽の液面に接触しながら前記分離槽の該移送方向の両
端間を移動する仕切板とを備える洗浄装置である。ま
た、前記移送方向に対して垂直方向における前記分離槽
の両側壁に純水を噴射する洗浄シャワーを備えることが
望ましい。
の蒸発による第１の雰囲気室から他の異なる薬液の蒸発
による第２の雰囲気室に被洗浄部材を積載するキャリア
部材を前記雰囲気を互に混入させることなく移送するた
めに該キャリア部材を浸漬し純水が満たされる分離槽を
備える洗浄装置において、前記キャリア部材の一つが収
納できる容積をもつ前記分離槽と、前記第１の雰囲気室
と前記第２の雰囲気室とを仕切るとともに下端を前記分
離槽の液面に接触しながら前記分離槽の該移送方向の両
端間を移動する仕切板とを備える洗浄装置である。ま
た、前記移送方向に対して垂直方向における前記分離槽
の両側壁に純水を噴射する洗浄シャワーを備えることが
望ましい。
【００１０】
【発明の実施の形態】次に、本発明について図面を参照
して説明する。
して説明する。
【００１１】図１（ａ）および（ｂ）は本発明の一実施
の形態における洗浄装置の構成を説明するための図であ
る。この洗浄装置は、図１に示すように、アルカリ液槽
７と酸液槽との間に配置されるとともにウェハの複数枚
を積載するウェハキャリア１１の一個が純水に浸漬され
る容積をもちかつ純水をオーバーフローする程度に蓄え
る分離槽３と、分離槽３の液面と一端を接触し第１室９
の雰囲気と第２室１０の雰囲気が混入しないように遮断
するとともに分離槽３の開口の両側端間を移動し得る仕
切板１とを備えている。
の形態における洗浄装置の構成を説明するための図であ
る。この洗浄装置は、図１に示すように、アルカリ液槽
７と酸液槽との間に配置されるとともにウェハの複数枚
を積載するウェハキャリア１１の一個が純水に浸漬され
る容積をもちかつ純水をオーバーフローする程度に蓄え
る分離槽３と、分離槽３の液面と一端を接触し第１室９
の雰囲気と第２室１０の雰囲気が混入しないように遮断
するとともに分離槽３の開口の両側端間を移動し得る仕
切板１とを備えている。
【００１２】また、仕切板１を移動させるための移動機
構２が設けられている。この移動機構２は、エアーシリ
ンダあるいは油圧シリンダなどによって駆動され、さら
に、ゴミが室内に落ち込まないように、室内に露呈する
可動部は伸縮可能な蛇腹式カバーで覆われている。一
方、分離槽３内には受皿１２のみ底部に固定されウェハ
キャリア１１を安定して載置する構造を有している。こ
のため、従来、パーティクル発生の要因ともなる受皿１
２の移動機構を省くことができた。
構２が設けられている。この移動機構２は、エアーシリ
ンダあるいは油圧シリンダなどによって駆動され、さら
に、ゴミが室内に落ち込まないように、室内に露呈する
可動部は伸縮可能な蛇腹式カバーで覆われている。一
方、分離槽３内には受皿１２のみ底部に固定されウェハ
キャリア１１を安定して載置する構造を有している。こ
のため、従来、パーティクル発生の要因ともなる受皿１
２の移動機構を省くことができた。
【００１３】次に、この洗浄装置における第１室９から
第２室１０にウェハキャリア１１を移送する動作を説明
する。まず、図１（ａ）に示すように、アルカリ液槽７
でアルカリ系の洗浄を終えたウェハキャリア１１は、搬
送用ロボット６ａにより分離槽３上に搬送され、搬送用
ロボット６ａが下降しウェハキャリア１１を純水に浸漬
させるとともに分離槽３内の受皿１２に載置する。
第２室１０にウェハキャリア１１を移送する動作を説明
する。まず、図１（ａ）に示すように、アルカリ液槽７
でアルカリ系の洗浄を終えたウェハキャリア１１は、搬
送用ロボット６ａにより分離槽３上に搬送され、搬送用
ロボット６ａが下降しウェハキャリア１１を純水に浸漬
させるとともに分離槽３内の受皿１２に載置する。
【００１４】しかる後、搬送用ロボット６ａはアルカリ
液槽７側に退避し、図１（ｂ）に示すように、移動機構
２により仕切板１が矢印の方向に一端を液面に接触しな
がら移動し仕切板１の一端は分離槽３の内壁に当接し停
止する。このことにより、分離槽３の雰囲気はアルカリ
雰囲気から酸雰囲気に変えられる。次に、搬送用ロボッ
ト６ｂが分離槽３上に移動し、下降して分離槽３内のウ
ェハキャリア１１を掴み持ち上げる。そして、ウェハキ
ャリア１１は搬送用ロボット６ｂにより次の酸液槽８上
に送られる。移動させる際、仕切板４を図２の左側へ移
動することで分離槽１上が酸雰囲気となる。これによっ
て酸雰囲気搬送用ロボット５ｂを用いてウェハキャリア
２を酸雰囲気内の各洗浄槽へ搬送することが可能とな
る。分離槽上の側壁は異なる雰囲気が交互に接触するこ
とから、側壁を洗浄するためのシャワー６等を設けると
良い。シャワーにて洗浄した純水は分離槽内部に混入し
ないように分離槽の前後に設けたドレイン部７から排水
する。
液槽７側に退避し、図１（ｂ）に示すように、移動機構
２により仕切板１が矢印の方向に一端を液面に接触しな
がら移動し仕切板１の一端は分離槽３の内壁に当接し停
止する。このことにより、分離槽３の雰囲気はアルカリ
雰囲気から酸雰囲気に変えられる。次に、搬送用ロボッ
ト６ｂが分離槽３上に移動し、下降して分離槽３内のウ
ェハキャリア１１を掴み持ち上げる。そして、ウェハキ
ャリア１１は搬送用ロボット６ｂにより次の酸液槽８上
に送られる。移動させる際、仕切板４を図２の左側へ移
動することで分離槽１上が酸雰囲気となる。これによっ
て酸雰囲気搬送用ロボット５ｂを用いてウェハキャリア
２を酸雰囲気内の各洗浄槽へ搬送することが可能とな
る。分離槽上の側壁は異なる雰囲気が交互に接触するこ
とから、側壁を洗浄するためのシャワー６等を設けると
良い。シャワーにて洗浄した純水は分離槽内部に混入し
ないように分離槽の前後に設けたドレイン部７から排水
する。
【００１５】なお、この洗浄装置の酸系洗浄の後段に配
置されるＩＰＡ洗浄および乾燥を行う洗浄工程浄につい
ても同じように分離槽と移動仕切板を設けることが出来
る。その場合は、酸・ＩＰＡ蒸気雰囲気室との間に設け
る分離槽と、異なる雰囲気を遮断するための可動式仕切
板を設ければ良い。上述した可動式の仕切板の動作は、
前述の実施例と基本的には同じであるが、ウェハキャリ
アをＩＰＡ雰囲気に取り出すときのみ仕切板を酸雰囲気
側つまり左側に移動するようにする。その他の場合で、
アルカリ洗浄の次にＩＰＡ乾燥を行う構成の洗浄装置に
ついても同じように配置し、仕切板を同じように動作さ
せれば良い。
置されるＩＰＡ洗浄および乾燥を行う洗浄工程浄につい
ても同じように分離槽と移動仕切板を設けることが出来
る。その場合は、酸・ＩＰＡ蒸気雰囲気室との間に設け
る分離槽と、異なる雰囲気を遮断するための可動式仕切
板を設ければ良い。上述した可動式の仕切板の動作は、
前述の実施例と基本的には同じであるが、ウェハキャリ
アをＩＰＡ雰囲気に取り出すときのみ仕切板を酸雰囲気
側つまり左側に移動するようにする。その他の場合で、
アルカリ洗浄の次にＩＰＡ乾燥を行う構成の洗浄装置に
ついても同じように配置し、仕切板を同じように動作さ
せれば良い。
【００１６】図２は図１の洗浄装置の変形例を説明する
ために洗浄装置の一部を破断し抽出して示す斜視図であ
る。上述した実施の形態における洗浄装置では、分離槽
１の両側の内壁１４は、移動する仕切板１によって異な
る雰囲気に交互に接触することから、内壁１４は酸およ
びアルカリ液が交互に付着し再蒸発し、分離槽１上の雰
囲気が酸とアルカリが混った雰囲気になる恐れがある。
そこで、この洗浄装置では、この内壁に付着する酸ある
いはアルカリ物質を洗い流すために、純水を内壁１４に
噴射する洗浄シャワー１３を設けている。また、内壁１
４を洗い流した純水が分離槽１内部に混入しないよう
に、底部をやや傾斜をもたせ最も低いところにドレイン
１５を設け、装置外に排出している。
ために洗浄装置の一部を破断し抽出して示す斜視図であ
る。上述した実施の形態における洗浄装置では、分離槽
１の両側の内壁１４は、移動する仕切板１によって異な
る雰囲気に交互に接触することから、内壁１４は酸およ
びアルカリ液が交互に付着し再蒸発し、分離槽１上の雰
囲気が酸とアルカリが混った雰囲気になる恐れがある。
そこで、この洗浄装置では、この内壁に付着する酸ある
いはアルカリ物質を洗い流すために、純水を内壁１４に
噴射する洗浄シャワー１３を設けている。また、内壁１
４を洗い流した純水が分離槽１内部に混入しないよう
に、底部をやや傾斜をもたせ最も低いところにドレイン
１５を設け、装置外に排出している。
【００１７】図３は従来の装置と本発明の装置を用いた
場合における分離槽の１槽当たりの純水使用量を比較す
るグラフである。上述したように、本発明のように分離
槽を小型にしたため、従来、約２０〜３０ｔ／日相当の
純水を消費していたのに対し、本発明では、約半分の１
０〜１５ｔ／日に削減できる。具体的には、本発明の分
離槽の１槽当たりの１日の純水使用量は、従来装置の分
離層で２０〜３０ｍ3 であったものが、約半分の１０〜
１５ｍ3 に削減できる。
場合における分離槽の１槽当たりの純水使用量を比較す
るグラフである。上述したように、本発明のように分離
槽を小型にしたため、従来、約２０〜３０ｔ／日相当の
純水を消費していたのに対し、本発明では、約半分の１
０〜１５ｔ／日に削減できる。具体的には、本発明の分
離槽の１槽当たりの１日の純水使用量は、従来装置の分
離層で２０〜３０ｍ3 であったものが、約半分の１０〜
１５ｍ3 に削減できる。
【００１８】また、従来、分離槽内でウェハキャリアを
移動していたものが、ウェハキャリアの移動が無くな
り、そのためウェハと純水間に摩擦がなくなり、それに
よるウェハの帯電の問題を解消することができた。ちな
みに、数枚のウェハを洗浄し機能素子の動作を調べたと
ころ、ウェハに形成されるＭＯＳトランジスタの破壊は
皆無であった。
移動していたものが、ウェハキャリアの移動が無くな
り、そのためウェハと純水間に摩擦がなくなり、それに
よるウェハの帯電の問題を解消することができた。ちな
みに、数枚のウェハを洗浄し機能素子の動作を調べたと
ころ、ウェハに形成されるＭＯＳトランジスタの破壊は
皆無であった。
【００１９】
【発明の効果】以上説明したように本発明は、分離槽の
容積を一個のウェハキャリアが収納できる大きさにし、
分離槽上の雰囲気を切換えるために洗浄室内を移動し異
なった二種類の雰囲気を遮断する仕切板を設け、ウェハ
キャリアを分離槽内に移動させることなく、ウェハキャ
リアを異なる雰囲気室に移動させることができることに
よって、分離槽の横幅を従来の半分にし容積を半分にす
ることが出来、これに伴ない分離槽に供給する純水の量
を半分にし運用コストを低減できるという効果がある。
しかも、装置全体も小型化することが出来た。また、ウ
ェハが純水中を移動しないため、ウェハの帯電を解消で
きウェハに形成される機能素子の破壊を低減できるとい
う効果もある。
容積を一個のウェハキャリアが収納できる大きさにし、
分離槽上の雰囲気を切換えるために洗浄室内を移動し異
なった二種類の雰囲気を遮断する仕切板を設け、ウェハ
キャリアを分離槽内に移動させることなく、ウェハキャ
リアを異なる雰囲気室に移動させることができることに
よって、分離槽の横幅を従来の半分にし容積を半分にす
ることが出来、これに伴ない分離槽に供給する純水の量
を半分にし運用コストを低減できるという効果がある。
しかも、装置全体も小型化することが出来た。また、ウ
ェハが純水中を移動しないため、ウェハの帯電を解消で
きウェハに形成される機能素子の破壊を低減できるとい
う効果もある。
【図１】本発明の一実施の形態における洗浄装置の構成
を説明するための図である。
を説明するための図である。
【図２】図１の洗浄装置の変形例を説明するために洗浄
装置の一部を破断し抽出して示す斜視図である。
装置の一部を破断し抽出して示す斜視図である。
【図３】従来の装置と本発明の装置を用いた場合におけ
る分離槽の１槽当たりの純水使用量を比較するグラフで
ある。
る分離槽の１槽当たりの純水使用量を比較するグラフで
ある。
【図４】従来の一例における洗浄装置の構成の一部を示
す図である。
す図である。
１，４ 仕切板 ２ 移動機構 ３，５ 分離槽 ６ａ，６ｂ 搬送用ロボット ７ アルカリ液槽 ８ 酸液槽 ９ 第１室 １０ 第２室 １１ ウェハキャリア １２ 受皿 １３ 洗浄シャワー １４ 内壁 １５ ドレイン
Claims (2)
- 【請求項１】 一薬液の蒸発による第１の雰囲気室から
他の異なる薬液の蒸発による第２の雰囲気室に被洗浄部
材を積載するキャリア部材を前記雰囲気を互に混入させ
ることなく移送するために該キャリア部材を浸漬し純水
が満たされる分離槽を備える洗浄装置において、前記キ
ャリア部材の一つが収納できる容積をもつ前記分離槽
と、前記第１の雰囲気室と前記第２の雰囲気室とを仕切
るとともに下端を前記分離槽の液面に接触しながら前記
分離槽の該移送方向の両端間を移動する仕切板とを備え
ることを特徴とする洗浄装置。 - 【請求項２】 前記移送方向に対して垂直方向における
前記分離槽の両側壁に純水を噴射する洗浄シャワーを備
えることを特徴とする請求項１記載の洗浄装置。
Priority Applications (6)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8257250A JP2825087B2 (ja) | 1996-09-30 | 1996-09-30 | 洗浄装置 |
| TW086114012A TW337029B (en) | 1996-09-30 | 1997-09-25 | A wet processor having 2 processing chambers with a movable division |
| US08/938,807 US5925213A (en) | 1996-09-30 | 1997-09-26 | Wet processing apparatus with movable partitioning plate between two processing chambers |
| GB9720625A GB2317747B (en) | 1996-09-30 | 1997-09-29 | Wet processing apparatus |
| CN97116948A CN1096109C (zh) | 1996-09-30 | 1997-09-30 | 湿法处理装置 |
| KR1019970050712A KR100268819B1 (ko) | 1996-09-30 | 1997-09-30 | 두개의프로세싱챔버사이에이동가능한칸막이판을갖는습식프로세싱장치 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8257250A JP2825087B2 (ja) | 1996-09-30 | 1996-09-30 | 洗浄装置 |
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|---|---|
| JPH10107002A JPH10107002A (ja) | 1998-04-24 |
| JP2825087B2 true JP2825087B2 (ja) | 1998-11-18 |
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ID=17303784
Family Applications (1)
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|---|---|---|---|
| JP8257250A Expired - Fee Related JP2825087B2 (ja) | 1996-09-30 | 1996-09-30 | 洗浄装置 |
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| JP (1) | JP2825087B2 (ja) |
| KR (1) | KR100268819B1 (ja) |
| CN (1) | CN1096109C (ja) |
| GB (1) | GB2317747B (ja) |
| TW (1) | TW337029B (ja) |
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| CN100358098C (zh) * | 2005-08-05 | 2007-12-26 | 中微半导体设备(上海)有限公司 | 半导体工艺件处理装置 |
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| JP2878019B2 (ja) * | 1992-06-04 | 1999-04-05 | 山形日本電気株式会社 | 水中分離槽 |
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- 1997-09-29 GB GB9720625A patent/GB2317747B/en not_active Expired - Fee Related
- 1997-09-30 KR KR1019970050712A patent/KR100268819B1/ko not_active IP Right Cessation
- 1997-09-30 CN CN97116948A patent/CN1096109C/zh not_active Expired - Fee Related
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| CN1178390A (zh) | 1998-04-08 |
| US5925213A (en) | 1999-07-20 |
| CN1096109C (zh) | 2002-12-11 |
| GB2317747A (en) | 1998-04-01 |
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| GB2317747B (en) | 1998-08-05 |
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